知財求人 - 知財ポータルサイト「IP Force」
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-10-17
(45)【発行日】2024-10-25
(54)【発明の名称】光学積層体及び画像表示装置
(51)【国際特許分類】
G02B 5/30 20060101AFI20241018BHJP
H10K 50/86 20230101ALI20241018BHJP
G09F 9/00 20060101ALI20241018BHJP
B32B 27/30 20060101ALI20241018BHJP
B32B 7/022 20190101ALI20241018BHJP
B32B 7/023 20190101ALI20241018BHJP
B32B 27/00 20060101ALI20241018BHJP
B32B 7/12 20060101ALI20241018BHJP
H10K 50/00 20230101ALN20241018BHJP
H10K 59/10 20230101ALN20241018BHJP
【ＦＩ】
G02B5/30
H10K50/86
G09F9/00 313
B32B27/30 102
B32B7/022
B32B7/023
B32B27/00 A
B32B7/12
H10K50/00
H10K59/10
【請求項の数】
11
(21)【出願番号】P 2023199695
(22)【出願日】2023-11-27
(65)【公開番号】P2024094255
(43)【公開日】2024-07-09
【審査請求日】2023-12-20
(31)【優先権主張番号】P 2022210422
(32)【優先日】2022-12-27
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
【早期審査対象出願】
(73)【特許権者】
【識別番号】000002093
【氏名又は名称】住友化学株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110001195
【氏名又は名称】弁理士法人深見特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】早川 遥海
(72)【発明者】
【氏名】矢野 央人
【審査官】辻本 寛司
(56)【参考文献】
【文献】特開２０２１－１５２６４８（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１５－１６１７８２（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１０－００９０２７（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１９－１８５００７（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００９－０３７２２３（ＪＰ，Ａ）
【文献】特表２０２０－５３３６４４（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｇ０２Ｂ ５／３０
Ｈ１０Ｋ ５０／８６
Ｇ０９Ｆ ９／００
Ｂ３２Ｂ ２７／３０
Ｂ３２Ｂ ７／０２２
Ｂ３２Ｂ ７／０２３
Ｂ３２Ｂ ２７／００
Ｂ３２Ｂ ７／１２
Ｈ１０Ｋ ５０／００
Ｈ１０Ｋ ５９／１０
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
第１保護層、偏光子、第２保護層及び位相子をこの順に備える光学積層体であって、前記偏光子は、二色性色素が吸着配向している厚み１５μｍ以下のポリビニルアルコール系樹脂フィルムであり、
前記位相子は位相差膜を含み、該位相差膜は、重合性液晶化合物の重合体からなる層であるか、又は該層と配向膜との組み合わせであり、
前記第２保護層の温度８５℃における引張弾性率をＥ２［ＭＰａ］、厚みをＴ２［μｍ］とするとき、下記式（ｉ）：
Ｅ２×Ｔ２≦１８５０ （ｉ）
を満たす、光学積層体（ただし、前記第２保護層が粘着剤層である光学積層体を除く。）。
【請求項2】
下記式（ｉｉ）：Ｔ２≦７ （ｉｉ）
をさらに満たす、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項3】
前記第２保護層の透湿度が１７００ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下である、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項4】
前記第２保護層が環状ポリオレフィン系樹脂からなる、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項5】
前記第２保護層は、波長５５０ｎｍにおける面内位相差値が１０ｎｍ以下である、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項6】
前記偏光子と前記第２保護層との間に粘接着剤層を含む、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項7】
前記偏光子は、ホウ素含有量が０．５質量％以上５．５質量％以下である、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項8】
前記第１保護層の温度８５℃における引張弾性率をＥ１［ＭＰａ］、厚みをＴ１［μｍ］とするとき、下記式（ｉｉｉ）：１７０００≦Ｅ１×Ｔ１≦４００００ （ｉｉｉ）
を満たす、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項9】
前記位相子における前記第２保護層側とは反対側に積層される粘着剤層をさらに備える、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項10】
前記偏光子における前記位相子側の面に隣接する層から前記粘着剤層における前記位相子側の面に隣接する層までの積層体の温度２３℃における引張弾性率をＥ３［ＭＰａ］、厚みをＴ３［μｍ］とするとき、下記式（ｉｖ）：７０００≦Ｅ３×Ｔ３≦２２０００ （ｉｖ）
を満たす、請求項９に記載の光学積層体。
【請求項11】
請求項１～１０のいずれか１項に記載の光学積層体を含む、画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、光学積層体及び該光学積層体を含む画像表示装置に関する。
【背景技術】
【0002】
有機ＥＬ表示装置等の画像表示装置では、外光の反射による視認性の低下を抑制するために、円偏光板を用いて反射防止性能を向上させることが知られている（例えば特許文献１）。円偏光板は、偏光子と位相子とを含む光学積層体である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【文献】特開２０２１－１２１８６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
従来の光学積層体は、高温下に置かれたときの面内位相差値の変化量に関して面内バラツキが大きいという課題があった。本発明の目的は、偏光子と位相子とを含む光学積層体であって、上記面内バラツキが抑制された光学積層体、及び該光学積層体を含む画像表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本発明は、以下を提供する。
［１］ 第１保護層、偏光子、第２保護層及び位相子をこの順に備える光学積層体であって、
前記偏光子は、二色性色素が吸着配向している厚み１５μｍ以下のポリビニルアルコール系樹脂フィルムであり、
前記第２保護層の温度８５℃における引張弾性率をＥ２［ＭＰａ］、厚みをＴ２［μｍ］とするとき、下記式（ｉ）：
Ｅ２×Ｔ２≦１６０００ （ｉ）
を満たす、光学積層体。
［２］ Ｅ２×Ｔ２の値が１８５０以下である、［１］に記載の光学積層体。
［３］ 前記位相子が位相差膜を含む、［１］又は［２］に記載の光学積層体。
［４］ 下記式（ｉｉ）：
Ｔ２≦７ （ｉｉ）
をさらに満たす、［１］～［３］のいずれかに記載の光学積層体。
［５］ 前記第２保護層の透湿度が１７００ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下である、［１］～［４］のいずれかに記載の光学積層体。
［６］ 前記第２保護層が環状ポリオレフィン系樹脂からなる、［１］～［５］のいずれかに記載の光学積層体。
［７］ 前記第２保護層は、波長５５０ｎｍにおける面内位相差値が１０ｎｍ以下である、［１］～［６］のいずれかに記載の光学積層体。
［８］ 前記偏光子と前記第２保護層との間に粘接着剤層を含む、［１］～［７］のいずれかに記載の光学積層体。
［９］ 前記偏光子は、ホウ素含有量が０．５質量％以上５．５質量％以下である、［１］～［８］のいずれかに記載の光学積層体。
［１０］ 前記第１保護層の温度８５℃における引張弾性率をＥ１［ＭＰａ］、厚みをＴ１［μｍ］とするとき、下記式（ｉｉｉ）：
１７０００≦Ｅ１×Ｔ１≦４００００ （ｉｉｉ）
を満たす、［１］～［９］のいずれかに記載の光学積層体。
［１１］ 前記位相子における前記第２保護層側とは反対側に積層される粘着剤層をさらに備える、［１］～［１０］のいずれかに記載の光学積層体。
［１２］前記偏光子における前記位相子側の面に隣接する層から前記粘着剤層における前記位相子側の面に隣接する層までの積層体の温度２３℃における引張弾性率をＥ３［ＭＰａ］、厚みをＴ３［μｍ］とするとき、下記式（ｉｖ）：
７０００≦Ｅ３×Ｔ３≦２２０００ （ｉｖ）
を満たす、［１１］に記載の光学積層体。
［１３］ ［１］～［１２］のいずれかに記載の光学積層体を含む、画像表示装置。
［１］ 第１保護層、偏光子、第２保護層及び位相子をこの順に備える光学積層体であって、
前記偏光子は、二色性色素が吸着配向している厚み１５μｍ以下のポリビニルアルコール系樹脂フィルムであり、
前記第２保護層の温度８５℃における引張弾性率をＥ２［ＭＰａ］、厚みをＴ２［μｍ］とするとき、下記式（ｉ）：
Ｅ２×Ｔ２≦１６０００ （ｉ）
を満たす、光学積層体。
［２］ Ｅ２×Ｔ２の値が１８５０以下である、［１］に記載の光学積層体。
［３］ 前記位相子が位相差膜を含む、［１］又は［２］に記載の光学積層体。
［４］ 下記式（ｉｉ）：
Ｔ２≦７ （ｉｉ）
をさらに満たす、［１］～［３］のいずれかに記載の光学積層体。
［５］ 前記第２保護層の透湿度が１７００ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下である、［１］～［４］のいずれかに記載の光学積層体。
［６］ 前記第２保護層が環状ポリオレフィン系樹脂からなる、［１］～［５］のいずれかに記載の光学積層体。
［７］ 前記第２保護層は、波長５５０ｎｍにおける面内位相差値が１０ｎｍ以下である、［１］～［６］のいずれかに記載の光学積層体。
［８］ 前記偏光子と前記第２保護層との間に粘接着剤層を含む、［１］～［７］のいずれかに記載の光学積層体。
［９］ 前記偏光子は、ホウ素含有量が０．５質量％以上５．５質量％以下である、［１］～［８］のいずれかに記載の光学積層体。
［１０］ 前記第１保護層の温度８５℃における引張弾性率をＥ１［ＭＰａ］、厚みをＴ１［μｍ］とするとき、下記式（ｉｉｉ）：
１７０００≦Ｅ１×Ｔ１≦４００００ （ｉｉｉ）
を満たす、［１］～［９］のいずれかに記載の光学積層体。
［１１］ 前記位相子における前記第２保護層側とは反対側に積層される粘着剤層をさらに備える、［１］～［１０］のいずれかに記載の光学積層体。
［１２］前記偏光子における前記位相子側の面に隣接する層から前記粘着剤層における前記位相子側の面に隣接する層までの積層体の温度２３℃における引張弾性率をＥ３［ＭＰａ］、厚みをＴ３［μｍ］とするとき、下記式（ｉｖ）：
７０００≦Ｅ３×Ｔ３≦２２０００ （ｉｖ）
を満たす、［１１］に記載の光学積層体。
［１３］ ［１］～［１２］のいずれかに記載の光学積層体を含む、画像表示装置。
【発明の効果】
【0006】
偏光子と位相子とを含む光学積層体であって、上記面内バラツキが抑制された光学積層体、及び該光学積層体を含む画像表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0007】
【図1】本発明に係る光学積層体の層構成の一例を示す概略断面図である。
【図2】本発明に係る光学積層体の層構成の他の一例を示す概略断面図である。
【図3】積層体αの引張弾性率Ｅ３を測定するための測定試料を作製する方法を示す概略上面図である。
【発明を実施するための形態】
【0008】
以下、図面を参照しつつ本発明の実施形態を説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。以下のすべての図面は、本発明の理解を助けるために示すものであり、図面に示される各構成要素のサイズや形状は、実際の構成要素のサイズや形状とは必ずしも一致しない。
【0009】
＜光学積層体＞
（１）概要
図１は、本発明に係る光学積層体（以下、単に「光学積層体」ともいう。）の層構成の一例を示す概略断面図である。図１に示される光学積層体は、第１保護層１０、偏光子５、第２保護層２０及び位相子３０をこの順に備える。光学積層体は、円偏光板として好適に用いることができる。用語「円偏光板」は、楕円偏光板を含む。光学積層体は、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置等の画像表示装置における反射防止膜等として用いることができる。
（１）概要
図１は、本発明に係る光学積層体（以下、単に「光学積層体」ともいう。）の層構成の一例を示す概略断面図である。図１に示される光学積層体は、第１保護層１０、偏光子５、第２保護層２０及び位相子３０をこの順に備える。光学積層体は、円偏光板として好適に用いることができる。用語「円偏光板」は、楕円偏光板を含む。光学積層体は、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置等の画像表示装置における反射防止膜等として用いることができる。
【0010】
図１に示される光学積層体は、第１保護層１０と偏光子５との間に第１粘接着剤層４１を含む。第１保護層１０と第１粘接着剤層４１とは直接接していることが好ましく、第１粘接着剤層４１と偏光子５とは直接接していることが好ましい。本発明に係る光学積層体は、第１粘接着剤層４１を有していなくてもよく、この場合、第１保護層１０と偏光子５とは直接接している。
【0011】
図１に示される光学積層体は、偏光子５と第２保護層２０との間に第２粘接着剤層４２を含む。偏光子５と第２粘接着剤層４２とは直接接していることが好ましく、第２粘接着剤層４２と第２保護層２０とは直接接していることが好ましい。本発明に係る光学積層体は、第２粘接着剤層４２を有していなくてもよく、この場合、偏光子５と第２保護層２０とは直接接している。
【0012】
図１に示される光学積層体は、第２保護層２０と位相子３０との間に第３粘接着剤層４３を含む。第２保護層２０と第３粘接着剤層４３とは直接接していることが好ましく、第３粘接着剤層４３と位相子３０とは直接接していることが好ましい。
【0013】
図２は、本発明に係る光学積層体の層構成の他の一例を示す概略断面図である。図２に示される光学積層体は、位相子３０における第２保護層２０とは反対側に積層される粘着剤層５０をさらに備えること以外は図１に示される光学積層体と同じ層構成を有する。
【0014】
本発明に係る光学積層体において、偏光子５は二色性色素が吸着配向している厚み１５μｍ以下のポリビニルアルコール系樹脂フィルムであり、第２保護層２０の温度８５℃における引張弾性率をＥ２［ＭＰａ］、厚みをＴ２［μｍ］とするとき、下記式（ｉ）：
Ｅ２×Ｔ２≦１６０００ （ｉ）
を満たす。本発明によれば、高温下に置かれたときの面内位相差値の変化量に関して面内バラツキ（以下、「位相差変化量の面内バラツキ」ともいう。）が抑制された光学積層体を提供することができる。これは、熱により偏光子が収縮すると第２保護層、ひいては位相子３０に引張応力がかかるところ、第２保護層が式（ｉ）を満たすことにより、上記引張応力が第２保護層の端部、ひいては位相子３０の端部に集中しにくくなるためであると考えられる。
以下、光学積層体を構成する又は構成し得る要素について詳細に説明する。
Ｅ２×Ｔ２≦１６０００ （ｉ）
を満たす。本発明によれば、高温下に置かれたときの面内位相差値の変化量に関して面内バラツキ（以下、「位相差変化量の面内バラツキ」ともいう。）が抑制された光学積層体を提供することができる。これは、熱により偏光子が収縮すると第２保護層、ひいては位相子３０に引張応力がかかるところ、第２保護層が式（ｉ）を満たすことにより、上記引張応力が第２保護層の端部、ひいては位相子３０の端部に集中しにくくなるためであると考えられる。
以下、光学積層体を構成する又は構成し得る要素について詳細に説明する。
【0015】
（２）偏光子
偏光子５は、無偏光の光を入射させたとき、吸収軸に直交する振動面をもつ直線偏光を透過させる性質を有する光学フィルム（直線偏光子）である。偏光子５は、具体的には、二色性色素が吸着配向しているポリビニルアルコール系樹脂フィルム（以下、「ＰＶＡ系フィルム」ともいう。）である。
偏光子５は、無偏光の光を入射させたとき、吸収軸に直交する振動面をもつ直線偏光を透過させる性質を有する光学フィルム（直線偏光子）である。偏光子５は、具体的には、二色性色素が吸着配向しているポリビニルアルコール系樹脂フィルム（以下、「ＰＶＡ系フィルム」ともいう。）である。
【0016】
ＰＶＡ系フィルムを構成するポリビニルアルコール系樹脂（以下、「ＰＶＡ系樹脂」ともいう。）は、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することにより製造できる。ポリ酢酸ビニル系樹脂は、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルのほか、酢酸ビニルと酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体との共重合体であることもできる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体としては、例えば、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、アンモニウム基を有する（メタ）アクリルアミド類等が挙げられる。
なお、本明細書において「（メタ）アクリル」とは、アクリル又はメタクリルのいずれでもよいことを意味する。（メタ）アクリレート等の「（メタ）」も同様の意味である。
なお、本明細書において「（メタ）アクリル」とは、アクリル又はメタクリルのいずれでもよいことを意味する。（メタ）アクリレート等の「（メタ）」も同様の意味である。
【0017】
ＰＶＡ系樹脂のケン化度は、通常８５～１００モル％程度であり、好ましくは９８モル％以上である。ＰＶＡ系樹脂は変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマールやポリビニルアセタール等も使用可能である。ＰＶＡ系樹脂の平均重合度は、通常１０００～１００００程度であり、好ましくは１５００～５０００程度である。ＰＶＡ系樹脂の平均重合度は、ＪＩＳ Ｋ ６７２６（１９９４）に準拠して求めることができる。平均重合度が１０００未満では好ましい偏光性能を得ることが困難であり、１００００超ではフィルム加工性に劣ることがある。
【0018】
偏光子は、通常、ＰＶＡ系フィルムを一軸延伸する工程、ＰＶＡ系フィルムを二色性色素で染色することにより二色性色素を吸着させる工程、二色性色素が吸着されたＰＶＡ系フィルムをホウ酸水溶液で処理して架橋させる工程、及びホウ酸水溶液による架橋処理後に水洗する工程（以下、ホウ酸処理ともいう。）を経て、製造される。
【0019】
ＰＶＡ系フィルムの一軸延伸は、二色性色素による染色の前、染色と同時、又は染色の後に行うことができる。一軸延伸を染色の後で行う場合、この一軸延伸は、ホウ酸処理の前に行ってもよいし、ホウ酸処理中に行ってもよい。もちろん、ここに示した複数の段階で一軸延伸を行うこともできる。一軸延伸には、周速の異なるロール間でフィルム運搬方向に一軸に延伸する方法や、熱ロールを用いてフィルム運搬方向に一軸に延伸する方法、テンターを使用して幅方向に延伸する方法などが採用できる。また一軸延伸は、大気中で延伸を行う乾式延伸により行ってもよいし、水等の溶媒を用い、ＰＶＡ系フィルムを膨潤させた状態で延伸を行う湿式延伸により行ってもよい。延伸倍率は、通常３～８倍程度である。
【0020】
ＰＶＡ系フィルムの二色性色素による染色は、例えば、二色性色素を含有する水溶液にＰＶＡ系フィルムを浸漬する方法により行うことができる。二色性色素として、具体的にはヨウ素や二色性有機染料が用いられる。なお、ＰＶＡ系フィルムは、染色処理の前に水に浸漬して膨潤させる処理を施しておくことが好ましい。
【0021】
二色性色素としてヨウ素を用いる場合は、通常、ヨウ素及びヨウ化カリウムを含有する水溶液に、ＰＶＡ系フィルムを浸漬して染色する方法が採用される。この水溶液におけるヨウ素の含有量は、水１００質量部あたり、通常０．０１～１質量部程度であり、ヨウ化カリウムの含有量は、水１００質量部あたり、通常０．５～２０質量部程度である。染色に用いる水溶液の温度は、通常２０～４０℃程度である。また、この水溶液への浸漬時間（染色時間）は、通常２０～１，８００秒間程度である。
【0022】
一方、二色性色素として二色性有機染料を用いる場合は、通常、水溶性の二色性有機染料を含む水溶液に、ＰＶＡ系フィルムを浸漬して染色する方法が採用される。この水溶液における二色性有機染料の含有量は、水１００質量部あたり、通常０．０００１～１０質量部程度であり、好ましくは０．００１～１質量部である。この染料水溶液は、硫酸ナトリウムのような無機塩を染色助剤として含有していてもよい。染色に用いる二色性有機染料水溶液の温度は、通常２０～８０℃程度である。また、この水溶液への浸漬時間（染色時間）は、通常１０～１，８００秒間程度である。
【0023】
二色性色素による染色後のホウ酸処理は、染色されたＰＶＡ系フィルムをホウ酸含有水溶液に浸漬する方法により、行うことができる。ホウ酸含有水溶液におけるホウ酸の含有量は、水１００質量部あたり、通常２～１５質量部程度であり、好ましくは５～１２質量部である。二色性色素としてヨウ素を用いる場合、このホウ酸含有水溶液はヨウ化カリウムを含有することが好ましい。ホウ酸含有水溶液におけるヨウ化カリウムの含有量は、水１００質量部あたり、通常０．１～１５質量部程度であり、好ましくは５～１２質量部である。ホウ酸含有水溶液への浸漬時間は、通常６０～１，２００秒間程度であり、好ましくは１５０～６００秒間、さらに好ましくは２００～４００秒間である。ホウ酸含有水溶液の温度は、通常５０℃以上であり、好ましくは５０～８５℃、さらに好ましくは６０～８０℃である。
【0024】
ホウ酸処理後のＰＶＡ系フィルムは、通常、水洗処理される。水洗処理は、例えば、ホウ酸処理されたＰＶＡ系フィルムを水に浸漬する方法により、行うことができる。水洗処理における水の温度は、通常５～４０℃程度である。また浸漬時間は、通常１～１２０秒間程度である。
【0025】
水洗後は乾燥処理が施されて、偏光子が得られる。乾燥処理は、熱風乾燥機や遠赤外線ヒーターを用いて行うことができる。乾燥処理の温度は、通常３０～１００℃程度であり、好ましくは５０～８０℃である。乾燥処理の時間は、通常６０～６００秒間程度であり、好ましくは１２０～６００秒間である。乾燥処理により、偏光子中の水分率は実用程度にまで低減される。その水分率は、偏光子の総質量に対して通常５～２０質量％程度であり、好ましくは８～１５質量％である。水分率が５質量％以上であると、偏光子は十分な可撓性を有するため、乾燥後に損傷したり、破断したりすることを抑制することができる。また水分率が２０質量％以下であると、偏光子は、十分な熱安定性を有する。
【0026】
以上のようにして、ＰＶＡ系フィルムに二色性色素が吸着配向した偏光子を製造することができる。
【0027】
偏光子の視感度補正偏光度Ｐｙは、通常９５％以上であり、好ましくは９７％以上、より好ましくは９８％以上、さらに好ましくは９８．７％以上、なおさらに好ましくは９９．０％以上、特に好ましくは９９．４％以上であり、９９．９％以上であってもよい。偏光子の視感度補正偏光度Ｐｙは、９９．９９％以下であってもよい。視感度補正偏光度Ｐｙは、積分球付き分光光度計（日本分光株式会社製の「Ｖ７１００」）を用いて、得られた偏光度に対して「ＪＩＳ Ｚ ８７０１」の２度視野（Ｃ光源）により視感度補正を行うことで算出することができる。
【0028】
偏光子の視感度補正偏光度Ｐｙを高くすることは、光学積層体の反射防止膜としての機能及び光学積層体の耐久性を高めるうえで有利である。偏光子の視感度補正偏光度Ｐｙが９５％未満であると、反射防止膜としての機能を果たせないことがある。
【0029】
偏光子は、ホウ素含有量が好ましくは０．５質量％以上であり、より好ましくは１．５質量％以上であり、さらに好ましくは２．５質量％以上であり、特に好ましくは２．７質量％以上である。ホウ素含有量が０．５質量％以上であることにより、二色性色素を安定的に保持することができ、偏光子の偏光度低下抑制効果、ひいては光学積層体の耐久性向上効果を期待できる。ホウ素含有量が高いほど、二色性色素を保持する能力を高めることができる傾向にある。また、偏光子のホウ素含有量は、好ましくは５．５質量％以下であり、より好ましくは５．０質量％以下であり、さらに好ましくは４．５質量％以下であり、なおさらに好ましくは４．２質量％以下であり、特に好ましくは４．０質量％以下である。ホウ素含有量が該範囲内であると、位相差変化量の面内バラツキをより効果的に抑制することができる。ホウ素含有量が低いほど、位相差変化量の面内バラツキが抑制されやすい傾向にある。
【0030】
偏光子におけるホウ素含有量は、例えば、所定質量の偏光子を例えば、マンニトール水溶液に溶解し、ＮａＯＨ水溶液で滴定することで求めることができる。かかる偏光子のホウ素含有量の測定手段は、［実施例］の項において詳述する。
【0031】
偏光子のホウ素含有量は、上記ホウ酸処理に用いるホウ酸水溶液のホウ酸濃度を調整することや、上記洗浄工程におけるホウ酸水溶液の洗い落としの程度等によって制御できる。
【0032】
偏光子の厚みは、１５μｍ以下であり、好ましくは１３μｍ以下であり、より好ましくは１０μｍ以下である。偏光子の厚みが該範囲内であると、光学積層体の薄型化に有利であり、また、位相差変化量の面内バラツキをより効果的に抑制することができる。偏光子の厚みは、通常２μｍ以上であり、３μｍ以上であることが好ましく、例えば５μｍ以上であってよい。
