特許 7573369 投影露光装置用の光学系

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-10-17

(45)【発行日】2024-10-25

(54)【発明の名称】投影露光装置用の光学系

(51)【国際特許分類】

   G03F 7/20 20060101AFI20241018BHJP

   G02B 19/00 20060101ALI20241018BHJP

【ＦＩ】

G03F7/20 503

G02B19/00

【請求項の数】 17

【外国語出願】

(21)【出願番号】P 2020001875

(22)【出願日】2020-01-09

(65)【公開番号】P2020112796

(43)【公開日】2020-07-27

【審査請求日】2023-01-06

(31)【優先権主張番号】10 2019 200 193.9

(32)【優先日】2019-01-09

(33)【優先権主張国・地域又は機関】DE

(73)【特許権者】

【識別番号】503263355

【氏名又は名称】カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー

(74)【代理人】

【識別番号】100094569

【弁理士】

【氏名又は名称】田中 伸一郎

(74)【代理人】

【識別番号】100109070

【弁理士】

【氏名又は名称】須田 洋之

(74)【代理人】

【識別番号】100067013

【弁理士】

【氏名又は名称】大塚 文昭

(74)【代理人】

【識別番号】100086771

【弁理士】

【氏名又は名称】西島 孝喜

(74)【代理人】

【識別番号】100120525

【弁理士】

【氏名又は名称】近藤 直樹

(74)【代理人】

【識別番号】100139712

【弁理士】

【氏名又は名称】那須 威夫

(74)【代理人】

【識別番号】100158469

【弁理士】

【氏名又は名称】大浦 博司

(72)【発明者】

【氏名】ミヒャエル パトラ

【審査官】今井 彰

(56)【参考文献】

【文献】特表２０１５－５１５１４０（ＪＰ，Ａ）

【文献】特表２０１５－５３４１３２（ＪＰ，Ａ）

【文献】特表２０１６－５０９２５９（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平１０－０９０５２０（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００５－３０９２８８（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｇ０３Ｆ ７／２０－７／２４、９／００－９／０２

Ｇ０２Ｂ ５／０８、５／３０、１９／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

ＥＵＶでの動作のためのマイクロリソグラフィ投影露光装置用の光学系であって、
・少なくとも１つの第１の２重反射面ユニットおよび１つの第２の２重反射面ユニット（１２８、２２８、３２８、４２８、５２８、７２８）を有する少なくとも１つの偏光影響装置（１２４、２２４、３２４、４２４、５２４、６２４、７２４）を備え、
・前記少なくとも２つの２重反射面ユニットがそれぞれ、第１の反射面（１２８．１、２２８．１、３２８．１、４２８．１、５２８．１）および第２の反射面（１２８．２、２２８．２、３２８．２、４２８．２、５２８．２）を有し、
・同じ２重反射面ユニット内で、各場合において、前記第１の反射面と前記第２の反射面とが、距離ｄ１を隔てて、互いに対して０°±１０°の角度で直接に隣り合わせに配置されており、
・前記第１の２重反射面ユニットの前記第１の反射面と前記第２の２重反射面ユニットの前記第２の反射面とが、距離ｄ２を隔てて、互いに対して０°±１０°の角度で直接に隣り合わせに配置されており、
・前記光学系の動作中、前記第１の反射面に入射する光（１２５、２２５、３２５、４２５、５２５）が、前記第１の反射面と４３°±１０°の角度をなし、
・前記光学系の動作中、前記第１の２重反射面ユニットの前記第１の反射面に入射する光が、前記第２の２重反射面ユニットの前記第２の反射面に向かって反射され、
・次式が真である：ｄ２＞５×ｄ１、
光学系。

【請求項2】

前記偏光影響装置（１２４、２２４、３２４、４２４、５２４、６２４、７２４）が、少なくとも１０個の２重反射面ユニット（１２８、２２８、３２８、４２８、５２８、７２８）を有する、請求項１に記載の光学系。

【請求項3】

前記２重反射面ユニット（１２８、２２８、３２８、４２８、５２８、７２８）の前記第１の反射面（１２８．１、２２８．１、３２８．１、４２８．１、５２８．１）と前記第２の反射面（１２８．２、２２８．２、３２８．２、４２８．２、５２８．２）とが、交互に、そして交互距離ｄ１およびｄ２を隔てて配置された、請求項２に記載の光学系。

【請求項4】

前記偏光影響装置（１２４、２２４、３２４、４２４、５２４、６２４、７２４）が、
・前記光学系の動作中に前記第１の反射面（１２８．１、２２８．１、３２８．１、４２８．１、５２８．１）に入射する光（１２５、２２５、３２５、４２５、５２５）の光伝搬方向（ｚ）に対して平行に延びる回転軸の周りで回転可能であり、かつ／または
・前記光学系の動作中に前記第１の反射面に入射する前記光のビーム経路から除去可能であるように構成されている、
請求項１から３までのいずれか１項に記載の光学系。

【請求項5】

前記２重反射面ユニット（１２８、２２８、３２８、４２８、５２８、７２８）のうちの少なくとも１つの２重反射面ユニットの前記第１の反射面（１２８．１、２２８．１、３２８．１、４２８．１、５２８．１）と前記第２の反射面（１２８．２、２２８．２、３２８．２、４２８．２、５２８．２）とが、モノリシック要素（１２８、２２８、３２８、４２８、５２８ａ、５２８ｂ、５２８ｃ、７２８）の２つの側面に配置された、請求項１から４までのいずれか１項に記載の光学系。

【請求項6】

前記モノリシック要素（１２８、２２８、３２８、４２８、５２８ａ、５２８ｂ、５２８ｃ、７２８）の少なくとも１つの非反射側面（４５７ａ、４５７ｂ、５５７ｃ）が、前記光学系の動作中に前記第１の反射面（１２８．１、２２８．１、３２８．１、４２８．１、５２８．１）に入射する光（１２５、２２５、３２５、４２５、５２５）の光伝搬方向（ｚ）に対して平行に配置された、請求項５に記載の光学系。

【請求項7】

２重反射面ユニット（１２８、２２８、３２８、４２８、５２８、７２８）の前記第１の反射面（１２８．１、２２８．１、３２８．１、４２８．１、５２８．１）と前記第２の反射面（１２８．２、２２８．２、３２８．２、４２８．２、５２８．２）とが異なる要素（５２８ｄ）に配置された、請求項１から４までのいずれか１項に記載の光学系。

【請求項8】

前記第１の反射面（１２８．１、２２８．１、３２８．１、４２８．１、５２８．１）および前記第２の反射面（１２８．２、２２８．２、３２８．２、４２８．２、５２８．２）が、
－ ＥＵＶ反射層、および／または
－ 偏光影響層、および／または
－ モリブデン－シリコン多層コーティング、および／または
－ ルテニウムコーティング、および／または
－ ルテニウムカバー層を有するモリブデン－シリコン多層コーティング
を備える、請求項１から７までのいずれか１項に記載の光学系。

【請求項9】

第２の反射面（３２８．２、４２８．２、５２８ｂ．２）が、前記光学系の動作中に前記第１の反射面に入射する光（１２５、２２５、３２５、４２５、５２５）の光伝搬方向（ｚ）に、直接に隣り合う第１の反射面（３２８．１、４２８．１、５２８ｂ．１）に対して、高さｈだけ変位しているように配置された、請求項１から８までのいずれか１項に記載の光学系。

【請求項10】

ｈは、０．８ｈ’≦ｈ≦１．２ｈ’であり、ここで、ｈ’＝ｄ１×√２である、請求項９に記載の光学系。

【請求項11】

・前記反射面（１２８．１、２２８．１、３２８．１、４２８．１、５２８．１、１２８．２、２２８．２、３２８．２、４２８．２、５２８．２）のうちの少なくとも１つの反射面が、第１の広がり方向の大きさＬを有し、
・前記第１の広がり方向が、前記光学系の動作中に前記第１の反射面（１２８．１、２２８．１、３２８．１、４２８．１、５２８．１）に入射する光（１２５、２２５、３２５、４２５、５２５）の光伝搬方向（ｚ）の、前記第１の反射面が配置された平面への射影によって与えられ、
・Ｌは、０．８Ｌ’≦Ｌ≦１．２Ｌ’であり、ここで、Ｌ’＝２×ｄ２である、
請求項１から１０までのいずれか１項に記載の光学系。

【請求項12】

・少なくとも２つの２重反射面ユニット（１２８、２２８、３２８、４２８、５２８、７２８）が、互いに対して補正角φだけ傾けられているように配置されており、または
・少なくとも１つの第１の反射面（１２８．１、２２８．１、３２８．１、４２８．１、５２８．１）と１つの第２の反射面（１２８．２、２２８．２、３２８．２、４２８．２、５２８．２）とが、互いに対して補正角φだけ傾けられているように配置されており、
・前記補正角φが０．１°よりも大きい、
請求項１から１１までのいずれか１項に記載の光学系。

【請求項13】

前記偏光影響装置（１２４、２２４、３２４、４２４、５２４、６２４、７２４）が、前記光学系の動作中に前記第１の反射面（１２８．１、２２８．１、３２８．１、４２８．１、５２８．１）に入射する非偏光または円偏光の光（１２５、２２５、３２５、４２５、５２５）を、前記第２の反射面（１２８．２、２２８．２、３２８．２、４２８．２、５２８．２）から反射される直線偏光の光（１３０、２３０、３３０、４３０、５３０）に変換する、請求項１から１２までのいずれか１項に記載の光学系。

【請求項14】

ＥＵＶでの動作のために設計されたマイクロリソグラフィ投影露光装置（６０１、７０１）用の照明系（６０２、７０２）であって、請求項１から１３までのいずれか１項に記載の光学系を備える照明系（６０２、７０２）。

【請求項15】

中間焦点面（６１２、７１２）と、複数のファセット（６１３ａ）を有する少なくとも１つの第１のファセットミラー（６１３、７６３）とを有し、前記少なくとも１つの偏光影響装置（１２４、２２４、３２４、４２４、５２４、６２４、７２４）が、前記光（１２５、２２５、３２５、４２５、５２５）の偏光状態に影響を与えるために、前記中間焦点面と前記第１のファセットミラーの間のビーム経路内に配置された、請求項１４に記載の照明系（６０２、７０２）。

