(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B1)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-10-09
(45)【発行日】2024-10-18
(54)【発明の名称】めっき装置、及びめっき方法
(51)【国際特許分類】
C25D 17/00 20060101AFI20241010BHJP
C25D 7/12 20060101ALI20241010BHJP
C25D 17/06 20060101ALI20241010BHJP
C25D 17/10 20060101ALI20241010BHJP
【ＦＩ】
C25D17/00 H
C25D7/12
C25D17/06 C
C25D17/06 F
C25D17/06 H
C25D17/10 A
【請求項の数】
10
(21)【出願番号】P 2024535246
(86)(22)【出願日】2024-03-07
(86)【国際出願番号】 JP2024008674
【審査請求日】2024-06-12
【早期審査対象出願】
(73)【特許権者】
【識別番号】000000239
【氏名又は名称】株式会社荏原製作所
(74)【代理人】
【識別番号】100106208
【弁理士】
【氏名又は名称】宮前 徹
(74)【代理人】
【識別番号】100146710
【弁理士】
【氏名又は名称】鐘ヶ江 幸男
(74)【代理人】
【識別番号】100186613
【弁理士】
【氏名又は名称】渡邊 誠
(74)【代理人】
【識別番号】100117640
【弁理士】
【氏名又は名称】小野 達己
(72)【発明者】
【氏名】山本 健太郎
(72)【発明者】
【氏名】富田 正輝
【審査官】隅川 佳星
(56)【参考文献】
【文献】特開２００３－０２７２９０（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００４－２５０７７６（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１４－１１８６３４（ＪＰ，Ａ）
【文献】米国特許出願公開第２０１７／００５１４２３（ＵＳ，Ａ１）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｃ２５Ｄ ７／１２
Ｃ２５Ｄ １７／００ － １７／０６
Ｈ０１Ｌ ２１／２８８
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
めっき液を保持するためのめっき槽と、被めっき面を下向きにして基板を保持する基板ホルダと、
前記基板に対向して配置されるアノードと、
前記基板と前記アノードとの間に配置された隔膜と、
前記隔膜の上面を押さえる隔膜支持部であって、複数の第１形状の開口と、該複数の第１形状の開口の外側に配置される複数の第２形状の開口とを有する隔膜支持部と、
を備え、
前記複数の第１形状の開口を包含する外接円の中心は、前記基板ホルダの回転中心から偏心している、
めっき装置。
【請求項2】
請求項１に記載のめっき装置において、前記複数の第１形状の開口からなる構造は、ハニカム構造である、めっき装置。
【請求項3】
請求項２に記載のめっき装置において、前記複数の第２形状の開口は、前記ハニカム構造の最外周の頂点から前記隔膜支持部の外周部に連結される、放射状に延びる複数の梁の間に形成されている、めっき装置。
【請求項4】
請求項１に記載のめっき装置において、前記アノードは、複数の貫通孔を有する板状部材であり、前記隔膜の下面に密着して配置され、
前記アノードの下方に所定の距離をもって離間された裏面プレートを更に備え、
前記裏面プレートにより、前記アノードから発生するガスが前記アノードの下面において滞留する量を調整する、めっき装置。
【請求項5】
請求項１から４の何れかに記載のめっき装置において、前記隔膜の上方に配置された可変アノードマスクを更に備える、めっき装置。
【請求項6】
請求項１に記載のめっき装置において、前記複数の第１形状の開口及び前記複数の第２形状の開口は、複数の梁によって規定されており、
少なくとも一部の前記梁は、前記隔膜と接触する側で面取りが行われている、めっき装置。
【請求項7】
請求項６に記載のめっき装置において、前記複数の第１形状の開口を規定する前記梁において面取りが行われている、めっき装置。
【請求項8】
めっき液を保持するためのめっき槽と、基板を保持する基板ホルダと、
前記基板に対向して配置されるアノードと、
前記基板と前記アノードとの間に配置された隔膜と、
前記隔膜を押さえる隔膜支持部であって、表面及び裏面を有し、前記表面と前記裏面との間を貫通する複数の開口を規定する複数の梁を有し、少なくとも一部の前記梁は、前記隔膜と接触する前記裏面側で面取りが行われている、隔膜支持部と、
を備える、めっき装置。
【請求項9】
被めっき面を下向きにして基板をめっきするめっき方法であって、前記基板に対向するアノードと、前記基板と前記アノードとの間に配置される隔膜と、前記隔膜の上面を押さえる隔膜支持部であって、複数の第１形状の開口と、該複数の第１形状の開口の外側に配置される複数の第２形状の開口とを有する隔膜支持部と、を有するめっき槽を準備し、
前記基板の回転中心が、前記隔膜支持部の前記複数の第１形状の開口を包含する外接円の中心から偏心した状態で、前記基板を回転しつつ前記基板をめっきする、めっき方法。
【請求項10】
基板をめっきするめっき方法であって、前記基板に対向するアノードと、前記基板と前記アノードとの間に配置される隔膜と、前記隔膜を押さえる隔膜支持部であって、複数の開口を規定する複数の梁を有し、少なくとも一部の前記梁は、前記隔膜と接触する側で面取りが行われている隔膜支持部と、を有するめっき槽を準備し、
前記めっき槽を使用して前記基板をめっきする、
めっき方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、めっき装置、及びめっき方法に関する。
【背景技術】
【0002】
基板にめっき処理を施すことが可能なめっき装置として、国際公開２００３／０７９６８４号公報（特許文献１）に記載されたような、いわゆるフェースダウン式又はカップ式のめっき装置が知られている。このようなめっき装置は、めっき液を貯留するとともにアノードが配置されためっき槽と、アノードよりも上方に配置されて、カソードとしての基板を保持する基板ホルダ（めっきヘッドとも称する）とを備えている。
【0003】
このようなフェースダウン式のめっき装置では、構造上、アノードがめっき槽の最下部に配置されるため、アノード交換などのメンテナンス作業において、アノード上部のパーツを全て取り外す必要がある。この一連の作業は作業性が悪く、時間もかかり、めっき装置の稼働率も悪化するという問題がある。この問題を解決するため、国際公開２００３／０７９６８４号公報（特許文献１）では、めっき槽から引き出し可能な引き出しユニットを設け、引き出しユニットにアノードを配置する構成を採用している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【文献】国際公開２００３／０７９６８４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
ところで、めっき槽には、アノードの他にアノード上方に配置され、アノード側のアノード室と基板側のカソード室とを区画するメンブレン（隔膜）が配置される場合がある。隔膜は、アノード室及びカソード室の各室のめっき液を互いに密閉し、アノード室からカソード室にめっき液中の金属イオンを透過させる一方、カソード室からアノード室にめっき液中の添加剤が透過することを防止するものである。このような隔膜は、定期的に交換する必要がある消耗部材であるが、抵抗体、パドル等の基板ホルダ側の部材の下方に配置されており、かつ、各室を互いに区画及び密閉するように密閉構造を介してめっき槽に取り付けられているため、交換時に取り外し及び取り付けに手間がかかる問題がある。また、隔膜とアノードとが離れているので、統合したユニットの高さ方向の寸法が大きくなる懸念がある。
また、基板に形成されるめっき膜の品質を向上させる観点から、基板とアノードとの間に配置される各部材の形状、移動等がめっき膜に転写されることを抑制ないし防止する必要がある。また、めっき膜の品質を向上させる観点から、カソード室内の気泡残りを低減することにも留意する必要がある。
また、基板に形成されるめっき膜の品質を向上させる観点から、基板とアノードとの間に配置される各部材の形状、移動等がめっき膜に転写されることを抑制ないし防止する必要がある。また、めっき膜の品質を向上させる観点から、カソード室内の気泡残りを低減することにも留意する必要がある。
【0006】
本発明は、上述した問題の少なくとも一部を解決することにある。本発明の目的の１つは、フェースダウン式のめっき装置に配置される隔膜等のメンテナンスを容易にすることである。また、本発明の目的の１つは、フェースダウン式のめっき装置において、めっき槽への隔膜の取り付けを容易にすることにある。また、本発明の目的の１つは、フェースダウン式のめっき装置において、めっき槽内の各室を隔膜により容易かつ確実に密閉することにある。本発明の目的の１つは、基板とアノードとの間に配置される各部材の形状、移動等がめっき膜に転写されることを抑制ないし防止することにある。本発明の目的の１つは、カソード室内の気泡残りを低減することにある。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明の一側面によれば、 めっき液を保持するためのめっき槽と、 被めっき面を下向きにして基板を保持する基板ホルダと、 前記基板に対向して配置されるアノードと、 前記基板と前記アノードとの間に配置された隔膜と、 前記隔膜の上面を押さえる隔膜支持部であって、複数の第１形状の開口と、該複数の第１形状の開口の外側に配置される複数の第２形状の開口とを有する隔膜支持部と、を備え、 前記複数の第１形状の開口を包含する外接円の中心は、前記基板ホルダの回転中心から偏心している、 めっき装置が提供される。
また、本発明の一側面によれば、めっき液を保持するためのめっき槽と、 基板を保持する基板ホルダと、 前記基板に対向して配置されるアノードと、 前記基板と前記アノードとの間に配置された隔膜と、 前記隔膜を押さえる隔膜支持部であって、表面及び裏面を有し、前記表面と前記裏面との間を貫通する複数の開口を規定する複数の梁を有し、少なくとも一部の前記梁は、前記隔膜と接触する前記裏面側で面取りが行われている、隔膜支持部と、を備える、めっき装置が提供される。
また、本発明の一側面によれば、めっき液を保持するためのめっき槽と、 基板を保持する基板ホルダと、 前記基板に対向して配置されるアノードと、 前記基板と前記アノードとの間に配置された隔膜と、 前記隔膜を押さえる隔膜支持部であって、表面及び裏面を有し、前記表面と前記裏面との間を貫通する複数の開口を規定する複数の梁を有し、少なくとも一部の前記梁は、前記隔膜と接触する前記裏面側で面取りが行われている、隔膜支持部と、を備える、めっき装置が提供される。
【0008】
本発明の一側面によれば、 被めっき面を下向きにして基板をめっきするめっき方法であって、 前記基板に対向するアノードと、前記基板と前記アノードとの間に配置される隔膜と、前記隔膜の上面を押さえる隔膜支持部であって、複数の第１形状の開口と、該複数の第１形状の開口の外側に配置される複数の第２形状の開口とを有する隔膜支持部と、を有するめっき槽を準備し、 前記基板の回転中心が、前記隔膜支持部の前記複数の第１形状の開口を包含する外接円の中心から偏心した状態で、前記基板を回転しつつ前記基板をめっきする、めっき方法が提供される。
また、本発明の一側面によれば、基板をめっきするめっき方法であって、 前記基板に
対向するアノードと、前記基板と前記アノードとの間に配置される隔膜と、前記隔膜を押さえる隔膜支持部であって、複数の開口を規定する複数の梁を有し、少なくとも一部の前記梁は、前記隔膜と接触する側で面取りが行われている隔膜支持部と、を有するめっき槽を準備し、 前記めっき槽を使用して前記基板をめっきする、めっき方法が提供される。