【0033】
（３）第１保護層
第１保護層１０は、偏光子５の表面を保護する機能を有する。第１保護層１０は、偏光子５の表面に直接接して積層されてもよいし、第１粘接着剤層４１を介して積層されてもよい。第１保護層１０は、偏光子５との密着性を向上させるため、表面処理（例えば、コロナ処理等）が施されていてもよく、プライマー層（易接着層ともいう）等の薄層が形成されていてもよい。
第１保護層１０は、偏光子５の表面を保護する機能を有する。第１保護層１０は、偏光子５の表面に直接接して積層されてもよいし、第１粘接着剤層４１を介して積層されてもよい。第１保護層１０は、偏光子５との密着性を向上させるため、表面処理（例えば、コロナ処理等）が施されていてもよく、プライマー層（易接着層ともいう）等の薄層が形成されていてもよい。
【0034】
第１保護層１０は、温度８５℃における引張弾性率をＥ１［ＭＰａ］、厚みをＴ１［μｍ］とするとき、下記式（ｉｉｉ）：
１７０００≦Ｅ１×Ｔ１≦４００００ （ｉｉｉ）
を満たすことが好ましい。
１７０００≦Ｅ１×Ｔ１≦４００００ （ｉｉｉ）
を満たすことが好ましい。
【0035】
第１保護層１０が式（ｉｉｉ）を満たすことにより、位相差変化量の面内バラツキをより効果的に抑制することができる。これは、熱による偏光子の収縮に起因する上記引張応力の位相子３０の端部への集中がより起こりにくくなるためであると考えられる。位相差変化量の面内バラツキを抑制する観点から、式（ｉｉｉ）における左辺Ｅ１×Ｔ１の値は、より好ましくは１８０００以上、さらに好ましくは２００００以上である。耐久環境下での偏光板全体のカール抑制の観点から、Ｅ１×Ｔ１の値は、より好ましくは３５０００以下であり、さらに好ましくは３００００以下、特に好ましくは２５０００以下である。
【0036】
第１保護層の厚みＴ１は、通常６０μｍ以下、耐久環境下での偏光板全体のカール抑制の観点から、好ましくは５０μｍ以下、より好ましくは４０μｍ以下であり、好ましくは１０μｍ以上、より好ましくは１５μｍ以上、さらに好ましくは２０μｍ以上である。
【0037】
第１保護層の温度８５℃における引張弾性率Ｅ１は、通常２０００ＭＰａ以下、好ましくは１５００ＭＰａ以下、より好ましくは１０００ＭＰａ以下であり、通常１００ＭＰａ以上であり、好ましくは２００ＭＰａ以上、より好ましくは３００ＭＰａ以上である。引張弾性率Ｅ１は、［実施例］の項の記載に従って測定することができる。
【0038】
第１保護層としては、例えば、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性、延伸性等に優れる樹脂フィルムを用いることができる。樹脂フィルムは熱可塑性樹脂フィルムであってもよい。このような熱可塑性樹脂の具体例としては、
トリアセチルセルロース等のセルロースエステル系樹脂；
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂；
ポリエーテルスルホン系樹脂；
ポリスルホン系樹脂；
ポリカーボネート系樹脂；
ナイロンや芳香族ポリアミド等のポリアミド系樹脂；
ポリイミド系樹脂；
ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等の鎖状ポリオレフィン系樹脂；
シクロ系及びノルボルネン構造を有する環状ポリオレフィン系樹脂（ノルボルネン系樹脂ともいう）；
ポリメチルメタクリレート等の（メタ）アクリル系樹脂；
ポリアリレート系樹脂；
ポリスチレン系樹脂；
ポリビニルアルコール系樹脂、
並びにこれらの混合物を挙げることができる。
上記熱可塑性樹脂からなる保護フィルムは市場から入手されてもよい。
トリアセチルセルロース等のセルロースエステル系樹脂；
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂；
ポリエーテルスルホン系樹脂；
ポリスルホン系樹脂；
ポリカーボネート系樹脂；
ナイロンや芳香族ポリアミド等のポリアミド系樹脂；
ポリイミド系樹脂；
ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等の鎖状ポリオレフィン系樹脂；
シクロ系及びノルボルネン構造を有する環状ポリオレフィン系樹脂（ノルボルネン系樹脂ともいう）；
ポリメチルメタクリレート等の（メタ）アクリル系樹脂；
ポリアリレート系樹脂；
ポリスチレン系樹脂；
ポリビニルアルコール系樹脂、
並びにこれらの混合物を挙げることができる。
上記熱可塑性樹脂からなる保護フィルムは市場から入手されてもよい。
【0039】
鎖状ポリオレフィン系樹脂としては、ポリエチレン樹脂（エチレンの単独重合体であるポリエチレン樹脂や、エチレンを主体とする共重合体）、ポリプロピレン樹脂（プロピレンの単独重合体であるポリプロピレン樹脂や、プロピレンを主体とする共重合体）のような鎖状オレフィンの単独重合体の他、２種以上の鎖状オレフィンからなる共重合体を挙げることができる。
【0040】
環状ポリオレフィン系樹脂は、環状オレフィンを重合単位として重合される樹脂の総称であり、例えば、特開平１－２４０５１７号公報、特開平３－１４８８２号公報、特開平３－１２２１３７号公報等に記載されている樹脂が挙げられる。環状ポリオレフィン系樹脂の具体例を挙げれば、環状オレフィンの開環（共）重合体、環状オレフィンの付加重合体、環状オレフィンとエチレン、プロピレンのような鎖状オレフィンとの共重合体（代表的にはランダム共重合体）、及びこれらを不飽和カルボン酸やその誘導体で変性したグラフト重合体、並びにそれらの水素化物である。中でも、環状オレフィンとしてノルボルネンや多環ノルボルネン系モノマーのようなノルボルネン系モノマーを用いたノルボルネン系樹脂が好ましく用いられる。
【0041】
ポリエステル系樹脂は、主鎖にエステル結合を有する樹脂であり、多価カルボン酸又はその誘導体と多価アルコールとの重縮合体が一般的である。多価カルボン酸又はその誘導体としては２価のジカルボン酸又はその誘導体を用いることができ、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、ジメチルテレフタレート、ナフタレンジカルボン酸ジメチルなどが挙げられる。多価アルコールとしては２価のジオールを用いることができ、例えばエチレングリコール、プロパンジオール、ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、シクロヘキサンジメタノールなどが挙げられる。ポリエステル系樹脂の代表例として、テレフタル酸とエチレングリコールの重縮合体であるポリエチレンテレフタレートが挙げられる。
【0042】
セルロースエステル系樹脂は、セルロースと脂肪酸とのエステルである。セルロースエステル系樹脂の具体例は、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルローストリプロピオネート、セルロースジプロピオネートを含む。また、これらのセルロースエステル系樹脂を構成する重合単位を複数種有する共重合物や、水酸基の一部が他の置換基で修飾されたものも挙げられる。これらの中でも、セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース）が特に好ましい。
【0043】
（メタ）アクリル系樹脂は、（メタ）アクリロイル基を有する化合物を主な構成モノマーとする樹脂である。（メタ）アクリル系樹脂の具体例は、例えば、ポリメタクリル酸メチルのようなポリ（メタ）アクリル酸エステル；メタクリル酸メチル－（メタ）アクリル酸共重合体；メタクリル酸メチル－（メタ）アクリル酸エステル共重合体；メタクリル酸メチル－アクリル酸エステル－（メタ）アクリル酸共重合体；（メタ）アクリル酸メチル－スチレン共重合体（ＭＳ樹脂等）；メタクリル酸メチルと脂環族炭化水素基を有する化合物との共重合体（例えば、メタクリル酸メチル－メタクリル酸シクロヘキシル共重合体、メタクリル酸メチル－（メタ）アクリル酸ノルボルニル共重合体等）を含む。好ましくは、ポリ（メタ）アクリル酸メチルのようなポリ（メタ）アクリル酸Ｃ１－Ｃ６アルキルエステルを主成分とする重合体が用いられ、より好ましくは、メタクリル酸メチルを主成分（５０～１００質量％、好ましくは７０～１００質量％）とするメタクリル酸メチル系樹脂が用いられる。
【0044】
ポリカーボネート系樹脂は、カルボナート基を介してモノマー単位が結合された重合体からなる。ポリカーボネート系樹脂は、ポリマー骨格を修飾したような変性ポリカーボネートと呼ばれる樹脂や、共重合ポリカーボネート等であってもよい。
【0045】
第１保護層は、上記熱可塑性樹脂を含むフィルムを延伸したものであってもよい。延伸処理としては、一軸延伸や二軸延伸等が挙げられる。延伸方向としては、未延伸フィルムの機械流れ方向（ＭＤ）、これに直交する方向（ＴＤ）、機械流れ方向（ＭＤ）に斜交する方向等が挙げられる。二軸延伸は、２つの延伸方向に同時に延伸する同時二軸延伸でもよく、所定方向に延伸した後で他の方向に延伸する逐次二軸延伸であってもよい。延伸処理は、例えば出口側の周速を大きくした２対以上のニップロールを用いて、長手方向（機械流れ方向：ＭＤ）に延伸したり、未延伸フィルムの両側端をチャックで把持して機械流れ方向に直交する方向（ＴＤ）に広げたりすることで行うことができる。この際、フィルムの厚みを調整したり、延伸倍率を調整したりすることによって、位相差値及び波長分散値を制御することが可能である。また、樹脂に波長分散調整剤を添加したりすることによって、波長分散値を制御することが可能である。
【0046】
第１保護層は、目的に応じて任意の適切な添加剤を含有し得る。添加剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系、リン系、イオウ系などの酸化防止剤、耐光安定剤、紫外線吸収剤、耐候安定剤、熱安定剤などの安定剤；ガラス繊維、炭素繊維などの補強材；近赤外線吸収剤；トリス（ジブロモプロピル）ホスフェート、トリアリルホスフェート、酸化アンチモンなどの難燃剤；アニオン系、カチオン系、ノニオン系の界面活性剤などの帯電防止剤；無機顔料、有機顔料、染料などの着色剤；有機フィラーや無機フィラー；樹脂改質剤；可塑剤；滑剤；位相差低減剤などが挙げられる。含有される添加剤の種類、組み合わせ、含有量などは、目的や所望の特性に応じて適切に設定され得る。
【0047】
また、所望の表面光学特性又はその他の特徴を付与するために、第１保護層の外面にコーティング層（表面処理層）を設けることができる。表面処理層の具体例は、ハードコート層、防眩層、反射防止層、帯電防止層、防汚層を含む。表面処理層を形成する方法は特に限定されず、公知の方法を用いることができる。表面処理層は、第１保護層の一方の面に形成されていてもよいし、両面に形成されていてもよい。
【0048】
ハードコート層は、第１保護層の表面硬度を高める機能を有し、表面の擦り傷防止等の目的で設けられる。ハードコート層は、ＪＩＳ Ｋ ５６００－５－４：１９９９「塗料一般試験方法－第５部：塗膜の機械的性質－第４節：引っかき硬度（鉛筆法）」に規定される鉛筆硬度試験（ハードコート層を有する保護フィルムをガラス板の上に置いて測定する）で測定される鉛筆硬度がＨ又はそれより硬い値であることが好ましい。
【0049】
ハードコート層を形成する材料は、一般に、熱や光によって硬化するものである。例えば、有機シリコーン系、メラミン系、エポキシ系、（メタ）アクリル系、ウレタン（メタ）アクリレート系のような有機ハードコート材料、二酸化ケイ素のような無機ハードコート材料を挙げることができる。これらの中でも、保護フィルムに対する密着性が良好であり、生産性に優れることから、ウレタン（メタ）アクリレート系又は多官能（メタ）アクリレート系ハードコート材料が好ましく用いられる。
【0050】
ハードコート層は、所望により、屈折率の調整、曲げ弾性率の向上、体積収縮率の安定化、さらには耐熱性、帯電防止性、防眩性等の向上を図る目的で、各種フィラーを含有することができる。またハードコート層は、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、帯電防止剤、レベリング剤、消泡剤のような添加剤を含有することもできる。
【0051】
ハードコート層は、強度をより向上させるために、添加剤を含んでいてもよい。添加剤は限定されることはなく、無機系微粒子、有機系微粒子、又はこれらの混合物が挙げられる。また、ハードコート層の厚みは、硬さを持たせるためには厚い方が良いが、厚すぎるとカット時に割れやすくなるため、１μｍ～２０μｍであってもよく、２μｍ～１０μｍであってもよい。ハードコート層の厚みは、３μｍ～７μｍとすることが好ましい。
【0052】
防眩層は、表面に微細な凹凸形状を有する層であり、好ましくは、上述したハードコート材料を用いて形成される。
【0053】
表面に微細な凹凸形状を有する防眩層は、１）保護フィルム上に微粒子を含有する塗膜を形成し、その微粒子に基づく凹凸を設ける方法、２）微粒子を含有するか、又は含有しない塗膜を保護フィルム上に形成した後、表面に凹凸形状が付与された金型（ロール等）に押し当てて凹凸形状を転写する方法（エンボス法とも呼ばれる）等によって形成することができる。
【0054】
反射防止層は、保護フィルムを観察する者にとって、保護フィルム表面の外光反射を弱めるための層であり、通常は、可視光に対する反射率が１．５％以下となる。このような反射率の反射防止層は典型的には、高い屈折率を有する高屈折率層と、低い屈折率を有する低屈折率層とを積層する事や、特開２０２１－６９２９号公報に記載の方法や材料を用いる事によってなる。これらの屈折率と各層の厚みを調整することで各層からの反射光が互いに弱め合うようにすることができ、優れた反射防止機能が奏される。
【0055】
高屈折率層と低屈折率層とからなる反射防止層は、後に詳細を述べるとおり、高屈折率層及び低屈折率層のそれぞれを形成し得る塗布型組成物を用いて反射防止層を製造すると、操作が極めて簡便であるため好ましい。ここで、高屈折率層及び低屈折率層のそれぞれを形成し得る塗布型組成物の一例を挙げておく。かかる塗布型組成物は液状のものであり、適切な硬化性樹脂と、必要に応じて添加剤とを含む。高屈折率層を形成し得る塗布型組成物（高屈折率層形成用組成物）は、例えば、ウレタンアクリレートのような硬化性樹脂と、アセトフェノン系、ベンゾフェノン系、ベンジルジメチルケタール系、α－ヒドロキシアルキルフェノン系、α－アミノアルキルフェノン系やチオキサントン系といった光重合のための開始剤（光重合開始剤）とを、メチルエチルケトンやメチルイソブチルケトンといった溶剤に溶解してなる。塗布性をより良好とするために、レベリング剤、好ましくはフッ素系レベリング剤を含ませてもよい。また、低屈折率層を形成し得る塗布型組成物（低屈折率層形成用組成物）としては、硬化性樹脂として、ポリエチレングリコールジアクリレートやペンタエリストール（トリ／テトラ）アクリレートのようなバインダー樹脂に、アセトフェノン系、ベンゾフェノン系、ベンジルジメチルケタール系、α－ヒドロキシアルキルフェノン系、α－アミノアルキルフェノン系やチオキサントン系といった光重合のための開始剤（光重合開始剤）を、１－メトキシ－２－プロピルアセテートやメチルイソブチルといった溶剤に溶解してなる溶液にシリカ粒子を分散させてなる。塗布性をより良好とするために、フッ素系レベリング剤を含ませてもよい。なお、ここで挙げた高屈折率層及び低屈折率層のそれぞれを形成し得る塗布型組成物はあくまで一例であり、形成しようとする反射防止層の特性に応じて、高屈折率層形成用組成物及び低屈折率層形成用組成物をそれぞれ最適化することが好ましい。
【0056】
反射防止層は、例えば低屈折率層を備えるものであることができる。また、保護フィルムと低屈折率層との間に、高屈折率層及び／又は中屈折率層をさらに備える多層構造であってもよい。
【0057】
低屈折率層は、上述の硬化性樹脂の硬化物や金属アルコキシド系ポリマー等の透光性樹脂及び無機粒子を含有する塗工液を塗工した後、塗工層を必要に応じて硬化させる方法によって形成することができる。無機粒子としては、たとえば、ＬｉＦ（屈折率１．４）、ＭｇＦ（屈折率１．４）、３ＮａＦ・ＡｌＦ（屈折率１．４）、ＡｌＦ（屈折率１．４）、Ｎａ３ＡｌＦ６（屈折率１．３３）などの低屈折粒子や、中空シリカ粒子などが挙げられる。
【0058】
帯電防止層は、第１保護層の表面に導電性を付与し、静電気による影響を抑制する等の目的で設けられる。帯電防止層の形成には、例えば、導電性物質（帯電防止剤）を含有する樹脂組成物を第１保護層上に塗布する方法が採用できる。例えば、上述したハードコート層の形成に用いるハードコート材料に帯電防止剤を共存させておくことにより、帯電防止性のハードコート層を形成することができる。
【0059】
防汚層は、撥水性、撥油性、耐汗性、防汚性等を付与するために設けられる。防汚層を形成するための好適な材料は、フッ素含有有機化合物である。フッ素含有有機化合物としては、フルオロカーボン、パーフルオロシラン、これらの高分子化合物等を挙げることができる。防汚層の形成方法は、形成する材料に応じて、蒸着やスパッタリングを代表例とする物理的気相成長法、化学的気相成長法、湿式コーティング法等を用いることができる。防汚層の平均厚みは、通常１～５０ｎｍ程度、好ましくは３～３５ｎｍである。
【0060】
光学積層体が画像表示装置に適用される際、偏光子５中のヨウ素等の二色性色素の拡散が、画像表示装置において光学積層体の近傍に存在する金属部材（電極等）の腐食をもたらすことがある。これは、上記拡散によってヨウ素等の二色性色素が金属部材へ移行することに起因する。金属部材の腐食を抑制するために、二色性色素の金属部材へ移行量を抑制することが好ましい。第１保護層の外面にコーティング層（表面処理層）を設けないことにより、該移行量を抑制できる傾向にある。これは、二色性色素が第１保護層側（視認側）から拡散・放出されやすくなる結果、偏光子５から視認側とは反対側へ移行する二色性色素の量が減少するためである。
【0061】
（４）第２保護層
第２保護層２０は、偏光子５の表面を保護する機能を有する。第２保護層２０は、偏光子５の表面に直接接して積層されてもよいし、第２粘接着剤層４２を介して積層されてもよい。第２保護層２０は、偏光子５との密着性を向上させるため、表面処理（例えば、コロナ処理等）が施されていてもよく、プライマー層（易接着層ともいう）等の薄層が形成されていてもよい。
第２保護層２０は、偏光子５の表面を保護する機能を有する。第２保護層２０は、偏光子５の表面に直接接して積層されてもよいし、第２粘接着剤層４２を介して積層されてもよい。第２保護層２０は、偏光子５との密着性を向上させるため、表面処理（例えば、コロナ処理等）が施されていてもよく、プライマー層（易接着層ともいう）等の薄層が形成されていてもよい。
【0062】
第２保護層２０は、温度８５℃における引張弾性率をＥ２［ＭＰａ］、厚みをＴ２［μｍ］とするとき、下記式（ｉ）：
Ｅ２×Ｔ２≦１６０００ （ｉ）
を満たす。
Ｅ２×Ｔ２≦１６０００ （ｉ）
を満たす。
【0063】
式（ｉ）を満たす本発明に係る光学積層体によれば、位相差変化量の面内バラツキを抑制することができる。これは、熱による偏光子の収縮に起因する上記引張応力の位相子３０の端部への集中が起こりにくくなるためであると考えられる。式（ｉ）を満たすこと、及び、式（ｉｉｉ）を満たすことはいずれも位相差変化量の面内バラツキの抑制に寄与するが、偏光子５と位相子３０との間に配置される第２保護層２０が式（ｉ）を満たすことの寄与の方が大きい。また、偏光子５と位相子３０との間に第２保護層２０を配置することで、偏光子５中のヨウ素等の二色性色素が上記拡散によってヨウ素等の二色性色素が上記金属部材へ移行することを防止又は抑制することができる。ヨウ素等の二色性色素の拡散を防止又は抑制することで、画像表示装置において光学積層体の近傍に存在する金属部材（電極等）の腐食を防止又は抑制することができる。
【0064】
位相差変化量の面内バラツキを抑制する観点から、式（ｉ）における左辺Ｅ２×Ｔ２の値は、好ましくは１２０００以下、より好ましくは８０００以下、さらに好ましくは４０００以下、なおさらに好ましくは３０００以下、特に好ましくは２０００以下であり、１８５０以下、１８００以下又は１０００以下であってもよい。Ｅ２×Ｔ２の値は、通常１００以上であり、３００以上又は５００以上であってもよい。
【0065】
第２保護層の厚みＴ２は、例えば０．１～６０μｍ、好ましくは０．２～３０μｍである。位相差変化量の面内バラツキを抑制する観点から、厚みＴ２は、下記式（ｉｉ）：
Ｔ２≦７ （ｉｉ）
を満たすことが好ましい。厚みＴ２は、より好ましくは６μｍ以下、さらに好ましくは５μｍ以下、なおさらに好ましくは４μｍ以下である。厚みＴ２は、例えば０．１μｍ以上であり、０．５μｍ以上、１μｍ以上又は２μｍ以上であってもよい。金属部材の上記腐食を抑制する観点から、厚みＴ２は、好ましくは２～４μｍであり、より好ましくは３～４μｍである。
Ｔ２≦７ （ｉｉ）
を満たすことが好ましい。厚みＴ２は、より好ましくは６μｍ以下、さらに好ましくは５μｍ以下、なおさらに好ましくは４μｍ以下である。厚みＴ２は、例えば０．１μｍ以上であり、０．５μｍ以上、１μｍ以上又は２μｍ以上であってもよい。金属部材の上記腐食を抑制する観点から、厚みＴ２は、好ましくは２～４μｍであり、より好ましくは３～４μｍである。
【0066】
位相差変化量の面内バラツキを抑制する観点から、第２保護層の温度８５℃における引張弾性率Ｅ２は、好ましくは１５００ＭＰａ以下、より好ましくは１２００ＭＰａ以下、さらに好ましくは１１００ＭＰａ以下、なおさらに好ましくは１０００ＭＰａ以下、特に好ましくは８００ＭＰａ以下、最も好ましくは５００ＭＰａ以下である。引張弾性率Ｅ２は、通常１００ＭＰａ以上であり、２００ＭＰａ以上であってもよい。引張弾性率Ｅ２は、［実施例］の項の記載に従って測定することができる。
【0067】
金属部材の上記腐食を抑制する観点から、第２保護層は、透湿度が例えば１７００ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下、好ましくは１５００ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下、より好ましくは１０００ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下、さらに好ましくは１００ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下、なおさらに好ましくは５０ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下であり、１０ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下であってもよい。該透湿度は、通常１ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以上であり、好ましくは３ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以上である。第２保護層の透湿度は、［実施例］の項の記載に従って測定することができる。
【0068】
第２保護層の光弾性率が小さい方が、熱による偏光子の収縮に起因する上記引張応力による第２保護層の位相差変化量が小さくなるため、位相差変化量の面内バラツキを抑制する観点から好ましい。したがって、第２保護層を構成する樹脂が同じである場合、第２保護層の厚みが小さいほど、位相差変化量の面内バラツキを抑制する観点からは有利な傾向にある。一方、本発明によれば、位相差変化量の面内バラツキを効果的に抑制できることから、第２保護層が光弾性を有している方が、本発明の効果が現れやすい。
第２保護層の光弾性率は、好ましくは０．１×１０－１２Ｐａ－１～１０×１０－１２Ｐａ－１、より好ましくは１×１０－１２Ｐａ－１～５×１０－１２Ｐａ－１である。第２保護層の光弾性率は、［実施例］の項の記載に従って測定することができる。
第２保護層の光弾性率は、好ましくは０．１×１０－１２Ｐａ－１～１０×１０－１２Ｐａ－１、より好ましくは１×１０－１２Ｐａ－１～５×１０－１２Ｐａ－１である。第２保護層の光弾性率は、［実施例］の項の記載に従って測定することができる。
【0069】
第２保護層としては、例えば、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性、延伸性等に優れる樹脂フィルムを用いることができる。樹脂フィルムは熱可塑性樹脂フィルムであってもよい。このような熱可塑性樹脂の具体例は、第１保護層について記載したものと同様である。熱可塑性樹脂からなる保護フィルムは市場から入手されてもよい。
【0070】
第２保護層として用いられる熱可塑性樹脂フィルム及び後述する熱可塑性樹脂層を構成する熱可塑性樹脂は、好ましくは、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂であり、より好ましくは、環状ポリオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂であり、さらに好ましくは環状ポリオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂であり、なおさらに好ましくは環状ポリオレフィン系樹脂である。
【0071】
第２保護層として用いられる熱可塑性樹脂フィルムは、単体で存在するフィルムであってよく、この場合、該熱可塑性樹脂フィルムは、必要に応じて第２粘接着剤層４２を介して偏光子５上に積層される。あるいは、第２保護層は、熱可塑性樹脂層であってもよい。例えば、熱可塑性樹脂を含む組成物を支持基材上に塗布し、必要に応じて乾燥させて得られる支持基材付き熱可塑性樹脂層を、必要に応じて第２粘接着剤層４２を介して偏光子５に貼合し、その後、支持基材を剥離除去することによって、偏光子５上に第２保護層としての熱可塑性樹脂層を積層することができる（第１の方法）。例えば、第２保護層２０が熱可塑性樹脂層、又は後述する硬化樹脂層のような樹脂層である場合には、第２粘接着剤層４２を介することなく、偏光子５と第２保護層２０とが直接接していてもよい。
【0072】
第２保護層が熱可塑性樹脂層である場合、上記組成物を直接、偏光子５の表面に塗布し、必要に応じて乾燥させることによって熱可塑性樹脂層を形成することも可能である（第２の方法）。この場合、第２粘接着剤層４２を介することなく、偏光子５と第２保護層２０とは直接接している。ただし、組成物が溶剤を含有する場合、溶剤含有量が十分に低減された熱可塑性樹脂層を安定して形成しやすいことから、第１の方法の方が好ましい。