【請求項16】

請求項１４または１５に記載の照明系（６０２、７０２）と、投影光学ユニット（６０７）とを備えるマイクロリソグラフィ投影露光装置（６０１、７０１）。

【請求項17】

マイクロ構造を有する構成要素をマイクロリソグラフィによって製作するための方法であって、以下のステップ、すなわち
・感光性材料からなる層が少なくとも部分的に付けられた基板を用意するステップ、
・結像すべき構造を含むマスクを用意するステップ、
・請求項１６に記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置（６０１、７０１）を用意するステップ、および
・前記投影露光装置の助けを借りて、前記マスクの少なくとも一部分を前記層の領域に投影するステップ
を含む方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、偏光に影響を与える装置（配置）（ｐｏｌａｒｉｚａｔｉｏｎ－ｉｎｆｌｕｅｎｃｉｎｇ ａｒｒａｎｇｅｍｅｎｔ）（以下、偏光影響装置という）を備える光学系（光学システム）に関し、詳細には、ＥＵＶマイクロリソグラフィ用の投影露光装置で使用するための光学系に関する。

【背景技術】

【0002】

偏光影響装置を備えた、ＥＵＶマイクロリソグラフィ用の投影露光装置で使用するための光学系は、例えばＤＥ １０２０１２２０６１５３ Ａ１から知られている。特に、偏光影響装置を使用して、偏光されていない入射光（以後、非偏光入射光という）を、ブリュースター角（Ｂｒｅｗｓｔｅｒ ａｎｇｌｅ）での２回の反射によって偏光させることが、ＤＥ １０２０１２２０６１５３ Ａ１から知られている。この場合、この光は、互いの隣に平行に配置された２つの個々のミラーからなる装置によって直線偏光される。これらのミラーは、この非偏光入射光を連続的に各場合において９０°偏向させる。ここで、入射光の最初のビーム方向は、この２回の反対方向の、各場合において９０°のビーム偏向によって維持される。ＤＥ １０２０１２２０６１５３ Ａ１によれば、複数のこのようなミラー対が互いの隣に配置される。さらに、それらのミラー対は、反射光の偏光方向を設定（ｓｅｔ：セット）することができるようにするためにそれらのミラー対が各場合において個別に回転可能となるように実施することができる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【文献】ＤＥ １０２０１２２０６１５３ Ａ１

【発明の概要】

【0004】

本発明の目的は、背景技術の項で述べたタイプの偏光影響装置を備える光学系を、以下の特性が最適化されるように発展させることにある。
１．）偏光影響装置による望ましくない遮光（ｓｈａｄｉｎｇ：陰影）が低減もしくは最小化されることが意図されていること、ならびに／または
２．）機械的および熱的安定性が改善されることが意図されていること、特に、偏光影響装置の光学ユニットのより単純な機械的取付けが可能になることが意図されていること、ならびに／または
３．）偏光動作（ｐｏｌａｒｉｚｅｄ ｏｐｅｒａｔｉｏｎ）の他に、光学系内の光分布（ｌｉｇｈｔ ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎ）が偏光動作に比べて変化せず、「有効透過率（ｅｆｆｅｃｔｉｖｅ ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ）」が偏光動作に比べて高い非偏光動作（ｕｎｐｏｌａｒｉｚｅｄ ｏｐｅｒａｔｉｏｎ）も可能であることが意図されていること（ここで、「有効透過率」は、偏光影響装置の配置領域の後方、すなわち偏光影響装置の配置領域の下流における強度を、偏光影響装置の配置領域の前方、すなわち偏光影響装置の配置領域の上流における強度で割った商を意味すると理解される）、ならびに／または
４．）偏光影響装置の製造性（ｐｒｏｄｕｃｉｂｉｌｉｔｙ）が単純化されることが意図されており、かつ／もしくはより低コストの支出での製造が可能になることが意図されていること、ならびに／または
５．）偏光影響装置の結果としてのビームオフセット（ｂｅａｍ ｏｆｆｓｅｔ）が最小化されることが意図されていること、ならびに／または
６．）偏光影響装置の結果としてのビームオフセットの最小化とともに、偏光影響装置の結果としての望ましくない遮光が低減もしくは最小化されることが意図されていること、ならびに／または
７．）偏光影響装置が、偏光影響装置の結果としてのビームオフセットを導入することなく平行入射光もしくは発散（ｄｉｖｅｒｇｅｎｔ）入射光の偏光を設定するのに適していることが意図されていること、ならびに／または
８．）偏光影響装置が、既存の投影露光装置内において、既存の投影露光装置に対する基本的変更の必要なしにレトロフィット可能（ｒｅｔｒｏｆｉｔｔａｂｌｅ：改良可能、後付け可能）であることが意図されていること。

【0005】

本発明によれば、この目的は、請求項１に記載された特徴および／または従属請求項に記載された特徴を有する光学系によって達成される。

【0006】

本発明によれば、上述の偏光影響装置の反射面間の距離の目的に合った選択を使用して、遮光領域を低減させることができることが分かった。

【0007】

本発明によれば、この目的は、ＥＵＶでの動作のためのマイクロリソグラフィ投影露光装置用の光学系であって、少なくとも１つの第１の２重反射面ユニット（ｄｏｕｂｌｅ ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ ｓｕｒｆａｃｅ ｕｎｉｔ）および１つの第２の２重反射面ユニットを有する少なくとも１つの偏光影響装置を備える光学系によって達成される。この少なくとも２つの２重反射面ユニットはそれぞれ、第１の反射面および第２の反射面を有する。同じ２重反射面ユニット内で、各場合において、第１の反射面と第２の反射面とは、距離ｄ１を隔てて、互いに対して０°±１０°の角度で直接に隣り合わせに配置されている。ここで、「直接に隣り合わせに」は、距離ｄ１を隔てて直接に隣り合わせに配置された２つの反射面間に、偏光影響装置の光学的に使用される追加の反射面がないことを意味する。第１の２重反射面ユニットの第１の反射面と第２の２重反射面ユニットの第２の反射面とは、距離ｄ２を隔てて、互いに対して０°±１０°の角度で直接に隣り合わせに配置されている。光学系の動作中、第１の反射面に入射する光は、第１の反射面と４３°±１０°、特に４３°±５°の角度をなす。光学系の動作中、第１の２重反射面ユニットの第１の反射面に入射する光は、第２の２重反射面ユニットの第２の反射面に向かって反射される。距離ｄ１およびｄ２に関しては、例えばｄ２＞５×ｄ１が真である。特に、ｄ２＞１０×ｄ１、特にｄ２＞２０×ｄ１とすることができる。

【0008】

このような小さな距離ｄ１の結果、偏光影響装置の下流のビーム経路の望ましくない遮光が低減される。偏光影響装置の結果としての望ましくない遮光が低減されているため、非偏光動作を可能にするためにビーム経路から偏光影響装置が除去された場合でも、光学系内の光分布はほとんど変化しない。さらに、除去の過程で光分布を変化させることなくビーム経路から偏光影響装置の反射面が除去されるため、偏光影響装置の除去は、より高い「透過率」での非偏光動作を可能にする。さらに、距離ｄ１しか離れていないこれらの２つの反射面は単一の光学要素に、すなわち単一の光学要素の前面と後面に適用されているため、偏光影響装置の製造性が単純化される。その結果として、より低コストの支出での製造を達成することができる。偏光影響装置によって引き起こされる遮光が低減されることにより、偏光動作中の「有効透過率」が増大する。

【0009】

他の実施形態によれば、この光学系が、少なくとも１０個の２重反射面ユニットからなる。したがって、光学系の所与の全体サイズに対して、それぞれの２重反射面ユニットは小さい傾向がある。望ましくない遮光およびビーム偏向効果は、個々の２重反射面ユニットのサイズとともに増減し、したがって、数多くの２重反射面ユニットを使用することによって、望ましくない遮光およびビーム偏向効果を低減させることができる。

【0010】

一実施形態および／または代替定義（ａｌｔｅｒｎａｔｉｖｅ ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ）によれば、ＥＵＶでの動作のためのマイクロリソグラフィ投影露光装置用のこの光学系は、少なくとも２つの第１の反射面および少なくとも２つの第２の反射面を有する少なくとも１つの偏光影響装置を備える。第１の反射面と第２の反射面とは、各場合において、互いに対して０°±１０°の角度で配置されている。光学系の動作中、第１の反射面に入射する光は、各場合において、前記第１の反射面と４３°±１０°、特に４３°±５°の角度をなす。第１の反射面と第２の反射面とは、交互に、そして交互距離（ａｌｔｅｒｎａｔｅ ｄｉｓｔａｎｃｅｓ）ｄ１およびｄ２を隔てて配置されている。距離ｄ１およびｄ２に関しては、ｄ２＞５×ｄ１が真である。特に、ｄ２＞１０×ｄ１、特にｄ２＞２０×ｄ１とすることができる。

【0011】

一実施形態および／または代替定義によれば、ＥＵＶでの動作のためのマイクロリソグラフィ投影露光装置用のこの光学系は、少なくとも１つの第１の反射面および少なくとも２つの第２の反射面を有する少なくとも１つの偏光影響装置を備える。第１の反射面と２つの第２の反射面とは、各場合において、互いに対して０°±１０°の角度で配置されている。光学系の動作中、光学系の動作中、第１の反射面に入射する光は、第１の反射面と４３°±１０°、特に４３°±５°の角度をなす。第１の反射面は、２つの第２の反射面間に配置されている。第１の反射面は、一方の第２の反射面からは距離ｄ１を隔てて、もう一方の第２の反射面からは距離ｄ２を隔てて配置されている。距離ｄ１およびｄ２に関しては、ｄ２＞５×ｄ１が真である。特に、ｄ２＞１０×ｄ１、特にｄ２＞２０×ｄ１とすることができる。