また、本発明の一側面によれば、基板をめっきするめっき方法であって、 前記基板に
対向するアノードと、前記基板と前記アノードとの間に配置される隔膜と、前記隔膜を押さえる隔膜支持部であって、複数の開口を規定する複数の梁を有し、少なくとも一部の前記梁は、前記隔膜と接触する側で面取りが行われている隔膜支持部と、を有するめっき槽を準備し、 前記めっき槽を使用して前記基板をめっきする、めっき方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【0009】
【図1】一実施形態に係るめっき装置の全体構成を示す斜視図である。
【図2】一実施形態に係るめっき装置の全体構成を示す平面図である。
【図3】めっきモジュールを前方側下方から見た斜視図である。
【図4】めっきモジュールの縦断面の斜視図である。
【図5】めっきモジュールの横断面の斜視図である。
【図6A】アノードホルダ組立体の一部を示す拡大斜視図である。
【図6B】隔膜及びアノードの取り付け構造を説明する説明図である。
【図7】カソード液入口におけるめっきモジュールの縦断面の斜視図である。
【図8】アノードホルダ組立体の平面図である。
【図9】アノードホルダ組立体の上方からみた斜視図である。
【図10】アノードホルダ組立体の下方からみた斜視図である。
【図11】アノード固定板を透明にした状態における、アノードホルダ組立体の下方からみた斜視図である。
【図12】隔膜支持部の底面図である。
【図13A】隔膜支持部の一部を拡大した斜視図である。
【図13B】隔膜支持部一部を更に拡大した斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【0010】
以下、本発明の実施形態に係るめっき装置１０００について、図面を参照しつつ説明する。なお、図面は、物の特徴の理解を容易にするために模式的に図示されており、各構成要素の寸法比率等は実際のものと同じであるとは限らない。また、いくつかの図面には、参考用として、Ｘ－Ｙ－Ｚの直交座標が図示されている。この直交座標のうち、Ｚ方向は上方に相当し、－Ｚ方向は下方（重力が作用する方向）に相当する。
【0011】
図１は、本実施形態のめっき装置１０００の全体構成を示す斜視図である。図２は、本実施形態のめっき装置１０００の全体構成を示す平面図である。図１及び図２に示すように、めっき装置１０００は、ロードポート１００、搬送ロボット１１０、アライナ１２０、プリウェットモジュール２００、プリソークモジュール３００、めっきモジュール４００、洗浄モジュール５００、スピンリンスドライヤ６００、搬送装置７００、及び、制御モジュール８００を備える。
【0012】
ロードポート１００は、めっき装置１０００に図示していないＦＯＵＰなどのカセットに収容されたウェハ（基板）を搬入したり、めっき装置１０００からカセットに基板を搬出するためのモジュールである。本実施形態では４台のロードポート１００が水平方向に並べて配置されているが、ロードポート１００の数及び配置は任意である。搬送ロボット１１０は、基板を搬送するためのロボットであり、ロードポート１００、アライナ１２０、プリウェットモジュール２００及びスピンリンスドライヤ６００の間で基板を受け渡すように構成される。搬送ロボット１１０及び搬送装置７００は、搬送ロボット１１０と搬送装置７００との間で基板を受け渡す際には、仮置き台（図示せず）を介して基板の受け渡しを行うことができる。
【0013】
アライナ１２０は、基板のオリエンテーションフラットやノッチなどの位置を所定の方向に合わせるためのモジュールである。本実施形態では２台のアライナ１２０が水平方向に並べて配置されているが、アライナ１２０の数及び配置は任意である。プリウェットモジュール２００は、めっき処理前の基板の被めっき面を純水または脱気水などの処理液で濡らすことで、基板表面に形成されたパターン内部の空気を処理液に置換する。プリウェットモジュール２００は、めっき時にパターン内部の処理液をめっき液に置換することでパターン内部にめっき液を供給しやすくするプリウェット処理を施すように構成される。本実施形態では２台のプリウェットモジュール２００が上下方向に並べて配置されているが、プリウェットモジュール２００の数及び配置は任意である。
【0014】
プリソークモジュール３００は、例えばめっき処理前の基板の被めっき面に形成したシード層表面等に存在する電気抵抗の大きい酸化膜を硫酸や塩酸等の処理液でエッチング除去してめっき下地表面を洗浄または活性化するプリソーク処理を施すように構成される。本実施形態では２台のプリソークモジュール３００が上下方向に並べて配置されているが、プリソークモジュール３００の数及び配置は任意である。めっきモジュール４００は、基板にめっき処理を施す。本実施形態では、上下方向に３台かつ水平方向に４台並べて配置された１２台のめっきモジュール４００のセットが２つあり、合計２４台のめっきモジュール４００が設けられているが、めっきモジュール４００の数及び配置は任意である。
【0015】
洗浄モジュール５００は、めっき処理後の基板に残るめっき液等を除去するために基板に洗浄処理を施すように構成される。本実施形態では２台の洗浄モジュール５００が上下方向に並べて配置されているが、洗浄モジュール５００の数及び配置は任意である。スピンリンスドライヤ６００は、洗浄処理後の基板を高速回転させて乾燥させるためのモジュールである。本実施形態では２台のスピンリンスドライヤ６００が上下方向に並べて配置されているが、スピンリンスドライヤ６００の数及び配置は任意である。搬送装置７００は、めっき装置１０００内の複数のモジュール間で基板を搬送するための装置である。制御モジュール８００は、めっき装置１０００の複数のモジュールを制御するように構成され、例えばオペレータとの間の入出力インターフェースを備える一般的なコンピュータまたは専用コンピュータから構成することができる。
【0016】
めっき装置１０００による一連のめっき処理の一例を説明する。まず、ロードポート１００にカセットに収容された基板が搬入される。続いて、搬送ロボット１１０は、ロードポート１００のカセットから基板を取り出し、アライナ１２０に基板を搬送する。アライナ１２０は、基板のオリエンテーションフラットやノッチなどの位置を所定の方向に合わせる。搬送ロボット１１０は、アライナ１２０で方向を合わせた基板をプリウェットモジュール２００へ受け渡す。
【0017】
プリウェットモジュール２００は、基板にプリウェット処理を施す。搬送装置７００は、プリウェット処理が施された基板をプリソークモジュール３００へ搬送する。プリソークモジュール３００は、基板にプリソーク処理を施す。搬送装置７００は、プリソーク処理が施された基板をめっきモジュール４００へ搬送する。めっきモジュール４００は、基板にめっき処理を施す。
【0018】
搬送装置７００は、めっき処理が施された基板を洗浄モジュール５００へ搬送する。洗浄モジュール５００は、基板に洗浄処理を施す。搬送装置７００は、洗浄処理が施された基板をスピンリンスドライヤ６００へ搬送する。スピンリンスドライヤ６００は、基板に乾燥処理を施す。搬送ロボット１１０は、スピンリンスドライヤ６００から基板を受け取り、乾燥処理を施した基板をロードポート１００のカセットへ搬送する。最後に、ロードポート１００から基板を収容したカセットが搬出される。
【0019】
【0020】
［めっきモジュール］
続いて、めっきモジュール４００について説明する。なお、本実施形態に係るめっき装置１０００が有する複数のめっきモジュール４００は同様の構成を有しているので、１つのめっきモジュール４００について説明する。
続いて、めっきモジュール４００について説明する。なお、本実施形態に係るめっき装置１０００が有する複数のめっきモジュール４００は同様の構成を有しているので、１つのめっきモジュール４００について説明する。
【0021】
図３は、めっきモジュールを前方側下方から見た斜視図である。図４は、めっきモジュールの縦断面の斜視図である。図５は、めっきモジュールの横断面の斜視図である。図６Ａは、アノードホルダ組立体の一部を示す拡大斜視図である。図６Ｂは、隔膜及びアノードの取り付け構造を説明する説明図である。図７は、カソード液入口におけるめっきモジュールの縦断面の斜視図である。図８は、アノードホルダ組立体の平面図である。図９は、アノードホルダ組立体の上方からみた斜視図である。図１０は、アノードホルダ組立体の下方からみた斜視図である。なお、図３中の矢印Ｙで示す方向がめっきモジュール４００の前後方向を示し、アノードホルダ６１０の前板（蓋部）６４０側を前方、反対側を後面側とする。
【0022】
本実施形態に係るめっき装置１０００は、図４に示すように、基板Ｗｆを水平に保持してめっきするフェースダウン式又はカップ式と称されるタイプのめっき装置である。本実施形態に係るめっき装置１０００のめっきモジュール４００は、主として、めっき槽１０と、基板Ｗｆを保持するめっきヘッドとも称される基板ホルダ２０と、基板ホルダ２０を回転、傾斜及び昇降させる回転機構、傾斜機構及び昇降機構（図示略）と、めっき槽１０内をカソード室Ｃｃ及びアノード室Ｃａとに区画する隔膜５０と、基板Ｗｆの下方において基板Ｗｆと対向して配置されるアノード６０と、を備えている。但し、傾斜機構は省略されてもよい。
【0023】
本実施形態に係るめっき槽１０は、上方に開口を有する有底の容器によって構成されている。本実施形態に係るめっき槽１０は、上部槽１１と、下部槽１２とを備えている。めっき槽１０は、上部槽１１と下部槽１２とで、めっき液を貯留する概ね円筒形状の内部空間を形成する。めっき液としては、めっき皮膜を構成する金属元素のイオンを含む溶液であればよく、その具体例は特に限定されるものではない。本実施形態においては、めっき処理の一例として、銅めっき処理を用いており、めっき液の一例として、硫酸銅溶液を用いている。また、本実施形態において、めっき液には所定の添加剤が含まれている。但し、この構成に限定されるものではなく、めっき液は添加剤を含んでいない構成とすることもできる。
【0024】
めっき槽１０の内部において基板Ｗｆの近傍にはパドル３０が配置されている。パドル３０は、基板Ｗｆの被めっき面に対して概ね平行方向に往復運動して、基板Ｗｆ表面に強いめっき液の流れを発生させる。これにより、基板Ｗｆの表面近傍のめっき液中のイオンを均一化し、基板Ｗｆ表面に形成されるめっき膜の面内均一性を向上させる。
【0025】
めっき槽１０の内部においてパドル３０の下方には、多孔質の抵抗体４０が配置されている。具体的には、抵抗体４０は、複数の孔（細孔）を有する多孔質の板部材によって構成されている。抵抗体４０よりも下方側のめっき液は、抵抗体４０を通過して、抵抗体４０よりも上方側に流動することができる。この抵抗体４０は、アノード６０と基板Ｗｆとの間に形成される電場の均一化を図るために設けられている部材である。このような抵抗体４０がめっき槽１０に配置されることで、基板Ｗｆに形成されるめっき皮膜（めっき層）の膜厚の均一化を容易に図ることができる。なお、抵抗体４０は本実施形態において必須の構成ではなく、本実施形態は抵抗体４０を備えていない構成とすることもできる。
【0026】
本実施形態では、めっき槽１０の下部槽１２内にアノードホルダ組立体６が配置されており、アノードホルダ組立体６が、隔膜５０、アノード６０、及び可変アノードマスク６５０を備える構成となっている。即ち、アノードホルダ組立体６をめっき槽１０に挿入及び装着することで、めっき槽１０内に隔膜５０、アノード６０、及び可変アノードマスク６５０が配置される構成となっている。
【0027】