【0073】
第２保護層は、硬化型樹脂の硬化物を含む硬化樹脂層であってもよい。硬化型樹脂としては、熱硬化型樹脂、活性エネルギー硬化型樹脂が挙げられ、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、オキセタン系樹脂、ウレタン系樹脂、（メタ）アクリルウレタン系樹脂、メラミン系樹脂等が挙げられる。硬化型樹脂の硬化物を含む硬化樹脂層は、硬化型樹脂を含む組成物を支持基材上に塗布し、必要に応じて乾燥させた後、熱を加えるか又は可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線、電子線等の活性エネルギー線を照射することにより形成することができる。得られる支持基材付き硬化樹脂層を、必要に応じて第２粘接着剤層４２を介して偏光子５に貼合し、その後、支持基材を剥離除去することによって、偏光子５上に第２保護層としての硬化樹脂層を積層することができる。
【0074】
第２保護層は、位相差変化量の面内バラツキを抑制する観点から、好ましくは、環状ポリオレフィン系樹脂からなる熱可塑性樹脂フィルム又は熱可塑性樹脂層、（メタ）アクリル系樹脂からなる熱可塑性樹脂フィルム又は熱可塑性樹脂層、（メタ）アクリル系樹脂の硬化物を含む硬化樹脂層、ポリスチレン系樹脂からなる熱可塑性樹脂フィルム又は熱可塑性樹脂層である。偏光子５中の二色性色素が上記金属部材へ移行することを抑制することをさらに考慮すると、第２保護層は、より好ましくは、環状ポリオレフィン系樹脂からなる熱可塑性樹脂フィルム又は熱可塑性樹脂層、ポリスチレン系樹脂からなる熱可塑性樹脂フィルム又は熱可塑性樹脂層である。
【0075】
第２保護層は、目的に応じて任意の適切な添加剤を含有し得る。添加剤の具体例は、第１保護層について記載したものと同様である。
【0076】
第２保護層は、位相差特性を有しないか、位相差値が小さいフィルムであることが好ましい。具体的には、第２保護層の波長５５０ｎｍにおける面内位相差値は、１０ｎｍ以下であることが好ましい。該面内位相差値は０ｎｍ以上である。また、第２保護層の波長５５０ｎｍにおける厚み方向の位相差値は、－１０ｎｍ～＋１０ｎｍであることが好ましい。
【0077】
（５）位相子
位相子３０は、面内又は厚み方向に位相差を示す光学素子であり、好ましくは位相差膜を含む。位相差膜は、面内又は厚み方向に位相差を示す膜であって、重合性液晶化合物の重合体からなる層（硬化物層）であるか、又は、該層と配向膜との組み合わせである。位相差膜は、例えば、重合性液晶化合物を含む位相差膜形成用組成物の硬化物層を含む。
位相子３０は、面内又は厚み方向に位相差を示す光学素子であり、好ましくは位相差膜を含む。位相差膜は、面内又は厚み方向に位相差を示す膜であって、重合性液晶化合物の重合体からなる層（硬化物層）であるか、又は、該層と配向膜との組み合わせである。位相差膜は、例えば、重合性液晶化合物を含む位相差膜形成用組成物の硬化物層を含む。
【0078】
位相子３０が位相差膜を含む場合、二色性色素が上記金属部材へ移行し、金属部材の上記腐食が生じやすくなるが、本発明によれば、位相子３０が位相差膜を含む場合であっても上記腐食を効果的に抑制し得る。また、位相子３０が位相差膜を含むと、光学積層体の薄型化に有利であり、位相子３０が位相差膜を含むことは、波長分散特性を任意に設計できる点で好ましい。
【0079】
（５－１）位相差膜
位相差膜は、通常、基材上に形成された配向膜上に、位相差膜形成用組成物を塗布し、上記位相差膜形成用組成物に含まれる重合性液晶化合物を重合することによって形成される。位相差膜は、通常、重合性液晶化合物が配向した状態で硬化した膜であり、視認面内で位相差を生じるためには、重合性液晶化合物が基材面に対して水平方向に配向した状態で重合性基が重合した硬化膜である必要がある。この際、重合性液晶化合物が棒状の液晶である場合にはポジティブＡプレートであればよく、重合性液晶化合物が円盤状の液晶であればネガティブＡプレートであればよい。
位相差膜は、通常、基材上に形成された配向膜上に、位相差膜形成用組成物を塗布し、上記位相差膜形成用組成物に含まれる重合性液晶化合物を重合することによって形成される。位相差膜は、通常、重合性液晶化合物が配向した状態で硬化した膜であり、視認面内で位相差を生じるためには、重合性液晶化合物が基材面に対して水平方向に配向した状態で重合性基が重合した硬化膜である必要がある。この際、重合性液晶化合物が棒状の液晶である場合にはポジティブＡプレートであればよく、重合性液晶化合物が円盤状の液晶であればネガティブＡプレートであればよい。
【0080】
位相子は、異なる光学異方性を有する位相差膜を２層以上含んでいてもよい。反射防止機能を高度に達成するためには、可視光全域でのλ／４板機能（すなわちπ／２の位相差機能）を有すればよい。具体的には逆波長分散性λ／４層が好ましく、あるいは、配向の異なる２種類以上の位相差膜を組み合わせることが好ましい。例えば、λ／２板機能を有する位相差膜（すなわちπの位相差機能）とλ／４板機能を有する位相差膜（すなわちπ／２の位相差機能）を組み合わせたものであってもよい。さらに、斜め方向での反射防止機能を補償し得る観点から、厚み方向に異方性を有する層（ポジティブＣプレート）をさらに含んでいることが好ましい。とりわけ、位相子が逆波長分散性λ／４層とポジティブＣプレートとを含む構成のとき、本願発明の効果をより顕著に得ることができる。また、それぞれの位相差膜はチルト配向をしていてもよいし、コレステリック配向状態を形成していてもよい。
位相子が１層の位相差膜からなる場合、２層以上からなる場合と比較して、熱による偏光子の収縮に起因する上記引張応力の位相子３０の端部への集中が起こりやすいが、本発明によれば、位相子が１層の位相差膜からなる場合であっても位相差変化量の面内バラツキを効果的に抑制することができる。
位相子が１層の位相差膜からなる場合、２層以上からなる場合と比較して、熱による偏光子の収縮に起因する上記引張応力の位相子３０の端部への集中が起こりやすいが、本発明によれば、位相子が１層の位相差膜からなる場合であっても位相差変化量の面内バラツキを効果的に抑制することができる。
【0081】
可視光全域でのλ／４機能は、波長λｎｍの光に対する面内位相差値をＲｅ（λ）とすると、下記式（１）に示される光学特性を満たすことが好ましく、下記式（１）、下記式（２）及び下記式（３）で示される光学特性を満たすことが好ましい。
１００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１６０ｎｍ （１）
（式中、Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍの光に対する面内位相差値（面内リタデーション）を表す。）
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．０ （２）
１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （３）
（式中、Ｒｅ（４５０）は波長４５０ｎｍの光に対する面内位相差値を、Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍの光に対する面内位相差値を、Ｒｅ（６５０）は波長６５０ｎｍの光に対する面内位相差値を表す。）
１００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１６０ｎｍ （１）
（式中、Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍの光に対する面内位相差値（面内リタデーション）を表す。）
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．０ （２）
１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （３）
（式中、Ｒｅ（４５０）は波長４５０ｎｍの光に対する面内位相差値を、Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍの光に対する面内位相差値を、Ｒｅ（６５０）は波長６５０ｎｍの光に対する面内位相差値を表す。）
【0082】
位相差膜の「Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）」が１．０を超えると、当該位相差膜を備える光学積層体での短波長側での光抜けが大きくなる。「Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）」の値は、好ましくは、０．７以上１．０以下、より好ましくは０．８０以上０．９５以下、さらに好ましくは０．８０以上０．９２以下、特に好ましくは０．８２以上０．８８以下である。「Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）」の値は、重合性液晶化合物の混合比率や複数の位相差膜の積層角度や位相差値を調整することで任意に調整する事が可能である。
【0083】
位相差膜の面内位相差値は、位相差膜の厚みによって調整することができる。面内位相差値は下記式（４）によって決定されることから、所望の面内位相差値（Ｒｅ（λ））を得るには、Δｎ（λ）と厚みｄとを調整すればよい。位相差膜の厚みは、０．５μｍ～５μｍが好ましく、１μｍ～３μｍがより好ましい。位相差膜の厚みは、干渉膜厚計、レーザー顕微鏡又は触針式膜厚計により測定することができる。尚、Δｎ（λ）は、後述する重合性液晶化合物の分子構造に依存する。
Ｒｅ（λ）＝ｄ×Δｎ（λ） （４）
（式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける面内位相差値を表し、ｄは厚みを表し、Δｎ（λ）は波長λｎｍにおける複屈折率を表す。）
Ｒｅ（λ）＝ｄ×Δｎ（λ） （４）
（式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける面内位相差値を表し、ｄは厚みを表し、Δｎ（λ）は波長λｎｍにおける複屈折率を表す。）
【0084】
ポジティブＣプレートは、厚み方向に異方性を有するものであれば特に限定はないが、チルト配向やコレステリック配向をしていない場合は式（５）で表される光学特性を有する。
ｎｘ≒ｎｙ＜ｎｚ （５）
ｎｘ≒ｎｙ＜ｎｚ （５）
【0085】
ポジティブＣプレートの波長５５０ｎｍにおける面内位相差値Ｒｅ（５５０）は、通常０～１０ｎｍの範囲であり、好ましくは０～５ｎｍの範囲である。また、波長５５０ｎｍにおける厚み方向の位相差値Ｒｔｈ（５５０）は、通常－１７０ｎｍ以上－１０ｎｍ以下の範囲であり、好ましくは－１５０ｎｍ以上－２０ｎｍ以下、より好ましくは－１００ｎｍ以上－４０ｎｍ以下の範囲である。厚み方向の位相差値がこの範囲であれば、斜め方向からの反射防止特性を一段向上させることができる。
【0086】
位相差膜形成用組成物に含まれる重合性液晶化合物は、重合性基、特に光重合性基を有する液晶化合物を意味し、該重合性液晶化合物としては、従来公知の重合性液晶化合物を用いることができる。光重合性基とは、光重合開始剤から発生した反応活性種、例えば活性ラジカルや酸などによって重合反応に関与し得る基のことをいう。光重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１－クロロビニル基、イソプロペニル基、４－ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック性液晶でもよいが、緻密な膜厚制御が可能な点でサーモトロピック性液晶が好ましい。また、サーモトロピック性液晶における相秩序構造としてはネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。また、棒状液晶であってもよいし円盤状液晶であってもよい。重合性液晶化合物は単独又は２種以上組み合わせて使用できる。
【0087】
重合性液晶化合物としては、逆波長分散性発現の観点から分子長軸方向に対して垂直方向にさらに複屈折性を有するＴ字型あるいはＨ型にメソゲン構造を有する液晶が好ましく、より強い分散が得られる観点からＴ字型液晶がより好ましく、Ｔ字型液晶の構造としては、具体的には、例えば、下記式（Ｉ）：
で表される化合物が挙げられる。
【化1】
で表される化合物が挙げられる。
【0088】
式（Ｉ）中、Ａｒは置換基を有していてもよい二価の芳香族基を表す。該二価の芳香族基中には窒素原子、酸素原子、硫黄原子のうち少なくとも１つ以上が含まれることが好ましい。二価の基Ａｒに含まれる芳香族基が２つ以上である場合、２つ以上の芳香族基は互いに単結合、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－などの二価の結合基で結合していてもよい。
Ｇ１及びＧ２はそれぞれ独立に、二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基を表す。ここで、該二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１～４のアルキル基、炭素数１～４のフルオロアルキル基、炭素数１～４のアルコキシ基、シアノ基又はニトロ基に置換されていてもよく、該二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基を構成する炭素原子が、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子に置換されていてもよい。
Ｌ１、Ｌ２、Ｂ１及びＢ２はそれぞれ独立に、単結合又は二価の連結基である。
ｋ、ｌは、それぞれ独立に０～３の整数を表し、１≦ｋ＋ｌの関係を満たす。ここで、２≦ｋ＋ｌである場合、Ｂ１及びＢ２、Ｇ１及びＧ２は、それぞれ互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
Ｅ１及びＥ２はそれぞれ独立に、炭素数１～１７のアルカンジイル基を表し、ここで、アルカンジイル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－で置換されていてもよく、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－を複数有する場合は互いに隣接しない。Ｐ１及びＰ２は互いに独立に、重合性基又は水素原子を表し、少なくとも１つは重合性基である。
Ｇ１及びＧ２はそれぞれ独立に、二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基を表す。ここで、該二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１～４のアルキル基、炭素数１～４のフルオロアルキル基、炭素数１～４のアルコキシ基、シアノ基又はニトロ基に置換されていてもよく、該二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基を構成する炭素原子が、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子に置換されていてもよい。
Ｌ１、Ｌ２、Ｂ１及びＢ２はそれぞれ独立に、単結合又は二価の連結基である。
ｋ、ｌは、それぞれ独立に０～３の整数を表し、１≦ｋ＋ｌの関係を満たす。ここで、２≦ｋ＋ｌである場合、Ｂ１及びＢ２、Ｇ１及びＧ２は、それぞれ互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
Ｅ１及びＥ２はそれぞれ独立に、炭素数１～１７のアルカンジイル基を表し、ここで、アルカンジイル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－で置換されていてもよく、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－を複数有する場合は互いに隣接しない。Ｐ１及びＰ２は互いに独立に、重合性基又は水素原子を表し、少なくとも１つは重合性基である。
【0089】
Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立に、好ましくは、ハロゲン原子及び炭素数１～４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４－フェニレンジイル基、ハロゲン原子及び炭素数１～４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４－シクロヘキサンジイル基であり、より好ましくはメチル基で置換された１，４－フェニレンジイル基、無置換の１，４－フェニレンジイル基、又は無置換の１，４－ｔｒａｎｓ－シクロヘキサンジイル基であり、特に好ましくは無置換の１，４－フェニレンジイル基、又は無置換の１，４－ｔｒａｎｓ－シクロへキサンジイル基である。
また、複数存在するＧ１及びＧ２のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることが好ましく、また、Ｌ１又はＬ２に結合するＧ１及びＧ２のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることがより好ましい。
また、複数存在するＧ１及びＧ２のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることが好ましく、また、Ｌ１又はＬ２に結合するＧ１及びＧ２のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることがより好ましい。
【0090】
Ｌ１及びＬ２はそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数１～４のアルキレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｒａ１ＯＲａ２－、－Ｒａ３ＣＯＯＲａ４－、－Ｒａ５ＯＣＯＲａ６－、Ｒａ７ＯＣ＝ＯＯＲａ８－、－Ｎ＝Ｎ－、－ＣＲｃ＝ＣＲｄ－、又は－Ｃ≡Ｃ－である。ここで、Ｒａ１～Ｒａ８はそれぞれ独立に単結合、又は炭素数１～４のアルキレン基を表し、Ｒｃ及びＲｄは炭素数１～４のアルキル基又は水素原子を表す。Ｌ１及びＬ２はそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、－ＯＲａ２－１－、－ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＯＯＲａ４－１－、又はＯＣＯＲａ６－１－である。ここで、Ｒａ２－１、Ｒａ４－１、Ｒａ６－１はそれぞれ独立に単結合、－ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－のいずれかを表す。Ｌ１及びＬ２はそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、－Ｏ－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＯＯ－、－ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２－、又はＯＣＯ－である。
【0091】
Ｂ１及びＢ２はそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数１～４のアルキレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｒａ９ＯＲａ１０－、－Ｒａ１１ＣＯＯＲａ１２－、－Ｒａ１３ＯＣＯＲａ１４－、又はＲａ１５ＯＣ＝ＯＯＲａ１６－である。ここで、Ｒａ９～Ｒａ１６はそれぞれ独立に単結合、又は炭素数１～４のアルキレン基を表す。Ｂ１及びＢ２はそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、－ＯＲａ１０－１－、－ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＯＯＲａ１２－１－、又はＯＣＯＲａ１４－１－である。ここで、Ｒａ１０－１、Ｒａ１２－１、Ｒａ１４－１はそれぞれ独立に単結合、－ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－のいずれかを表す。Ｂ１及びＢ２はそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、－Ｏ－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＯＯ－、－ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２－、－ＯＣＯ－、又はＯＣＯＣＨ２ＣＨ２－である。
【0092】
ｋ及びｌは、逆波長分散性発現の観点から２≦ｋ＋ｌ≦６の範囲が好ましく、ｋ＋ｌ＝４であることが好ましく、ｋ＝２かつｌ＝２であることがより好ましい。ｋ＝２かつｌ＝２であると対称構造となるため好ましい。
【0093】
Ｅ１及びＥ２はそれぞれ独立に、炭素数１～１７のアルカンジイル基が好ましく、炭素数４～１２のアルカンジイル基がより好ましい。
【0094】
Ｐ１又はＰ２で表される重合性基としては、エポキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基、１－クロロビニル基、イソプロペニル基、４－ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、及びオキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。
【0095】
Ａｒは置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族複素環、及び電子吸引性基から選ばれる少なくとも一つを有することが好ましい。当該芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等が挙げられ、ベンゼン環、ナフタレン環が好ましい。当該芳香族複素環としては、フラン環、ベンゾフラン環、ピロール環、インドール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、トリアゾール環、トリアジン環、ピロリン環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、チエノチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、及びフェナンスロリン環等が挙げられる。なかでも、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、又はベンゾフラン環を有することが好ましく、ベンゾチアゾール基を有することがさらに好ましい。また、Ａｒに窒素原子が含まれる場合、当該窒素原子はπ電子を有することが好ましい。
【0096】
式（Ｉ）中、Ａｒで表される２価の芳香族基に含まれるπ電子の合計数Ｎπは８以上が好ましく、より好ましくは１０以上であり、さらに好ましくは１４以上であり、特に好ましくは１６以上である。また、好ましくは３０以下であり、より好ましくは２６以下であり、さらに好ましくは２４以下である。
【0097】
Ａｒで表される芳香族基としては、例えば以下の基が好適に挙げられる。
【0098】
【化2】
【0099】
式（Ａｒ－１）～式（Ａｒ－２３）中、＊印は連結部を表し、Ｚ０、Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１～１２のアルキルスルフィニル基、炭素数１～１２のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１～１２のフルオロアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、炭素数１～１２のアルキルチオ基、炭素数１～１２のＮ－アルキルアミノ基、炭素数２～１２のＮ，Ｎ－ジアルキルアミノ基、炭素数１～１２のＮ－アルキルスルファモイル基又は炭素数２～１２のＮ，Ｎ－ジアルキルスルファモイル基を表す。
【0100】
Ｑ１、Ｑ２及びＱ３は、それぞれ独立に、－ＣＲ２’Ｒ３’－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－ＮＲ２’－、－ＣＯ－又はＯ－を表し、Ｒ２’及びＲ３’は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基を表す。
【0101】
Ｊ１、及びＪ２は、それぞれ独立に、炭素原子、又は窒素原子を表す。
【0102】
Ｙ１、Ｙ２及びＹ３は、それぞれ独立に、置換されていてもよい芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表す。
【0103】
Ｗ１及びＷ２は、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、メチル基又はハロゲン原子を表し、ｍは０～６の整数を表す。
【0104】
Ｙ１、Ｙ２及びＹ３における芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基等の炭素数６～２０の芳香族炭化水素基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。芳香族複素環基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基等の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも１つ含む炭素数４～２０の芳香族複素環基が挙げられ、フリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基が好ましい。
【0105】
Ｙ１、Ｙ２及びＹ３は、それぞれ独立に、置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基又は多環系芳香族複素環基であってもよい。多環系芳香族炭化水素基は、縮合多環系芳香族炭化水素基、又は芳香環集合に由来する基をいう。多環系芳香族複素環基は、縮合多環系芳香族複素環基、又は芳香環集合に由来する基をいう。
【0106】