【0012】

一実施形態によれば、偏光影響装置は、光学系の動作中に第１の反射面に入射する光の光伝搬方向に対して平行に延びる回転軸の周りで回転可能であり、かつ／または、偏光影響装置は、光学系の動作中に第１の反射面に入射する光のビーム経路から除去可能であるように構成されている。

【0013】

ここで、光伝搬方向は、主光線（ｐｒｉｎｃｉｐａｌ ｒａｙ）の方向を意味すると理解される。

【0014】

偏光影響装置が回転可能である結果、回転角に応じて偏光方向を連続的に変化させることができる。偏光影響装置を除去することは、（偏光影響装置がビーム経路上にある）偏光動作と（偏光影響装置がビーム経路から除去されている）非偏光動作との間の切換えを可能にする。ここで、「ビーム経路」は、使用されたＥＵＶ光が放射源からレチクルに向かって誘導される領域を意味し、例えば、例えば迷光などの寄生光だけ、および／または使用されたＥＵＶ光波長と等しくない波長を有する光だけが通ることができる領域を意味しないと理解される。

【0015】

（例えばそれぞれの２重反射面ユニットが本来的に回転可能であるのではなしに）偏光影響装置全体だけが回転可能および／または除去可能であることにより、機械的および熱的安定性が改善される。これは、１つの（より大きな）回転デバイスだけを実装すればよく、したがって、より安定な機械取付けを使用することができ、それによってさらに、より良好でより容易に実装可能な熱散逸（ｈｅａｔ ｄｉｓｓｉｐａｔｉｏｎ）が可能になるためである。さらに、より大きな回転デバイスは、より単純に、かつより高い費用効果で製造可能である。

【0016】

一実施形態によれば、２重反射面ユニットのうちの少なくとも１つの２重反射面ユニットの第１の反射面と第２の反射面とは、モノリシック（一体型）要素（ｍｏｎｏｌｉｔｈｉｃ ｅｌｅｍｅｎｔ）の２つの側面に配置されている。

【0017】

その結果として、２つの別個の要素の代わりに、単一の光学要素に、すなわち単一の光学要素の前面と後面に２つの反射面が適用されるため、偏光影響装置の製造性が単純化される。その結果として、２重反射面ユニット１つにつき１つの要素を節約（ｓａｖｅ）することができるため、より低コストの支出での製造が達成される。

【0018】

一実施形態によれば、モノリシック要素の少なくとも１つの側面は、光学系の動作中に第１の反射面に入射する光の光伝搬方向に対して平行に配置されている。

【0019】

その結果として、望ましくない遮光をさらに低減させることができる。さらに、その結果として達成できるのは、偏光影響装置がビーム経路から除去された場合または偏光影響装置がビーム経路に導入された場合の光学系内の光分布の変化を、可能な限り小さくすることである。偏光影響装置の結果としての遮光が低減されることにより、偏光動作中の「有効透過率」が増大する。

【0020】

一実施形態によれば、２重反射面ユニットの第１の反射面と第２の反射面とは異なる要素に配置されている。

【0021】

この実施形態の場合にも、小さな距離ｄ１により、遮光が低減される。さらに、第１および第２の反射面の好ましい配置、例えば正確に平行な配置または目的に合うように互いに対して傾けられた配置が可能になるように、それらの異なる２つの要素を互いに対して配置することができる。互いに対して補正角（ｃｏｒｒｅｃｔｉｏｎ ａｎｇｌｅ）だけ傾けられた第１および第２の反射面の配置を、特に、偏光影響装置に起因するビームオフセットを補正する目的に使用することができる。さらに、互いに対して補正角φだけ傾けられた第１および第２の反射面の配置を、偏光影響装置が発散入射光用に目的に合わせて設計または最適化されるように構成することもできる。くさび形の（ｗｅｄｇｅ－ｓｈａｐｅｄ）幾何形状（ｇｅｏｍｅｔｒｙ）を有しているモノリシック実施形態によっても、同じ効果を達成することができる。

【0022】

一実施形態によれば、第１の反射面および第２の反射面は、
－ ＥＵＶ反射層、および／または
－ 偏光に影響を与える層（以後、偏光影響層という）、および／または
－ モリブデン（ｍｏｌｙｂｄｅｎｕｍ）－シリコン（ｓｉｌｉｃｏｎ）多層（ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ）コーティング、および／または
－ ルテニウム（ｒｕｔｈｅｎｉｕｍ）コーティング、および／または
－ ルテニウムカバー層を有するモリブデン－シリコン多層コーティング
を備える。

【0023】

その結果として、「有効透過率」を増大させられることができ、かつ／または反射面の偏光分割（ｐｏｌａｒｉｚａｔｉｏｎ－ｓｐｌｉｔｔｉｎｇ）効果を改善することができる。

【0024】

一実施形態によれば、第２の反射面は、光学系の動作中に第１の反射面に入射する光の光伝搬方向（ｚ）に、直接に隣り合う第１の反射面に対して、高さｈだけ変位しているように配置されている。

【0025】

その結果として、望ましくない遮光をさらに低減させることができる。さらに、その結果として達成できるのは、偏光影響装置がビーム経路から除去された場合または偏光影響装置がビーム経路に導入された場合の光学系内の光分布の変化を、可能な限り小さくすることである。遮光が低減されることにより、「有効透過率」が増大する。

【0026】

一実施形態によれば、ｈ＞ｄ１である。ｈは、特に、ｈ’＝ｄ１×√２から最大でも２０％だけ外れる（ｄｅｖｉａｔｅ）。

【0027】

その結果として、望ましくない遮光をさらに低減させることができる。さらに、その結果として達成できるのは、偏光影響装置がビーム経路から除去された場合または偏光影響装置がビーム経路に導入された場合の光学系内の光分布の変化を、可能な限り小さくすることである。遮光が低減されることにより、「有効透過率」が増大する。幾何学的観点から、ｈ＝ｄ１×√２は、理論上の理想的ケース（すなわち公差がないケース、平行入射光であるケースなど）における遮光が完全になくなる好ましい実施形態であることがある。

【0028】

一実施形態によれば、反射面のうちの少なくとも１つの反射面は、第１の広がり方向（ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ ｏｆ ｅｘｔｅｎｔ）の大きさ（ｅｘｔｅｎｔ）Ｌを有する。第１の広がり方向は、光学系の動作中に第１の反射面に入射する光の光伝搬方向の、第１の反射面が配置された平面への射影（ｐｒｏｊｅｃｔｉｏｎ：投影）によって与えられる。Ｌは、Ｌ’＝２×ｄ２から最大でも２０％だけ外れる。

【0029】

その結果として、望ましくない遮光をさらに低減させることができる。さらに、その結果として達成できるのは、偏光影響装置がビーム経路から除去された場合または偏光影響装置がビーム経路に導入された場合の光学系内の光分布の変化を、可能な限り小さくすることである。遮光が低減されることにより、「有効透過率」が増大する。幾何学的観点から、Ｌ＝２×ｄ２は、理論上の理想的ケース（すなわち公差がないケース、平行入射光であるケースなど）における遮光が完全になくなる好ましい実施形態であることがある。

【0030】

一実施形態によれば、偏光影響装置によって、光学系の動作中に第１の反射面に入射する非偏光または円偏光の光を、第２の反射面から反射される直線偏光の光に変換することができる。

【0031】

一実施形態によれば、ＥＵＶでの動作のために設計されたマイクロリソグラフィ投影露光装置用の照明系（照明システム）は、上に開示された特徴を有する光学系を備える。

【0032】

一実施形態によれば、この照明系は、中間焦点面（ｉｎｔｅｒｍｅｄｉａｔｅ ｆｏｃａｌ ｐｌａｎｅ）と、複数のファセット（ｆａｃｅｔ）を有する少なくとも１つの第１のファセットミラーとを有する。この少なくとも１つの偏光影響装置は、光の偏光状態に影響を与えるために、中間焦点面と第１のファセットミラーの間のビーム経路上に配置されている。

【0033】

偏光影響装置をこのように配置することによって以下の利点が得られる。
１．）偏光影響装置によって、事実上、入射光のパワーの５０％超（すなわち、フィルタリングによって除去される「不正確な」偏光方向の結果として約５０％、それに２重反射の結果としての反射損が加わる）がビーム経路から除去される。系（システム）内の非常に早いところに（ｓｏ ｅａｒｌｙ）偏光影響装置が配置された場合には、下流の全ての要素での放射ローティングが大幅に低減し、このことは、寿命（ｌｉｆｅｔｉｍｅ）態様および熱的（ｔｈｅｒｍａｌ）態様などの効果に有利な影響を与える。
２．）下流の光混合の結果として、偏光影響装置の下流の可能な遮光が「ウォッシュアウトされ（ｗａｓｈｅｄ ｏｕｔ）」、このことは、レチクルの視野（ｆｉｅｌｄ：フィールド）照明の均一性に対して都合のよい影響を有する。

【0034】

一実施形態によれば、マイクロリソグラフィ投影露光装置は、上述の照明系と、投影光学ユニットとを備える。

【0035】

一実施形態によれば、マイクロ構造を有する構成要素をマイクロリソグラフィによって製作するための方法は、以下のステップを含む：
・感光性材料からなる層が少なくとも部分的に付けられた（ａｐｐｌｉｅｄ）基板を用意する（ｐｒｏｖｉｄｅ）ステップ、
・結像（ｉｍａｇｅ）すべき構造を含むマスクを用意するステップ、
・上述のマイクロリソグラフィ投影露光装置を用意するステップ、および
・投影露光装置の助けを借りて、マスクの少なくとも一部分をその層の領域に投影するステップ。