本実施形態では、隔膜５０及びアノード６０が、めっき槽１０の内部において可変アノードマスク６５０の下方に配置されている（図５、図６Ａ）。本実施形態では、隔膜５０の下にアノード６０が密着して配置されている構成を採用している。隔膜５０は、めっき槽１０内部をアノード室Ｃａ（隔膜５０の下側の室）とカソード室Ｃｃ（隔膜５０の上側の室）とに上下に仕切る／区画する。隔膜５０は、例えば、中性膜と、イオン交換膜とを重ねて構成されている。隔膜５０の構成は、一例であり、他の構成をとることができる。隔膜５０は、その外周部において、ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の外周部（環状部６２１）との間にシール７０４を挟んだ状態で下方よりシール押さえリング５１によりホルダ本体６２０に対して押し付けられて固定される（図６Ａ、図６Ｂ）。ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の外周部（環状部６２１）の下面と、隔膜５０の外周部の上面との間にシール面７０４Ａが形成される。シール７０４は、例えば、ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の環状部６２１の下面に全周に亘って環状に設けられたシール溝に配置することができる。このように、本実施形態では、アノードホルダ組立体６において、めっき槽１０内が隔膜５０により上下に区画された構成とすることができる。従って、ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の外周部（環状部６２１）とめっき槽１０との間をシールすれば、めっき槽１０内は隔膜５０を境界としてアノード室Ｃａとカソード室Ｃｃとに区画される構成となる。
【0028】
アノード室Ｃａには、めっき槽１０の底壁に設けられたアノード液入口１２Ｃからアノード液（めっき液）が供給され、例えば、めっき槽１０の側壁に設けられたアノード液出口（図示せず）からアノード液が排出される。カソード室Ｃｃには、カソード液入口６８０からカソード液（めっき液）が供給され、カソード液出口（図示せず）から排出される。カソード室Ｃｃには、促進剤等の添加物を含むめっき液（カソード液）が導入され、アノード室Ｃａには添加物を含まない又は添加物濃度が低いめっき液（アノード液）が導入される。隔膜５０は、アノード室Ｃａからカソード室Ｃｃにめっき液中の金属イオンを透過させると共に、カソード室Ｃｃからアノード室Ｃａにめっき液中の添加剤が透過することを防止する。
【0029】
アノード６０は、隔膜５０の下面に密着して配置されている。アノード６０の具体的な種類は特に限定されるものではなく、溶解アノードや不溶解アノードを用いることができる。本実施形態においては、アノード６０として不溶解アノードを用いている。この不溶解アノードの具体的な種類は特に限定されるものではなく、白金や酸化イリジウム等を用いることができる。
【0030】
本実施形態では、アノード６０及び隔膜５０の上面側（基板Ｗｆ側）に可変アノードマスク６５０が設けられている。可変アノードマスク６５０は、ブレード６５１の内側にアノード６０を露出する開口部を有し、ブレード６５１によってアノード６０が露出する範囲を調節することにより、アノード６０から基板Ｗｆに向かう電場を調節する電場調節部材である。本実施形態の可変アノードマスク６５０は、図５に示すように、複数のブレード６５１を備え、カメラの絞りと同様の機構により、アノード６０を露出する開口部の開口寸法を調整する。
【0031】
＜アノードホルダ組立体＞
以下、アノードホルダ組立体（引き出しユニットとも称す）６の詳細について説明する。本実施形態では、隔膜５０、アノード６０、可変アノードマスク６５０は、アノードホルダ６１０に取り付けられ、これらが、アノードホルダ組立体６として一体に構成されている（図３、図４）。他の実施形態では、可変アノードマスク６５０は、省略されても良いし、アノードホルダ組立体６とは別に設けられても良い。アノードホルダ組立体６は、めっき槽１０（下部槽１２）に引き抜き可能に取り付けられている。図３及び図４に示すように、アノードホルダ組立体６は、めっき槽１０の前方側に設けられた開口１２Ｂからめっき槽１０に挿入され、めっき槽１０に装着される。めっき槽１０の開口１２Ｂは、アノードホルダ６１０の前板（蓋部）６４０によって塞がれ、シール７０２、７０３（後述）により液密にシールされる。
以下、アノードホルダ組立体（引き出しユニットとも称す）６の詳細について説明する。本実施形態では、隔膜５０、アノード６０、可変アノードマスク６５０は、アノードホルダ６１０に取り付けられ、これらが、アノードホルダ組立体６として一体に構成されている（図３、図４）。他の実施形態では、可変アノードマスク６５０は、省略されても良いし、アノードホルダ組立体６とは別に設けられても良い。アノードホルダ組立体６は、めっき槽１０（下部槽１２）に引き抜き可能に取り付けられている。図３及び図４に示すように、アノードホルダ組立体６は、めっき槽１０の前方側に設けられた開口１２Ｂからめっき槽１０に挿入され、めっき槽１０に装着される。めっき槽１０の開口１２Ｂは、アノードホルダ６１０の前板（蓋部）６４０によって塞がれ、シール７０２、７０３（後述）により液密にシールされる。
【0032】
アノードホルダ組立体６は、アノードホルダ６１０と、アノードホルダ６１０に取り付けられた隔膜５０、アノード６０、及び可変アノードマスク６５０と、を備えている。他の実施形態では、可変アノードマスク６５０は、省略されても良いし、アノードホルダ組立体６とは別に設けられても良い。
【0033】
（アノードホルダ）
アノードホルダ６１０は、ホルダ本体６２０と、前板６４０とを備えている。ホルダ本体６２０は、隔膜５０、アノード６０、及び可変アノードマスク６５０を保持する部材である。前板６４０は、めっき槽１０の開口１２Ｂを塞ぎ、めっき槽１０内を外部から液密に封止する部材である。ホルダ本体６２０は、アノードホルダ６１０の主要部を成す部分であるため、アノードホルダ６１０の外周部は、ホルダ本体６２０の外周部を示し、及び、ホルダ本体６２０の外周部は、アノードホルダ６１０の外周部を示す。
アノードホルダ６１０は、ホルダ本体６２０と、前板６４０とを備えている。ホルダ本体６２０は、隔膜５０、アノード６０、及び可変アノードマスク６５０を保持する部材である。前板６４０は、めっき槽１０の開口１２Ｂを塞ぎ、めっき槽１０内を外部から液密に封止する部材である。ホルダ本体６２０は、アノードホルダ６１０の主要部を成す部分であるため、アノードホルダ６１０の外周部は、ホルダ本体６２０の外周部を示し、及び、ホルダ本体６２０の外周部は、アノードホルダ６１０の外周部を示す。
【0034】
・ホルダ本体
ホルダ本体６２０は、環状部６２１と、環状部６２１の内側に一体的に設けられた隔膜支持部６２２と、環状部６２１の上面に設けられたフランジ６２３と、を備えている。環状部６２１及びフランジ６２３は、ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の外周部を構成する。環状部６２１及びフランジ６２３をまとめてホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の外周部と称しても良く、それぞれをホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の外周部と称しても良い。
ホルダ本体６２０は、環状部６２１と、環状部６２１の内側に一体的に設けられた隔膜支持部６２２と、環状部６２１の上面に設けられたフランジ６２３と、を備えている。環状部６２１及びフランジ６２３は、ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の外周部を構成する。環状部６２１及びフランジ６２３をまとめてホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の外周部と称しても良く、それぞれをホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の外周部と称しても良い。
【0035】
環状部６２１は、図４に示すように、ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の外周部の下部を構成し、その内側に、隔膜５０（アノード６０に対応する領域）を露出する複数の開口を有する隔膜支持部６２２が配置されている。他の実施形態では、隔膜支持部６２２が省略され、隔膜支持部６２２の部分が単一の開口であってもよい。
【0036】
隔膜支持部６２２は、図８及び図９に示すように、複数の開口を含む網状部分であり、図４及び図５に示すように、隔膜５０の上面に当接して隔膜５０を上方から支持するものである。隔膜支持部６２２は、図４及び図５に示すように、六角形に配置された梁６２２Ａがハニカム形状に並んでハニカム形状の複数の開口を有するハニカム構造（外接円Ｒｍの内側）と、ハニカム構造の最外周の頂点からホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の環状部６２１に連結される、放射状に延びる複数の梁６２２Ｂと、を備えている。図８中のＲｍは、ハニカム構造の外接円を示し、この外接円Ｒｍの内側が概ねハニカム構造を示す。外接円Ｒｍは、概ね基板Ｗｆの外形（投影形状）に対応する。但し、本実施形態では、図８に示すように、ハニカム構造の中心、即ち外接円Ｒｍの中心Ｃｍは、基板ホルダ２０（基板Ｗｆ）の回転中心／回転中心軸Ｃｗから偏心している。この構成により、基板Ｗｆに形成されるめっき膜が隔膜支持部６２２のパターンを拾わないようにし、めっき膜厚の均一性の低下を抑制ないし防止している。ハニカム構造の中心Ｃｍと基板Ｗｆの回転中心Ｃｗとが偏心（オフセット）しない場合には、基板Ｗｆを回転させても、梁６２２Ａにより電場が遮蔽される割合が高い領域ができる可能性が高い。
【0037】
フランジ６２３は、ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の外周部の上部を構成し、めっき槽１０の内部への取付部を構成する。フランジ６２３は、図８及び図９に示すように、環状の部材であり、中央部において隔膜５０（アノード６０に対応する領域）を露出する開口を有している。フランジ６２３は、ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の環状部６２１に対して、締結部材による固定方式、溶接、接合等による固定方式により、堅固に液密に固定される。フランジ６２３と環状部６２１との間にシールを配置して両者の間を液密に固定してもよい。本実施形態では、フランジ６２３は、環状部６２１と別体で設けられているが、可変アノードマスク６５０がアノードホルダ６１０に取り付けられない場合には、フランジ６２３を環状部６２１と一体に設けても良い。フランジ６２３の上面には、全周に亘って環状のシール溝が形成され、シール溝に環状のシール７０１が配置されている。本実施形態では、図４等に示すように、フランジ６２３の上面内側の部分において他の部分より若干高い環状の突起部を設け、この環状の突起部にシール７０１を配置するようにしている。
【0038】
・前板
前板６４０は、図３及び図４に示すように、前板本体６４１と、枠部材６４２とを備えている。枠部材６４２は、前板本体６４１に対して前後方向に移動可能に前板本体６４１の外周面に篏合されている。前板本体６４１と枠部材６４２とは、互いに脱落しない強度で篏合している。図４に示すように、前板本体６４１の外周面には、例えば、全周にわたって環状のシール７０３が配置されており、シール７０３は、前板本体６４１と枠部材６４２との間を液密にシールする。シール７０３は、例えば、前板本体６４１の外周面に全周に亘って環状に設けられるシール溝内に配置される。シール７０３は、枠部材６４２の内周面に全周に亘って環状に設けられるシール溝内に配置されても良い。めっき槽１０の下部槽１２の開口１２Ｂの周囲には、下方及び左右方向に突出するフランジ１２Ａが設けられている。フランジ１２Ａの前面の開口１２Ｂの周囲に全周に亘って環状のシール７０２が配置されており、シール７０２がフランジ１２Ａと前板６４０（枠部材６４２）との間をシールする。シール７０２は、例えば、フランジ１２Ａの前面の開口１２Ｂの周囲には全周に亘って設けられた環状のシール溝内に配置される。フランジ１２Ａは、下部槽１２の一部を構成するが、下部槽１２に一体に設けられても良く、又は下部槽１２の他の部分とは別体に設けられ、締結部材による固定方式、溶接、接合等による固定方式により、他の部分に液密に固定されてもよい。なお、シール７０２は、枠部材６４２の背面に全周に亘って環状に設けられるシール溝内に配置されてもよい。