Ｚ０、Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１～１２のアルコキシ基であることが好ましく、Ｚ０は、水素原子、炭素数１～１２のアルキル基、シアノ基がさらに好ましく、Ｚ１及びＺ２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、シアノ基がさらに好ましい。
【0107】
Ｑ１、Ｑ２及びＱ３は、－ＮＨ－、－Ｓ－、－ＮＲ２’－、－Ｏ－が好ましく、Ｒ２’は水素原子が好ましい。中でも－Ｓ－、－Ｏ－、－ＮＨ－が特に好ましい。
【0108】
式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－２３）の中でも、式（Ａｒ－６）及び式（Ａｒ－７）が分子の安定性の観点から好ましい。
式（Ａｒ－１６）～（Ａｒ－２３）において、Ｙ１は、これが結合する窒素原子及びＺ０と共に、芳香族複素環基を形成していてもよい。芳香族複素環基としては、Ａｒが有していてもよい芳香族複素環として前記したものが挙げられるが、例えば、ピロール環、イミダゾール環、ピロリン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、インドール環、キノリン環、イソキノリン環、プリン環、ピロリジン環等が挙げられる。この芳香族複素環基は、置換基を有していてもよい。また、Ｙ１は、これが結合する窒素原子及びＺ０と共に、前述した置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基又は多環系芳香族複素環基であってもよい。例えば、ベンゾフラン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環等が挙げられる。
式（Ａｒ－１６）～（Ａｒ－２３）において、Ｙ１は、これが結合する窒素原子及びＺ０と共に、芳香族複素環基を形成していてもよい。芳香族複素環基としては、Ａｒが有していてもよい芳香族複素環として前記したものが挙げられるが、例えば、ピロール環、イミダゾール環、ピロリン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、インドール環、キノリン環、イソキノリン環、プリン環、ピロリジン環等が挙げられる。この芳香族複素環基は、置換基を有していてもよい。また、Ｙ１は、これが結合する窒素原子及びＺ０と共に、前述した置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基又は多環系芳香族複素環基であってもよい。例えば、ベンゾフラン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環等が挙げられる。
【0109】
重合性液晶化合物の中でも、極大吸収波長が３００～４００ｎｍである化合物が好ましい。重合性液晶組成物に光重合開始剤が含まれる場合、長期保管時に重合性液晶化合物の重合反応及びゲル化が進行するおそれがある。しかし、重合性液晶化合物の極大吸収波長が３００～４００ｎｍであれば保管中に紫外光が曝露されても、光重合開始剤からの反応活性種の発生及び該反応活性種による重合性液晶化合物の重合反応及びゲル化の進行を有効に抑制できる。従って、重合性液晶組成物の長期安定性の点で有利となり、得られる位相差膜の配向性及び膜厚の均一性を向上できる。なお、重合性液晶化合物の極大吸収波長は、溶媒中で紫外可視分光光度計を用いて測定できる。該溶媒は重合性液晶化合物を溶解し得る溶媒であり、例えばクロロホルム等が挙げられる。
【0110】
円盤状の重合性液晶化合物としては、例えば、式（Ｗ）で表される基を含む化合物（以下、「重合性液晶化合物（Ｗ）」ともいう。）が挙げられる。
［式（Ｗ）中、Ｒ４０は、下記式（Ｗ－１）～（Ｗ－５）を表す。］
［式（Ｗ－１）～（Ｗ－５）中、
Ｘ４０及びＺ４０は、それぞれ独立して、炭素数１～１２のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、炭素数１～５のアルコキシ基で置換されていてもよく、該アルコキシ基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。また、該アルカンジイル基を構成する－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
ｍ２は、整数を表す。］
【化3】
［式（Ｗ）中、Ｒ４０は、下記式（Ｗ－１）～（Ｗ－５）を表す。］
【化4】
［式（Ｗ－１）～（Ｗ－５）中、
Ｘ４０及びＺ４０は、それぞれ独立して、炭素数１～１２のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、炭素数１～５のアルコキシ基で置換されていてもよく、該アルコキシ基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。また、該アルカンジイル基を構成する－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
ｍ２は、整数を表す。］
【0111】
棒状の重合性液晶化合物としては、例えば式（ＩＩ）、式（ＩＩＩ）、式（ＩＶ）、式（Ｖ）、式（ＶＩ）又は式（ＶＩＩ）で表わされる化合物が挙げられる。
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-B16-E12-B17-P12 （ＩＩ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-F11 （ＩＩＩ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-E12-B17-P12 （ＩＶ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-F11 （Ｖ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-E12-B17-P12 （ＶＩ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-F11 （ＶＩＩ）
［式（ＩＩ）～（ＶＩＩ）中、
Ａ１１～Ａ１４は、それぞれ独立に、２価の脂環式炭化水素基又は２価の芳香族炭化水素基を表す。該２価の脂環式炭化水素基及び２価の芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、シアノ基又はニトロ基で置換されていてもよく、該炭素数１～６のアルキル基及び該炭素数１～６のアルコキシ基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。
Ｂ１１及びＢ１７は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＲ１６－、－ＮＲ１６－ＣＯ－、－ＣＯ－、－ＣＳ－、又は単結合を表す。Ｒ１６は、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｂ１２～Ｂ１６は、それぞれ独立に、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＨ２－ＣＨ２－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＣＨ＝Ｎ－、－Ｎ＝ＣＨ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ１６－、－ＮＲ１６－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＯＣＨ２－、－ＯＣＦ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＦ２Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－ＣＨ＝ＣＨ－又は単結合を表す。
Ｅ１１及びＥ１２は、それぞれ独立に、炭素数１～１２のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、炭素数１～５のアルコキシ基で置換されていてもよく、該アルコキシ基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。また、該アルカンジイル基を構成する－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
Ｆ１１は、水素原子、炭素数１～１３のアルキル基、炭素数１～１３のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジメチルアミノ基、ヒドロキシ基、メチロール基、ホルミル基、スルホ基（－ＳＯ３Ｈ）、カルボキシ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を表し、該アルキル基及びアルコキシ基を構成する－ＣＨ２－は、－Ｏ－に置き換っていてもよい。
Ｐ１１及びＰ１２は、それぞれ独立に、重合性基を表す。］
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-B16-E12-B17-P12 （ＩＩ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-F11 （ＩＩＩ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-E12-B17-P12 （ＩＶ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-F11 （Ｖ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-E12-B17-P12 （ＶＩ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-F11 （ＶＩＩ）
［式（ＩＩ）～（ＶＩＩ）中、
Ａ１１～Ａ１４は、それぞれ独立に、２価の脂環式炭化水素基又は２価の芳香族炭化水素基を表す。該２価の脂環式炭化水素基及び２価の芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、シアノ基又はニトロ基で置換されていてもよく、該炭素数１～６のアルキル基及び該炭素数１～６のアルコキシ基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。
Ｂ１１及びＢ１７は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＲ１６－、－ＮＲ１６－ＣＯ－、－ＣＯ－、－ＣＳ－、又は単結合を表す。Ｒ１６は、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｂ１２～Ｂ１６は、それぞれ独立に、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＨ２－ＣＨ２－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＣＨ＝Ｎ－、－Ｎ＝ＣＨ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ１６－、－ＮＲ１６－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＯＣＨ２－、－ＯＣＦ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＦ２Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－ＣＨ＝ＣＨ－又は単結合を表す。
Ｅ１１及びＥ１２は、それぞれ独立に、炭素数１～１２のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、炭素数１～５のアルコキシ基で置換されていてもよく、該アルコキシ基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。また、該アルカンジイル基を構成する－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
Ｆ１１は、水素原子、炭素数１～１３のアルキル基、炭素数１～１３のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジメチルアミノ基、ヒドロキシ基、メチロール基、ホルミル基、スルホ基（－ＳＯ３Ｈ）、カルボキシ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を表し、該アルキル基及びアルコキシ基を構成する－ＣＨ２－は、－Ｏ－に置き換っていてもよい。
Ｐ１１及びＰ１２は、それぞれ独立に、重合性基を表す。］
【0112】
位相差膜形成用組成物中の重合性液晶化合物の含有量は、位相差膜形成用組成物の固形分１００質量部に対して、例えば７０～９９．５質量部であり、好ましくは８０～９９質量部であり、より好ましくは８５～９８質量部であり、さらに好ましくは９０～９５質量部である。重合性液晶化合物の含有量が上記範囲内であれば、得られる位相差膜の配向性の観点から有利である。なお、本明細書において、重合性液晶組成物の固形分とは、重合性液晶組成物から有機溶剤等の揮発性成分を除いた全ての成分を意味する。
【0113】
（５－２）位相差膜形成用組成物
上記のとおり、位相差膜形成用組成物は、重合性液晶化合物を含む。位相差膜形成用組成物はさらに、溶剤、レベリング剤、重合開始剤、光増感剤、重合禁止剤、架橋剤、密着剤等の反応性添加剤を含んでいてもよく、溶剤、レベリング剤を含むことが加工性の観点から好ましい。
上記のとおり、位相差膜形成用組成物は、重合性液晶化合物を含む。位相差膜形成用組成物はさらに、溶剤、レベリング剤、重合開始剤、光増感剤、重合禁止剤、架橋剤、密着剤等の反応性添加剤を含んでいてもよく、溶剤、レベリング剤を含むことが加工性の観点から好ましい。
【0114】
位相差膜形成用組成物は溶剤を含有してよい。一般に重合性液晶化合物は粘度が高いため、溶剤に溶解させた位相差膜形成用組成物とすることで塗布が容易になり、結果として位相差膜の形成がし易くなる場合が多い。溶剤としては、重合性液晶化合物を完全に溶解し得るものが好ましく、また、重合性液晶化合物の重合反応に不活性な溶剤であることが好ましい。
【0115】
溶剤としては、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル及びプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ－ブチロラクトン又はプロピレングリコールメチルエーテルアセテート及び乳酸エチル等のエステル溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン及びメチルイソブチルケトン等のケトン溶剤；ペンタン、ヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素溶剤；トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリル等のニトリル溶剤；テトラヒドロフラン及びジメトキシエタン等のエーテル溶剤；クロロホルム及びクロロベンゼン等の塩素含有溶剤；ジメチルアセトアミド、ジメチルホルミアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等のアミド系溶剤等が挙げられる。これら溶剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【0116】
溶剤の含有量は、位相差膜形成用組成物の総量に対して５０～９８質量％が好ましい。換言すると、位相差膜形成用組成物における固形分の含有量は、２～５０質量％が好ましく、５～３０質量％がより好ましい。該固形分の含有量が５０質量％以下であると、位相差膜形成用組成物の粘度が低くなることから、位相差膜の厚みが略均一になることで、当該位相差膜にムラが生じにくくなる傾向がある。また、かかる固形分の含有量は、製造しようとする位相差膜の厚みを考慮して定めることができる。
【0117】
位相差膜形成用組成物には、レベリング剤を含有させてもよい。レベリング剤とは、組成物の流動性を調整し、組成物を塗布して得られる膜をより平坦にする機能を有する添加剤であり、例えば、有機変性シリコーン系、ポリアクリレート系及びパーフルオロアルキル系のレベリング剤が挙げられる。中でも、水平配向させる場合には、ポリアクリレート系レベリング剤及びパーフルオロアルキル系レベリング剤が好ましく、垂直配向させる場合には、有機変性シリコーン系レベリング剤及びパーフルオロアルキル系レベリング剤が好ましい。
【0118】
位相差膜形成用組成物がレベリング剤を含有する場合、その含有量は、重合性液晶化合物の含有量１００質量部に対して、好ましくは０．０１～５質量部、より好ましくは０．０５～３質量部である。レベリング剤の含有量が上記範囲内であると、重合性液晶化合物を水平配向させることが容易であり、かつ得られる位相差膜がより平滑となる傾向がある。重合性液晶化合物に対するレベリング剤の含有量が上記範囲を超えると、得られる位相差膜にムラが生じやすい傾向がある。なお、位相差膜形成用組成物は、レベリング剤を２種以上含有していてもよい。
【0119】
位相差膜形成用組成物は重合開始剤を含有していてもよい。重合開始剤は、重合性液晶化合物等の重合反応を開始し得る化合物である。重合開始剤としては、サーモトロピック液晶の相状態に依存しないという観点から、光の作用により活性ラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。
【0120】
光重合開始剤は、重合性液晶化合物の重合反応を開始し得る化合物であれば、公知の光重合開始剤を用いることができる。具体的には、光の作用により活性ラジカル又は酸を発生できる光重合開始剤が挙げられ、中でも、光の作用によりラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。光重合開始剤は単独または２種以上組み合わせて使用できる。
【0121】
光重合開始剤としては、公知の光重合開始剤を用いることができ、例えば、活性ラジカルを発生する光重合開始剤としては、自己開裂型のベンゾイン系化合物、アセトフェノン系化合物、ヒドロキシアセトフェノン系化合物、α－アミノアセトフェノン系化合物、オキシムエステル系化合物、アシルホスフィンオキサイド系化合物、アゾ系化合物等を使用でき、水素引き抜き型のベンゾフェノン系化合物、アルキルフェノン系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ベンジルケタール系化合物、ジベンゾスベロン系化合物、アントラキノン系化合物、キサントン系化合物、チオキサントン系化合物、ハロゲノアセトフェノン系化合物、ジアルコキシアセトフェノン系化合物、ハロゲノビスイミダゾール系化合物、ハロゲノトリアジン系化合物、トリアジン系化合物等を使用できる。酸を発生する光重合開始剤としては、ヨードニウム塩及びスルホニウム塩等を使用することができる。低温での反応効率に優れるという観点から自己開裂型の光重合開始剤が好ましく、特にアセトフェノン系化合物、ヒドロキシアセトフェノン系化合物、α－アミノアセトフェノン系化合物、オキシムエステル系化合物が好ましい。
【0122】
位相差膜形成用組成物中の重合開始剤の含有量は、重合性液晶化合物の種類及びその量に応じて適宜調節できるが、重合性液晶化合物の含有量１００質量部に対して、通常０．１～３０質量部、好ましくは０．５～１０質量部、より好ましくは０．５～８質量部である。重合開始剤の含有量が上記範囲内であると、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく重合を行うことができる。
【0123】
位相差膜形成用組成物は増感剤を含有してもよい。増感剤としては、光増感剤が好ましい。該増感剤としては、例えば、キサントン及びチオキサントン等のキサントン化合物（例えば、２，４－ジエチルチオキサントン、２－イソプロピルチオキサントン等）；アントラセン及びアルコキシ基含有アントラセン（例えば、ジブトキシアントラセン等）等のアントラセン化合物；フェノチアジン及びルブレン等が挙げられる。
【0124】
位相差膜形成用組成物が増感剤を含有する場合、位相差膜形成用組成物に含有される重合性液晶化合物の重合反応をより促進することができる。かかる増感剤の使用量は、重合性液晶化合物の含有量１００質量部に対して、０．１～３０質量部が好ましく、０．５～１０質量部がより好ましく、０．５～８質量部がさらに好ましい。
【0125】
重合反応を安定的に進行させる観点から、位相差膜形成用組成物は酸化防止剤を含有してもよい。酸化防止剤により、重合性液晶化合物の重合反応の進行度合いをコントロールすることができる。
【0126】
前記酸化防止剤としては、例えば、フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、キノン系酸化防止剤、ニトロソ系酸化防止剤から選ばれる一次酸化防止剤であってもよいし、リン系酸化防止剤および硫黄系酸化防止剤から選ばれる二次酸化防止剤であってもよい。
【0127】
位相差膜形成用組成物が酸化防止剤を含有する場合、酸化防止剤の含有量は、重合性液晶化合物の含有量１００質量部に対して、好ましくは０．１～３０質量部、より好ましくは０．５～１０質量部、さらに好ましくは０．５～８質量部である。酸化防止剤は単独又は２種以上を組み合わせて使用できる。酸化防止剤の含有量が、上記範囲内であると、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく重合を行うことができる。
【0128】
位相差膜形成用組成物は、反応性添加剤を含んでもよい。反応性添加剤としては、その分子内に炭素－炭素不飽和結合や活性水素反応性基やチオール基を有するものが好ましい。なお、ここでいう「活性水素反応性基」とは、カルボキシル基（－ＣＯＯＨ）、水酸基（－ＯＨ）、アミノ基（－ＮＨ２）等の活性水素を有する基に対して反応性を有する基を意味し、グリシジル基、オキサゾリン基、カルボジイミド基、アジリジン基、イミド基、イソシアネート基、チオイソシアネート基、無水マレイン酸基等がその代表例である。反応性添加剤が有する反応性基の個数は、通常、それぞれ１～２０個であり、好ましくはそれぞれ１～１０個である。
【0129】
（５－３）基材
位相差膜を形成するための上記基材としては、ガラス基材及びフィルム基材が挙げられ、フィルム基材が好ましい、連続的に製造できる点で長尺のロール状フィルムがより好ましい。フィルム基材を構成する樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等の鎖状ポリオレフィン；環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース及びセルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィド及びポリフェニレンオキシド；等が挙げられる。中でも光学フィルム用途で使用する際の透明性等の観点からトリアセチルセルロース、環状オレフィン系樹脂、ポリメタクリル酸エステル、ポリエチレンテレフタレートのいずれかから選ばれるフィルム基材がより好ましい。
位相差膜を形成するための上記基材としては、ガラス基材及びフィルム基材が挙げられ、フィルム基材が好ましい、連続的に製造できる点で長尺のロール状フィルムがより好ましい。フィルム基材を構成する樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等の鎖状ポリオレフィン；環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース及びセルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィド及びポリフェニレンオキシド；等が挙げられる。中でも光学フィルム用途で使用する際の透明性等の観点からトリアセチルセルロース、環状オレフィン系樹脂、ポリメタクリル酸エステル、ポリエチレンテレフタレートのいずれかから選ばれるフィルム基材がより好ましい。
【0130】
市販のセルロースエステル基材としては、“フジタックフィルム”（富士写真フイルム株式会社製）；“ＫＣ８ＵＸ２Ｍ”、“ＫＣ８ＵＹ”及び“ＫＣ４ＵＹ”（以上、コニカミノルタオプト株式会社製）等が挙げられる。
市販の環状オレフィン系樹脂としては、“Ｔｏｐａｓ”（登録商標）（Ｔｉｃｏｎａ社（独）製）、“アートン”（登録商標）（ＪＳＲ株式会社製）、“ゼオノア（ＺＥＯＮＯＲ）”（登録商標）、“ゼオネックス（ＺＥＯＮＥＸ）”（登録商標）（以上、日本ゼオン株式会社製）及び“アペル”（登録商標）（三井化学株式会社製）が挙げられる。このような環状オレフィン系樹脂を、溶剤キャスト法、溶融押出法等の公知の手段により製膜して、基材とすることができる。市販されている環状オレフィン系樹脂基材を用いることもできる。市販の環状オレフィン系樹脂基材としては、“エスシーナ”（登録商標）、“ＳＣＡ４０”（登録商標）（以上、積水化学工業株式会社製）、“ゼオノアフィルム”（登録商標）（オプテス株式会社製）及び“アートンフィルム”（登録商標）（ＪＳＲ株式会社製）が挙げられる。
市販の環状オレフィン系樹脂としては、“Ｔｏｐａｓ”（登録商標）（Ｔｉｃｏｎａ社（独）製）、“アートン”（登録商標）（ＪＳＲ株式会社製）、“ゼオノア（ＺＥＯＮＯＲ）”（登録商標）、“ゼオネックス（ＺＥＯＮＥＸ）”（登録商標）（以上、日本ゼオン株式会社製）及び“アペル”（登録商標）（三井化学株式会社製）が挙げられる。このような環状オレフィン系樹脂を、溶剤キャスト法、溶融押出法等の公知の手段により製膜して、基材とすることができる。市販されている環状オレフィン系樹脂基材を用いることもできる。市販の環状オレフィン系樹脂基材としては、“エスシーナ”（登録商標）、“ＳＣＡ４０”（登録商標）（以上、積水化学工業株式会社製）、“ゼオノアフィルム”（登録商標）（オプテス株式会社製）及び“アートンフィルム”（登録商標）（ＪＳＲ株式会社製）が挙げられる。
【0131】
基材の厚みは、実用的な取り扱いができる程度で薄い方が好ましいが、薄すぎると強度が低下し、加工性に劣る傾向がある。基材の厚みは、通常、５μｍ～３００μｍであり、好ましくは１０μｍ～２００μｍ、より好ましくは１０～５０μｍである。また、基材を剥離して位相差膜を転写することによって、さらなる薄膜化効果が得られる。
【0132】
（５－４）配向膜
本明細書において配向膜は、重合性液晶化合物を所望の方向に液晶配向させる、配向規制力を有するものである。