【0036】

以下では、添付図面に示された例示的な実施形態に基づいて本発明をより詳細に説明する。

【図面の簡単な説明】

【0037】

【図1】偏光影響装置の一実施形態の略断面図である。

【図2】偏光影響装置の一実施形態の略断面図である。

【図3】偏光影響装置の一実施形態の略断面図である。

【図4a】偏光影響装置の一実施形態の略断面図である。

【図4b】図４ａの装置の大きさ、距離および角度などの幾何学的変量を示している。

【図5a】偏光影響装置の一実施形態の略断面図であり、図５ａ、５ｂ、５ｃ、５ｄおよび５ｅは異なる実施形態を示している。

【図5b】偏光影響装置の一実施形態の略断面図であり、図５ａ、５ｂ、５ｃ、５ｄおよび５ｅは異なる実施形態を示している。

【図5c】偏光影響装置の一実施形態の略断面図であり、図５ａ、５ｂ、５ｃ、５ｄおよび５ｅは異なる実施形態を示している。

【図5d】偏光影響装置の一実施形態の略断面図であり、図５ａ、５ｂ、５ｃ、５ｄおよび５ｅは異なる実施形態を示している。

【図5e】偏光影響装置の一実施形態の略断面図であり、図５ａ、５ｂ、５ｃ、５ｄおよび５ｅは異なる実施形態を示している。

【図6】投影露光装置の略断面図である。

【図7】投影露光装置の略断面図である。

【図8】結像すべきさまざまな構造の略図である。

【図9】瞳（ｐｕｐｉｌ）の中のさまざまな強度分布の略図である。

【発明を実施するための形態】

【0038】

図８および９に関連して、以下に、マイクロリソグラフィにおける構造の結像に関して、偏光された照明の使用についての背景的理由を、動機付けに関して説明する。

【0039】

投影露光装置は、さまざまなタイプの構造を結像することができることが意図されている。図８は、結像すべきこのような構造の例を示す。ここで、座標系（ｘ’，ｙ’，ｚ’）は、レチクルにおける座標に関係し、ｙ’は、走査方向に対して平行に向けられている。座標系（ｘ’，ｙ’，ｚ’）は、図６および図７に示された座標系に対応する。図８ａは、結像すべき１次元構造を示し、それらの１次元構造は、方向ｙ’に沿って配置されており、方向ｘ’に対して平行に延びている。構造のサイズはｄによって識別される。図８ｂは、結像すべき２つの１次元構造を示し、それらの２つの１次元構造は、互いに直角に延びる２つの方向ｘ’およびｙ’に沿って配置されている。

【0040】

図８ａに示されているような単純な線構造の結像には、入射照明光に対する直線偏光の使用が有利である。ここでは、結像すべき構造に動作中に入射する光の偏光方向が、方向ｘ’に沿って延びる構造に対して平行な方向に設定されていると有利である。当業者には、その背景的理由が、キーワード「ベクトル効果（ｖｅｃｔｏｒ ｅｆｆｅｃｔ）」の下に、長い間、十分に知られている。

【0041】

例えば図８ｂに示されているようなより複雑な構造では、回折構造の下流の瞳、すなわちレンズ瞳において、入射照明光の他に、各場合において関連する回折次数も考慮する必要がある。図９ａは、一例として、図８ｂの回折構造のような回折構造の下流の瞳または瞳の部分を示す。これに対応して、図９の座標系（ｘ”，ｙ”，ｚ”）は瞳座標を示す。図９ａにおいて、Ｂは、回折構造に入射する照明光、または回折されずに回折構造から射出した光を表す。例えば回折構造の下流、すなわち回折構造の後方で回折次数（０，１）および（１，０）が生じうるように、照明光Ｂを回折させることができる。照明光Ｂは、回折次数（０，０）と解釈することもできる。図９ａの矢印は、構造をウェーハ上に結像するために、像平面の像視野において、どの回折次数が、各場合において、照明光Ｂと干渉しうるのか、または照明光Ｂと干渉することが意図されているのかを示す。（０，１）は、例えば図８ｂに示された構造の左側の領域の水平構造などの水平構造での回折後の回折次数を表す。（１，０）は、例えば図８ｂに示された構造の右側の領域の垂直構造などの垂直構造での回折後の回折次数を表す。

【0042】

例えば図８ｂに示されているような異なる向き（ｏｒｉｅｎｔａｔｉｏｎｓ
：方位）を有する線を、（図９ｂに示されているような）クェーサー照明（ｑｕａｓａｒ ｉｌｌｕｍｉｎａｔｉｏｎ）を使用して同時に結像すべきことが意図とされている場合、および全ての照明方向が空中像に寄与することが意図されている場合には、以下の要件が生じる。図８ｂの右側の領域に示されているような垂直構造については、照明放射が、垂直に、すなわち方向ｙ’に対して平行に偏光されることが意図されている。図８ｂの左側の領域に示されているような水平構造については、照明放射が、水平に、すなわち方向ｘ’に対して平行に偏光されることが意図されている。このことは、図９ａの照明光Ｂの所望の偏光に関して矛盾する要件を生じる。そのため、非偏光照明が最も有利な偏光状態である。

【0043】

本発明によれば、ＥＵＶ投影露光装置では、多くの用途において、以下の２つの偏光状態だけが設定されればよいことが分かっている：
１．）非偏光状態、または
２．）唯１つの偏光方向に沿って直線偏光された状態。前記唯１つの偏光方向は可変であってもよく、特に回転可能であってもよい。

【0044】

本発明に基づく偏光影響装置は、これらの２つの偏光状態を提供する。

【0045】

さらに、本発明に基づく偏光影響装置は、上に追加的に挙げた追加の利点を提供する。

【0046】

図１は、本発明に基づく偏光影響装置１２４の一実施形態を示す。偏光影響装置１２４は、多数の（ａ ｍｕｌｔｉｐｌｉｃｉｔｙ ｏｆ）第１の反射面１２８．１および多数の第２の反射面１２８．２を備える。第１の反射面１２８．１と第２の反射面１２８．２は、各場合において、互いに対して平行に交互に配置されている。同様に、図１に示されているこれらのプレート（ｐｌａｔｅｓ）間の距離ｄ１およびｄ２も交番する。各場合において、第１の反射面１２８．１と第２の反射面１２８．２は、距離ｄ１を隔てて互いの近くに配置されている。ここでは、互いの近くに配置されたこのような反射面を２重反射面ユニット１２８と呼ぶ。特に、ｄ２＞５×ｄ１とすることができる。距離ｄ１が非常に小さい結果として、下流の可能な遮光、すなわち正のｚ方向の可能な遮光が最小化される。入射光１２５の伝搬方向と直交する面１２２が破線で示されている。入射光は、ｚ方向に沿って偏光影響装置１２４に入射する。入射光１２５は非偏光または円偏光である。可能な最も大きな程度にまで非偏光とされた光は、例えばＥＵＶプラズマ源によって発生させることができる。ＥＵＶプラズマ源については投影露光装置に関連して後に説明する。円偏光は例えば、例えば米国特許第９９５５５６３Ｂ２号に記載されている特別な構成を有する自由電子レーザ（ｆｒｅｅ ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｌａｓｅｒ：ＦＥＬ）によって発生させることができる。入射光１２５は、第１の反射面１２８．１に約４３°で入射する。ＥＵＶ波長では、ほぼ全ての材料が約１の屈折率を有する。特に、その結果、ブルースター角は約４３°となりうる。ブルースター角で偏光分割は最大になる。偏光分割は、二重減衰（ｄｉａｔｔｅｎｕａｔｉｏｎ）とも呼ばれている。これは、反射面１２８．１および１２８．２において４３°±１０°で反射される光１３０を、主に図面の平面に対して直角に偏光させる効果、すなわち図示された方向ｘおよびｚに対して直角の向きを有するｙ方向に対して平行に偏光させる効果を有する。入射光は最初に、第１の反射面１２８．１において約４３°±１０°で反射される。すなわち、入射光は、４３°±１０°の角度で第１の反射面１２８．１に入射し、約９４°±１０°、特に９４°±５°、特に９４°±１°、特に９４°±０．５°だけ偏向されて第２の反射面１２８．２に向かい、第２の反射面１２８．２で、約９４°±１０°、特に９４°±５°、特に９４°±１°、特に９４°±０．５°だけ偏向される。ブルースター角でのこの２重反射は、このようなブルースター反射が１回だけであるのと比較して偏光分割を増大させる。第１の反射面１２８．１と第２の反射面１２８．２とが完全に平行に配置されていることを考えれば、この２回の反対方向の９４°の偏向の結果、２重反射光１３０のビーム方向は、入射光１２５に対して変化しない。このことは、本発明に基づく偏光影響装置１２４を既存の投影露光装置のビーム経路に組み込むことを可能にし、さらには、後に、偏光影響装置１２４を、レトロフィット可能な構成要素として組み込むことを可能にする。反射面１２８．１および１２８．２は、方位面（ｏｒｉｅｎｔａｔｉｏｎ ｓｕｒｆａｃｅ）１（「水平」）１５５に沿ったｘ方向に沿って、入射光１２５に対するｚ方向に関して同じ高さに配置されている。特に、ここでは、方位面１（「水平」）１５５が、入射光１２５の伝搬方向と直交する面１２２に対して平行である。さらに、距離ｄ２を隔てて隣り合う反射面１２８．１と１２８．２、したがって隣り合う２重反射面ユニット１２８にそれぞれ属する隣り合う反射面１２８．１と１２８．２は、方位面２（「垂直」）１５６に沿って配置されている。このことの利点は、２重ブルースター反射なしでは、入射光１２５が、これらの２つの反射面１２８．１と１２８．２の間を通過することができないこと、および、第１の反射面１２８．１上に第２の反射面１２８．２があると生じる遮光領域が生じないことである。遮光領域が生じないのは、入射光の方向から見てこれらの２つの面には重なる領域がなく、入射光１２５から見るとｘ方向に「互いの隣に」配置されているように見えるためである。

【0047】

本出願に示された全ての実施形態で、図面の平面に対して直角の方向に沿った反射面の大きさ、すなわち図示された右手座標系（ｒｉｇｈｔ－ｈａｎｄｅｄ ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅ ｓｙｓｔｅｍ）のｙ方向に沿った反射面の大きさを、ｄ２よりも大きくすることができ、特にｄ２の大きさの少なくとも２倍、特にｄ２の大きさの少なくとも１０倍、特にｄ２の大きさの少なくとも２０倍よりも大きくすることができる。