前板６４０は、図３及び図４に示すように、前板本体６４１と、枠部材６４２とを備えている。枠部材６４２は、前板本体６４１に対して前後方向に移動可能に前板本体６４１の外周面に篏合されている。前板本体６４１と枠部材６４２とは、互いに脱落しない強度で篏合している。図４に示すように、前板本体６４１の外周面には、例えば、全周にわたって環状のシール７０３が配置されており、シール７０３は、前板本体６４１と枠部材６４２との間を液密にシールする。シール７０３は、例えば、前板本体６４１の外周面に全周に亘って環状に設けられるシール溝内に配置される。シール７０３は、枠部材６４２の内周面に全周に亘って環状に設けられるシール溝内に配置されても良い。めっき槽１０の下部槽１２の開口１２Ｂの周囲には、下方及び左右方向に突出するフランジ１２Ａが設けられている。フランジ１２Ａの前面の開口１２Ｂの周囲に全周に亘って環状のシール７０２が配置されており、シール７０２がフランジ１２Ａと前板６４０（枠部材６４２）との間をシールする。シール７０２は、例えば、フランジ１２Ａの前面の開口１２Ｂの周囲には全周に亘って設けられた環状のシール溝内に配置される。フランジ１２Ａは、下部槽１２の一部を構成するが、下部槽１２に一体に設けられても良く、又は下部槽１２の他の部分とは別体に設けられ、締結部材による固定方式、溶接、接合等による固定方式により、他の部分に液密に固定されてもよい。なお、シール７０２は、枠部材６４２の背面に全周に亘って環状に設けられるシール溝内に配置されてもよい。
【0039】
なお、下部槽１２の側壁（前面）において、前板６４０の枠部材６４２が当接できる十分な面積が確保できるのであれば、フランジ１２Ａが省略されてもよい。
【0040】
図３及び図４に示すように、前板６４０は、枠部材６４２を貫通する複数の締結部材８０２によって下部槽１２のフランジ１２Ａに固定される。締結部材８０２は、ボルト、ねじ、その他任意の締結部材であってよい。但し、アノードホルダ組立体６（アノードホルダ６１０）のメンテナンスの観点から取り外しが容易なものが好ましい。前板６４０の枠部材６４２が締結部材８０２によってめっき槽１０のフランジ１２Ａに固定されることにより、枠部材６４２とフランジ１２Ａとの間がシール７０２によってシールされる。このとき、枠部材６４２が前板本体６４１に対して前後方向に移動し、シール７０２を適切に弾性変形させることができ、シール７０２によるシール性能を十分に発揮できるようになっている。この結果、アノードホルダ６１０（アノードホルダ組立体６）をめっき槽１０に装着したとき、アノードホルダ６１０の前板６４０とめっき槽１０のフランジ１２Ａとの間のシール７０２により、めっき槽１０内が外部から液密にシールされる。
【0041】
（隔膜）
ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の外周部（環状部６２１）の下面には、図４、図６Ａに示すように、隔膜５０の外周部がシール７０４を介して取り付けられている。図６Ａに示すように、複数の締結部材８０３が、シール押さえリング５１、隔膜５０、及びシール７０４を貫通して環状部６２１に螺合することで、隔膜５０の外周部が、シール７０４によりシールされた状態で、ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の外周部（環状部６２１）に取り付けられている。シール７０４は、例えば、環状部６２１の下面に全周に亘って環状に形成されたシール溝に配置されることができる（図６Ａ）。複数の締結部材８０３は、ボルト、ねじ、その他任意の締結部材であって良く、例えば、シール押さえリング５１の全周に亘って均等に配置される。隔膜支持部６２２及び環状部６２１をまとめて隔膜支持部と称しても良い。
ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の外周部（環状部６２１）の下面には、図４、図６Ａに示すように、隔膜５０の外周部がシール７０４を介して取り付けられている。図６Ａに示すように、複数の締結部材８０３が、シール押さえリング５１、隔膜５０、及びシール７０４を貫通して環状部６２１に螺合することで、隔膜５０の外周部が、シール７０４によりシールされた状態で、ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の外周部（環状部６２１）に取り付けられている。シール７０４は、例えば、環状部６２１の下面に全周に亘って環状に形成されたシール溝に配置されることができる（図６Ａ）。複数の締結部材８０３は、ボルト、ねじ、その他任意の締結部材であって良く、例えば、シール押さえリング５１の全周に亘って均等に配置される。隔膜支持部６２２及び環状部６２１をまとめて隔膜支持部と称しても良い。
【0042】
（アノード）
アノード６０は、図６Ｂに示すように、アノード固定板６２及び隔膜押さえ８１０によって隔膜５０の下面に密着するようにホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の外周部（環状部６２１）に取り付けられる。アノード固定板６２を貫通してアノード６０の下面に当接しアノード６０を隔膜５０に対して押し付ける複数の隔膜押さえ８１０により、アノード６０が下方より支持され所定位置に保持される。このとき、図６Ａ及び図６Ｂには表れていないが、隔膜５０の上面がホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の隔膜支持部６２２（図５等）により上方から押さえられるため、隔膜５０及びアノード６０は、上方の隔膜支持部６２２と下方の隔膜押さえ８１０とによって挟まれて保持される。アノード固定板６２は、裏面プレートとも称される。
アノード６０は、図６Ｂに示すように、アノード固定板６２及び隔膜押さえ８１０によって隔膜５０の下面に密着するようにホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の外周部（環状部６２１）に取り付けられる。アノード固定板６２を貫通してアノード６０の下面に当接しアノード６０を隔膜５０に対して押し付ける複数の隔膜押さえ８１０により、アノード６０が下方より支持され所定位置に保持される。このとき、図６Ａ及び図６Ｂには表れていないが、隔膜５０の上面がホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の隔膜支持部６２２（図５等）により上方から押さえられるため、隔膜５０及びアノード６０は、上方の隔膜支持部６２２と下方の隔膜押さえ８１０とによって挟まれて保持される。アノード固定板６２は、裏面プレートとも称される。
【0043】
隔膜押さえ８１０は、ボルト、スペーサ、その他任意の支持部材とすることができる。なお、図６Ｂは、複数の隔膜押さえ８１０により形成されるアノード６０とアノード固定板６２との間の隙間を強調して示すために、模式的な表現で記載している。
【0044】
アノード固定板６２は、図６Ａに示すように、シール押さえリング５１の外側で、ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の外周部（環状部６２１）に複数のスペーサ８０４Ａ（図６Ａでは１つのみ図示）を介して固定される。アノード固定板６２は、アノード固定板６２及びスペーサ８０４Ａを貫通して環状部６２１に螺合する複数の締結部材８０４によって、ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の外周部（環状部６２１）に固定される。これにより、ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の外周部とアノード固定板６２との間（シール押さえリング５１とアノード固定板６２との間、並びに、環状部材６２１とアノード固定板６２との間）には、隙間が形成される。これらの隙間を通って、アノード６０で発生したガス（例えば、酸素）がホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の外側に移動することができる。
【0045】
複数の締結部材８０４は、ボルト、ねじ、その他任意の締結部材であって良く、例えば、シール押さえリング５１の外側で全周に亘って均等に配置される。
【0046】
図６Ｂに示すように、アノード６０下面とアノード固定板６２と、の間には、隔膜押さえ８１０の先端側により所定の隙間が形成される。また、アノード６０の外周側では、周方向の１又は複数の箇所において、シール押さえリング５１とアノード固定板６２との間、並びに、環状部材６２１とアノード固定板６２との間に隙間が設けられ、これらの隙間を通って、アノード６０下面とアノード固定板６２との間に蓄積したガスが外側に排出されるようになっている。アノード固定板（裏面プレート）６２は、アノード６０下面に溜まるガスの蓄積量を所定量に調整し、大量のガスがアノード下面から一時に離脱してアノードの電圧が変動するのを抑制する機能を有する。これにより、めっき膜厚の均一性が低下することを抑制することができる。
【0047】
本実施形態では、アノード６０は、多数の貫通孔（図示略）を有する板状部材である。アノード６０は、ラス（金網）構造、その他、複数の貫通孔が設けられた板状部材とすることができる（国際公開２０２３／１８８３７１号公報参照）。アノード６０は多数の貫通孔を有するため、アノード６０の上面は、電極反応中においても貫通孔より供給されるめっき液（アノード液）で常に湿潤した状態に保たれる。隔膜５０は、めっき液が浸透・湿潤可能なイオン透過性を有する膜であるので、アノード６０は、基板側の面（隔膜５０が密着した箇所又はその近傍）において、めっき液と反応し、陽イオン（例えば水素イオンＨ＋）が隔膜５０を通してカソード室Ｃｃ、つまり基板側に伝達される。従って、アノード６０の基板側の面（隔膜５０が密着した箇所又はその近傍）から隔膜５０の内部を通って基板Ｗｆに至るイオン伝導パス（電流パス）が形成される。一方、アノード６０の表面で発生したガスの気泡は、隔膜５０を通過することができず、アノード６０の多数の貫通孔を通じてアノード６０の裏面（下面）側へ移動する。気泡は、アノード６０の下面（アノード６０と裏面プレート６２との間）に蓄積された後、シール押さえリング５１の外側に移動し、排気通路（図示略）を通じて、めっき槽１０外部へ排出される。
【0048】
アノード６０の上面が隔膜５０の下面に密着しているので、アノード６０から発生するガスが、アノード６０と隔膜５０との間に蓄積することが抑制ないし防止され、及びカソード室に移動することが抑制又は防止され、アノード６０と基板Ｗｆとの間の電場（電界）に影響を与えて、基板Ｗｆに形成されるめっき膜厚の均一性が低下することを抑制ないし防止することができる。
【0049】
（可変アノードマスク）
可変アノードマスク６５０は、図４に示すように、ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の環状部６２１上に隔膜支持部６２２（図５等）より若干高い位置で取り付けられている。可変アノードマスク６５０は、複数のブレード６５１と、複数のブレード６５１が取り付けられ、これらのブレード６５１による絞り（開口径）を調整する円環状の駆動部材６５２と、を備えている。駆動部材６５２には、図３、図５に示すような駆動シャフト６７０が取り付けられており、駆動シャフト６７０がアクチュエータ（図示略）により前後方向に移動されることで、駆動部材６５２が回転し、複数のブレード６５１による絞り（開口径）が調整されるようになっている。一例では、アノードホルダ６１０の前板６４０（下部槽１２の開口１２Ｂ）に隣接するめっき槽１０の下部槽１２の側面にアクチュエータ(図示略)が配置され、このアクチュエータのシャフトが駆動シャフト６７０と平行に延びており、連結部材６７１を介して、アクチュエータのシャフトと駆動シャフト６７０とが、それらの先端間で連結される構成とすることができる（国際公開２００３／０７９６８４号公報（特許文献１）参照）。駆動シャフト６７０と前板６４０（前板本体６４１）との間は適切なシール（図示略、例えば特許文献１参照。）でシールされている。アクチュエータは、公知のリニアアクチュエータ（例えば、モータ及びボールねじ）により構成することが可能である。