本明細書において配向膜は、重合性液晶化合物を所望の方向に液晶配向させる、配向規制力を有するものである。
【0133】
配向膜は、重合性液晶化合物の液晶配向を容易にする。水平配向、垂直配向、ハイブリッド配向、傾斜配向等の液晶配向の状態は、配向膜及び重合性液晶化合物の性質によって変化し、その組み合わせは任意に選択することができる。例えば、配向膜が配向規制力として水平配向を発現させる材料であれば、重合性液晶化合物は水平配向又はハイブリッド配向を形成することができ、垂直配向を発現させる材料であれば、重合性液晶化合物は垂直配向又は傾斜配向を形成することができる。水平、垂直等の表現は、位相差膜平面を基準とした場合の、配向した重合性液晶化合物の光軸の方向を表す。例えば、垂直配向とは位相差膜平面に対して垂直な方向に、配向した重合性液晶化合物の光軸を有することである。ここでいう垂直とは、位相差膜平面に対して９０°±２０°のことを意味する。
【0134】
配向規制力は、配向膜が配向性ポリマーから形成されている場合は、表面状態やラビング条件によって任意に調整することが可能であり、光配向性ポリマーから形成されている場合は、偏光照射条件等によって任意に調整することが可能である。また、重合性液晶化合物の、表面張力や液晶性等の物性を選択することにより、液晶配向を制御することもできる。
【0135】
基材と位相差膜との間に形成される配向膜としては、配向膜上に位相差膜を形成する際に使用される溶剤に不溶であり、また、溶剤の除去や液晶の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。配向膜としては、配向性ポリマーからなる配向膜、光配向膜及びグルブ（ｇｒｏｏｖｅ）配向膜、配向方向に延伸してある延伸フィルム等が挙げられ、長尺のロール状フィルムに適用する場合には、配向方向を容易に制御できる点で、光配向膜が好ましい。
【0136】
配向膜の厚みは、通常１０ｎｍ～５０００ｎｍの範囲であり、好ましくは１０ｎｍ～１０００ｎｍの範囲であり、より好ましくは３０～３００ｎｍである。
【0137】
ラビング配向膜に用いられる配向性ポリマーとしては、分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子内にイミド結合を有するポリイミド及びその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸及びポリアクリル酸エステル類等が挙げられる。中でも、ポリビニルアルコールが好ましい。これらの配向性ポリマーは、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【0138】
ラビングする方法としては、ラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールに、配向性ポリマー組成物を基材に塗布しアニールすることで基材表面に形成された配向性ポリマーの膜を、接触させる方法が挙げられる。
【0139】
光配向膜は、光反応性基を有するポリマーやオリゴマー又はモノマーからなる。光配向膜は、偏光を照射することで配向規制力が得られる。照射する偏光の偏光方向を選択することにより、配向規制力の方向を任意に制御できる点で光配向膜がより好ましい。
【0140】
光反応性基とは、光を照射することにより液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光を照射することで生じる分子の配向誘起又は異性化反応、二量化反応、光架橋反応、又は光分解反応のような、液晶配向能の起源となる光反応を生じるものである。当該光反応性基の中でも、二量化反応又は光架橋反応を起こすものが、配向性に優れる点で好ましい。以上のような反応を生じうる光反応性基としては、不飽和結合、特に二重結合を有するものが好ましく、炭素－炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素－窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素－窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）、及び炭素－酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基がより好ましい。
【0141】
Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては例えば、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾール基、スチルバゾリウム基、カルコン基及びシンナモイル基等が挙げられる。反応性の制御が容易であるという点や光配向時の配向規制力発現の観点から、カルコン基及びシンナモイル基が好ましい。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、芳香族シッフ塩基及び芳香族ヒドラゾン等の構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基及びホルマザン基等や、アゾキシベンゼンを基本構造とするものが挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基及びマレイミド基等が挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基及びハロゲン化アルキル基等の置換基を有していてもよい。
【0142】
偏光を照射するには、膜面から直接偏光を照射する形式でも、基材側から偏光を照射し、偏光を透過させて照射する形式でもよい。また、当該偏光は、実質的に平行光であることが特に好ましい。照射する偏光の波長は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収し得る波長領域のものがよい。具体的には、波長２５０～４００ｎｍの範囲のＵＶ（紫外光）が特に好ましい。当該偏光照射に用いる光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦ、ＡｒＦ等の紫外光レーザー等が挙げられ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプおよびメタルハライドランプがより好ましい。これらのランプは、波長３１３ｎｍの紫外光の発光強度が大きいため好ましい。前記光源からの光を、適当な偏光子を通過して照射することにより、偏光を照射することができる。かかる偏光子としては、偏光フィルターやグラントムソン、グランテーラー等の偏光プリズムやワイヤーグリッドタイプの偏光子を用いることができる。
【0143】
（６）粘接着剤層
第１粘接着剤層４１は、第１保護層１０と偏光子５との貼合のために必要に応じて設けられる層である。第２粘接着剤層４２は、偏光子５と第２保護層２０との貼合のために必要に応じて設けられる層である。光学積層体は、第１粘接着剤層４１及び第２粘接着剤層４２を含むことが好ましい。第３粘接着剤層４３は、第２保護層２０と位相子３０との貼合のために設けられる層である。光学積層体は、第３粘接着剤層４３を含むことが好ましい。
第１粘接着剤層４１は、第１保護層１０と偏光子５との貼合のために必要に応じて設けられる層である。第２粘接着剤層４２は、偏光子５と第２保護層２０との貼合のために必要に応じて設けられる層である。光学積層体は、第１粘接着剤層４１及び第２粘接着剤層４２を含むことが好ましい。第３粘接着剤層４３は、第２保護層２０と位相子３０との貼合のために設けられる層である。光学積層体は、第３粘接着剤層４３を含むことが好ましい。
【0144】
第１粘接着剤層４１、第２粘接着剤層４２及び第３粘接着剤層４３はそれぞれ、粘着剤層であってもよいし、接着剤層であってもよい。粘着剤層は粘着剤組成物（感圧式接着剤組成物）から形成される層であり、接着剤層は接着剤組成物から形成される層である。第１粘接着剤層４１及び第２粘接着剤層４２は、好ましくは接着剤層である。第３粘接着剤層４３は、好ましくは粘着剤層である。
【0145】
（６－１）接着剤層
接着剤層を形成する接着剤組成物としては、例えば、水系接着剤組成物、加熱又は紫外線、可視光、電子線、Ｘ線等の活性エネルギー線の照射により硬化する硬化性接着剤組成物等が挙げられる。水系接着剤組成物としては、例えば、主成分としてポリビニルアルコール系樹脂又はウレタン樹脂を水に溶解したもの、主成分としてポリビニルアルコール系樹脂又はウレタン樹脂を水に分散させたものが挙げられる。水系接着剤組成物は、さらに、多価アルデヒド、メラミン系化合物、ジルコニア化合物、亜鉛化合物、グリオキサール化合物、水溶性エポキシ樹脂等の硬化性成分や架橋剤を含有していてもよい。水系接着剤組成物としては、例えば、特開２０１０－１９１３８９号公報に記載の接着剤組成物、特開２０１１－１０７６８６号公報に記載の接着剤組成物、特開２０２０－１７２０８８号公報に記載の組成物、特開２００５－２０８４５６号公報に記載の組成物等が挙げられる。
接着剤層を形成する接着剤組成物としては、例えば、水系接着剤組成物、加熱又は紫外線、可視光、電子線、Ｘ線等の活性エネルギー線の照射により硬化する硬化性接着剤組成物等が挙げられる。水系接着剤組成物としては、例えば、主成分としてポリビニルアルコール系樹脂又はウレタン樹脂を水に溶解したもの、主成分としてポリビニルアルコール系樹脂又はウレタン樹脂を水に分散させたものが挙げられる。水系接着剤組成物は、さらに、多価アルデヒド、メラミン系化合物、ジルコニア化合物、亜鉛化合物、グリオキサール化合物、水溶性エポキシ樹脂等の硬化性成分や架橋剤を含有していてもよい。水系接着剤組成物としては、例えば、特開２０１０－１９１３８９号公報に記載の接着剤組成物、特開２０１１－１０７６８６号公報に記載の接着剤組成物、特開２０２０－１７２０８８号公報に記載の組成物、特開２００５－２０８４５６号公報に記載の組成物等が挙げられる。
【0146】
硬化性接着剤組成物は、主成分として硬化性（重合性）化合物を含み、活性エネルギー線照射により硬化する活性エネルギー線硬化型接着剤組成物であることが好ましい。活性エネルギー線硬化型接着剤組成物としては、硬化性化合物としてカチオン重合性化合物を含むカチオン重合型接着剤組成物、硬化性化合物としてラジカル重合性化合物を含むラジカル重合型接着剤組成物、硬化性化合物としてカチオン重合性化合物とラジカル重合性化合物との両方を含むハイブリッド型接着剤組成物等が挙げられる。
【0147】
カチオン重合性化合物は、紫外線、可視光、電子線、Ｘ線等の活性エネルギー線の照射や加熱によりカチオン重合反応が進行して硬化する化合物又はオリゴマーであり、具体的にはエポキシ化合物、オキセタン化合物、ビニル化合物等が挙げられる。
エポキシ化合物としては、３’，４’－エポキシシクロヘキシルメチル ３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等の脂環式エポキシ化合物（脂環式環に結合したエポキシ基を分子内に１個以上有する化合物）；ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル等の芳香族エポキシ化合物（分子内に芳香族環とエポキシ基とを有する化合物）；２－エチルヘキシルグリシジルエーテル、１，４－ブタンジオールジグリシジルエーテル等の脂肪族エポキシ化合物（脂肪族炭素原子に結合するオキシラン環を分子内に少なくとも１個有する化合物）等が挙げられる。
エポキシ化合物としては、３’，４’－エポキシシクロヘキシルメチル ３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等の脂環式エポキシ化合物（脂環式環に結合したエポキシ基を分子内に１個以上有する化合物）；ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル等の芳香族エポキシ化合物（分子内に芳香族環とエポキシ基とを有する化合物）；２－エチルヘキシルグリシジルエーテル、１，４－ブタンジオールジグリシジルエーテル等の脂肪族エポキシ化合物（脂肪族炭素原子に結合するオキシラン環を分子内に少なくとも１個有する化合物）等が挙げられる。
【0148】
オキセタン化合物としては、３－エチル－３－｛［（３－エチルオキセタン－３－イル）メトキシ］メチル｝オキセタン等の分子内に１個以上のオキセタン環を有する化合物が挙げられる。
【0149】
カチオン重合型接着剤組成物は、カチオン重合開始剤を含むことが好ましい。カチオン重合開始剤は熱カチオン重合開始剤であってもよいし、光カチオン重合開始剤であってもよい。カチオン重合開始剤としては、ベンゼンジアゾニウム ヘキサフルオロアンチモネート等の芳香族ジアゾニウム塩；ジフェニルヨードニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等の芳香族ヨードニウム塩；トリフェニルスルホニウム ヘキサフルオロホスフェート等の芳香族スルホニウム塩；キシレン－シクロペンタジエニル鉄（ＩＩ）ヘキサフルオロアンチモネート等の鉄－アレーン錯体等が挙げられる。カチオン重合開始剤の含有量は、カチオン重合性化合物１００質量部に対して通常０．１～１０質量部である。カチオン重合開始剤は２種以上含んでいてもよい。
【0150】
カチオン重合型接着剤組成物としては、例えば、特開２０１６－１２６３４５号公報、国際公開第２０１９／１０３１５号公報、特開２０２１－１１３９６９号公報に記載のカチオン重合性組成物等が挙げられる。
【0151】
ラジカル重合性化合物は、紫外線、可視光、電子線、Ｘ線等の活性エネルギー線の照射や加熱によりラジカル重合反応が進行して硬化する化合物又はオリゴマーであり、具体的にはエチレン性不飽和結合を有する化合物が挙げられる。エチレン性不飽和結合を有する化合物としては、分子内に１個以上の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリル系化合物、分子内に１個以上のビニル基を有するビニル化合物等が挙げられる。
【0152】
（メタ）アクリル系化合物としては、分子内に少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する（メタ）アクリレートモノマー、（メタ）アクリルアミドモノマー、及び、官能基含有化合物を２種以上反応させて得られ、分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリルオリゴマー等の（メタ）アクリロイル基含有化合物を挙げることができる。
【0153】
ラジカル重合型接着剤組成物は、ラジカル重合開始剤を含むことが好ましい。ラジカル重合開始剤は熱ラジカル重合開始剤であってもよいし、光ラジカル重合開始剤であってもよい。ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン、３－メチルアセトフェノン等のアセトフェノン系開始剤；ベンゾフェノン、４－クロロベンゾフェノン、４，４’－ジアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン系開始剤；ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル等のベンゾインエーテル系開始剤；４－イソプロピルチオキサントン等のチオキサントン系開始剤；キサントン、フルオレノン等が挙げられる。ラジカル重合開始剤の含有量は、ラジカル重合性化合物１００質量部に対して通常０．１～１０質量部である。ラジカル重合開始剤は２種以上含んでいてもよい。
【0154】
ラジカル重合型接着剤組成物としては、例えば、特開２０１６－１２６３４５号公報、特開２０１６－１５３４７４号公報、国際公開第２０１７／１８３３３５号に記載のラジカル重合性組成物等が挙げられる。
【0155】
活性エネルギー線硬化型接着剤組成物は、必要に応じて、イオントラップ剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、粘着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動調整剤、可塑剤、消泡剤、帯電防止剤、レベリング剤、溶媒等の添加剤を含有することができる。
【0156】
接着剤層による二層の貼合は、二層それぞれの貼合面から選ばれる少なくとも一方の貼合面に接着剤組成物を塗工し、接着剤組成物の塗工層を介して両者を重ね、貼合ロール等を用いて上下から押圧して貼合後、接着剤層を乾燥させる、活性エネルギー線を照射して硬化させる、又は加熱して硬化させることにより行うことができる。
【0157】
接着剤層の塗工層を形成する前に、二層それぞれの貼合面から選ばれる少なくとも一方の貼合面に、ケン化処理、コロナ処理、プラズマ処理、プライマー処理、アンカーコーティング処理等の易接着処理を施してもよい。
接着剤組成物の塗工層の形成には、ダイコーター、カンマコーター、グラビアコーター、ワイヤーバーコーター、ドクターブレードコーター等の種々の塗工方式を使用することができる。
接着剤組成物の塗工層の形成には、ダイコーター、カンマコーター、グラビアコーター、ワイヤーバーコーター、ドクターブレードコーター等の種々の塗工方式を使用することができる。
【0158】
活性エネルギー線を照射する場合の光照射強度は、活性エネルギー線硬化型接着剤組成物の組成ごとに決定されるものであって特に限定されないが、１０ｍＷ／ｃｍ２以上１，０００ｍＷ／ｃｍ２以下であることが好ましい。なお、照射強度は、好ましくは光カチオン重合開始剤又は光ラジカル重合開始剤の活性化に有効な波長領域における強度である。このような光照射強度で１回あるいは複数回照射して、その積算光量を、１０ｍＪ／ｃｍ２以上とすることが好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ２以上１，０００ｍＪ／ｃｍ２以下とすることがより好ましい。
【0159】
活性エネルギー線硬化型接着剤組成物の重合硬化を行うために使用する光源は、特に限定されないが、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、ハロゲンランプ、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプが挙げられる。
【0160】
水系接着剤組成物から形成される接着剤層の厚みは、例えば５μｍ以下であってよく、１μｍ以下であることが好ましく、０．５μｍ以下であることがより好ましく、０．０１μｍ以上であってよく、０．０５μｍ以上であることが好ましい。
活性エネルギー線硬化型接着剤組成物から形成される接着剤層の厚みは、例えば、１０μｍ以下であってよく、５μｍ以下であることが好ましく、３μｍ以下であることがより好ましく、０．１μｍ以上であってもよく、０．５μｍ以上であることが好ましく、１μｍ以上であることがより好ましい。
活性エネルギー線硬化型接着剤組成物から形成される接着剤層の厚みは、例えば、１０μｍ以下であってよく、５μｍ以下であることが好ましく、３μｍ以下であることがより好ましく、０．１μｍ以上であってもよく、０．５μｍ以上であることが好ましく、１μｍ以上であることがより好ましい。
【0161】
（６－２）粘着剤層
粘着剤層を形成する粘着剤組成物としては、従来公知の光学的な透明性に優れる粘着剤組成物を特に制限なく用いることができ、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリビニルエーテル系樹脂などのベースポリマーを有する粘着剤組成物を用いることができる。また、活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物、熱硬化型粘着剤組成物などであってもよい。これらの中でも、透明性、粘着力、再剥離性、耐候性、耐熱性などに優れる（メタ）アクリル系樹脂をベースポリマーとした粘着剤組成物が好適である。
粘着剤組成物は、さらに、架橋剤、シラン化合物、帯電防止剤等を含んでいてもよい。
粘着剤層を形成する粘着剤組成物としては、従来公知の光学的な透明性に優れる粘着剤組成物を特に制限なく用いることができ、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリビニルエーテル系樹脂などのベースポリマーを有する粘着剤組成物を用いることができる。また、活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物、熱硬化型粘着剤組成物などであってもよい。これらの中でも、透明性、粘着力、再剥離性、耐候性、耐熱性などに優れる（メタ）アクリル系樹脂をベースポリマーとした粘着剤組成物が好適である。
粘着剤組成物は、さらに、架橋剤、シラン化合物、帯電防止剤等を含んでいてもよい。
【0162】
［（メタ）アクリル系樹脂］
粘着剤組成物に含まれる（メタ）アクリル系樹脂は、下記式（ＶＩＩＩ）で示される（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位（以下、「構成単位（ＶＩＩＩ）」ともいう。）を主成分（例えば、（メタ）アクリル系樹脂の構成単位１００質量部に対して５０質量部以上含む。）とする重合体（以下、「（メタ）アクリル酸エステル重合体」ともいう。）であることが好ましい。
［式（ＶＩＩＩ）中、Ｒ１０は、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２０は、炭素数１～２０のアルキル基を表し、前記アルキル基は直鎖状、分岐状又は環状のいずれの構造を有していてもよく、前記アルキル基の水素原子は、炭素数１～１０のアルコキシ基で置き換わっていてもよい。］
粘着剤組成物に含まれる（メタ）アクリル系樹脂は、下記式（ＶＩＩＩ）で示される（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位（以下、「構成単位（ＶＩＩＩ）」ともいう。）を主成分（例えば、（メタ）アクリル系樹脂の構成単位１００質量部に対して５０質量部以上含む。）とする重合体（以下、「（メタ）アクリル酸エステル重合体」ともいう。）であることが好ましい。
【化5】
［式（ＶＩＩＩ）中、Ｒ１０は、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２０は、炭素数１～２０のアルキル基を表し、前記アルキル基は直鎖状、分岐状又は環状のいずれの構造を有していてもよく、前記アルキル基の水素原子は、炭素数１～１０のアルコキシ基で置き換わっていてもよい。］
【0163】
式（ＶＩＩＩ）で表される（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、ｉ－プロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、ｉ－ブチル（メタ）アクリレート、ｎ－ペンチル（メタ）アクリレート、ｎ－へキシル（メタ）アクリレート、ｉ－へキシル（メタ）アクリレート、ｎ－ヘプチル（メタ）アクリレート、ｎ－オクチル（メタ）アクリレート、ｉ－オクチル（メタ）アクリレート、２－エチルへキシル（メタ）アクリレート、ｎ－及びｉ－ノニル（メタ）アクリレート、ｎ－デシル（メタ）アクリレート、ｉ－デシル（メタ）アクリレート、ｎ－ドデシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ｔ－ブチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。アルコキシ基含有アルキルアクリレートの具体例としては、２－メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシメチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。中でもｎ－ブチル（メタ）アクリレートまたは２－エチルへキシル（メタ）アクリレートを含むことが好ましく、特にｎ－ブチル（メタ）アクリレートを含むことが好ましい。
【0164】
（メタ）アクリル酸エステル重合体は、構成単位（ＶＩＩＩ）以外の他の単量体に由来する構成単位を含んでいてもよい。他の単量体に由来する構成単位は、１種であってもよいし、２種以上であってもよい。（メタ）アクリル酸エステル重合体が含み得る他の単量体としては、極性官能基を有する単量体、芳香族基を有する単量体、（メタ）アクリルアミド系単量体が挙げられる。
【0165】
極性官能基を有する単量体としては、極性官能基を有する（メタ）アクリレートが挙げられる。極性官能基としては、ヒドロキシ基；カルボキシ基；炭素数１～６のアルキル基で置換された置換アミノ基又は無置換アミノ基；エポキシ基などの複素環基等が挙げられる。
【0166】
（メタ）アクリル酸エステル重合体中の極性官能基を有する単量体に由来する構成単位の含有量は、（メタ）アクリル酸エステル重合体の全構成単位１００質量部に対して、好ましくは１０質量部以下、より好ましくは０．５質量部以上１０質量部以下、さらに好ましくは０．５質量部以上５質量部以下、特に好ましくは１質量部以上５質量部以下である。
【0167】
芳香族基を有する単量体としては、分子内に１個の（メタ）アクリロイル基と１個以上の芳香環（例えば、ベンゼン環、ナフタレン環など）を有し、フェニル基、フェノキシエチル基、又はベンジル基を有する（メタ）アクリル酸エステルが挙げられる。これらの構成単位を含むことで、高温、高湿環境において発生する偏光板の白抜け現象を抑制することができる。
【0168】
（メタ）アクリル酸エステル重合体中の芳香族基を有する単量体に由来する構成単位の含有量は、（メタ）アクリル酸エステル重合体の全構成単位１００質量部に対して、好ましくは２０質量部以下、より好ましくは４質量部以上２０質量部以下、さらに好ましくは４質量部以上１５質量部以下である。
【0169】
（メタ）アクリルアミド系単量体としては、Ｎ－（メトキシメチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ－（エトキシメチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ－（プロポキシメチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ－（ブトキシメチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ－（２－メチルプロポキシメチル）（メタ）アクリルアミドなどが挙げられる。これらの構成単位を含むことで、後述する帯電防止剤等の添加物のブリードアウトを抑制することができる。
【0170】