【0048】

したがって、示されているのは、ＥＵＶでの動作のためのマイクロリソグラフィ投影露光装置用の光学系であって、少なくとも１つの第１の２重反射面ユニットおよび１つの第２の２重反射面ユニット１２８を有する少なくとも１つの偏光影響装置１２４を備え、この少なくとも２つの２重反射面ユニットがそれぞれ、第１の反射面１２８．１および第２の反射面１２８．２を有し、同じ２重反射面ユニット内で、各場合において、第１の反射面と第２の反射面とが、距離ｄ１を隔てて、互いに対して０°±１０°の角度で直接に隣り合わせに配置されており、第１の２重反射面ユニットの第１の反射面と第２の２重反射面ユニットの第２の反射面とが、距離ｄ２を隔てて、互いに対して０°±１０°の角度で直接に隣り合わせに配置されており、光学系の動作中に第１の反射面に入射する光１２５が、第１の反射面と４３°±１０°の角度をなし、光学系の動作中に第１の２重反射面ユニットの第１の反射面に入射する光が、第２の２重反射面ユニットの第２の反射面に向かって反射され、ｄ２＞５×ｄ１が真である、光学系である。

【0049】

このような小さな距離ｄ１の結果、偏光影響装置の下流のビーム経路の望ましくない遮光が低減される。偏光影響装置の結果としての望ましくない遮光が低減されているため、非偏光動作を可能にするためにビーム経路から偏光影響装置が除去された場合でも、光学系内の光分布は実質的に変化しない。さらに、その過程で下流の光分布を変化させることなくビーム経路から反射面を除去することができるため、偏光影響装置の除去は、より高い「透過率」での非偏光動作を可能にする。さらに、距離ｄ１しか離れていないこれらの２つの反射面は単一の光学要素に、すなわち単一の光学要素の前面と後面に適用されているため、偏光影響装置の製造性が単純化される。その結果として、より低コストの支出での製造が達成される。偏光影響装置の結果としての遮光が低減されることにより、偏光動作中の「有効透過率」が増大する。

【0050】

偏光影響装置のさまざまな実施形態が示されている図１、２、３、４および５に示された、ｘ、ｙおよびｚが各場合において右手座標系を形成する座標系は、図６および図７に示されており、図６および図７はそれぞれ、投影露光装置を、同じように偏光影響装置の近傍に、投影露光装置内における偏光影響装置の可能な向きが示されるような形で示している。ここでは、各場合において、偏光影響装置を、偏光影響装置がｚ方向の周りで回転可能であり、かつ／またはビーム経路から除去可能であるように実施することができる。

【0051】

この際、後続の図はそれぞれ参照符号を有し、それらの符号の最初の数字はそれぞれ図番号であることに留意されたい。後続の数字はそれぞれ、（他の）図に示された同様の構成部分または同一の構成部分を示す。一例として、図１の第１の反射面１２８．１は、後続の図では２２８．１、３２８．１、４２８．１、．．．として示されている。そのため、後続の図のそれらの参照符号は既に提示済みとみなし、異なる実施形態の相違点だけを論じる。

【0052】

図１に示された距離ｄ１は極めて小さい。以下では、より大きな距離ｄ１で生じる可能性がある欠点が、特に図２に関連して説明され、どのようにすればそれらの欠点を軽減または回避することができるのかに関して、本発明に基づく追加の実施形態が、特に図３、図４ａおよび図４ｂに関連して説明される。

【0053】

図２は、図１の実施形態よりもかなり大きくなるように距離ｄ１が選択された一実施形態を示す。入射光２２５．２および２２５．３だけが、反射光２３０．２および２３０．３として、投影露光装置の偏光影響装置３２４の下流に物体平面に向かって誘導されうる。図２は、入射光２２５．４に対する、幅ｈの網掛けされたグレーの遮光領域２２７を示している。この遮光領域は、第１の反射面２２８．１で反射される入射光２２５．４が、隣り合って配置された２重反射面ユニット２２８の第２の反射面２２８．２に属していない領域に当たることの結果として生じるものであるが、この領域は、非反射性の側面（ｎｏｎｒｅｆｌｅｃｔｉｖｅ ｓｉｄｅ ｓｕｒｆａｃｅ）（以後、非反射側面という）である。このことは第１に光の損失につながる。さらに、その結果として、偏光影響装置２２４の下流に陰領域が生じ、そのため、反射光２３０．２、２３０．３に由来する照明が均一にならない。さらに、２重反射面ユニット２２８の前記非反射側面の結果として、網掛けで示された別の遮光領域２２６が生じる。この遮光は、入射光２２５．１および２２５．５が非反射側面に直接に当たることによって起こる。結果的に、大きな距離ｄ１を選択することは大きな遮光領域２２６および２２７につながり、その結果、光の多大な損失および大規模な遮光に至る。

【0054】

図３は、入射光３２５の方向ｚに沿って互いに変位しているように、隣り合う２重反射面ユニット３２８が互いに対して配置された別の実施形態を示す。このような配置は、図２の遮光領域２２７を最小化することを可能にする。図３に示されているように、次に、この変位があることにより、入射光３２５．４を、第１の反射面３２８．１から第２の反射面２３８．２に向かって反射し、同様に第２の反射面２３８．２によって反射することができ、その結果、この光は反射光３３０．４として供給される。図３に示された実施形態では、図２の遮光領域２２７はもはや生じてもいない。

【0055】

それに加えてまたはその代わりに、隣り合う２重反射面ユニット３２８がそれぞれ方位面（「垂直」）３５６に接するように、２重反射面ユニット３２８を方位面（「垂直」）３５６に沿って配置することもできる。このことには、遮光の結果としての光の損失も、隣り合う２重反射面ユニット３２８間の「隙間」も生じないという効果がある。

【0056】

したがって、第２の反射面３２８．２が、光学系の動作中に第１の反射面に入射する光１２５の光伝搬方向ｚに、直接に隣り合う第１の反射面３２８．１に対して、高さｈだけ変位しているように配置された、光学系が示されている。

【0057】

一実施形態によれば、ｈ＞ｄ１である。特に、ｈは、ｈ’＝ｄ１×√２から最大でも２０％だけ外れる。

【0058】

ｈ、ｈ’およびｄ１の間の関係については、図４ｂに関連してよりいっそう詳細に説明する。

【0059】

これらの実施形態によって、望ましくない遮光をさらに低減させることができる。さらに、その結果として達成できるのは、偏光影響装置がビーム経路から除去された場合または偏光影響装置がビーム経路に導入された場合の光学系内の光分布の変化を、可能な限り小さくすることである。遮光が低減されることにより、「有効透過率」が増大する。幾何学的観点から、ｈ＝ｄ１×√２は、理論上の理想的ケース（すなわち公差がないケース、平行入射光であるケースなど）における遮光が完全になくなる好ましい実施形態である。

【0060】

図４ａは、第２の反射面４２８．２の高さを、光伝搬方向ｚに、直接に隣り合う第１の反射面４２８．１に対して、高さｈだけ変位させることに加えて、さらに、非反射側面４５７ａが、光学系の動作中に第１の反射面４２８．１に入射する光４２５の光伝搬方向ｚに対して平行に向けられた実施形態を示す。このことは、入射光４２５．１が、例えば図２に示されているように非反射側面に当たるのではなしに、第１の反射面４２８．１に当たることを保証する。図４ａに基づく実施形態では、もはや遮光が生じない。

【0061】

その結果として、図２に示された望ましくない遮光２２６をさらに低減させることができる。さらに、その結果として達成できるのは、偏光影響装置がビーム経路から除去された場合または偏光影響装置がビーム経路に導入された場合の光学系内の光分布の変化を、可能な限り小さくすることである。偏光影響装置の結果としての遮光が低減されることにより、偏光動作中の「有効透過率」が増大する。

【0062】

本発明に基づくこれらの態様、すなわち
１．）第２の反射面４２８．２の高さが、光伝搬方向ｚに、直接に隣り合う第１の反射面４２８．１に対して、高さｈだけ変位しており、その結果として、図２の遮光領域２２７が低減されること、および
２．）非反射側面４５７ａが、光伝搬方向ｚに対して平行に構成されており、その結果として、図２の遮光領域２２６が低減されること
は、構造的に互いに独立しており、したがって、当然ながら、これらの態様を、互いに独立して実装および使用することもできる。本発明の一実施形態では、非反射側面４５７ａが光伝搬方向ｚに対して平行に構成されているだけであり、図３の実施形態に従っていない反射面が、互いに対して高さｈの高さオフセットを有するように配置されている。

【0063】

図４ｂは、変量ｈとｄ１の間およびＬとｄ２の間の幾何学的関係を、網掛けされた三角形に基づいて示す。Ｌは、第１の広がり方向の反射面４２８．１および４２８．２の大きさである。この場合では、図解をより単純にするために、反射面４２８．１および４２８．２への光４２５の入射角が４５°であると仮定する。第１の広がり方向は、光学系の動作中に第１の反射面４２８．１に入射する光４２５の光伝搬方向ｚの、第１の反射面４２８．１が配置された平面への射影によって与えられる。

【0064】

したがって、第１の広がり方向の大きさＬを有する少なくとも１つの反射面４２８．１および／または４２８．２を備える光学系であって、第１の広がり方向が、光学系の動作中に第１の反射面４２８．１に入射する光４２５の光伝搬方向ｚの、第１の反射面が配置された平面への射影によって与えられ、Ｌは、Ｌ’＝２×ｄ２から最大でも２０％だけ外れる、光学系が示されている。

【0065】

その結果として、望ましくない遮光をさらに低減させることができる。さらに、その結果として達成できるのは、偏光影響装置がビーム経路から除去された場合または偏光影響装置がビーム経路に導入された場合の光学系内の光分布の変化を、可能な限り小さくすることである。遮光が低減されることにより、「有効透過率」が増大する。幾何学的観点から、Ｌ＝２×ｄ２は、理論上の理想的ケース（すなわち公差（ｔｏｌｅｒａｎｃｅｓ：許容誤差）がないケース、平行入射光であるケースなど）における遮光が完全になくなる好ましい実施形態である。