可変アノードマスク６５０は、図４に示すように、ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の環状部６２１上に隔膜支持部６２２（図５等）より若干高い位置で取り付けられている。可変アノードマスク６５０は、複数のブレード６５１と、複数のブレード６５１が取り付けられ、これらのブレード６５１による絞り（開口径）を調整する円環状の駆動部材６５２と、を備えている。駆動部材６５２には、図３、図５に示すような駆動シャフト６７０が取り付けられており、駆動シャフト６７０がアクチュエータ（図示略）により前後方向に移動されることで、駆動部材６５２が回転し、複数のブレード６５１による絞り（開口径）が調整されるようになっている。一例では、アノードホルダ６１０の前板６４０（下部槽１２の開口１２Ｂ）に隣接するめっき槽１０の下部槽１２の側面にアクチュエータ(図示略)が配置され、このアクチュエータのシャフトが駆動シャフト６７０と平行に延びており、連結部材６７１を介して、アクチュエータのシャフトと駆動シャフト６７０とが、それらの先端間で連結される構成とすることができる（国際公開２００３／０７９６８４号公報（特許文献１）参照）。駆動シャフト６７０と前板６４０（前板本体６４１）との間は適切なシール（図示略、例えば特許文献１参照。）でシールされている。アクチュエータは、公知のリニアアクチュエータ（例えば、モータ及びボールねじ）により構成することが可能である。
【0050】
（第１シール面）
ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０のフランジ６２３は、図９に示すように、環状の部材であり、中央において隔膜５０（アノード６０に対応する領域）を露出する開口を有している。フランジ６２３の上面には、図４、図５、図８及び図９に示すように、シール７０１が全周にわたって配置されている。このシール７０１は、ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の外周部（フランジ６２３）と、めっき槽１０のフランジ１２Ｄの下面との間をシールする。シール７０１を挟んで互いに対向する、ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の外周部（フランジ６２３）の上面、及びめっき槽１０のフランジ１２Ｄの下面の間に、ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の外周部とめっき槽１０との間をシールするシール面７０１Ａが形成される（図４参照）。図４、図５に示すように、めっき槽１０の上部槽１１のフランジ１１Ａ及び下部槽１２のフランジ１２Ｄを貫通して、ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０のフランジ６２３に締結される複数の締結部材８０１によって、ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の外周部（フランジ６２３）が、めっき槽１０のフランジ１２Ｄに固定されたときに、シール７０１が適切な圧力で弾性変形されてシール性を発揮するように構成されている。複数の締結部材８０１は、例えば、全周に亘って均等に設けられる。締結部材８０１は、ボルト、ねじ、その他任意の締結部材であってよい。
ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０のフランジ６２３は、図９に示すように、環状の部材であり、中央において隔膜５０（アノード６０に対応する領域）を露出する開口を有している。フランジ６２３の上面には、図４、図５、図８及び図９に示すように、シール７０１が全周にわたって配置されている。このシール７０１は、ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の外周部（フランジ６２３）と、めっき槽１０のフランジ１２Ｄの下面との間をシールする。シール７０１を挟んで互いに対向する、ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の外周部（フランジ６２３）の上面、及びめっき槽１０のフランジ１２Ｄの下面の間に、ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の外周部とめっき槽１０との間をシールするシール面７０１Ａが形成される（図４参照）。図４、図５に示すように、めっき槽１０の上部槽１１のフランジ１１Ａ及び下部槽１２のフランジ１２Ｄを貫通して、ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０のフランジ６２３に締結される複数の締結部材８０１によって、ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の外周部（フランジ６２３）が、めっき槽１０のフランジ１２Ｄに固定されたときに、シール７０１が適切な圧力で弾性変形されてシール性を発揮するように構成されている。複数の締結部材８０１は、例えば、全周に亘って均等に設けられる。締結部材８０１は、ボルト、ねじ、その他任意の締結部材であってよい。
【0051】
（第２シール面）
めっき槽１０の下部槽１２のフランジ１２Ａの前面には、図４に示すように、開口１２Ｂの周りに全周に亘って環状のシール７０２が配置されている。このシール７０２は、めっき槽１０のフランジ１２Ａと、前板６４０の枠部材６４２との間をシールする。言い換えれば、めっき槽１０の開口１２Ｂを液密にシールする。シール７０２を挟んで互いに対向する、めっき槽１０のフランジ１２Ａの前面、及び、前板６４０の枠部材６４２の背面との間に、前板６４０とめっき槽１０との間をシールするシール面７０２Ａが形成される（図４参照）。図３、図４に示すように、アノードホルダ６１０の前板６４０を複数の締結部材８０２によってめっき槽１０のフランジ１２Ａに固定すると、シール７０２が適切な圧力で弾性変形され、シール性を発揮するように構成されている。このとき、前板６４０の枠部材６４２が前板本体６４１に対して前後方向に移動可能であるので、複数の締結部材８０２の締付の程度によって枠部材６４２がシール７０２を適切な圧力で弾性変形させるように、枠部材６４２を前板本体６４１に対して移動させることができる。複数の締結部材８０２は、例えば、図４等に示すように、全周に亘って均等に配置することができる。
めっき槽１０の下部槽１２のフランジ１２Ａの前面には、図４に示すように、開口１２Ｂの周りに全周に亘って環状のシール７０２が配置されている。このシール７０２は、めっき槽１０のフランジ１２Ａと、前板６４０の枠部材６４２との間をシールする。言い換えれば、めっき槽１０の開口１２Ｂを液密にシールする。シール７０２を挟んで互いに対向する、めっき槽１０のフランジ１２Ａの前面、及び、前板６４０の枠部材６４２の背面との間に、前板６４０とめっき槽１０との間をシールするシール面７０２Ａが形成される（図４参照）。図３、図４に示すように、アノードホルダ６１０の前板６４０を複数の締結部材８０２によってめっき槽１０のフランジ１２Ａに固定すると、シール７０２が適切な圧力で弾性変形され、シール性を発揮するように構成されている。このとき、前板６４０の枠部材６４２が前板本体６４１に対して前後方向に移動可能であるので、複数の締結部材８０２の締付の程度によって枠部材６４２がシール７０２を適切な圧力で弾性変形させるように、枠部材６４２を前板本体６４１に対して移動させることができる。複数の締結部材８０２は、例えば、図４等に示すように、全周に亘って均等に配置することができる。
【0052】
ここで、ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０のフランジ６２３をめっき槽１０のフランジ１２Ｄに締結部材８０１で固定する際、即ち、シール７０１を弾性変形させる際に、めっき槽１０のフランジ１２Ｄが締結部材８０１により上下方向の力を受けるため、めっき槽１０のフランジ１２Ａに配置されたシール７０２が上下方向の力を受け、フランジ１２Ａと枠部材６４２との間を適切にシールする状態にならない虞がある。そこで、本実施形態では、前板６４０において枠部材６４２を前板本体６４１に対して前後方向に移動可能とし、締結部材８０２の締め付けにより枠部材６４２を前板本体６４１から独立してフランジ１２Ａに押し付け、これにより、シール７０３を適切に圧縮及び弾性変形させ、適切にシールする状態にするようにした。例えば、上部及び下部の締結部材８０２の締付の程度を変えることにより、上部と下部とで適切な押し付け力でシール７０２を弾性変形させることができる。
【0053】
（第３シール面）
また、前板６４０において、前板本体６４１と枠部材６４２との間は、環状のシール７０３によりシールされる。シール７０３を挟んで互いに対向する、前板本体６４１の外周面及び枠部材６４２の内周面の間に、前板本体６４１と枠部材６４２との間をシールするシール面７０３Ａが形成される（図４参照）。この結果、めっき槽１０内が外部から適切にシールされることになる。枠部材６４２は、前板本体６４１から脱落しない強度で前板本体６４１に対して篏合されて取り付けられている。シール７０３は、例えば、前板本体６４１の外周面に全周に亘って設けられた環状のシール溝に配置される。なお、シール７０３は、枠部材６４２の内周面に全周に亘って環状に設けられるシール溝に配置されてもよい。
また、前板６４０において、前板本体６４１と枠部材６４２との間は、環状のシール７０３によりシールされる。シール７０３を挟んで互いに対向する、前板本体６４１の外周面及び枠部材６４２の内周面の間に、前板本体６４１と枠部材６４２との間をシールするシール面７０３Ａが形成される（図４参照）。この結果、めっき槽１０内が外部から適切にシールされることになる。枠部材６４２は、前板本体６４１から脱落しない強度で前板本体６４１に対して篏合されて取り付けられている。シール７０３は、例えば、前板本体６４１の外周面に全周に亘って設けられた環状のシール溝に配置される。なお、シール７０３は、枠部材６４２の内周面に全周に亘って環状に設けられるシール溝に配置されてもよい。
【0054】
（カソード液通路）
図７及び図１０に示すように、アノードホルダ６１０には、ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の下部において、前板６４０のカソード液入口６８０に連通するカソード液通路６８１が設けられている。カソード液通路６８１は、ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の外周部（環状部６２１）の下部において一部の肉厚を取り除き、ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の環状部６２１の薄肉部の下面と、前板本体６４１と、底壁６１３と、側壁６１４～６１７とによって区画される。側壁６１４は、隔膜支持部６２２の外周に沿った形状で設けられており（図７、図１０）、側壁６１４の上部には、１又は複数の切り欠き６１４ａが設けられている（図７）。切り欠き６１４ａは、カソード液通路６８１の出口を構成する。即ち、カソード液通路６８１は、カソード液入口６８０に連通する入口と、隔膜５０の上方に開口する出口（切り欠き６１４ａ）とを有する。カソード液入口６８０からに流入したカソード液は、カソード液通路６８１を通って、切り欠き６１４ａから隔膜支持部６２２の上方（即ち、隔膜５０の上方であるカソード室Ｃｃ）に供給される。