さらに、構成単位（ＶＩＩＩ）以外の他の単量体に由来する構成単位として、スチレン系単量体に由来する構成単位、ビニル系単量体に由来する構成単位、分子内に複数の（メタ）アクリロイル基を有する単量体に由来する構成単位、などが含まれていてもよい。
【0171】
（メタ）アクリル系樹脂の重量平均分子量（以下、単に「Ｍｗ」ともいう。）は、５０万～２５０万であることが好ましい。重量平均分子量が５０万以上であると、高温、高湿の環境下における粘着剤層の耐久性を向上させることができる。重量平均分子量が２５０万以下であると、粘着剤組成物を含有する塗工液を塗工する際の操作性が良好となる。重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（以下、単に「Ｍｎ」ともいう。）との比で表される分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、通常２～１０である。本明細書において「重量平均分子量」及び「数平均分子量」とは、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により測定されるポリスチレン換算値である。
【0172】
（メタ）アクリル系樹脂は、酢酸エチルに溶解させて濃度２０質量％の溶液としたとき、２５℃における粘度が、２０Ｐａ・ｓ以下であることが好ましく、０．１～１５Ｐａ・ｓであることがより好ましい。（メタ）アクリル樹脂の２５℃における粘度が前記範囲内であると、前記樹脂により形成された粘着剤層を含む光学積層体の耐久性の向上や、リワーク性に寄与する。前記粘度は、ブルックフィールド粘度計によって測定できる。
【0173】
（メタ）アクリル系樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、例えば－６０～２０℃、好ましくは－５０～１５℃、より好ましくは－４５～１０℃、さらに好ましくは－４０～０℃である。なお、ガラス転移温度は示差走査熱量計（ＤＳＣ）により測定できる。
【0174】
（メタ）アクリル系樹脂は、２種以上の（メタ）アクリル酸エステル重合体を含んでもよい。そのような（メタ）アクリル酸エステル重合体としては、重量平均分子量が５０万～２５０万である上述の（メタ）アクリル酸エステル重合体よりも重量平均分子量が小さいものが挙げられ、より具体的には、（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位（ＶＩＩＩ）を主成分とするものであって、重量平均分子量が５万～３０万の範囲にある比較的低分子量の（メタ）アクリル酸エステル重合体が挙げられる。
【0175】
（メタ）アクリル系樹脂は、通常、溶液重合法、塊状重合法、懸濁重合法、乳化重合法等の公知の重合方法によって製造することができる。（メタ）アクリル系樹脂の製造においては、通常、重合開始剤の存在下に重合が行われる。重合開始剤の使用量は、（メタ）アクリル系樹脂を構成する全ての単量体の合計１００質量部に対して、通常０．００１～５質量部である。（メタ）アクリル系樹脂は、紫外線などの活性エネルギー線によって重合する方法により製造することもできる。
【0176】
［架橋剤］
粘着剤組成物は、架橋剤を含むことが好ましい。架橋剤としては、慣用の架橋剤（例えば、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、アジリジン化合物、金属キレート化合物、過酸化物など）が挙げられ、特に粘着剤組成物のポットライフ、架橋速度、及び光学積層体の耐久性などの観点から、イソシアネート系化合物であることが好ましい。
粘着剤組成物は、架橋剤を含むことが好ましい。架橋剤としては、慣用の架橋剤（例えば、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、アジリジン化合物、金属キレート化合物、過酸化物など）が挙げられ、特に粘着剤組成物のポットライフ、架橋速度、及び光学積層体の耐久性などの観点から、イソシアネート系化合物であることが好ましい。
【0177】
イソシアネート化合物は、分子内に少なくとも２個のイソシアナト基（－ＮＣＯ）を有する化合物である。具体的には、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネートなどが挙げられる。また、これらのイソシアネート化合物と、グリセロールやトリメチロールプロンなどのポリオールを反応させて得られるアダクト体や、これらイソシアネート化合物の二量体や三量体も挙げられる。２種以上のイソシアネート化合物を組み合わせてもよい。
【0178】
架橋剤の割合は、（メタ）アクリル系樹脂１００質量部に対して、例えば０．０１～１０質量部、好ましくは０．０５～５質量部、さらに好ましくは０．１～１質量部である。
【0179】
［シラン化合物］
粘着剤組成物は、さらにシラン化合物を含有していてもよい。
シラン化合物としては、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２－メトキシエトキシ）シラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルエトキシジメチルシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３－クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３－クロロプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
また、シラン化合物は、上記シラン化合物に由来するオリゴマーを含むことができる。
粘着剤組成物は、さらにシラン化合物を含有していてもよい。
シラン化合物としては、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２－メトキシエトキシ）シラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルエトキシジメチルシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３－クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３－クロロプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
また、シラン化合物は、上記シラン化合物に由来するオリゴマーを含むことができる。
【0180】
粘着剤組成物におけるシラン化合物の含有量は、（メタ）アクリル系樹脂１００質量部に対して、通常０．０１～１０質量部であり、好ましくは０．０５～５質量部である。シラン化合物の含有量が０．０１質量部以上であると、粘着剤層と被着体との密着性が向上する傾向にあり、含有量が１０質量部以下であると、粘着剤層からのシラン化合物がブリードアウトすることが抑制される傾向にある。
【0181】
［帯電防止剤］
粘着剤組成物は、帯電防止剤をさらに含んでもよい。帯電防止剤としては、公知のものが挙げられ、イオン性帯電防止剤が好適である。イオン性帯電防止剤を構成するカチオン成分としては、有機カチオン及び無機カチオンが挙げられる。有機カチオンとしては、ピリジニウムカチオン、イミダゾリウムカチオン、アンモニウムカチオン、スルホニウムカチオン、ホスホニウムカチオンなどが挙げられる。無機カチオンとしては、リチウムカチオン、カリウムカチオン、ナトリウムカチオン、セシウムカチオンなどのアルカリ金属カチオン、マグネシウムカチオン、カルシウムカチオンなどのアルカリ土類金属カチオンなどが挙げられる。イオン性帯電防止剤を構成するアニオン成分としては、無機アニオン及び有機アニオンのいずれでもよいが、帯電防止性能に優れるという点で、フッ素原子を含むアニオン成分が好ましい。フッ素原子を含むアニオン成分としては、ヘキサフルオロホスフェートアニオン（ＰＦ６ －）、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドアニオン［（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ－］、ビス（フルオロスルホニル）イミドアニオン［（ＦＳＯ２）２Ｎ－］アニオン、テトラキスペンタフルオロフェニルボレートアニオン［（Ｃ６Ｆ５）４Ｂ－］などが挙げられる。
粘着剤組成物の帯電防止性能の経時安定性に優れるという点で、室温で固体であるイオン性帯電防止剤が好ましい。
帯電防止剤の含有量は、（メタ）アクリル系樹脂１００質量部に対して、例えば０．０１～２０質量部、好ましくは０．１～１０質量部、さらに好ましくは１～７質量である。
粘着剤組成物は、帯電防止剤をさらに含んでもよい。帯電防止剤としては、公知のものが挙げられ、イオン性帯電防止剤が好適である。イオン性帯電防止剤を構成するカチオン成分としては、有機カチオン及び無機カチオンが挙げられる。有機カチオンとしては、ピリジニウムカチオン、イミダゾリウムカチオン、アンモニウムカチオン、スルホニウムカチオン、ホスホニウムカチオンなどが挙げられる。無機カチオンとしては、リチウムカチオン、カリウムカチオン、ナトリウムカチオン、セシウムカチオンなどのアルカリ金属カチオン、マグネシウムカチオン、カルシウムカチオンなどのアルカリ土類金属カチオンなどが挙げられる。イオン性帯電防止剤を構成するアニオン成分としては、無機アニオン及び有機アニオンのいずれでもよいが、帯電防止性能に優れるという点で、フッ素原子を含むアニオン成分が好ましい。フッ素原子を含むアニオン成分としては、ヘキサフルオロホスフェートアニオン（ＰＦ６ －）、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドアニオン［（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ－］、ビス（フルオロスルホニル）イミドアニオン［（ＦＳＯ２）２Ｎ－］アニオン、テトラキスペンタフルオロフェニルボレートアニオン［（Ｃ６Ｆ５）４Ｂ－］などが挙げられる。
粘着剤組成物の帯電防止性能の経時安定性に優れるという点で、室温で固体であるイオン性帯電防止剤が好ましい。
帯電防止剤の含有量は、（メタ）アクリル系樹脂１００質量部に対して、例えば０．０１～２０質量部、好ましくは０．１～１０質量部、さらに好ましくは１～７質量である。
【0182】
粘着剤組成物は、紫外線吸収剤、溶媒、架橋触媒、粘着付与樹脂（タッキファイヤー）、可塑剤等の添加剤を単独又は２種以上含むことができる。また、粘着剤組成物に紫外線硬化性化合物を配合し、粘着剤層を形成した後に紫外線を照射して硬化させ、より硬い粘着剤層とすることも有用である。
【0183】
粘着剤層は、例えば、前記粘着剤組成物を、溶剤に溶解又は分散して溶剤含有の粘着剤組成物とし、次いで、これを、基材又は粘着剤層を設ける層の表面に塗布し、乾燥させることで形成できる。
【0184】
粘着剤層の厚みは、通常０．１～３０μｍ、好ましくは３～３０μｍ、より好ましくは５～２５μｍである。
【0185】
（７）粘着剤層
光学積層体は、位相子３０における第２保護層２０とは反対側に積層される粘着剤層５０を備えることができる。粘着剤層５０については、上記（６－２）粘着剤層の記載が引用される。
光学積層体は、位相子３０における第２保護層２０とは反対側に積層される粘着剤層５０を備えることができる。粘着剤層５０については、上記（６－２）粘着剤層の記載が引用される。
【0186】
位相差変化量の面内バラツキを抑制する観点から、粘着剤層５０の温度８５℃における貯蔵弾性率Ｇ’は、好ましくは０．００５ＭＰａ以上、より好ましくは０．０１ＭＰａ以上、さらに好ましくは０．０１５ＭＰａ以上である。貯蔵弾性率Ｇ’は、通常０．１ＭＰａ以下であり、０．０８ＭＰａ以下であってもよい。貯蔵弾性率Ｇ’は、［実施例］の項の記載に従って測定することができる。
【0187】
粘着剤層５０の厚みは、通常５μｍ以上、好ましくは１０μｍ以上である。粘着剤層５０の厚みは、通常３５μｍ以下、好ましくは３０μｍ以下である。
【0188】
（８）積層体α
光学積層体が上記粘着剤層５０を備える場合において、偏光子５における位相子３０側の面に隣接する層から粘着剤層５０における位相子３０側の面に隣接する層までの積層体を、本明細書では「積層体α」と称する。例えば図２に示される光学積層体において、積層体αは、第２粘接着剤層４２と第２保護層２０と第３粘接着剤層４３と位相子３０との積層体である。
図２に示される光学積層体において、偏光子５における位相子３０側の面に隣接する層は、第２粘接着剤層４２である。第２粘接着剤層４２を介することなく、偏光子５と第２保護層２０とが直接接している場合、偏光子５における位相子３０側の面に隣接する層は、第２保護層２０である。図２に示される光学積層体において、粘着剤層５０における位相子３０側の面に隣接する層は、位相子３０である。
光学積層体が第２粘接着剤層４２を有する場合において、第２粘接着剤層４２が水系接着剤組成物から形成されるときには、積層体αから第２粘接着剤層４２を除くものとする。すなわち、第２粘接着剤層４２が水系接着剤組成物から形成される場合、図２に示される光学積層体において、積層体αは、第２保護層２０と第３粘接着剤層４３と位相子３０との積層体である。
光学積層体が上記粘着剤層５０を備える場合において、偏光子５における位相子３０側の面に隣接する層から粘着剤層５０における位相子３０側の面に隣接する層までの積層体を、本明細書では「積層体α」と称する。例えば図２に示される光学積層体において、積層体αは、第２粘接着剤層４２と第２保護層２０と第３粘接着剤層４３と位相子３０との積層体である。
図２に示される光学積層体において、偏光子５における位相子３０側の面に隣接する層は、第２粘接着剤層４２である。第２粘接着剤層４２を介することなく、偏光子５と第２保護層２０とが直接接している場合、偏光子５における位相子３０側の面に隣接する層は、第２保護層２０である。図２に示される光学積層体において、粘着剤層５０における位相子３０側の面に隣接する層は、位相子３０である。
光学積層体が第２粘接着剤層４２を有する場合において、第２粘接着剤層４２が水系接着剤組成物から形成されるときには、積層体αから第２粘接着剤層４２を除くものとする。すなわち、第２粘接着剤層４２が水系接着剤組成物から形成される場合、図２に示される光学積層体において、積層体αは、第２保護層２０と第３粘接着剤層４３と位相子３０との積層体である。
【0189】
積層体αの温度２３℃における引張弾性率をＥ３［ＭＰａ］、厚みをＴ３［μｍ］とするとき、積層体αは下記式（ｉｖ）：
７０００≦Ｅ３×Ｔ３≦２２０００ （ｉｖ）
を満たすことが好ましい。
７０００≦Ｅ３×Ｔ３≦２２０００ （ｉｖ）
を満たすことが好ましい。
【0190】
積層体αが式（ｉｖ）を満たすことにより、位相差変化量の面内バラツキ及び金属部材の腐食をより効果的に抑制することができる。Ｅ３×Ｔ３が２２０００以下である場合、熱による偏光子の収縮に起因する引張応力が位相子３０に伝わりにくくなるため、位相差変化量の面内バラツキが抑制できる。一方、Ｅ３×Ｔ３が７０００以上である場合、積層体α中に架橋密度が大きいなどの特徴を持つ物質透過性の低い層が含まれていると考えられる。この時、偏光子５中のヨウ素等の二色性色素が上記拡散によってヨウ素等の二色性色素が上記金属部材へ移行することを防止又は抑制することができ、画像表示装置において光学積層体の近傍に存在する金属部材（電極等）の腐食を防止又は抑制することができる。
【0191】
金属部材の腐食を防止する観点から、式（ｉｖ）におけるＥ３×Ｔ３の値は、より好ましくは７５００以上、さらに好ましくは８０００以上、なおさらに好ましくは８５００以上、特に好ましくは１００００以上である。位相差変化量の面内バラツキを抑制する観点から、Ｅ３×Ｔ３の値は、より好ましくは２００００以下、さらに好ましくは１５０００以下、特に好ましくは１２０００以下である。
【0192】
積層体αの温度２３℃における引張弾性率Ｅ３は、通常１２００ＭＰａ以下、好ましくは１０００ＭＰａ以下であり、また、通常５００ＭＰａ以上であり、好ましくは６００ＭＰａ以上である。引張弾性率Ｅ３は、［実施例］の項の記載に従って測定することができる。
【0193】
＜画像表示装置＞
画像表示装置は、本発明に係る光学積層体と、画像表示素子（有機ＥＬ表示素子等）とを含む。光学積層体は、画像表示素子の視認側に配置される。粘着剤層５０を用いて、光学積層体を画像表示素子に貼合することができる。
画像表示装置は、本発明に係る光学積層体と、画像表示素子（有機ＥＬ表示素子等）とを含む。光学積層体は、画像表示素子の視認側に配置される。粘着剤層５０を用いて、光学積層体を画像表示素子に貼合することができる。
【0194】
画像表示装置は特に限定されず、例えば有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置、無機エレクトロルミネッセンス（無機ＥＬ）表示装置、液晶表示装置、電界発光表示装置等の画像表示装置が挙げられる。
【0195】
画像表示装置は、スマートフォン、タブレット等のモバイル機器、テレビ、デジタルフォトフレーム、電子看板、測定器又は計器類、事務用機器、医療機器、電算機器等として用いることができる。
【実施例】
【0196】
以下、実施例及び比較例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。以下、使用量、含有量を表す部及び％は、特に断りのない限り質量基準である。
【0197】
＜測定及び評価＞
（１）層、フィルム、又は積層体αの厚み
特記しない限り、層、フィルム、又は積層体αの厚みは、レーザー顕微鏡（オリンパス株式会社製「ＬＥＸＴ」）、又は、デジタルマイクロメーター（株式会社ニコン製「ＭＨ－１５Ｍ」）を用いて測定した。
（１）層、フィルム、又は積層体αの厚み
特記しない限り、層、フィルム、又は積層体αの厚みは、レーザー顕微鏡（オリンパス株式会社製「ＬＥＸＴ」）、又は、デジタルマイクロメーター（株式会社ニコン製「ＭＨ－１５Ｍ」）を用いて測定した。
【0198】
（２）保護フィルムの引張弾性率Ｅ（８５℃）
単体の保護フィルムから長辺１００ｍｍ、短辺５０ｍｍの測定用サンプルを切り出した。ＪＩＳ Ｋ７１６１：１９９４及びＪＩＳ Ｋ７１２７：１９９９に準拠し、測定用サンプルが降伏点を持たない場合には引張り破壊ひずみを、降伏点を持つ場合には引張り破壊伸びひずみを破断伸度とし、破断伸度を測定した。引張試験機〔（株）島津製作所製 オートグラフ ＡＧ－Ｘｐｌｕｓ試験機〕の上下つかみ具で、つかみ具の間隔が５ｃｍとなるように測定用サンプルの長辺方向の両端を挟み、温度８５℃、相対湿度５５％ＲＨの環境下、引張速度３００ｍｍ／分で測定用サンプルを長辺方向に引っ張り、温度８５℃、相対湿度５５％ＲＨでの長辺方向における引張弾性率［ＭＰａ］を算出した。
単体の保護フィルムから長辺１００ｍｍ、短辺５０ｍｍの測定用サンプルを切り出した。ＪＩＳ Ｋ７１６１：１９９４及びＪＩＳ Ｋ７１２７：１９９９に準拠し、測定用サンプルが降伏点を持たない場合には引張り破壊ひずみを、降伏点を持つ場合には引張り破壊伸びひずみを破断伸度とし、破断伸度を測定した。引張試験機〔（株）島津製作所製 オートグラフ ＡＧ－Ｘｐｌｕｓ試験機〕の上下つかみ具で、つかみ具の間隔が５ｃｍとなるように測定用サンプルの長辺方向の両端を挟み、温度８５℃、相対湿度５５％ＲＨの環境下、引張速度３００ｍｍ／分で測定用サンプルを長辺方向に引っ張り、温度８５℃、相対湿度５５％ＲＨでの長辺方向における引張弾性率［ＭＰａ］を算出した。
【0199】
（３）層又はフィルムの面内位相差値
層又はフィルムの波長５５０ｎｍにおける面内位相差値［ｎｍ］は、位相差測定装置（王子計測機器（株）製、ＫＯＢＲＡ－ＷＰＲ）を用いて測定した。
層又はフィルムの波長５５０ｎｍにおける面内位相差値［ｎｍ］は、位相差測定装置（王子計測機器（株）製、ＫＯＢＲＡ－ＷＰＲ）を用いて測定した。
【0200】
（４）保護フィルムの透湿度
下記の測定条件で第２保護層の透湿度を測定した。
・試験項目 ：水蒸気透過度
・試験方法 ：感湿センサ法
・測定装置 ：Ｌｙｓｓｙ製 Ｌ８０シリーズ 水蒸気透過度計
・試料作製方法 ：支持基材と第２保護層とを含む後述の積層体における第２保護層面にアルミマスクに貼り付けた後、支持基材を剥離し、この剥離面にアルミマスクを貼り付けて測定試料とした。両面に支持基材を有する第２保護層８及び９については、一方の支持基材を剥離し、この剥離面にアルミマスクを貼り付けた後、他方の支持基材を剥離し、この剥離面にアルミマスクをさらに貼り付けて測定試料とした。第２保護層４及び５、並びに比較例１で用いた第２保護層７（厚み２０μｍのトリアセチルセルロースフィルム）は支持基材が無いため、支持基材の剥離操作は行っていない。
・測定条件
測定温度 ：４０℃
相対湿度 ：９０％ＲＨ
測定面積 ：
第２保護層１～５：７．１×１０－４ｍ２（マスク装着時の透過面積）
第２保護層６～９：７．９×１０－５ｍ２（マスク装着時の透過面積）
測定試料設置方向 ：任意
下記の測定条件で第２保護層の透湿度を測定した。
・試験項目 ：水蒸気透過度
・試験方法 ：感湿センサ法
・測定装置 ：Ｌｙｓｓｙ製 Ｌ８０シリーズ 水蒸気透過度計
・試料作製方法 ：支持基材と第２保護層とを含む後述の積層体における第２保護層面にアルミマスクに貼り付けた後、支持基材を剥離し、この剥離面にアルミマスクを貼り付けて測定試料とした。両面に支持基材を有する第２保護層８及び９については、一方の支持基材を剥離し、この剥離面にアルミマスクを貼り付けた後、他方の支持基材を剥離し、この剥離面にアルミマスクをさらに貼り付けて測定試料とした。第２保護層４及び５、並びに比較例１で用いた第２保護層７（厚み２０μｍのトリアセチルセルロースフィルム）は支持基材が無いため、支持基材の剥離操作は行っていない。
・測定条件
測定温度 ：４０℃
相対湿度 ：９０％ＲＨ
測定面積 ：
第２保護層１～５：７．１×１０－４ｍ２（マスク装着時の透過面積）
第２保護層６～９：７．９×１０－５ｍ２（マスク装着時の透過面積）
測定試料設置方向 ：任意
【0201】
（５）保護フィルムの光弾性率
光弾性率は、位相差測定装置ＫＯＢＲＡ－ＷＰＲ（王子計測機器株式会社製）を用いて、サンプル（サイズ１ｃｍ×１０ｃｍ）の両端を挟持して応力（０．５Ｎ～３Ｎ）をかけながら、サンプル中央の位相差値（２３℃／波長５５０ｎｍ）を測定し、応力と位相差値の関数の傾きから算出した。尚、光弾性率は厚みに依存しないことから、樹脂ごとに適当な厚みのフィルムを製膜して測定した値を各厚み共通で用いた。
光弾性率は、位相差測定装置ＫＯＢＲＡ－ＷＰＲ（王子計測機器株式会社製）を用いて、サンプル（サイズ１ｃｍ×１０ｃｍ）の両端を挟持して応力（０．５Ｎ～３Ｎ）をかけながら、サンプル中央の位相差値（２３℃／波長５５０ｎｍ）を測定し、応力と位相差値の関数の傾きから算出した。尚、光弾性率は厚みに依存しないことから、樹脂ごとに適当な厚みのフィルムを製膜して測定した値を各厚み共通で用いた。
【0202】
（６）偏光子のホウ素含有量
偏光子０．２ｇを１．９質量％マンニトール水溶液２００ｇに溶解した。得られた水溶液を１ｍｏｌ／Ｌ ＮａＯＨ水溶液で滴定し、中和に要したＮａＯＨ液の量と検量線の比較により、偏光子のホウ素含有量［質量％］を算出した。
偏光子０．２ｇを１．９質量％マンニトール水溶液２００ｇに溶解した。得られた水溶液を１ｍｏｌ／Ｌ ＮａＯＨ水溶液で滴定し、中和に要したＮａＯＨ液の量と検量線の比較により、偏光子のホウ素含有量［質量％］を算出した。
【0203】
（７）粘着剤層の貯蔵弾性率Ｇ’（８５℃）
粘着剤層の貯蔵弾性率Ｇ’は、粘弾性測定装置（ＭＣＲ－３０１、Ａｎｔｏｎ Ｐａａｒ社）を用いて測定した。実施例及び比較例で用いたものと同じ粘着剤層を幅３０ｍｍ×長さ３０ｍｍにして、剥離フィルムを剥がし、厚みが２００±１０μｍとなるように複数枚積層して測定ステージに接合後、測定チップ（ＰＰ２５，Ａｎｔｏｎ Ｐａａｒ社）と接着した状態で－２０℃～１００℃の温度領域で周波数１．０Ｈｚ、変形量１％、ノーマルフォース１Ｎ、昇温速度５℃／分の条件下にて測定を行い、温度８５℃での貯蔵弾性率Ｇ’［ＭＰａ］を得た。
粘着剤層の貯蔵弾性率Ｇ’は、粘弾性測定装置（ＭＣＲ－３０１、Ａｎｔｏｎ Ｐａａｒ社）を用いて測定した。実施例及び比較例で用いたものと同じ粘着剤層を幅３０ｍｍ×長さ３０ｍｍにして、剥離フィルムを剥がし、厚みが２００±１０μｍとなるように複数枚積層して測定ステージに接合後、測定チップ（ＰＰ２５，Ａｎｔｏｎ Ｐａａｒ社）と接着した状態で－２０℃～１００℃の温度領域で周波数１．０Ｈｚ、変形量１％、ノーマルフォース１Ｎ、昇温速度５℃／分の条件下にて測定を行い、温度８５℃での貯蔵弾性率Ｇ’［ＭＰａ］を得た。
【0204】
（８）積層体αの引張弾性率Ｅ３（２３℃）
（８－１）積層体αの作製
（８－１－１）第２粘接着剤層が水系接着剤から形成される場合
第２保護層の表面、及び位相子の基材Ａを剥離除去することにより露出した表面に、それぞれコロナ処理（０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分）を施した。第２保護層のコロナ処理面と位相子のコロナ処理面とを、後述する第３粘接着剤層を介して貼り合わせて、（支持基材）第２保護層／第３粘接着剤層／光配向膜Ａ／位相差膜Ａ／接着剤層／位相差膜Ｂ／配向膜Ｂ／基材Ｂをこの順に含む積層体α（又は支持基材付き積層体α）を得た。
（８－１）積層体αの作製
（８－１－１）第２粘接着剤層が水系接着剤から形成される場合
第２保護層の表面、及び位相子の基材Ａを剥離除去することにより露出した表面に、それぞれコロナ処理（０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分）を施した。第２保護層のコロナ処理面と位相子のコロナ処理面とを、後述する第３粘接着剤層を介して貼り合わせて、（支持基材）第２保護層／第３粘接着剤層／光配向膜Ａ／位相差膜Ａ／接着剤層／位相差膜Ｂ／配向膜Ｂ／基材Ｂをこの順に含む積層体α（又は支持基材付き積層体α）を得た。
【0205】
（８－１－２）第２粘接着剤層が粘着剤層である場合
粘着剤層（第２粘接着剤層）を介して支持基材が貼り合わせられた第２保護層の表面（支持基材を有する面とは反対の面）、及び位相子の基材Ａを剥離除去することにより露出した表面に、それぞれコロナ処理（０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分）を施した。第２保護層のコロナ処理面と位相子のコロナ処理面とを、後述する第３粘接着剤層を介して貼り合わせて、（支持基材）第２粘接着剤層／第２保護層／粘着剤層１／光配向膜Ａ／位相差膜Ａ／接着剤層／位相差膜Ｂ／配向膜Ｂ／基材Ｂをこの順に含む支持基材付き積層体αを得た。