【0066】

本出願に示された全ての実施形態で、図面の平面に対して直角の第２の広がり方向に沿った反射面の大きさ、すなわち図示された右手座標系のｙ方向に沿った反射面の大きさを、Ｌよりも大きくすることができ、特にＬの大きさの少なくとも２倍、特にＬの大きさの少なくとも１０倍、特にＬの大きさの少なくとも２０倍、特にＬの大きさの少なくとも５０倍、特にＬの大きさの少なくとも１００倍よりも大きくすることができる。

【0067】

その結果として、約ｄ２×√２、すなわち約Ｌ／√２となりうる、偏光影響装置の結果としてのビームオフセットが、ｙに沿った第２の広がり方向に沿った反射面の大きさに比べて小さく保たれる。

【0068】

図４ｂはさらに、第１の反射面４２８．１に対する面法線４５４ｂを示している。面法線４５４ｂは、入射光４２５．２と角度βをなす。この角度βは、４３°±１０°とすることができる。面法線４５４ｂと方位面１（「水平」）４５５の間の角度はαである。入射光４２５．２と方位面１（「水平」）４５５の間の角度はγである。入射光４２５．２と第１の広がり方向の間の角度はδである。この角度δは、４７°±１０°とすることができる。

【0069】

図１、２、３および４では、面１２２、２２２、３２２、４２２が平面である平行入射光１２５、２２５、３２５、４２５の場合を考えた。これらの場合には、２重反射の結果として、ｘ方向に対して平行なわずかなビームオフセットｄ２×√２だけが生じる。

【0070】

続いて、図５ａ、５ｂ、５ｃおよび５ｄでは、例えば図６および７に関連して後により詳細に説明する中間焦点面とファセットミラーの間の偏光影響装置５２４、７２４の配置の場合のように、面５２２ａ、５２２ｂ、５２２ｃ、５２２ｄが曲面、特に球面である発散入射光５２２ａ、５２２ｂ、５２２ｃ、５２２ｄの場合を考える。この場合、中間焦点から進んだ光は偏光影響装置５２４に発散光として入射する。

【0071】

図５ａは、発散入射光５２５が使用されることを除き、図１の偏光影響装置と構造的に類似した構成を有する偏光影響装置５２４の一実施形態を示す。第１の近似点として、この場合も同様のビームオフセットが生じる。２重反射の結果としてのビーム偏向も同様に０°である。すなわち放射方向は変更されない。

【0072】

図５ｂは、互いに対して高さオフセットを有するように２重反射面ユニット５２８ｂが配置された偏光影響装置５２４の一実施形態を示す。

【0073】

２重反射面ユニット５２８ｂは、方位面（「水平」）５５５ｂに沿って配置されている。

【0074】

それに加えてまたはその代わりに、隣り合う２重反射面ユニット５２８ｂがそれぞれ方位面（「垂直」）５５６ｂに接するように、２重反射面ユニット５２８ｂを方位面（「垂直」）５５６ｂに沿って配置することもできる。このことには、遮光の結果としての光の損失も、隣り合う２重反射面ユニット５２８ｂ間の「隙間」も生じないという効果がある。

【0075】

図５ｅは、互いに対して小さな補正角φだけ傾けられているように２重反射面ユニット５２８ｅが配置された一実施形態を示す。補正角φは、偏光影響装置５２４の下流の平面５５８ｅにおいて、ビーム経路に偏光影響装置５２４を導入した結果としてのビームオフセットが生じないように選択されている。ビーム経路に偏光影響装置５２４がない場合、入射光５２５ｅ．３は、反射されることなく光５２５ｅ．３ｗとして平面５５８ｅに入射する。ビーム経路に偏光影響装置５２４がある場合、入射光５２５ｅ．３は、２重反射の後に反射光５３０ｅ．３として平面５５８ｅに入射する。平面５５８ｅにおいて、２つのビーム５２５ｅ．３ｗおよび５３０ｅ．３の互いに対するビームオフセットは生じない。一例として、ビームオフセットのない平面５５８ｅに、ファセットミラー６１３または７６３を配置することができる。

【0076】

本出願に記載された全ての実施形態で、平行入射光と発散入射光の両方の場合１２５、２２５、３２５、４２５、５２５に、反射面１２８．１、２２８．１、３２８．１、４２８．１、５２８．１、１２８．２、２２８．２、３２８．２、４２８．２、５２８．２は互いに対して小さな補正角φを有することができ、したがって、２重反射の結果としてのビームオフセットを補償することができる。この場合、補正角φは、偏光影響装置１２４、２２４、３２４、４２４、５２４、６２４、７２４がビーム経路から除去された場合、または偏光影響装置１２４、２２４、３２４、４２４、５２４、６２４、７２４がビーム経路に導入された場合に、偏光影響装置１２４、２２４、３２４、４２４、５２４、６２４、７２４の下流の所定の面の被照明面、特に下流のビーム経路上に配置されたファセットミラーの被照明面が変化しないように選択される。補正角φは、１０°よりも大きくすることができ、特に５°、特に２°、特に１°、特に０．５°、特に０．１°よりも大きくすることができる。

【0077】

補正角φによってビームオフセットおよび／またはビーム傾斜（ｂｅａｍ ｔｉｌｔ）（発散光の場合）を補償することができる。それに必要な補正角φは非常に小さいため、反射の偏光特性は変化しない。

【0078】

図５ｃは、２重反射面ユニット５２８ｃがくさび形に実施された一実施形態を示す。この場合には、同じ２重反射面ユニット５２８ｃの第１の反射面５２８ｃ．１と第２の反射面５２８ｃ．２とが、互いに対して小さな補正角φで配置されている。補正角φは１０°よりも小さくすることができ、特に５°、特に２°、特に１°、特に０．５°よりも小さくすることができる。

【0079】

本出願に記載された偏光影響装置１２４、２２４、３２４、４２４、５２４、６２４、７２４の全ての実施形態に実装することができる１つの実施形態では、２重反射面ユニット１２８、２２８、３２８、４２８、５２８ａ、５２８ｂ、５２８ｃ、７２８が一体として、すなわちモノリシックに実施される。

【0080】

その結果として、２つの別個の要素の代わりに、単一の光学要素に、すなわち単一の光学要素の前面と後面に２つの反射面が適用されるため、偏光影響装置の製造性が単純化される。その結果として、２重反射面ユニット１つにつき１つの要素を節約することができるため、より低コストの支出での製造が達成される。

【0081】

モノリシック実施形態の代替実施形態として、本出願に記載された全ての実施形態の２重反射面ユニット１２８、２２８、３２８、４２８、５２８ａ、５２８ｂ、５２８ｃ、５２８ｄ、７２８を、２重反射面ユニット（１２８、２２８、３２８、４２８、５２８、７２８）の第１の反射面（１２８．１、２２８．１、３２８．１、４２８．１、５２８．１）と第２の反射面（１２８．２、２２８．２、３２８．２、４２８．２、５２８．２）が異なる要素（５２８ｄ）に配置されるように実施することもできる。このタイプの１つの実施形態が図５ｄに一例として示されている。この実施形態では、ｄ１が、２つの反射面間の最小距離を表す。図５ｄでは、ｄ１が、反射面間の最小距離の対応する位置に示されている。

【0082】

この実施形態の場合にも、小さな距離ｄ１により、遮光が低減される。さらに、第１および第２の反射面の好ましい配置、例えば正確に平行な配置または目的に合うように互いに対して補正角φだけ傾けられた配置が可能になるように、それらの異なる２つの要素を互いに対して配置することができる。互いに対して補正角φだけ傾けられた第１および第２の反射面の配置を、特に偏光影響装置に起因するビームオフセットを補正する目的に使用することができる。さらに、互いに対して傾けられた第１および第２の反射面の配置を、偏光影響装置が発散入射光用に目的に合わせて設計または最適化されるように構成することもできる。

【0083】

全ての実施形態の第１および第２の反射面が配置された構造構成要素、したがって、純粋な一例として、上述のくさび５２８ｃは、図面の平面の後方および／または前方に配置することができるデバイスによって取り付けること、または保持することができる。このような取付けは、窓の前のブラインドの場合の取付けと同様のやり方で実施することができる。したがって、図４ａ、４ｂまたは５ｃに示されているような端面の特別な実施形態は、機械的安定性も、熱散逸の可能性も低下させない。

【0084】

本発明の偏光影響装置１２４、２２４、３２４、４２４、５２４、６２４、７２４がビーム経路に導入されるのは、直線偏光が望まれている場合だけである。偏光方向は、光軸ｚの周りの回転によって設定することができる。

【0085】

偏光影響装置１２４、２２４、３２４、４２４、５２４は、光学系の動作中に第１の反射面１２８．１、２２８．１、３２８．１、４２８．１、５２８．１に入射する光１２５、２２５、３２５、４２５、５２５の光伝搬方向ｚに対して平行に延びる回転軸の周りで回転可能であるように構成することができ、かつ／または光学系の動作中に第１の反射面に入射する光のビーム経路から除去可能であるように構成することができる。

【0086】

全ての実施形態で、個々の２重反射面ユニット１２８、２２８、３２８、４２８、５２８、７２８間の距離ｄ２を、特に３０ｍｍ未満、特に２０ｍｍ未満、特に約１０ｍｍ、特に１０ｍｍ未満、特に５ｍｍ未満とすることができる。ｄ２が約１０ｍｍである場合、このことは、反射面が正確に平行に配置されている場合に、偏光影響装置を導入すること、すなわち「偏光」をオンにすることが、下流のファセットミラーへの照明を約１０ｍｍ変位させることを意味する。下流のファセットミラーの直径が約４００ｍｍである場合、このビームオフセットは、下流のファセットミラーの大きさに比べて非常に小さく、この例では、特に、ファセットミラーの直径の２．５％でしかない。