図７及び図１０に示すように、アノードホルダ６１０には、ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の下部において、前板６４０のカソード液入口６８０に連通するカソード液通路６８１が設けられている。カソード液通路６８１は、ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の外周部（環状部６２１）の下部において一部の肉厚を取り除き、ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の環状部６２１の薄肉部の下面と、前板本体６４１と、底壁６１３と、側壁６１４～６１７とによって区画される。側壁６１４は、隔膜支持部６２２の外周に沿った形状で設けられており（図７、図１０）、側壁６１４の上部には、１又は複数の切り欠き６１４ａが設けられている（図７）。切り欠き６１４ａは、カソード液通路６８１の出口を構成する。即ち、カソード液通路６８１は、カソード液入口６８０に連通する入口と、隔膜５０の上方に開口する出口（切り欠き６１４ａ）とを有する。カソード液入口６８０からに流入したカソード液は、カソード液通路６８１を通って、切り欠き６１４ａから隔膜支持部６２２の上方（即ち、隔膜５０の上方であるカソード室Ｃｃ）に供給される。
【0055】
カソード液入口６８０は、図７に示すように、ホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の下部において、カソード室Ｃｃの最下部に配置されるようにするため、カソード室Ｃｃ内に残るカソード液の残液の量を最小限にすることができる。カソード液通路６８１の底面（底壁６１３）も、アノード固定板６２よりも下方にあり、カソード室Ｃｃの最下部にある。
【0056】
（バスバー）
前板６４０（前板本体６４１）の幅方向の中央付近には、バスバー６６０が配置されている（図３、図５）。バスバー６６０は、図１０に示すように、前板６４０（前板本体６４１）からアノード６０の下面中央付近まで後方に延び、アノード６０の下面中央付近にアノード６０と電気的及び機械的に接続され下方に突出するボス６０Ａ（ターミナル部）に、例えば、締結部材８０５により、電気的及び機械的に接続される。バスバー６６０と前板６４０（前板本体６４１）との間は、適切なシールによりシールされる（図示略、例えば特許文献１参照）。締結部材８０５は、ボルト、ねじ、その他任意の締結部材であってよい。
前板６４０（前板本体６４１）の幅方向の中央付近には、バスバー６６０が配置されている（図３、図５）。バスバー６６０は、図１０に示すように、前板６４０（前板本体６４１）からアノード６０の下面中央付近まで後方に延び、アノード６０の下面中央付近にアノード６０と電気的及び機械的に接続され下方に突出するボス６０Ａ（ターミナル部）に、例えば、締結部材８０５により、電気的及び機械的に接続される。バスバー６６０と前板６４０（前板本体６４１）との間は、適切なシールによりシールされる（図示略、例えば特許文献１参照）。締結部材８０５は、ボルト、ねじ、その他任意の締結部材であってよい。
【0057】
図１１は、アノード固定板６２を透明にした状態における、アノードホルダ組立体６の下方斜視図である。図１２は、隔膜支持部６２２の底面図である。図１３Ａは、隔膜支持部６２２の一部を拡大した斜視図である。図１３Ｂは、隔膜支持部６２２の一部を更に拡大した斜視図である。
【0058】
アノードホルダ組立体６を下方からみた場合、隔膜支持部材６２２は、アノード６０及び隔膜５０の奥に配置されている（図４、図５）が、図１１では、説明の便宜上、アノード６０の位置に隔膜支持部材６２２が透けて見えるように記載している。図１１では、シール押さえリング５１及び隔膜５０を締結する締結部材８０３（図６Ａ）、アノード固定板６２を締結する締結部材８０４（図６Ａ）、下方からアノード６０を介して隔膜５０を押さえる隔膜押さえ８１０（図６Ｂ）の配置例も見て取れる。
【0059】
図１２、図１３Ａ及び図１３Ｂに示すように、隔膜支持部６２２の梁６２２Ａの下面側、即ち隔膜５０に接触する側では、面取りが行われ、面取り部６２４Ａが形成されている。なお、隔膜支持部６２２の上面及び下面をそれぞれ表面及び裏面と称する場合もある。この例では、面取り部６２４ＡがＣ面取りである構成を示している。なお、図１２に示すように、ハニカム構造の最外周の梁６２２Ａには、ハニカム構造に面する側のみに面取りを形成してもよい。言い換えれば、ハニカム構造の最外周の梁６２２Ａに設けられる面取り部６２４Ａは、ハニカム構造に面する側のみに設けられてもよい。別の言い方をすれば、隔膜支持部６２２の梁６２２Ａの隔膜接触側且つハニカム開口に面する側において面取り部６２４Ａが設けられてもよい。他の実施形態では、ハニカム構造の最外周の梁６２２Ａに設けられる面取り部６２４Ａは、ハニカム構造に面する側及び面しない側に設けられてもよい。
【0060】
面取り部６２４Ａを設ける理由は、カソード室Ｃｃの液入れ時に、隔膜５０と接触する梁の部分（隔膜と梁の間）に気泡が閉じ込められることで気泡残りが発生する可能性があり、これを改善するためである。このような気泡残りは、基板への気泡付着、部分的なめっきムラなど、めっき品質不具合を発生させ得る。
【0061】
前述のように、隔膜５０のカソード室Ｃｃ側に配置された梁６２２Ａの下面側に面取り部６２４Ａを設けることにより、梁６２２Ａの隔膜５０との接触面積を低減させ、カソード室Ｃｃにおける気泡残りを低減することができる。これにより、基板への気泡付着、部分的なめっきムラなど、めっき品質不具合を防止する効果を奏し得る。また、梁６２２Ａの下面にのみ面取り部６２４Ａを設けることで、梁強度と気泡残りの低減を両立させることができる。
【0062】
図８に示す外接円Ｒｍが概ね基板Ｗｆの投影に対応するため、外接円Ｒｍの内側のハニカム構造の梁６２２Ａに面取り部６２４Ｂを設ければ、基板Ｗｆへの気泡付着、部分的なめっきムラなど、めっき品質不具合を防止する効果を期待できるが、梁６２２Ｂにも同様の面取り部を設けても良い。なお、ハニカム構造の中心Ｃｍと、基板ホルダ２０（基板Ｗｆ）の回転中心／回転中心軸Ｃｗとが偏心しているか、していないかに関らず、上述の面取り部が、気泡残りを低減できることは言うまでもない。上述の面取り部は、縦型めっき装置の隔膜支持部に対しても適用可能である。なお、上述の面取りは、Ｃ面取りに限定されず、気泡付着等の効果を奏する限り任意の形状の面取りとすることができる。
【0063】
上記実施形態によれば、以下の作用効果を奏する。
（１）アノードホルダ６１０において、隔膜５０の外周部とホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の外周部との間をシール７０４により適切にシールすることができる。
（２）めっき槽１０の内部を上下の室（アノード室、カソード室）に区画するように、アノードホルダ６１０の外周部とめっき槽１０の内部との間をシール７０１により適切にシールすることができる。
（３）上記構成（１）、（２）によれば、アノードホルダ６１０をめっき槽１０に装着することで、めっき槽１０の内部を隔膜５０の上下においてカソード室及びアノード室に区画及び密閉することができる。
（４）アノードホルダ６１０の前板６４０とめっき槽１０の開口１２Ｂの周りとの間をシール７０２により適切にシールすることができる。このとき、前板６４０の枠部材６４２を前後方向に移動させることで、シール７０２を適切に弾性変形させることができる。
（５）前板６４０の枠部材６４２と前板本体６４１との間をシール７０３により適切にシールすることができる。
（６）上記（４）、（５）の構成により、アノードホルダ６１０をめっき槽１０に装着することで、めっき槽１０内を外部から適切に密閉することができる。
（１）アノードホルダ６１０において、隔膜５０の外周部とホルダ本体６２０／アノードホルダ６１０の外周部との間をシール７０４により適切にシールすることができる。
（２）めっき槽１０の内部を上下の室（アノード室、カソード室）に区画するように、アノードホルダ６１０の外周部とめっき槽１０の内部との間をシール７０１により適切にシールすることができる。
（３）上記構成（１）、（２）によれば、アノードホルダ６１０をめっき槽１０に装着することで、めっき槽１０の内部を隔膜５０の上下においてカソード室及びアノード室に区画及び密閉することができる。
（４）アノードホルダ６１０の前板６４０とめっき槽１０の開口１２Ｂの周りとの間をシール７０２により適切にシールすることができる。このとき、前板６４０の枠部材６４２を前後方向に移動させることで、シール７０２を適切に弾性変形させることができる。
（５）前板６４０の枠部材６４２と前板本体６４１との間をシール７０３により適切にシールすることができる。
（６）上記（４）、（５）の構成により、アノードホルダ６１０をめっき槽１０に装着することで、めっき槽１０内を外部から適切に密閉することができる。
【0064】
（他の実施形態）
（１）前板６４０とめっき槽１０との間のシール７０４の構成を工夫する等の手段により、シール７０４でめっき槽１０内を外部から液密に封止することができる場合には、前板本体６４１と枠部材６４２を一体の前板６４０とし、シール７０３を省略してもよい。
（２）上記実施形態では、アノード６０の下面側にガスの蓄積量を調整する裏面プレート６２を設けたが、裏面プレート６２に代えて、アノード６０を囲むように設けられる気泡バッファ用リングを設け、アノードから発生し下面上に蓄積する気泡の量を気泡バッファ用リングの高さにより調節するようにしてもよい（国際公開２０２３／１８８３７１号公報）。
（１）前板６４０とめっき槽１０との間のシール７０４の構成を工夫する等の手段により、シール７０４でめっき槽１０内を外部から液密に封止することができる場合には、前板本体６４１と枠部材６４２を一体の前板６４０とし、シール７０３を省略してもよい。
（２）上記実施形態では、アノード６０の下面側にガスの蓄積量を調整する裏面プレート６２を設けたが、裏面プレート６２に代えて、アノード６０を囲むように設けられる気泡バッファ用リングを設け、アノードから発生し下面上に蓄積する気泡の量を気泡バッファ用リングの高さにより調節するようにしてもよい（国際公開２０２３／１８８３７１号公報）。
【0065】
上述した実施形態から少なくとも以下の形態が把握される。
［１］一形態によれば、 めっき液を保持するためのめっき槽と、 被めっき面を下向きにして基板を保持する基板ホルダと、 前記めっき槽の側壁の開口を介して前記めっき槽に水平方向に引抜き自在に装着されたアノードホルダ組立体であって、中央部に１又は複数の開口を有するアノードホルダと、前記アノードホルダに取り付けられたアノードと、前記アノードの上方において前記アノードホルダに取り付けられた隔膜と、を有するアノードホルダ組立体と、を備え、 アノードホルダ組立体は、前記めっき槽内を外部からシールする１又は複数のシール面と、前記めっき槽内を上下の室に区画する１又は複数のシール面とを有する、めっき装置が提供される。説明の便宜上、めっき槽内を外部からシールする１又は複数のシール面を、めっき槽密閉用のシール面と称し、めっき槽内を上下の室に区画する１又は複数のシール面を、めっき槽内区画用のシール面と称する場合がある。
［１］一形態によれば、 めっき液を保持するためのめっき槽と、 被めっき面を下向きにして基板を保持する基板ホルダと、 前記めっき槽の側壁の開口を介して前記めっき槽に水平方向に引抜き自在に装着されたアノードホルダ組立体であって、中央部に１又は複数の開口を有するアノードホルダと、前記アノードホルダに取り付けられたアノードと、前記アノードの上方において前記アノードホルダに取り付けられた隔膜と、を有するアノードホルダ組立体と、を備え、 アノードホルダ組立体は、前記めっき槽内を外部からシールする１又は複数のシール面と、前記めっき槽内を上下の室に区画する１又は複数のシール面とを有する、めっき装置が提供される。説明の便宜上、めっき槽内を外部からシールする１又は複数のシール面を、めっき槽密閉用のシール面と称し、めっき槽内を上下の室に区画する１又は複数のシール面を、めっき槽内区画用のシール面と称する場合がある。