粘着剤層（第２粘接着剤層）を介して支持基材が貼り合わせられた第２保護層の表面（支持基材を有する面とは反対の面）、及び位相子の基材Ａを剥離除去することにより露出した表面に、それぞれコロナ処理（０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分）を施した。第２保護層のコロナ処理面と位相子のコロナ処理面とを、後述する第３粘接着剤層を介して貼り合わせて、（支持基材）第２粘接着剤層／第２保護層／粘着剤層１／光配向膜Ａ／位相差膜Ａ／接着剤層／位相差膜Ｂ／配向膜Ｂ／基材Ｂをこの順に含む支持基材付き積層体αを得た。
【0206】
（８－１－３）第２保護層が樹脂層である場合
第２保護層の表面、及び位相子の基材Ａを剥離除去することにより露出した表面に、それぞれコロナ処理（０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分）を施した。第２保護層のコロナ処理面と位相子のコロナ処理面とを、後述する第３粘接着剤層を介して貼り合わせて、（支持基材）第２保護層／第３粘接着剤層／光配向膜Ａ／位相差膜Ａ／接着剤層／位相差膜Ｂ／配向膜Ｂ／基材Ｂをこの順に含む積層体α（又は支持基材付き積層体α）を得た。
第２保護層の表面、及び位相子の基材Ａを剥離除去することにより露出した表面に、それぞれコロナ処理（０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分）を施した。第２保護層のコロナ処理面と位相子のコロナ処理面とを、後述する第３粘接着剤層を介して貼り合わせて、（支持基材）第２保護層／第３粘接着剤層／光配向膜Ａ／位相差膜Ａ／接着剤層／位相差膜Ｂ／配向膜Ｂ／基材Ｂをこの順に含む積層体α（又は支持基材付き積層体α）を得た。
【0207】
上記（８－１－１）～（８－１－３）において、支持基材と第２保護層とを含む後述の積層体を用いて積層体αを作製する場合、上記第２保護層の表面とは、後述の積層体における第２保護層の表面を指す。両面に支持基材を有する第２保護層を用いて積層体αを作製する場合、上記第２保護層の表面とは、一方の支持基材を剥離することによって露出した第２保護層の表面を指す。
【0208】
なお、積層体αの作製手順は上記に限定されるものではない。
【0209】
（８－２）測定試料の作製及び引張弾性率Ｅ３の測定
測定試料の作製方法を、図３を参照して説明する。積層体αを６０ｍｍ×２００ｍｍの断片に切り出した。また６０ｍｍ×２００ｍｍの糊付き台紙１７を用意した。この糊付き台紙１７は、中央部に１０ｍｍ×１４０ｍｍの長方形で切り抜かれた切抜部１８を有している。第２保護層が支持基材を有する場合は該支持基材を積層体αから剥離除去し、第２保護層（上記（８－１－２）の場合には粘着剤層）の表面が糊付き台紙の糊に接するように、上記積層体を糊付き台紙に貼合した。その後、基材層Ｂを剥離した。このようにして、図３に示すようなサンプルを得た。切抜部１８の部分には積層体α１６が存在し、その他の部分においては、糊付き台紙１７と積層体α１６とが貼り合わされている。次に、糊付き台紙１７の切り抜き部１８を含むように、１０ｍｍ×６０ｍｍの長方形部分（図３中の点線で囲われた部分）を裁断し、これを、引張弾性率の測定試料として使用した。
測定試料の作製方法を、図３を参照して説明する。積層体αを６０ｍｍ×２００ｍｍの断片に切り出した。また６０ｍｍ×２００ｍｍの糊付き台紙１７を用意した。この糊付き台紙１７は、中央部に１０ｍｍ×１４０ｍｍの長方形で切り抜かれた切抜部１８を有している。第２保護層が支持基材を有する場合は該支持基材を積層体αから剥離除去し、第２保護層（上記（８－１－２）の場合には粘着剤層）の表面が糊付き台紙の糊に接するように、上記積層体を糊付き台紙に貼合した。その後、基材層Ｂを剥離した。このようにして、図３に示すようなサンプルを得た。切抜部１８の部分には積層体α１６が存在し、その他の部分においては、糊付き台紙１７と積層体α１６とが貼り合わされている。次に、糊付き台紙１７の切り抜き部１８を含むように、１０ｍｍ×６０ｍｍの長方形部分（図３中の点線で囲われた部分）を裁断し、これを、引張弾性率の測定試料として使用した。
【0210】
引張弾性率Ｅ３の測定は、ＪＩＳ Ｋ７１６１に則って行った。引張試験は、引張試験機〔（株）島津製作所製 オートグラフ ＡＧ－Ｘｐｌｕｓ試験機〕を用い、上記の測定試料の両端の台紙部分（図３中の斜線部分）を把持し、速度１ｍｍ／分で引っ張ることで、長辺方向における引張弾性率［ＭＰａ］を算出した。引張試験は、温度２３℃、湿度５０％の室温環境下で行った。
【0211】
（９）位相差変化量の面内バラツキの評価
光学積層体が高温下に置かれたときの面内位相差値の変化量の面内バラツキ（位相差変化量の面内バラツキ）を次の手順に従って測定し、評価した。光学積層体から、位相子の遅相軸を長辺方向とする１２０ｍｍ×６０ｍｍの試料を切り出した。試料が有する粘着剤層を介して無アルカリガラス（コーニング社製、品番：ＥＡＧＬＥ ＸＧ（登録商標））に貼合して評価用サンプルを作製した。評価用サンプルについて、位相差測定装置（王子計測機器（株）製、ＫＯＢＲＡ－ＷＰＲ）を用いて、波長５５０ｎｍにおける面内位相差値を測定した。面内位相差値は、評価用サンプルの面内中心、及び、４つの端辺の各中央位置について測定した（合計５点）。
光学積層体が高温下に置かれたときの面内位相差値の変化量の面内バラツキ（位相差変化量の面内バラツキ）を次の手順に従って測定し、評価した。光学積層体から、位相子の遅相軸を長辺方向とする１２０ｍｍ×６０ｍｍの試料を切り出した。試料が有する粘着剤層を介して無アルカリガラス（コーニング社製、品番：ＥＡＧＬＥ ＸＧ（登録商標））に貼合して評価用サンプルを作製した。評価用サンプルについて、位相差測定装置（王子計測機器（株）製、ＫＯＢＲＡ－ＷＰＲ）を用いて、波長５５０ｎｍにおける面内位相差値を測定した。面内位相差値は、評価用サンプルの面内中心、及び、４つの端辺の各中央位置について測定した（合計５点）。
【0212】
評価用サンプルをオーブンに入れ、温度８５℃で１６８時間、評価用サンプルを加熱する耐熱試験を実施した。評価用サンプルをオーブンから取り出し、その１．５時間後に上記位相差測定装置を用い、上記５点と同じ点について、波長５５０ｎｍにおける面内位相差値を測定し、該５点における耐熱試験前後の面内位相差値の変化量ΔＲｅを求めた。評価用サンプルの面内中心における面内位相差値の変化量をΔＲｅ１とし、４つの端辺の各中央位置における面内位相差値の変化量をそれぞれΔＲｅ２～５とした。これらから、｜Ｒｅ１－Ｒｅ２｜、｜Ｒｅ１－Ｒｅ３｜、｜Ｒｅ１－Ｒｅ４｜、｜Ｒｅ１－Ｒｅ５｜の値を求めた。これらの値のうちの最大値と最小値との差Ｘを求めた。差Ｘの値に基づき、下記の基準に従って位相差変化量の面内バラツキを評価した。下記基準のうちＡ＋が最も評価が良く、位相差変化量の面内バラツキが最も小さい。Ｄが最も評価が悪く、位相差変化量の面内バラツキが最も大きい。
Ａ＋：Ｘの値が１．２未満
Ａ ：Ｘの値が１．２以上２．０未満
Ｂ ：Ｘの値が２．０以上２．５未満
Ｃ ：Ｘの値が２．５以上３．０未満
Ｄ ：Ｘの値が３．０以上
Ａ＋：Ｘの値が１．２未満
Ａ ：Ｘの値が１．２以上２．０未満
Ｂ ：Ｘの値が２．０以上２．５未満
Ｃ ：Ｘの値が２．５以上３．０未満
Ｄ ：Ｘの値が３．０以上
【0213】
（１０）光学積層体による金属腐食の評価
無アルカリガラス基板表面にスパッタリングによって金属アルミニウム層及び金属チタン層がこの順で積層された金属層付ガラス基板を準備した。次に、実施例及び比較例で得た光学積層体を５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに裁断し、光学積層体の粘着剤層上に金属層付ガラス基板の金属チタン層側を貼着して評価用サンプルを作製した。評価用サンプルを、温度８５℃、相対湿度８５％ＲＨのオーブン中で３５０時間保管した後、評価用サンプルをオーブンから取り出した。バックライト上にガラス基板を下にして評価用サンプルを載置し、光抜けによる輝点の個数及び大きさを観察して、下記の基準に従って金属腐食の評価を行った。
Ａ＋：輝点発生なし
Ａ ：０．１～０．５ｍｍの輝点が１～５個以内
Ｂ＋：０．１～０．５ｍｍの輝点が６～１５個以内、又は０．５～１．０ｍｍの輝点が ５個以内
Ｂ ：０．５～１．０ｍｍの輝点が６～１５個以内
Ｃ ：１５個を超える輝点が全面に認められるが、一部輝点がない領域を有する
Ｄ ：１５個を超える輝点が全面にまんべんなく認められる
無アルカリガラス基板表面にスパッタリングによって金属アルミニウム層及び金属チタン層がこの順で積層された金属層付ガラス基板を準備した。次に、実施例及び比較例で得た光学積層体を５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに裁断し、光学積層体の粘着剤層上に金属層付ガラス基板の金属チタン層側を貼着して評価用サンプルを作製した。評価用サンプルを、温度８５℃、相対湿度８５％ＲＨのオーブン中で３５０時間保管した後、評価用サンプルをオーブンから取り出した。バックライト上にガラス基板を下にして評価用サンプルを載置し、光抜けによる輝点の個数及び大きさを観察して、下記の基準に従って金属腐食の評価を行った。
Ａ＋：輝点発生なし
Ａ ：０．１～０．５ｍｍの輝点が１～５個以内
Ｂ＋：０．１～０．５ｍｍの輝点が６～１５個以内、又は０．５～１．０ｍｍの輝点が ５個以内
Ｂ ：０．５～１．０ｍｍの輝点が６～１５個以内
Ｃ ：１５個を超える輝点が全面に認められるが、一部輝点がない領域を有する
Ｄ ：１５個を超える輝点が全面にまんべんなく認められる
【0214】
［偏光子の作製］
（１）偏光子１の作製
厚み２０μｍ、重合度２４００、ケン化度９９．９％以上のポリビニルアルコールフィルムを、乾式で延伸倍率４．５倍に一軸延伸し、緊張状態を保ったまま、水１００部あたりヨウ素０．０５部及びヨウ化カリウム５部を含有する、２８℃の染色浴に６０秒間浸漬した。
（１）偏光子１の作製
厚み２０μｍ、重合度２４００、ケン化度９９．９％以上のポリビニルアルコールフィルムを、乾式で延伸倍率４．５倍に一軸延伸し、緊張状態を保ったまま、水１００部あたりヨウ素０．０５部及びヨウ化カリウム５部を含有する、２８℃の染色浴に６０秒間浸漬した。
【0215】
次いで、水１００部あたりホウ酸５．５部及びヨウ化カリウム１５部を含有する、６４℃のホウ酸水溶液１に１１０秒間浸漬した。次いで、水１００部あたりホウ酸２．３部及びヨウ化カリウム１５部を含有する、６７℃のホウ酸水溶液２に３０秒間浸漬した。その後、３℃の純水を用いて水洗し、乾燥して、偏光子１を得た。上記方法により測定した偏光子１のホウ素含有量は２．８質量％であった。偏光子の厚みは８μｍであった。
【0216】
（２）偏光子２の作製
ホウ酸水溶液２のホウ酸含有量を５．５部に変更したこと以外は偏光子１と同様にして偏光子２を作製した。偏光子２の厚みは８μｍであり、ホウ素含有量は４．１質量％あった。
ホウ酸水溶液２のホウ酸含有量を５．５部に変更したこと以外は偏光子１と同様にして偏光子２を作製した。偏光子２の厚みは８μｍであり、ホウ素含有量は４．１質量％あった。
【0217】
［保護フィルムの作製・準備］
（１）第１保護層１の準備
第１保護層１として、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（コニカミノルタ株式会社製ＫＣ２ＵＡＴＡＣ、厚みＴ１：２５μｍ）を準備した。第１保護層１の温度８５℃における引張弾性率Ｅ１は８３０ＭＰａであった。
（１）第１保護層１の準備
第１保護層１として、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（コニカミノルタ株式会社製ＫＣ２ＵＡＴＡＣ、厚みＴ１：２５μｍ）を準備した。第１保護層１の温度８５℃における引張弾性率Ｅ１は８３０ＭＰａであった。
【0218】
（２）第１保護層２の準備
第１保護層１の片面に厚み７μｍのハードコート層を形成して、第１保護層２（厚みＴ１：３２μｍ）を得た。第１保護層２の温度８５℃における引張弾性率Ｅ１は７００ＭＰａであった。
第１保護層１の片面に厚み７μｍのハードコート層を形成して、第１保護層２（厚みＴ１：３２μｍ）を得た。第１保護層２の温度８５℃における引張弾性率Ｅ１は７００ＭＰａであった。
【0219】
（３）第２保護層１の作製
支持基材として、厚み３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）（東洋紡（株）製「ＴＮ１００」、ノンシリコーン系剥離剤を含む離型層を有する）を用意した。また、下記成分を配合して、熱可塑性樹脂を含む組成物を調製した。
・環状ポリオレフィン系樹脂（日本ゼオン（株）製「ゼオノア ＺＦ１４」）：１０部
・シクロヘキサン：９０部
支持基材として、厚み３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）（東洋紡（株）製「ＴＮ１００」、ノンシリコーン系剥離剤を含む離型層を有する）を用意した。また、下記成分を配合して、熱可塑性樹脂を含む組成物を調製した。
・環状ポリオレフィン系樹脂（日本ゼオン（株）製「ゼオノア ＺＦ１４」）：１０部
・シクロヘキサン：９０部
【0220】
支持基材の離型層上に、上記熱可塑性樹脂を含む組成物を、バックコート法によりダイを用いて塗布した後、４０℃で１分、７０℃で１分、１２０℃で２分の条件で塗布層を乾燥させることにより、第２保護層１として厚みＴ２が２μｍの環状ポリオレフィン系樹脂層を有する積層体を作製した。第２保護層１の温度８５℃における引張弾性率Ｅ２は４５０ＭＰａ、波長５５０ｎｍにおける面内位相差値は０．５ｎｍ、透湿度は６３ｇ／ｍ２／２４ｈｒ、光弾性率は３．５×１０－１２Ｐａ－１であった。
【0221】
（４）第２保護層２の作製
支持基材の離型層上への熱可塑性樹脂を含む組成物の塗布量を変更したこと以外は第２保護層１の作製と同様にして、第２保護層２として厚みＴ２が３μｍの環状ポリオレフィン系樹脂層を有する積層体を作製した。第２保護層２の温度８５℃における引張弾性率Ｅ２は４５０ＭＰａ、透湿度は３７ｇ／ｍ２／２４ｈｒ、光弾性率は３．５×１０－１２Ｐａ－１であった。
支持基材の離型層上への熱可塑性樹脂を含む組成物の塗布量を変更したこと以外は第２保護層１の作製と同様にして、第２保護層２として厚みＴ２が３μｍの環状ポリオレフィン系樹脂層を有する積層体を作製した。第２保護層２の温度８５℃における引張弾性率Ｅ２は４５０ＭＰａ、透湿度は３７ｇ／ｍ２／２４ｈｒ、光弾性率は３．５×１０－１２Ｐａ－１であった。
【0222】
（５）第２保護層３の作製
支持基材の離型層上への熱可塑性樹脂を含む組成物の塗布量を変更したこと以外は第２保護層１の作製と同様にして、第２保護層３として厚みＴ２が４μｍの環状ポリオレフィン系樹脂層を有する積層体を作製した。第２保護層３の温度８５℃における引張弾性率Ｅ２は４５０ＭＰａ、透湿度は１９ｇ／ｍ２／２４ｈｒ、光弾性率は３．５×１０－１２Ｐａ－１であった。
支持基材の離型層上への熱可塑性樹脂を含む組成物の塗布量を変更したこと以外は第２保護層１の作製と同様にして、第２保護層３として厚みＴ２が４μｍの環状ポリオレフィン系樹脂層を有する積層体を作製した。第２保護層３の温度８５℃における引張弾性率Ｅ２は４５０ＭＰａ、透湿度は１９ｇ／ｍ２／２４ｈｒ、光弾性率は３．５×１０－１２Ｐａ－１であった。
【0223】
（６）第２保護層４の準備
第２保護層４として、厚みＴ２が１３μｍの環状ポリオレフィン系樹脂フィルムを準備した。第２保護層４の温度８５℃における引張弾性率Ｅ２は６２０ＭＰａ、透湿度は４．８ｇ／ｍ２／２４ｈｒ、光弾性率は３．５×１０－１２Ｐａ－１であった。
第２保護層４として、厚みＴ２が１３μｍの環状ポリオレフィン系樹脂フィルムを準備した。第２保護層４の温度８５℃における引張弾性率Ｅ２は６２０ＭＰａ、透湿度は４．８ｇ／ｍ２／２４ｈｒ、光弾性率は３．５×１０－１２Ｐａ－１であった。
【0224】
（７）第２保護層５の準備
第２保護層５として、厚みＴ２が２３μｍの環状ポリオレフィン系樹脂フィルムを準備した。第２保護層５の温度８５℃における引張弾性率Ｅ２は６２０ＭＰａ、透湿度は２．６ｇ／ｍ２／２４ｈｒ、光弾性率は３．５×１０－１２Ｐａ－１であった。
第２保護層５として、厚みＴ２が２３μｍの環状ポリオレフィン系樹脂フィルムを準備した。第２保護層５の温度８５℃における引張弾性率Ｅ２は６２０ＭＰａ、透湿度は２．６ｇ／ｍ２／２４ｈｒ、光弾性率は３．５×１０－１２Ｐａ－１であった。
【0225】
（８）第２保護層６の作製
支持基材として、厚み３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）（東洋紡（株）製「ＴＮ１００」、ノンシリコーン系剥離剤を含む離型層を有する）を用意した。また、特開２０１３－２５４１３３号公報に従って溶融押形により作製した厚み６０μｍの（メタ）アクリル系樹脂フィルム（全光線透過率：９３．５％、Ｔｇ：１０５℃）１０部をトルエン９０部に溶解することで（メタ）アクリル系樹脂を含む組成物を調製した。
支持基材として、厚み３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）（東洋紡（株）製「ＴＮ１００」、ノンシリコーン系剥離剤を含む離型層を有する）を用意した。また、特開２０１３－２５４１３３号公報に従って溶融押形により作製した厚み６０μｍの（メタ）アクリル系樹脂フィルム（全光線透過率：９３．５％、Ｔｇ：１０５℃）１０部をトルエン９０部に溶解することで（メタ）アクリル系樹脂を含む組成物を調製した。
【0226】
支持基材の離型層上に、上記（メタ）アクリル系樹脂を含む組成物を、バックコート法によりダイを用いて塗布した後、４０℃で１分、７０℃で１分、１００℃で１分、次いで１３０℃で２分の条件で塗布層を乾燥させることにより、第２保護層６として厚みＴ２が２μｍの（メタ）アクリル系樹脂層を有する積層体を作製した。第２保護層６の温度８５℃における引張弾性率Ｅ２は８５０ＭＰａ、波長５５０ｎｍにおける面内位相差値は０．１ｎｍ、透湿度は１１００ｇ／ｍ２／２４ｈｒ、光弾性率は０．３×１０－１２Ｐａ－１であった。
【0227】
（９）第２保護層８の準備
支持基材として、厚み５０μｍの環状ポリオレフィンフィルムを２枚用意した。また、下記成分を配合して、樹脂組成物を調製した。
・４－ヒドロキシブチルアクリレート（大阪有機化学工業製）：７０部
・ジペンタエリスリトールポリアクリレート（新中村化学工業製）：３０部
・イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）：３部
支持基材として、厚み５０μｍの環状ポリオレフィンフィルムを２枚用意した。また、下記成分を配合して、樹脂組成物を調製した。
・４－ヒドロキシブチルアクリレート（大阪有機化学工業製）：７０部
・ジペンタエリスリトールポリアクリレート（新中村化学工業製）：３０部
・イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）：３部
【0228】
得られた樹脂組成物を、前記２枚の支持基材の間に、高速ラミネータを用いて塗工した。続けて紫外線を下記の条件で照射し、第２保護層８として厚みＴ２が１μｍの硬化樹脂層を有する積層体を作製した。第２保護層８の温度８５℃における引張弾性率Ｅ２は８５０ＭＰａ、波長５５０ｎｍにおける面内位相差値は０．１ｎｍ、透湿度は２２００ｇ／ｍ２／２４ｈｒ、光弾性率は０．３×１０－１２Ｐａ－１であった。
＜ＵＶ照射条件＞
ＧＳ－ＵＶランプ高圧水銀ランプ使用・ＵＶ波長領域ＵＶＡの積算光量４００ｍＪ／ｃｍ２（測定器：ＦｕｓｉｏｎＵＶ社製ＵＶ Ｐｏｗｅｒ ＰｕｃｋＩＩによる測定値）
＜ＵＶ照射条件＞
ＧＳ－ＵＶランプ高圧水銀ランプ使用・ＵＶ波長領域ＵＶＡの積算光量４００ｍＪ／ｃｍ２（測定器：ＦｕｓｉｏｎＵＶ社製ＵＶ Ｐｏｗｅｒ ＰｕｃｋＩＩによる測定値）
【0229】
（１０）第２保護層９の準備
樹脂組成物の配合を下記に変更したこと、及び、厚みＴ２を２μｍに変更したこと以外は第２保護層８と同様にして、第２保護層９として厚みＴ２が２μｍの硬化樹脂層を有する積層体を作製した。第２保護層９の温度８５℃における引張弾性率Ｅ２は８５０ＭＰａ、波長５５０ｎｍにおける面内位相差値は０．１ｎｍ、透湿度は１１００ｇ／ｍ２／２４ｈｒ、光弾性率は０．３×１０－１２Ｐａ－１であった。
・４－ヒドロキシブチルアクリレート（大阪有機化学工業製）：３０部
・ジペンタエリスリトールポリアクリレート（新中村化学工業製）：７０部
・イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）：３部
樹脂組成物の配合を下記に変更したこと、及び、厚みＴ２を２μｍに変更したこと以外は第２保護層８と同様にして、第２保護層９として厚みＴ２が２μｍの硬化樹脂層を有する積層体を作製した。第２保護層９の温度８５℃における引張弾性率Ｅ２は８５０ＭＰａ、波長５５０ｎｍにおける面内位相差値は０．１ｎｍ、透湿度は１１００ｇ／ｍ２／２４ｈｒ、光弾性率は０．３×１０－１２Ｐａ－１であった。
・４－ヒドロキシブチルアクリレート（大阪有機化学工業製）：３０部
・ジペンタエリスリトールポリアクリレート（新中村化学工業製）：７０部
・イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）：３部
【0230】
［活性エネルギー線硬化型接着剤の調製］
（１）活性エネルギー線硬化型接着剤１の調製
下記成分を配合して混合した後、脱泡して、活性エネルギー線硬化型接着剤１を調製した。
（カチオン重合性化合物）
・３’，４’－エポキシシクロヘキシルメチル３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（商品名：ＣＥＬ２０２１Ｐ、株式会社ダイセル製）：７０部
・ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル（商品名：ＥＸ－２１１、ナガセケムテックス株式会社製）：２０部
・２－エチルヘキシルグリシジルエーテル（商品名：ＥＸ－１２１、ナガセケムテックス株式会社製）：１０部
（光カチオン重合開始剤）
・商品名：ＣＰＩ－１００（サンアプロ株式会社製、５０％プロピレンカーボネート溶液）：４．５部（実質固形分２．２５部）
（光増感助剤）
・１，４－ジエトキシナフタレン：２部
（１）活性エネルギー線硬化型接着剤１の調製
下記成分を配合して混合した後、脱泡して、活性エネルギー線硬化型接着剤１を調製した。
（カチオン重合性化合物）
・３’，４’－エポキシシクロヘキシルメチル３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（商品名：ＣＥＬ２０２１Ｐ、株式会社ダイセル製）：７０部
・ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル（商品名：ＥＸ－２１１、ナガセケムテックス株式会社製）：２０部
・２－エチルヘキシルグリシジルエーテル（商品名：ＥＸ－１２１、ナガセケムテックス株式会社製）：１０部
（光カチオン重合開始剤）
・商品名：ＣＰＩ－１００（サンアプロ株式会社製、５０％プロピレンカーボネート溶液）：４．５部（実質固形分２．２５部）
（光増感助剤）
・１，４－ジエトキシナフタレン：２部
【0231】
（２）活性エネルギー線硬化型接着剤２の調製
下記成分を配合して混合した後、脱泡して、活性エネルギー線硬化型接着剤２を調製した。
（カチオン重合性化合物）
・３’，４’－エポキシシクロヘキシルメチル３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（商品名：ＣＥＬ２０２１Ｐ、株式会社ダイセル製）：３２．５部
・２，２－ビス（ヒドロキシメチル）－１－ブタノールの１，２－エポキシ－４－（２－オキシラニル）シクロヘキサン付加物（商品名：ＥＨＰＥ３１５０、（株）ダイセル製）：１７．５部
・３－［（ベンジルオキシ）メチル］－３－エチルオキセタン（芳香族含有オキセタン化合物、商品名：ＴＣＭ－１０４、ＴＲＯＮＬＹ製）：１０．０部
・３－エチル－３｛［（３－エチルオキセタン－３－イル）メトキシ］メチル｝オキセタン（商品名：ＯＸＴ－２２１、東亞合成（株）製）：４０．０部
（光カチオン重合開始剤）
・スルホニウム系光重合開始剤（商品名：ＣＰＩ－１００Ｐ、サンアプロ（株）製、５０質量％溶液）：２．６部（実質固形分１．３部）
（光増感助剤）
・１，４－ジエトキシナフタレン：２．０部
下記成分を配合して混合した後、脱泡して、活性エネルギー線硬化型接着剤２を調製した。
（カチオン重合性化合物）
・３’，４’－エポキシシクロヘキシルメチル３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（商品名：ＣＥＬ２０２１Ｐ、株式会社ダイセル製）：３２．５部
・２，２－ビス（ヒドロキシメチル）－１－ブタノールの１，２－エポキシ－４－（２－オキシラニル）シクロヘキサン付加物（商品名：ＥＨＰＥ３１５０、（株）ダイセル製）：１７．５部
・３－［（ベンジルオキシ）メチル］－３－エチルオキセタン（芳香族含有オキセタン化合物、商品名：ＴＣＭ－１０４、ＴＲＯＮＬＹ製）：１０．０部
・３－エチル－３｛［（３－エチルオキセタン－３－イル）メトキシ］メチル｝オキセタン（商品名：ＯＸＴ－２２１、東亞合成（株）製）：４０．０部
（光カチオン重合開始剤）
・スルホニウム系光重合開始剤（商品名：ＣＰＩ－１００Ｐ、サンアプロ（株）製、５０質量％溶液）：２．６部（実質固形分１．３部）
（光増感助剤）
・１，４－ジエトキシナフタレン：２．０部
【0232】
［粘着剤層の作製］
両面が剥離フィルムに貼り合わせられた以下のアクリル系粘着剤層１及び２を作製した。
（１）粘着剤層１の作製
（１－１）アクリル系樹脂溶液１の調製
冷却管、窒素導入管、温度計、及び撹拌機を備えた反応容器に、酢酸エチル１００部、アクリル酸ブチル９９．０部、アクリル酸２－ヒドロキシエチル０．５部、及びアクリル酸０．５部の混合溶液を仕込み、窒素ガスで装置内の空気を置換して酸素不含としながら内温を５５℃に上げた。その後、アゾビスイソブチロニトリル（重合開始剤）０．１２部を酢酸エチル１０部に溶かした溶液を全量添加した。重合開始剤を添加した後、１時間この温度で保持し、次いで内温を５４～５６℃に保ちながら酢酸エチルを添加速度１７．３部／ｈｒで反応容器内へ連続的に加え、アクリル系樹脂の濃度が３５質量％となった時点で酢酸エチルの添加を止め、さらに酢酸エチルの添加開始から６時間経過するまでこの温度で保温した。最後に酢酸エチルを加えてアクリル系樹脂の濃度が２０質量％となるように調節し、アクリル系樹脂溶液１を調製した。得られたアクリル系樹脂は、重量平均分子量Ｍｗが１７０万、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎが３．９であった。なお、Ｍｗ及びＭｎは、ＧＰＣ装置にカラムとして、東ソー（株）製の「ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨＨＲ－Ｈ（Ｓ）」を２本直列につないで配置し、溶出液としてテトラヒドロフランを用い、試料濃度２ｍｇ／ｍＬ、試料導入量１００μＬ、温度４０℃、流速１ｍＬ／分の条件で、標準ポリスチレン換算により測定した。