【0087】

例示的な全ての実施形態で、第１の反射面１２８．１、２２８．１、３２８．１、４２８．１、５２８．１および第２の反射面１２８．２、２２８．２、３２８．２、４２８．２、５２８．２は、
－ ＥＵＶ反射層、および／または
－ 偏光影響層、および／または
－ モリブデン－シリコン多層コーティング、および／または
－ ルテニウムコーティング、および／または
－ ルテニウムカバー層を有するモリブデン－シリコン多層コーティング
を備えることができる。

【0088】

好ましいことに、偏光影響装置の上述の実施形態は、後述する投影露光装置で使用可能である。

【0089】

図６は、ＷＯ ２０１２／１３０７６８ Ａ２から知られているマイクロリソグラフィ投影露光装置６０１の略断面図を示す。投影露光装置６０１は、物体視野６９０の露光用の放射源６０３および照明系６０２を備える。照明系６０２は、視野ファセット６１３ａと瞳ファセット６１４ａとからなるいわゆるフライアイコンデンサ（ｆｌｙ’ｓ ｅｙｅ ｃｏｎｄｅｎｓｅｒ）を備える。この場合には、物体平面６０６に配置された反射レチクル（図６には示されていない）が露光される。前記レチクルは、マイクロ構造またはナノ構造を有する例えば図８に示されているような半導体構成要素を製作するために投影露光装置６０１によって投影される構造を有する。投影光学ユニット６０７は、像平面６０９の像視野６０８に物体視野６９０を結像する役目を果たす。レチクル上の構造は、ウェーハの感光層、いわゆるレジスト上に結像される。ウェーハは、この図面には示されておらず、像平面６０９の像視野６０８の領域に配置されている。このレチクルおよびウェーハは、投影露光装置６０１の動作中にｙ’方向に走査される。マイクロ構造またはナノ構造を有する構成要素、特に半導体構成要素、例えばマイクロチップのマイクロ構造またはナノ構造を有する構成要素、特に半導体構成要素をリソグラフィによって製作するために、投影露光装置６０１の助けを借りて、レチクルの少なくとも一部分が、ウェーハの感光層の領域に結像される。投影露光装置６０１の実施形態がスキャナであるのかまたはステッパであるのかに応じて、レチクルとウェーハは、時間的に同期して、スキャナ動作では連続的に、またはステッパ動作では段階的にｙ’方向に動かされる。放射源６０３は、放出され使用される５ｎｍから３０ｎｍの間の範囲の放射を有するＥＵＶ放射源である。この放射源は、プラズマ源、例えばＧＤＰＰ（ガス放電生成プラズマ（Ｇａｓ Ｄｉｓｃｈａｒｇｅ Ｐｒｏｄｕｃｅｄ Ｐｌａｓｍａ））源またはＬＰＰ（レーザ生成プラズマ（Ｌａｓｅｒ Ｐｒｏｄｕｃｅｄ Ｐｌａｓｍａ））源とすることができる。他のＥＵＶ放射源、例えばシンクロトロンに基づくＥＵＶ放射源または自由電子レーザ（Ｆｒｅｅ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｌａｓｅｒ、ＦＥＬ）に基づくＥＵＶ放射源も可能である。放射源６０３を出たＥＵＶ放射６７０はコレクタ（ｃｏｌｌｅｃｔｏｒ）６１１によって集束する。コレクタ６１１の下流で、ＥＵＶ放射６７０は、中間焦点面６１２を通過した後に、多数の視野ファセット６１３ａを備える視野ファセットミラー６１３に入射する。中間焦点面６１２と視野ファセットミラー６１３の間に、本発明に基づく偏光影響装置６２４が配置されている。視野ファセットミラー６１３は、物体平面６０６と光学的に共役の（ｏｐｔｉｃａｌｌｙ ｃｏｎｊｕｇａｔｅ）照明光学ユニット６０４の平面に配置されている。視野ファセットミラー６１３の下流で、ＥＵＶ放射６７０は、多数の瞳ファセット６１４ａを備える瞳ファセットミラー６１４によって反射される。瞳ファセットミラー６１４は、投影光学ユニット６０７の入射瞳平面の近くにあるか、または投影光学ユニット６０７の入射瞳平面と光学的に共役の平面にある。視野ファセットミラー６１３および瞳ファセットミラー６１４は、多数の個々のミラーから構築されている。この場合、個々のミラーへの視野ファセットミラー６１３の細分は、物体視野６９０の全体を単独で照らす視野ファセット６１３ａのうちのそれぞれの視野ファセット６１３ａが、それらの個々のミラーのうちの正確に１つのミラーによって表されるようなものとすることができる。あるいは、このような複数の個々のミラーを使用して、視野ファセット６１３ａの少なくとも一部または全部を構築することも可能である。これに対応して、同じことが、瞳ファセットミラー６１４の瞳ファセット６１４ａの構成にも当てはまる。瞳ファセット６１４ａはそれぞれ、視野ファセット６１３ａに割り当てられており、各場合において、単一の個々のミラーによってまたはこのような複数の個々のミラーによって形成することができる。ＥＵＶ放射６７０は、２５°以下とすることができる入射角で２つのファセットミラー６１３、６１４に入射する。この入射角はそれぞれ、個々のミラー６１３ａおよび６１４ａの対応する中心点を通って延びる、ミラー面に対する法線に関して計測される。かすめ入射（ｇｒａｚｉｎｇ ｉｎｃｉｄｅｎｃｅ）も可能であり、その場合には入射角を７０°以上とすることができる。瞳ファセットミラー６１４の助けを借りて、視野ファセットミラー６１３の視野ファセットが、互いに重なるように物体視野６９０に結像される。図６に示されているような伝達光学ユニット（ｔｒａｎｓｆｅｒ ｏｐｔｉｃａｌ ｕｎｉｔ）６８０の形態の結像光学アセンブリが存在してもよい。この場合には、瞳ファセットミラー６１４と、ＥＵＶ放射６７０のビーム経路の順番に示されたミラー６１６、６１７および６１８を有する伝達光学ユニット６８０の形態の結像光学アセンブリとの助けを借りて、視野ファセットミラー６１３の視野ファセットが、互いに重なるように物体視野６９０に結像される。伝達光学ユニット６８０の最後のミラー６１８は、かすめ入射のためのミラー、すなわち「かすめ入射ミラー」とすることができる。照明光６７０は、複数の照明チャネルを介して放射源６０３から物体視野６９０に向かって誘導される。これらの照明チャネルにはそれぞれ、視野ファセットミラー６１３の１つの視野ファセット６１３ａおよび瞳ファセットミラー６１４の１つの瞳ファセット６１４ａが割り当てられており、前記瞳ファセットは視野ファセットの下流に配されている。視野ファセットミラー６１３の個々のミラー６１３ａおよび／または瞳ファセットミラー６１４の個々のミラー６１４ａは、視野ファセット６１３ａに対する瞳ファセット６１４ａの割当ての変更および対応する照明チャネル構成の変更を達成することができるように、アクチュエータ系（アクチュエータシステム）によって傾けることができるものとすることができる。視野ファセットミラー６１３の個々のミラーは、視野ファセット６１３ａに対する瞳ファセット６１４ａの割当ては一定のまま照明チャネル構成の変更を達成することができるように、アクチュエータ系によって傾けることができるものとすることができる。

【0090】

その結果、図９に関連して説明したように、異なる照明設定、例えば、物体視野６９０上の照明光６７０の照明角の分布が異なる、異なる照明設定を設定することができる。

【0091】

本発明に基づく偏光影響装置１２４、２２４、３２４、４２４、５２４、６２４は、中間焦点面６１２と視野ファセットミラー６１３の間に配置されることが好ましい。

【0092】

偏光影響装置をこのように配置することによって以下の利点が得られる。
１．）偏光影響装置によって、事実上、入射光のパワーの５０％超（すなわち、フィルタリングによって除去される「不正確な」偏光方向の結果として約５０％、それに２重反射の結果としての反射損が加わる）がビーム経路から除去される。系内の非常に早いところに偏光影響装置が配置された場合には、下流の全ての要素での放射ローティングが大幅に低減し、このことは、寿命態様および熱的態様などの効果に有利な影響を与える。
２．）下流の光混合の結果として、偏光影響装置の下流の可能な遮光が「ウォシュアウトされ」、このことは、レチクルの視野照明の均一性に対して都合のよい影響を有する。

【0093】

しかしながら、他の配置領域も可能である。理想的には、偏光影響装置１２４、２２４、３２４、４２４、５２４、６２４は、物体平面６０６にあまり近くない領域に配置されるべきである。これは、そのように配置されていなければ、可能な残留遮光が、視野照明の均一性に不利な影響を与える可能性があるためである。さらに、発散があまり大きくない領域への配置が好ましいが、これは必須ではない。特に、放射源６０３と中間焦点面６１２の間に偏光影響装置１２４、２２４、３２４、４２４、５２４、６２４を配置することもできる。この配置は、上で論じた中間焦点面６１２と視野ファセットミラー６１３の間に配置するのと同じ利点を可能にする。特に、視野ファセットミラー６１３と瞳ファセットミラー６１４の間に偏光影響装置１２４、２２４、３２４、４２４、５２４、６２４を配置することもできる。特に、瞳ファセットミラー６１４の下流に偏光影響装置１２４、２２４、３２４、４２４、５２４、６２４を配置することもできる。

【0094】

一実施形態によれば、投影露光装置６０１は、光学系を備える照明系６０２を備え、この光学系は、少なくとも１つの第１の２重反射面ユニットおよび１つの第２の２重反射面ユニット１２８、２２８、３２８、４２８、５２８、７２８を有する少なくとも１つの偏光影響装置１２４、２２４、３２４、４２４、５２４、６２４を備える。この少なくとも２つの２重反射面ユニットはそれぞれ、第１の反射面１２８．１、２２８．１、３２８．１、４２８．１、５２８．１および第２の反射面１２８．２、２２８．２、３２８．２、４２８．２、５２８．２を有する。同じ２重反射面ユニット内で、各場合において、第１の反射面と第２の反射面とは、距離ｄ１を隔てて、互いに対して０°±１０°の角度で直接に隣り合わせに配置されている。第１の２重反射面ユニットの第１の反射面と第２の２重反射面ユニットの第２の反射面とは、距離ｄ２を隔てて、互いに対して０°±１０°の角度で直接に隣り合わせに配置されている。光学系の動作中、第１の反射面に入射する光１２５、２２５、３２５、４２５、５２５は、第１の反射面と４３°±１０°の角度をなす。光学系の動作中、第１の２重反射面ユニットの第１の反射面に入射する光は、第２の２重反射面ユニットの第２の反射面に向かって反射される。距離ｄ１およびｄ２に関しては、ｄ２＞５×ｄ１が真である。