【0066】
この形態によれば、フェースダウン式のめっき装置において、定期的にメンテナンスが必要な隔膜及びアノードを引き抜き自在なアノードホルダに一体化して、隔膜及びアノードのメンテナンスを容易にすることができる。即ち、めっき槽の下部に配置されるアノード及び隔膜を保持するアノードホルダ組立体をめっき槽から取り出して、めっき槽の外部でアノード及び隔膜の交換（アノードホルダ組立体全体を交換することを含む）を行うことができる。
【0067】
この形態によれば、めっき槽にアノードホルダ組立体（アノードホルダ）を装着することで、めっき槽内を外部からシールすると共に、めっき槽内を上下の室（アノード室、カソード室）に区画することができる。即ち、めっき槽密閉用の１又は複数のシール面によりめっき槽内を外部からシールすると共に、めっき槽内区画用の他の１又は複数のシール面によりめっき槽内を上下の室（アノード室、カソード室）に区画することができる。
【0068】
また、アノードホルダをめっき槽に装着することによりめっき槽への隔膜の取り付けも行われるため、めっき槽への隔膜の取り付けを容易にすることができる。
【0069】
［２］一形態によれば、前記めっき槽内を上下の室に区画する１又は複数のシール面は、前記隔膜と前記アノードホルダとの間をシールする第１シール面と、前記アノードホルダの外周部と前記めっき槽との間をシールする第２シール面とを有する。
【0070】
この形態によれば、アノードホルダ組立体のめっき槽への装着前に隔膜がシールされた状態でアノードホルダに取り付けられるので、アノードホルダ組立体のめっき槽への装着時にアノードホルダの外周部とめっき槽との間をシールすれば、めっき槽内を上下の室に区画することができる。
【0071】
［３］一形態によれば、前記隔膜は、前記隔膜の外周部において、第１シール部材を介して前記アノードホルダの外周部に取り付けられており、前記隔膜の外周部と前記アノードホルダの外周部との間に前記第１シール面が形成されている。
【0072】
この形態によれば、簡易な構成で、隔膜とアノードホルダとの間をシールすることができる。
【0073】
［４］一形態によれば、前記めっき槽は、前記めっき槽内の空間に露出する下面を有する第１フランジを有し、 前記アノードホルダは、外周部の上部に設けられた第２フランジを有し、 前記アノードホルダは、前記第２フランジの上面において、環状の第２シールを介して前記めっき槽の前記第１フランジの前記下面に取り付けられており、 前記アノードホルダの前記第２フランジの前記上面と前記めっき槽の前記第１フランジの前記下面との間に前記第２シール面が形成される。
【0074】
この形態によれば、アノードホルダ及びめっき槽の上下方向で対向する面を介して、アノードホルダ及びめっき槽の間を全周に亘って確実にシールすることができる。これにより、めっき槽側壁の開口を塞ぐシール面の影響を受けずに、アノードホルダ及びめっき槽の間を全周に亘って確実にシールすることができる。
【0075】
［５］一形態によれば、前記アノードホルダの前記第２フランジは、前記めっき槽の前記第１フランジに対して、１又は複数の締結部材によって取り付けられ、前記締結部材が締め付けられることで、前記第２シール部材が前記第１フランジと前記第２フランジとの間で弾性変形されるように構成されている。
【0076】
この形態によれば、１又は複数の締結部材によって、アノードホルダの外周部をめっき槽内の所定位置に固定できると共に、アノードホルダの外周部とめっき槽との間を確実にシールするように第２シール部材を弾性変形させることができる。
【0077】
［６］一形態によれば、前記めっき槽内を外部からシールする１又は複数のシール面は、前記アノードホルダと前記めっき槽の前記開口の周囲とをシールする第３シール面を有する。
【0078】
この形態によれば、アノードホルダ組立体を挿入するめっき槽側壁の開口の周囲で、めっき槽内を外部からシールすることができる。
【0079】
［７］一形態によれば、前記アノードホルダは、一端側に設けられ前記めっき槽の前記開口を塞ぐ前板を有し、前記前板は、前板本体と、前記前板本体の周囲に前記前板本体に対して摺動自在に篏合される枠部材とを有し、 前記枠部材は、第３シールを介して、前記めっき槽の前記開口の周囲の側壁、又は前記めっき槽の前記開口の周囲に設けられた第３フランジに対して取り付けられており、前記枠部材と、前記めっき槽の前記開口の周囲の側壁、又は前記めっき槽の前記開口の周囲に設けられた前記第３フランジとの間に、第３シール面が形成されており、 前記枠部材は、第４シールを介して前記前板本体に篏合され、前記枠部材の内周面と前記前板本体の外周面との間に第４シール面が形成されている。第３フランジを設ける場合、第３フランジは、めっき槽の一部とする。
【0080】
この形態によれば、第３シール部材が上下方向の力でずれたとしても、枠部材をめっき槽側壁／第３フランジに対して前後方向に押し付けることができ、第３シール部材を確実にめっき槽と枠部材との間で適切に弾性変形させてシール性を発揮させることができる。これにより、第３シール部材により、めっき槽と枠部材との間を確実にシールすることができる。また、第４シール部材により、前板本体と枠部材との間をシールすることができる。この結果、めっき槽内を外部から確実にシールすることができる。
【0081】
［８］一形態によれば、前記枠部材は、前記めっき槽の前記開口の周囲の側壁、又は前記めっき槽の前記開口の周囲に設けられた前記第３フランジに対して、１又は複数の締結部材により取り付けられ、前記締結部材が締め付けられることで、前記第３シール部材が前記枠部材と前記側壁又は前記第３フランジとの間で弾性変形されるように構成されている。
【0082】
この形態によれば、１又は複数の締結部材によって、前板をめっき槽の側壁に取り付けることができると共に、めっき槽の開口と前板との間を確実にシールするように第３シール部材を変形させることができる。
【0083】
［９］一形態によれば、 前記枠部材が前記前板本体に篏合されることで、前記第４シール部材が前記枠部材と前記前板本体との間で弾性変形するように構成されている。
【0084】
この形態によれば、枠部材を前板本体に篏合させることにより、枠部材と前板本体との間を確実にシールするように第４シール部材を弾性変形させることができる。
【0085】
［１０］一形態によれば、前記アノードホルダは、外周部と、前記外周部の内側において複数の開口を有し、前記隔膜の上面を支持する隔膜支持部と、を有する。
【0086】
この形態によれば、アノードホルダの隔膜支持部により隔膜の上面を適切に押さえることができ、隔膜が上方に向かって撓むことを抑制できる。
【0087】
［１１］一形態によれば、 前記隔膜支持部の前記複数の開口は、複数の第１形状の開口と、該複数の第１形状の開口の外側に配置された複数の第２形状の開口とを有し、 前記複数の第１形状の開口を包含する外接円の中心は、前記基板ホルダの回転中心から偏心している。
【0088】
この形態によれば、隔膜支持部のパターンの中心が基板の回転中心／回転中心軸から偏心しているので、めっき膜が隔膜支持部のパターンの形状を転写されることを抑制し、めっき膜の膜厚の均一性を向上させることができる。
【0089】
［１２］一形態によれば、前記複数の第１形状の開口からなる構造は、ハニカム構造である。
【0090】
この形態によれば、隔膜支持部は、撓みがより大きくなる可能性が高い隔膜の中央部において十分な強度で支持しつつ、より大きな開口面積を確保できる。即ち、隔膜の撓みを抑制しつつ、基板－アノード間の電場への影響を抑制することができる。
【0091】
［１３］一形態によれば、前記複数の第２形状の開口は、前記ハニカム構造の最外周の頂点から前記外周部に連結される、放射状に延びる複数の梁の間に形成されている。
【0092】
この形態によれば、撓みが大きくなる可能性の低い隔膜の外周部近傍領域で、必要な支持の強度を確保しつつ、より大きな開口面積を確保できる。
【0093】
［１４］一形態によれば、前記アノードは、複数の貫通孔を有する板状部材であり、前記隔膜の下面に密着して配置され、 前記アノードの下方に所定の距離をもって離間された裏面プレートを更に備え、 前記裏面プレートにより、前記アノードから発生するガスが前記アノードの下面において滞留する量を調整する。
【0094】
この形態によれば、アノード及び隔膜が互いに密着した構成であるため、アノード及び隔膜を統合したアノードホルダ組立体の高さ方向の寸法を抑制し、アノードホルダ組立体をコンパクトに構成することができる。
この形態によれば、アノードが隔膜に密着した構成であるため、アノードで発生したガスが隔膜とアノードとの間に溜まることを抑制又は防止し、アノードと基板との間の電場（電界）がガスによる影響を受けてめっき膜厚の均一性に影響を与えることを抑制又は防止できる。また、アノードの複数の貫通孔を通じて下面に滞留するガスの量を裏面プレートにより調整し、大量のガスが一時にアノード下面から離脱してアノード電圧が変動することを抑制又は防止できる。これにより、めっき膜の膜厚均一性が低下することを抑制又は防止できる。
この形態によれば、アノードが隔膜に密着した構成であるため、アノードで発生したガスが隔膜とアノードとの間に溜まることを抑制又は防止し、アノードと基板との間の電場（電界）がガスによる影響を受けてめっき膜厚の均一性に影響を与えることを抑制又は防止できる。また、アノードの複数の貫通孔を通じて下面に滞留するガスの量を裏面プレートにより調整し、大量のガスが一時にアノード下面から離脱してアノード電圧が変動することを抑制又は防止できる。これにより、めっき膜の膜厚均一性が低下することを抑制又は防止できる。
【0095】
［１５］一形態によれば、前記アノードホルダは、カソード液としてのめっき液を前記カソード室に供給するためのカソード液入口を有する。
【0096】
この形態によれば、カソード液入口をアノードホルダに設けるため、めっき槽の構成をよりコンパクトにすることができる。
【0097】
［１６］一形態によれば、前記カソード液入口は、前記隔膜より下方に配置され、 前記アノードホルダには、前記隔膜より下方の前記カソード液入口に連通する入口と、前記隔膜の上方に開口する出口とを有するカソード液通路が設けられている。
【0098】
この形態によれば、カソード液入口が、隔膜より下方にあり、カソード室の最下部に位置するため、カソード室に残るカソード液の残液を最小限にすることができる。また、アノードホルダの下部からカソード液を導入し、隔膜の上方（カソード室）にカソード液を供給するため、アノードホルダ外周部の上部でめっき槽に対するシール面を形成することが容易になる。この構造によれば、簡易な構成でアノードホルダ外周部とめっき槽との間のシール面を形成し易く、アノード室の体積を十分に確保し易い。
【0099】
［１７］一形態によれば、前記隔膜の上方に配置された可変アノードマスクを更に備える。
【0100】
この形態によれば、可変アノードマスクも引抜き自在のアノードホルダに一体化することができ、可変アノードマスクのメンテナンスが容易になる。
【0101】
［１８］一形態によれば、めっき槽をアノード室とカソード室とに区画する方法であって、 アノード及び隔膜が取り付けられたアノードホルダであって、前記めっき槽内を外部からシールする１又は複数のシール面と、前記めっき槽内を上下の室に区画する１又は複数のシール面とを有する、アノードホルダを準備すること、 前記アノードホルダを前記めっき槽の側壁の開口を介して前記めっき槽に装着し、前記アノードホルダで前記めっき槽の前記開口を塞いで前記めっき槽内を外部からシールすると共に、前記隔膜の上下で前記めっき槽内を前記アノード室と前記カソード室とに区画すること、を含む方法が提供される。
【0102】