【0095】

このような小さな距離ｄ１の結果、偏光影響装置の下流のビーム経路の望ましくない遮光が低減される。偏光影響装置の結果としての望ましくない遮光が低減されているため、非偏光動作を可能にするためにビーム経路から偏光影響装置が除去された場合でも、光学系内の光分布は実質的に変化しない。さらに、その過程で光分布を変化させることなくビーム経路から反射面が除去されるため、偏光影響装置の除去は、より高い「透過率」での非偏光動作を可能にする。さらに、距離ｄ１しか離れていないこれらの２つの反射面は単一の光学要素に、すなわち単一の光学要素の前面と後面に適用されているため、偏光影響装置の製造性が単純化される。その結果として、より低コストの支出での製造が達成される。偏光影響装置の結果としての遮光が低減されることにより、偏光動作中の「有効透過率」が増大する。

【0096】

図７は、照明系７０２の代替照明光学ユニットを備える、米国特許出願公開第２０１１／０００１９４７号から知られている投影露光装置７０１を示す。放射源７０３を出たＥＵＶ放射７７０はコレクタ７１１によって集束する。コレクタ７１１の下流で、ＥＵＶ放射７７０は、中間焦点面７１２を通過した後に、鏡面反射器７６４を目的に合わせて照らす役目を果たすビーム成形（ｂｅａｍ－ｓｈａｐｉｎｇ）ファセットミラー７６３に入射する。中間焦点面７１２とファセットミラー７６３の間に、２重反射面ユニット７２８を備える本発明に基づく偏光影響装置７２４が配置されている。ビーム成形ファセットミラー７６３および鏡面反射器７６４によって、ＥＵＶ放射７７０は、ＥＵＶ放射７７０が物体平面７０６の物体視野７９０を照らすように成形され、その結果として、投影光学ユニットの図７には示されていないレチクルの下流に配された瞳平面７６５に、例えば図９に示されているような、境界が円形の照らされた所定の瞳照度分布、すなわち対応する照明設定が生じる。鏡面反射器７６４の効果は、米国特許出願公開第２００６／０１３２７４７号に詳細に記載されている。鏡面反射器７６４の反射面は、個々のミラーに細分されている。照明要件に応じて、鏡面反射器７６４のこれらの個々のミラーはグループ化されて、個々のミラーグループ、すなわち鏡面反射器７６４のファセットを形成する。個々のミラーはそれぞれ照明チャネルを形成し、この照明チャネルは、各場合において、単独でレチクル視野を完全に照らさすことはない。全ての照明チャネルの総体だけが、レチクル視野の完全で均質な照明をもたらす。鏡面反射器７６４の個々のミラーおよび／またはビーム成形ファセットミラー７６３のファセットは、異なる視野照明および瞳照明を設定することができるように、アクチュエータ系によって傾けることができるものとすることができる。

【0097】

本発明に基づく偏光影響装置１２４、２２４、３２４、４２４、５２４、７２４は、中間焦点面７１２とファセットミラー７６３の間に配置されることが好ましい。

【0098】

偏光影響装置をこのように配置することによって以下の利点が得られる。
１．）偏光影響装置によって、事実上、入射光のパワーの５０％超（すなわち、フィルタリングによって除去される「不正確な」偏光方向の結果として約５０％、それに２重反射の結果としての反射損が加わる）がビーム経路から除去される。系内の非常に早いところに偏光影響装置が配置された場合には、下流の全ての要素での放射ローティングが大幅に低減し、このことは、寿命態様および熱的態様などの効果に有利な影響を与える。
２．）下流の光混合の結果として、偏光影響装置の下流の可能な遮光が「ウォシュアウトされ」、このことは、レチクルの視野照明の均一性に対して都合のよい影響を有する。

【0099】

しかしながら、他の配置領域も可能である。理想的には、偏光影響装置１２４、２２４、３２４、４２４、５２４、７２４は、物体平面７０６にあまり近くない領域に配置されるべきである。これは、そのように配置されていなければ、可能な残留遮光が、視野照明の均一性に不利な影響を与える可能性があるためである。さらに、発散があまり大きくない領域への配置が好ましいが、これは必須ではない。特に、放射源７０３と中間焦点面７１２の間に偏光影響装置１２４、２２４、３２４、４２４、５２４、７２４を配置することもできる。この配置は、上で論じた中間焦点面７１２とファセットミラー７６３の間に配置するのと同じ利点を可能にする。特に、ファセットミラー７６３と鏡面反射器７６４の間に偏光影響装置１２４、２２４、３２４、４２４、５２４、７２４を配置することもできる。特に、鏡面反射器７６４の下流に偏光影響装置１２４、２２４、３２４、４２４、５２４、７２４を配置することもできる。特に、鏡面反射器７６４と物体視野７９０の間に偏光影響装置１２４、２２４、３２４、４２４、５２４、７２４を配置することもできる。

【0100】

一実施形態によれば、投影露光装置７０１は、光学系を備える照明系７０２を備え、この光学系は、少なくとも１つの第１の２重反射面ユニットおよび１つの第２の２重反射面ユニット１２８、２２８、３２８、４２８、５２８、７２８を有する少なくとも１つの偏光影響装置１２４、２２４、３２４、４２４、５２４、６２４を備える。この少なくとも２つの２重反射面ユニットはそれぞれ、第１の反射面１２８．１、２２８．１、３２８．１、４２８．１、５２８．１および第２の反射面１２８．２、２２８．２、３２８．２、４２８．２、５２８．２を有する。同じ２重反射面ユニット内で、各場合において、第１の反射面と第２の反射面とは、距離ｄ１を隔てて、互いに対して０°±１０°の角度で直接に隣り合わせに配置されている。第１の２重反射面ユニットの第１の反射面と第２の２重反射面ユニットの第２の反射面とは、距離ｄ２を隔てて、互いに対して０°±１０°の角度で直接に隣り合わせに配置されている。光学系の動作中、第１の反射面に入射する光１２５、２２５、３２５、４２５、５２５は、第１の反射面と４３°±１０°の角度をなす。光学系の動作中、第１の２重反射面ユニットの第１の反射面に入射する光は、第２の２重反射面ユニットの第２の反射面に向かって反射される。距離ｄ１およびｄ２に関しては、ｄ２＞５×ｄ１が真である。

【0101】

このような小さな距離ｄ１の結果、偏光影響装置の下流のビーム経路の望ましくない遮光が低減される。偏光影響装置の結果としての望ましくない遮光が低減されているため、非偏光動作を可能にするためにビーム経路から偏光影響装置が除去された場合でも、光学系内の光分布は実質的に変化しない。さらに、その過程で光分布を変化させることなくビーム経路から反射面が除去されるため、偏光影響装置の除去は、より高い「透過率」での非偏光動作を可能にする。さらに、距離ｄ１しか離れていないこれらの２つの反射面は単一の光学要素に、すなわち単一の光学要素の前面と後面に適用されているため、偏光影響装置の製造性が単純化される。その結果として、より低コストの支出での製造が達成される。偏光影響装置の結果としての遮光が低減されることにより、偏光動作中の「有効透過率」が増大する。

【0102】

上に記載された全ての実施形態では、偏光影響装置が、既存の投影露光装置内において、既存の投影露光装置に対する基本的変更の必要なしにレトロフィット可能であるように構成されている。

【符号の説明】

【0103】

１２２、２２２、３２２、４２２、５２２ 光伝搬方向と直交する面
１２４、２２４、３２４、４２４、５２４、６２４、７２４ 偏光影響装置
１２５、２２５、３２５、４２５、５２５ 入射光
１２８、２２８、３２８、４２８、５２８、７２８ ２重反射面ユニット
１２８．１、２２８．１、３２８．１、４２８．１、５２８．１ 第１の反射面
１２８．２、２２８．２、３２８．２、４２８．２、５２８．２ 第２の反射面
１３０、２３０、３３０、４３０、５３０ 反射光
５３１ｃ．３ｗ、５３１ｅ．３ｗ 偏光影響装置がない場合のビーム経路
１５５、３５５、４５５、５５５ 方位面１（「水平」）
１５６、３５６、４５６、５５６ 方位面２（「垂直」）
５５８ｃ、５５８ｅ ビームオフセットのない平面
２２６、２２７ 遮光領域
４５４ｂ 面法線
４５７ａ、４５７ｂ、５５７ｃ 光伝搬方向に対して平行な側面
６０１、７０１ 投影露光装置
６０２、７０２ 照明系
６０３、７０３ 放射源
６０４ 照明光学ユニット
６０６、７０６ 物体平面
６０７ 投影光学ユニット
６０８ 像視野
６０９、７０９ 像平面
６１１、７１１ コレクタ
６１２、７１２ 中間焦点面
６１３ 視野ファセットミラー
６１３ａ 視野ファセット
６１４ 瞳ファセットミラー
６１４ａ 瞳ファセット
６１６、６１７、６１８ 伝達光学ユニットのミラー
６７０、７７０ ＥＵＶ放射
６８０ 伝達光学ユニット
６９０、７９０ 物体視野
７６３ ビーム成形ファセットミラー
７６４ 鏡面反射器
７６５ 瞳平面
α 面法線と方位面１の間の角度
β 面法線と入射光の間の角度
γ 入射光と方位面１の間の角度
δ 第１の広がり方向と入射光の間の角度
φ 補正角
ｄ１ 反射面間の距離
ｄ２ 反射面間の距離
Ｌ 反射面の大きさ

【図1】

【図2】

【図3】

【図4a】

【図4b】

【図5a】

【図5b】

【図5c】

【図5d】

【図5e】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】