［Ａ１］一形態によれば、めっき液を保持するためのめっき槽と、 被めっき面を下向きにして基板を保持する基板ホルダと、 前記基板に対向して配置されるアノードと、 前記基板と前記アノードとの間に配置された隔膜と、 前記隔膜の上面を押さえる隔膜支持部であって、複数の第１形状の開口と、該複数の第１形状の開口の外側に配置される複数の第２形状の開口とを有する隔膜支持部と、を備え、 前記複数の第１形状の開口を包含する外接円の中心は、前記基板ホルダの回転中心から偏心している、 めっき装置が提供される。
【0103】
この形態によれば、隔膜支持部のパターンの中心が基板の回転中心／回転中心軸から偏心しているので、めっき膜が隔膜支持部のパターンの形状を転写されることを抑制し、めっき膜の膜厚の均一性を向上させることができる。
【0104】
［Ａ２］一形態によれば、前記複数の第１形状の開口からなる構造は、ハニカム構造である。
【0105】
この形態によれば、隔膜支持部は、撓みがより大きくなる可能性が高い隔膜の中央部において十分な強度で支持しつつ、より大きな開口面積を確保できる。即ち、隔膜の撓みを抑制しつつ、基板－アノード間の電場への影響を抑制することができる。
【0106】
［Ａ３］一形態によれば、前記複数の第２形状の開口は、前記ハニカム構造の最外周の頂点から前記隔膜支持部の外周部に連結される、放射状に延びる複数の梁の間に形成されている。
【0107】
この形態によれば、撓みが大きくなる可能性の低い隔膜の外周部近傍領域で、必要な支持の強度を確保しつつ、より大きな開口面積を確保できる。
【0108】
［Ａ４］一形態によれば、前記アノードは、複数の貫通孔を有する板状部材であり、前記隔膜の下面に密着して配置され、 前記アノードの下方に所定の距離をもって離間された裏面プレートを更に備え、 前記裏面プレートにより、前記アノードから発生するガスが前記アノードの下面において滞留する量を調整する。
【0109】
この形態によれば、アノード及び隔膜が互いに密着した構成であるため、アノード及び隔膜を統合したアノードホルダ組立体の高さ方向の寸法を抑制し、アノードホルダ組立体をコンパクトに構成することができる。
この形態によれば、アノードが隔膜に密着した構成であるため、アノードで発生したガスが隔膜とアノードとの間に溜まることを抑制又は防止し、アノードと基板との間の電場（電界）がガスによる影響を受けてめっき膜厚の均一性に影響を与えることを抑制又は防止できる。また、アノードの複数の貫通孔を通じて下面に滞留するガスの量を裏面プレートにより調整し、大量のガスが一時にアノード下面から離脱してアノード電圧が変動することを抑制又は防止できる。これにより、めっき膜の膜厚均一性が低下することを抑制又は防止できる。
この形態によれば、アノードが隔膜に密着した構成であるため、アノードで発生したガスが隔膜とアノードとの間に溜まることを抑制又は防止し、アノードと基板との間の電場（電界）がガスによる影響を受けてめっき膜厚の均一性に影響を与えることを抑制又は防止できる。また、アノードの複数の貫通孔を通じて下面に滞留するガスの量を裏面プレートにより調整し、大量のガスが一時にアノード下面から離脱してアノード電圧が変動することを抑制又は防止できる。これにより、めっき膜の膜厚均一性が低下することを抑制又は防止できる。
【0110】
［Ａ５］一形態によれば、前記隔膜の上方に配置された可変アノードマスクを更に備える。
【0111】
この形態によれば、可変アノードマスクによりアノードの露出面積を調整することによる、めっき膜厚の膜厚均一性の向上も図れる。
【0112】
［Ａ６］一形態によれば、 前記複数の第１形状の開口及び前記複数の第２形状の開口は、複数の梁によって規定されており、 少なくとも一部の前記梁は、前記隔膜と接触する側で面取りが行われている。
【0113】
この形態によれば、隔膜のカソード室側に配置された梁の形状に面取りを設けることにより、梁の隔膜との接触面積を低減させ、カソード室における気泡残りを低減することができる。これにより、基板への気泡付着、部分的なめっきムラなど、めっき品質不具合を防止する効果を奏し得る。また、梁の下面にのみ面取りを設けることで、梁強度と気泡残りの低減を両立させることができる。
【0114】
［Ａ７］一形態によれば、 前記複数の第１形状の開口を規定する前記梁において面取りが行われている。
【0115】
基板の投影に概ね対応する複数の第１形状の開口の領域で、気泡残りを効果的に低減することができ、基板への気泡付着、部分的なめっきムラなど、めっき品質不具合を防止する効果を奏し得る。
【0116】
［Ａ８］一形態によれば、めっき液を保持するためのめっき槽と、 基板を保持する基板ホルダと、 前記基板に対向して配置されるアノードと、 前記基板と前記アノードとの間に配置された隔膜と、 前記隔膜を押さえる隔膜支持部であって、表面及び裏面を有し、前記表面と前記裏面との間を貫通する複数の開口を規定する複数の梁を有し、少なくとも一部の前記梁は、前記隔膜と接触する前記裏面側で面取りが行われている、隔膜支持部と、を備える、めっき装置が提供される。
隔膜支持部は、隔膜に対して基板側及び／又はアノード側に配置することができる。
隔膜支持部は、隔膜に対して基板側及び／又はアノード側に配置することができる。
【0117】
この形態によれば、隔膜支持部の梁において隔膜との接触側に面取りを設けることにより、梁の隔膜との接触面積を低減させ、めっき液中における気泡残りを低減することができる。これにより、基板への気泡付着、部分的なめっきムラなど、めっき品質不具合を防止する効果を奏し得る。また、梁の接触側にのみ面取りを設けることで、梁強度と気泡残りの低減を両立させることができる。
【0118】
［Ａ９］被めっき面を下向きにして基板をめっきするめっき方法であって、 前記基板に対向するアノードと、前記基板と前記アノードとの間に配置される隔膜と、前記隔膜の上面を押さえる隔膜支持部であって、複数の第１形状の開口と、該複数の第１形状の開口の外側に配置される複数の第２形状の開口とを有する隔膜支持部と、を有するめっき槽を準備し、 前記基板の回転中心が、前記隔膜支持部の前記複数の第１形状の開口を包含する外接円の中心から偏心した状態で、前記基板を回転しつつ前記基板をめっきする、めっき方法が提供される。
【0119】
この形態によれば、隔膜支持部のパターンの中心が基板の回転中心／回転中心軸から偏心しているので、めっき膜が隔膜支持部のパターンの形状を転写されることを抑制し、めっき膜の膜厚の均一性を向上させることができる。
【0120】
［Ａ１０］一形態によれば、基板をめっきするめっき方法であって、 前記基板に対向するアノードと、前記基板と前記アノードとの間に配置される隔膜と、前記隔膜を押さえる隔膜支持部であって、複数の開口を規定する複数の梁を有し、少なくとも一部の前記梁は、前記隔膜と接触する側で面取りが行われている隔膜支持部と、を有するめっき槽を準備し、 前記めっき槽を使用して前記基板をめっきする、めっき方法が提供される。
隔膜支持部は、隔膜に対して基板側及び／又はアノード側に配置することができる。
隔膜支持部は、隔膜に対して基板側及び／又はアノード側に配置することができる。
【0121】
この形態によれば、隔膜支持部の梁において隔膜との接触側に面取りを設けることにより、梁の隔膜との接触面積を低減させ、めっき液中における気泡残りを低減することができる。これにより、基板への気泡付着、部分的なめっきムラなど、めっき品質不具合を防止する効果を奏し得る。また、梁の接触側にのみ面取りを設けることで、梁強度と気泡残りの低減を両立させることができる。
【0122】
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、上記した発明の実施の形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定するものではない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく、変更、改良され得るとともに、本発明にはその均等物が含まれることはもちろんである。また、上述した課題の少なくとも一部を解決できる範囲、または、効果の少なくとも一部を奏する範囲において、実施形態および変形例の任意の組み合わせが可能であり、特許請求の範囲および明細書に記載された各構成要素の任意の組み合わせ、または、省略が可能である。
国際公開２００３／０７９６８４号公報（特許文献１）、国際公開２０２３／１８８３７１号公報の明細書、特許請求の範囲、図面及び要約書を含む全ての開示は、参照により全体として本願に組み込まれる。
国際公開２００３／０７９６８４号公報（特許文献１）、国際公開２０２３／１８８３７１号公報の明細書、特許請求の範囲、図面及び要約書を含む全ての開示は、参照により全体として本願に組み込まれる。
【符号の説明】
【0123】
６ アノードホルダ組立体
１０ めっき槽
１１ 上部槽
１２ 下部槽
１２Ａ フランジ
１２Ｂ 開口
１２Ｃ アノード液入口
１２Ｄ フランジ
２０ 基板ホルダ
３０ パドル
４０ 抵抗体
５０ 隔膜
５１ シール押さえリング
６０ アノード
６０Ａ ボス
６２ アノード固定板
４００ めっきモジュール
６１０ アノードホルダ
６１３ 底壁
６１４～６１７ 側壁
６１４ａ 切り欠き
６２０ ホルダ本体
６２１ 環状部
６２２ 隔膜支持部
６２２Ａ 梁
６２２Ｂ 梁
６２３ フランジ
６４０ 前板
６４１ 前板本体
６４２ 枠部材
６５０ 可変アノードマスク
６５１ ブレード
６５２ 駆動部材
６６０ バスバー
６７０ 駆動シャフト
６７１ 連結部材
６８０ カソード液入口
６８１ カソード液通路
７０１～７０４ シール
７０１Ａ～７０４Ａ シール面
８０１～８０５ 締結部材
８０４Ａ スペーサ
８１０ 隔膜押さえ
１０００ めっき装置
Ｒｍ 外接円
Ｃｍ 外接円の中心
Ｃｗ 回転中心（回転中心軸）
Ｗｆ 基板
１０ めっき槽
１１ 上部槽
１２ 下部槽
１２Ａ フランジ
１２Ｂ 開口
１２Ｃ アノード液入口
１２Ｄ フランジ
２０ 基板ホルダ
３０ パドル
４０ 抵抗体
５０ 隔膜
５１ シール押さえリング
６０ アノード
６０Ａ ボス
６２ アノード固定板
４００ めっきモジュール
６１０ アノードホルダ
６１３ 底壁
６１４～６１７ 側壁
６１４ａ 切り欠き
６２０ ホルダ本体
６２１ 環状部
６２２ 隔膜支持部
６２２Ａ 梁
６２２Ｂ 梁
６２３ フランジ
６４０ 前板
６４１ 前板本体
６４２ 枠部材
６５０ 可変アノードマスク
６５１ ブレード
６５２ 駆動部材
６６０ バスバー
６７０ 駆動シャフト
６７１ 連結部材
６８０ カソード液入口
６８１ カソード液通路
７０１～７０４ シール
７０１Ａ～７０４Ａ シール面
８０１～８０５ 締結部材
８０４Ａ スペーサ
８１０ 隔膜押さえ
１０００ めっき装置
Ｒｍ 外接円
Ｃｍ 外接円の中心
Ｃｗ 回転中心（回転中心軸）
Ｗｆ 基板
【要約】
基板とアノードとの間に配置される各部材の形状、移動等がめっき膜に転写されることを抑制ないし防止することにある。
めっき液を保持するためのめっき槽と、 被めっき面を下向きにして基板を保持する基板ホルダと、 前記基板に対向して配置されるアノードと、 前記基板と前記アノードとの間に配置された隔膜と、 前記隔膜の上面を押さえる隔膜支持部であって、複数の第１形状の開口と、該複数の第１形状の開口の外側に配置される複数の第２形状の開口とを有する隔膜支持部と、を備え、 前記複数の第１形状の開口を包含する外接円の中心は、前記基板ホルダの回転中心から偏心している、 めっき装置。
めっき液を保持するためのめっき槽と、 被めっき面を下向きにして基板を保持する基板ホルダと、 前記基板に対向して配置されるアノードと、 前記基板と前記アノードとの間に配置された隔膜と、 前記隔膜の上面を押さえる隔膜支持部であって、複数の第１形状の開口と、該複数の第１形状の開口の外側に配置される複数の第２形状の開口とを有する隔膜支持部と、を備え、 前記複数の第１形状の開口を包含する外接円の中心は、前記基板ホルダの回転中心から偏心している、 めっき装置。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6A】
【図6B】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13A】
【図13B】