両面が剥離フィルムに貼り合わせられた以下のアクリル系粘着剤層１及び２を作製した。
（１）粘着剤層１の作製
（１－１）アクリル系樹脂溶液１の調製
冷却管、窒素導入管、温度計、及び撹拌機を備えた反応容器に、酢酸エチル１００部、アクリル酸ブチル９９．０部、アクリル酸２－ヒドロキシエチル０．５部、及びアクリル酸０．５部の混合溶液を仕込み、窒素ガスで装置内の空気を置換して酸素不含としながら内温を５５℃に上げた。その後、アゾビスイソブチロニトリル（重合開始剤）０．１２部を酢酸エチル１０部に溶かした溶液を全量添加した。重合開始剤を添加した後、１時間この温度で保持し、次いで内温を５４～５６℃に保ちながら酢酸エチルを添加速度１７．３部／ｈｒで反応容器内へ連続的に加え、アクリル系樹脂の濃度が３５質量％となった時点で酢酸エチルの添加を止め、さらに酢酸エチルの添加開始から６時間経過するまでこの温度で保温した。最後に酢酸エチルを加えてアクリル系樹脂の濃度が２０質量％となるように調節し、アクリル系樹脂溶液１を調製した。得られたアクリル系樹脂は、重量平均分子量Ｍｗが１７０万、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎが３．９であった。なお、Ｍｗ及びＭｎは、ＧＰＣ装置にカラムとして、東ソー（株）製の「ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨＨＲ－Ｈ（Ｓ）」を２本直列につないで配置し、溶出液としてテトラヒドロフランを用い、試料濃度２ｍｇ／ｍＬ、試料導入量１００μＬ、温度４０℃、流速１ｍＬ／分の条件で、標準ポリスチレン換算により測定した。
【0233】
（１－２）粘着剤組成物１の調製
上記（１－１）にて得られたアクリル系樹脂溶液１の固形分８０部に対して、二官能アクリレート（新中村化学工業株式会社より入手；品番「Ａ－ＤＯＧ」）を２０部（固形分）、架橋剤（三井化学製：商品名「Ｄ－１０１Ｅ」（トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体の酢酸エチル溶液（固形分濃度７５質量％））を有効成分ベースで２．５部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製：商品名「イルガキュア５００」）を１．５部、シランカップリング剤（信越化学工業株式会社製：商品名「ＫＢＭ－４０３」）を０．３部添加し、さらに固形分濃度が１３％となるように酢酸エチルを添加して粘着剤組成物１を得た。
上記（１－１）にて得られたアクリル系樹脂溶液１の固形分８０部に対して、二官能アクリレート（新中村化学工業株式会社より入手；品番「Ａ－ＤＯＧ」）を２０部（固形分）、架橋剤（三井化学製：商品名「Ｄ－１０１Ｅ」（トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体の酢酸エチル溶液（固形分濃度７５質量％））を有効成分ベースで２．５部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製：商品名「イルガキュア５００」）を１．５部、シランカップリング剤（信越化学工業株式会社製：商品名「ＫＢＭ－４０３」）を０．３部添加し、さらに固形分濃度が１３％となるように酢酸エチルを添加して粘着剤組成物１を得た。
【0234】
Ａ－ＤＯＧは、ヒドロキシピバルアルデヒドとトリメチロールプロパンとのアセタール化合物のジアクリレートであって、下式の構造を有する。
【化6】
【0235】
（１－３）粘着剤層１の作製
上記（１－２）で調製した粘着剤組成物１を、離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルムからなる剥離フィルム〔三菱ケミカル製：ＭＲＶ（Ｖ０４）（厚み：３８μｍ）〕の離型処理面に、アプリケーターを用いて乾燥後の厚みが５μｍとなるように塗布し、１００℃で１分間乾燥して粘着剤層（粘着剤シート）を作製した。次いで得られた粘着剤層の前記剥離フィルム側とは反対側の表面を、離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルムからなる剥離フィルム〔三菱ケミカル製：ＭＲＦ（厚み：３８μｍ）〕の離型処理面と貼合した。続けて紫外線を下記の条件で照射し、粘着剤層１を作製した。粘着剤層１の温度８５℃での貯蔵弾性率Ｇ’は０．１２５ＭＰａであった。
＜ＵＶ照射条件＞
・Ｆｕｓｉｏｎ ＵＶランプシステム（フュージョンＵＶシステムズ社製）Ｈバルブ使用
・ＵＶ波長領域ＵＶＡの積算光量２５０ｍＪ／ｃｍ２（測定器：ＦｕｓｉｏｎＵＶ社製ＵＶ Ｐｏｗｅｒ ＰｕｃｋＩＩによる測定値）
上記（１－２）で調製した粘着剤組成物１を、離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルムからなる剥離フィルム〔三菱ケミカル製：ＭＲＶ（Ｖ０４）（厚み：３８μｍ）〕の離型処理面に、アプリケーターを用いて乾燥後の厚みが５μｍとなるように塗布し、１００℃で１分間乾燥して粘着剤層（粘着剤シート）を作製した。次いで得られた粘着剤層の前記剥離フィルム側とは反対側の表面を、離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルムからなる剥離フィルム〔三菱ケミカル製：ＭＲＦ（厚み：３８μｍ）〕の離型処理面と貼合した。続けて紫外線を下記の条件で照射し、粘着剤層１を作製した。粘着剤層１の温度８５℃での貯蔵弾性率Ｇ’は０．１２５ＭＰａであった。
＜ＵＶ照射条件＞
・Ｆｕｓｉｏｎ ＵＶランプシステム（フュージョンＵＶシステムズ社製）Ｈバルブ使用
・ＵＶ波長領域ＵＶＡの積算光量２５０ｍＪ／ｃｍ２（測定器：ＦｕｓｉｏｎＵＶ社製ＵＶ Ｐｏｗｅｒ ＰｕｃｋＩＩによる測定値）
【0236】
（２）粘着剤層２の作製
（２－１）アクリル系樹脂溶液２の調製
冷却管、窒素導入管、温度計、及び撹拌機を備えた反応容器に、酢酸エチル８１．８部、アクリル酸ブチル９０．０部、アクリル酸メチル５．０部及びアクリル酸５．０部の混合溶液を仕込み、窒素ガスで装置内の空気を置換して酸素不含としながら内温を５５℃に上げた。その後、アゾビスイソブチロニトリル（重合開始剤）０．１５部を酢酸エチル１０部に溶かした溶液を全量添加した。重合開始剤を添加した後、１時間この温度で保持し、次いで内温を５４～５６℃に保ちながら酢酸エチルを添加速度１７．３部／ｈｒで反応容器内へ連続的に加え、アクリル系樹脂の濃度が３５質量％となった時点で酢酸エチルの添加を止め、さらに酢酸エチルの添加開始から６時間経過するまでこの温度で保温した。最後に酢酸エチルを加えてアクリル系樹脂の濃度が２０質量％となるように調節し、アクリル系樹脂溶液２を調製した。得られたアクリル系樹脂は、重量平均分子量Ｍｗが１６０万、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎが４．５であった。なお、Ｍｗ及びＭｎは、ＧＰＣ装置にカラムとして、東ソー（株）製の「ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨＨＲ－Ｈ（Ｓ）」を２本直列につないで配置し、溶出液としてテトラヒドロフランを用い、試料濃度２ｍｇ／ｍＬ、試料導入量１００μＬ、温度４０℃、流速１ｍＬ／分の条件で、標準ポリスチレン換算により測定した。
（２－１）アクリル系樹脂溶液２の調製
冷却管、窒素導入管、温度計、及び撹拌機を備えた反応容器に、酢酸エチル８１．８部、アクリル酸ブチル９０．０部、アクリル酸メチル５．０部及びアクリル酸５．０部の混合溶液を仕込み、窒素ガスで装置内の空気を置換して酸素不含としながら内温を５５℃に上げた。その後、アゾビスイソブチロニトリル（重合開始剤）０．１５部を酢酸エチル１０部に溶かした溶液を全量添加した。重合開始剤を添加した後、１時間この温度で保持し、次いで内温を５４～５６℃に保ちながら酢酸エチルを添加速度１７．３部／ｈｒで反応容器内へ連続的に加え、アクリル系樹脂の濃度が３５質量％となった時点で酢酸エチルの添加を止め、さらに酢酸エチルの添加開始から６時間経過するまでこの温度で保温した。最後に酢酸エチルを加えてアクリル系樹脂の濃度が２０質量％となるように調節し、アクリル系樹脂溶液２を調製した。得られたアクリル系樹脂は、重量平均分子量Ｍｗが１６０万、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎが４．５であった。なお、Ｍｗ及びＭｎは、ＧＰＣ装置にカラムとして、東ソー（株）製の「ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨＨＲ－Ｈ（Ｓ）」を２本直列につないで配置し、溶出液としてテトラヒドロフランを用い、試料濃度２ｍｇ／ｍＬ、試料導入量１００μＬ、温度４０℃、流速１ｍＬ／分の条件で、標準ポリスチレン換算により測定した。
【0237】
（２－２）粘着剤組成物２の調製
（２－１）にて得られたアクリル系樹脂溶液２の固形分１００部に対して、架橋剤（三井化学製：商品名「Ｄ－１０１Ｅ」（トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体の酢酸エチル溶液（固形分濃度７５質量％））を有効成分ベースで０．１５部、シランカップリング剤（信越化学工業株式会社製：商品名「ＫＢＭ－４０３」）を０．２部添加し、さらに固形分濃度が１３％となるように酢酸エチルを添加して粘着剤組成物２を得た。
（２－１）にて得られたアクリル系樹脂溶液２の固形分１００部に対して、架橋剤（三井化学製：商品名「Ｄ－１０１Ｅ」（トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体の酢酸エチル溶液（固形分濃度７５質量％））を有効成分ベースで０．１５部、シランカップリング剤（信越化学工業株式会社製：商品名「ＫＢＭ－４０３」）を０．２部添加し、さらに固形分濃度が１３％となるように酢酸エチルを添加して粘着剤組成物２を得た。
【0238】
（２－３）粘着剤層２の作製
上記（２－２）で調製した粘着剤組成物２を、離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルムからなる剥離フィルム〔三菱ケミカル製：ＭＲＶ（Ｖ０４）（厚み：３８μｍ）〕の離型処理面に、アプリケーターを用いて乾燥後の厚みが１５μｍとなるように塗布し、１００℃で１分間乾燥して粘着剤層（粘着剤シート）を作製した。次いで得られた粘着剤層の前記剥離フィルム側とは反対側の表面を、離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルムからなる剥離フィルム〔三菱ケミカル製：ＭＲＦ（厚み：３８μｍ）〕の離型処理面と貼合し、粘着剤層２を作製した。粘着剤層２の温度８５℃での貯蔵弾性率Ｇ’は０．０２５５ＭＰａであった。
上記（２－２）で調製した粘着剤組成物２を、離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルムからなる剥離フィルム〔三菱ケミカル製：ＭＲＶ（Ｖ０４）（厚み：３８μｍ）〕の離型処理面に、アプリケーターを用いて乾燥後の厚みが１５μｍとなるように塗布し、１００℃で１分間乾燥して粘着剤層（粘着剤シート）を作製した。次いで得られた粘着剤層の前記剥離フィルム側とは反対側の表面を、離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルムからなる剥離フィルム〔三菱ケミカル製：ＭＲＦ（厚み：３８μｍ）〕の離型処理面と貼合し、粘着剤層２を作製した。粘着剤層２の温度８５℃での貯蔵弾性率Ｇ’は０．０２５５ＭＰａであった。
【0239】
［位相子１の作製］
（１）位相差膜Ａの作製
（１－１）光配向膜形成用組成物Ａの調製
下記構造の光配向性材料（重量平均分子量：５００００、ｍ：ｎ＝５０：５０）は特開２０２１－１９６５１４号公報に記載の方法に準じて製造した。光配向性材料２部とシクロペンタノン（溶剤）９８部とを成分として混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、光配向膜形成用組成物Ａを調製した。
光配向性材料：
（１）位相差膜Ａの作製
（１－１）光配向膜形成用組成物Ａの調製
下記構造の光配向性材料（重量平均分子量：５００００、ｍ：ｎ＝５０：５０）は特開２０２１－１９６５１４号公報に記載の方法に準じて製造した。光配向性材料２部とシクロペンタノン（溶剤）９８部とを成分として混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、光配向膜形成用組成物Ａを調製した。
光配向性材料：
【化7】
【0240】
（１－２）重合性液晶化合物の製造
下記に示す構造を有する重合性液晶化合物（Ａ１）及び重合性液晶化合物（Ａ２）を、それぞれ調製した。重合性液晶化合物（Ａ１）は、特開２０１９－００３１７７号公報に記載の方法と同様に準備した。重合性液晶化合物（Ａ２）は、特開２００９－１７３８９３号公報に記載の方法と同様に準備した。
重合性液晶化合物（Ａ１）：
重合性液晶化合物（Ａ２）：
下記に示す構造を有する重合性液晶化合物（Ａ１）及び重合性液晶化合物（Ａ２）を、それぞれ調製した。重合性液晶化合物（Ａ１）は、特開２０１９－００３１７７号公報に記載の方法と同様に準備した。重合性液晶化合物（Ａ２）は、特開２００９－１７３８９３号公報に記載の方法と同様に準備した。
重合性液晶化合物（Ａ１）：
【化8】
重合性液晶化合物（Ａ２）：
【化9】
【0241】
クロロホルム１０ｍＬに重合性液晶化合物（Ａ１）１ｍｇを溶解させて溶液を得た。得られた溶液を光路長１ｃｍの測定用セルに測定用試料を入れ、測定用試料を紫外可視分光光度計（株式会社島津製作所製「ＵＶ－２４５０」）にセットして吸収スペクトルを測定した。得られた吸収スペクトルから極大吸収度となる波長を読み取ったところ、波長３００～４００ｎｍの範囲における極大吸収波長λｍａｘは３５６ｎｍであった。
【0242】
（１－３）位相差膜形成用組成物Ａの調製
重合性液晶化合物（Ａ１）及び重合性液晶化合物（Ａ２）を質量比９０：１０で混合し、混合物を得た。得られた混合物１００部に対して、レベリング剤「ＢＹＫ－３６１Ｎ」（ＢＭ Ｃｈｅｍｉｅ社製）０．１部と、光重合開始剤として「イルガキュアＯＸＥ－０３」（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）３部を添加した。さらに、固形分濃度が１３％となるようにＮ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰ）を添加した。この混合物を温度８０℃で１時間撹拌することにより、位相差膜形成用組成物Ａを調製した。
重合性液晶化合物（Ａ１）及び重合性液晶化合物（Ａ２）を質量比９０：１０で混合し、混合物を得た。得られた混合物１００部に対して、レベリング剤「ＢＹＫ－３６１Ｎ」（ＢＭ Ｃｈｅｍｉｅ社製）０．１部と、光重合開始剤として「イルガキュアＯＸＥ－０３」（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）３部を添加した。さらに、固形分濃度が１３％となるようにＮ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰ）を添加した。この混合物を温度８０℃で１時間撹拌することにより、位相差膜形成用組成物Ａを調製した。
【0243】
（１－４）位相差膜Ａの作製
基材Ａとして二軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（ダイアホイル 三菱樹脂（株）製）に、光配向膜形成用組成物Ａをバーコーターにより塗布した。得られた塗布膜を１２０℃で２分間乾燥させた後、室温まで冷却して乾燥被膜を形成した。その後、ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ－９；ウシオ電機株式会社製）を用いて、偏光紫外光１００ｍＪ（３１３ｎｍ基準）を照射し光配向膜Ａを得た。日本分光株式会社製のエリプソメータ Ｍ－２２０を用いて測定した光配向膜Ａの膜厚は１００ｎｍであった。
基材Ａとして二軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（ダイアホイル 三菱樹脂（株）製）に、光配向膜形成用組成物Ａをバーコーターにより塗布した。得られた塗布膜を１２０℃で２分間乾燥させた後、室温まで冷却して乾燥被膜を形成した。その後、ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ－９；ウシオ電機株式会社製）を用いて、偏光紫外光１００ｍＪ（３１３ｎｍ基準）を照射し光配向膜Ａを得た。日本分光株式会社製のエリプソメータ Ｍ－２２０を用いて測定した光配向膜Ａの膜厚は１００ｎｍであった。
【0244】
得られた光配向膜Ａ上に、上記位相差膜形成用組成物Ａをバーコーターにより塗布し、塗布膜を形成した。この塗布膜を１２０℃で２分間加熱乾燥後、室温まで冷却して乾燥被膜を得た。次いで、高圧水銀ランプ（ウシオ電機株式会社製「ユニキュアＶＢ－１５２０１ＢＹ－Ａ」）を用いて、窒素雰囲気下にて露光量５００ｍＪ／ｃｍ２（３６５ｎｍ基準）の紫外光を前記乾燥被膜に照射することにより、重合性液晶化合物が基材面内に対して水平方向に配向した状態で硬化した位相差膜Ａを形成し、基材Ａ／光配向膜Ａ／位相差膜Ａからなる積層体Ａを得た。オリンパス株式会社製のレーザー顕微鏡ＬＥＸＴ ＯＬＳ４１００を用いて測定した位相差膜Ａの膜厚は２．０μｍであった。
【0245】
積層体Ａの位相差膜Ａの表面にコロナ処理を実施し、厚み２５μｍの粘着剤層（リンテック社製）を介してガラスに貼合し、基材Ａを剥離、除去した。波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍの光に対する面内位相差値を、波長４４８．２ｎｍ、４９８．６ｎｍ、５４８．４ｎｍ、５８７．３ｎｍ、６２８．７ｎｍ、７４８．６ｎｍの光に対する面内位相差値の測定結果から得られたコーシーの分散公式より求めた。
その結果、面内位相差値は、Ｒｅ（４５０）＝１２２ｎｍ、Ｒｅ（５５０）＝１４０ｎｍ、Ｒｅ（６５０）＝１４４ｎｍであり、各波長での面内位相差値の関係は以下の通りとなった。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．８７
Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．０３
（式中、Ｒｅ（４５０）は波長４５０ｎｍの光に対する面内位相差値を、Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍの光に対する面内位相差値を、Ｒｅ（６５０）は波長６５０ｎｍの光に対する面内位相差値を表す。）
その結果、面内位相差値は、Ｒｅ（４５０）＝１２２ｎｍ、Ｒｅ（５５０）＝１４０ｎｍ、Ｒｅ（６５０）＝１４４ｎｍであり、各波長での面内位相差値の関係は以下の通りとなった。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．８７
Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．０３
（式中、Ｒｅ（４５０）は波長４５０ｎｍの光に対する面内位相差値を、Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍの光に対する面内位相差値を、Ｒｅ（６５０）は波長６５０ｎｍの光に対する面内位相差値を表す。）
【0246】
（２）位相差膜Ｂの作製
（２－１）配向膜形成用組成物Ｂの調製
市販の配向性ポリマーであるサンエバーＳＥ－６１０（日産化学工業株式会社製）に２－ブトキシエタノールを固形分量が１％になるよう加えて、配向膜形成用組成物Ｂを得た。
（２－１）配向膜形成用組成物Ｂの調製
市販の配向性ポリマーであるサンエバーＳＥ－６１０（日産化学工業株式会社製）に２－ブトキシエタノールを固形分量が１％になるよう加えて、配向膜形成用組成物Ｂを得た。
【0247】
（２－２）位相差膜形成用組成物Ｂの調製
重合性液晶化合物Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２（ＢＡＳＦジャパン社製）１００部と、レベリング剤「ＢＹＫ－３６１Ｎ」（ＢＹＫ－Ｃｈｅｍｉｅ社製）０．１部と、光重合開始剤「Ｏｍｎｉｒａｄ９０７」（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎ Ｂ．Ｖ．社製）２．５部を混合した。さらに、プロピレングリコール１－モノメチルエーテル２－アセテート（ＰＧＭＥ）４００部を添加し、得られた混合物を温度８０℃で１時間撹拌することにより、位相差膜形成用組成物Ｂを調製した。
重合性液晶化合物ＬＣ２４２：
重合性液晶化合物Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２（ＢＡＳＦジャパン社製）１００部と、レベリング剤「ＢＹＫ－３６１Ｎ」（ＢＹＫ－Ｃｈｅｍｉｅ社製）０．１部と、光重合開始剤「Ｏｍｎｉｒａｄ９０７」（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎ Ｂ．Ｖ．社製）２．５部を混合した。さらに、プロピレングリコール１－モノメチルエーテル２－アセテート（ＰＧＭＥ）４００部を添加し、得られた混合物を温度８０℃で１時間撹拌することにより、位相差膜形成用組成物Ｂを調製した。
重合性液晶化合物ＬＣ２４２：
【化10】
【0248】
（２－３）位相差膜Ｂの作製
基材Ｂとして、環状オレフィン系樹脂（ＣＯＰ）フィルム（日本ゼオン株式会社製、ＺＦ１４）を用いて、その片面にコロナ処理装置（ＡＧＦ－Ｂ１０；春日電機株式会社製）を用いてコロナ処理を施し、その表面に配向膜形成用組成物Ｂを、バーコーターを用いて塗布し、９０℃で１分間乾燥した。得られた配向膜Ｂの膜厚をレーザー顕微鏡で測定したところ、３０ｎｍであった。
基材Ｂとして、環状オレフィン系樹脂（ＣＯＰ）フィルム（日本ゼオン株式会社製、ＺＦ１４）を用いて、その片面にコロナ処理装置（ＡＧＦ－Ｂ１０；春日電機株式会社製）を用いてコロナ処理を施し、その表面に配向膜形成用組成物Ｂを、バーコーターを用いて塗布し、９０℃で１分間乾燥した。得られた配向膜Ｂの膜厚をレーザー顕微鏡で測定したところ、３０ｎｍであった。
【0249】
得られた配向膜Ｂ上に位相差膜形成用組成物Ｂを、バーコーターを用いて塗布し、９０℃で１分間乾燥して乾燥被膜を得た。高圧水銀ランプ（ウシオ電機株式会社製「ユニキュアＶＢ－１５２０１ＢＹ－Ａ」）を用いて、窒素雰囲気下にて露光量１０００ｍＪ／ｃｍ２（３６５ｎｍ基準）の紫外光を前記乾燥被膜に照射することにより位相差膜Ｂを形成し、基材Ｂ／配向膜Ｂ／位相差膜Ｂからなる積層体Ｂを得た。オリンパス株式会社製のレーザー顕微鏡ＬＥＸＴ ＯＬＳ４１００を用いて測定した位相差膜Ｂの膜厚は４５０ｎｍであった。
【0250】
位相差値を測定したところ、Ｒｅ（５５０）＝１ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝－７５ｎｍであった。積層体Ｂは、ｎｘ≒ｎｙ＜ｎｚで表される光学特性を有した。なお、ＣＯＰの波長５５０ｎｍにおける位相差値は略０であるため、当該光学特性には影響しない。
【0251】
（３）位相子１の作製
積層体Ａの位相差膜Ａ及び積層体Ｂの位相差膜Ｂに、それぞれコロナ処理を施した。位相差膜Ａ又は位相差膜Ｂのいずれか一方のコロナ処理面に接着剤を塗布して、積層体Ａと積層体Ｂとを貼り合わせた。接着剤には、上記活性エネルギー線硬化型接着剤１を用いた。コロナ処理装置には、春日電機株式会社製のＡＧＦ－Ｂ１０を用いた。コロナ処理は、上記コロナ処理装置を用いて、出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回行った。積層体Ａ側から紫外線を照射して活性エネルギー線硬化型接着剤１を硬化させて、厚み１．５μｍの接着剤層を形成した。紫外線は、波長３２０ｎｍ～３９０ｎｍのＵＶＡが４２０ｍＪ／ｃｍ２となるように照射した。以上により、基材Ａ／光配向膜Ａ／位相差膜Ａ／接着剤層／位相差膜Ｂ／配向膜Ｂ／基材Ｂからなる基材付きの位相子１を作製した。
積層体Ａの位相差膜Ａ及び積層体Ｂの位相差膜Ｂに、それぞれコロナ処理を施した。位相差膜Ａ又は位相差膜Ｂのいずれか一方のコロナ処理面に接着剤を塗布して、積層体Ａと積層体Ｂとを貼り合わせた。接着剤には、上記活性エネルギー線硬化型接着剤１を用いた。コロナ処理装置には、春日電機株式会社製のＡＧＦ－Ｂ１０を用いた。コロナ処理は、上記コロナ処理装置を用いて、出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回行った。積層体Ａ側から紫外線を照射して活性エネルギー線硬化型接着剤１を硬化させて、厚み１．５μｍの接着剤層を形成した。紫外線は、波長３２０ｎｍ～３９０ｎｍのＵＶＡが４２０ｍＪ／ｃｍ２となるように照射した。以上により、基材Ａ／光配向膜Ａ／位相差膜Ａ／接着剤層／位相差膜Ｂ／配向膜Ｂ／基材Ｂからなる基材付きの位相子１を作製した。
【0252】
［位相子３の作製］
活性エネルギー線硬化型接着剤１の代わりに、活性エネルギー線硬化型接着剤２を用いたこと以外は位相子１と同様にして、位相子３を作製した。
活性エネルギー線硬化型接着剤１の代わりに、活性エネルギー線硬化型接着剤２を用いたこと以外は位相子１と同様にして、位相子３を作製した。
【0253】
＜実施例１～１７＞
上記第１保護層１～２から選択される第１保護層と、上記偏光子１～２から選択される偏光子と、上記第２保護層１～６から選択される保護フィルムと、上記位相子１又は３とを貼合した。次いで、位相子１又は３における第２保護層とは反対側の面に粘着剤層を積層して、光学積層体を得た。具体的には次のとおりである。
上記第１保護層１～２から選択される第１保護層と、上記偏光子１～２から選択される偏光子と、上記第２保護層１～６から選択される保護フィルムと、上記位相子１又は３とを貼合した。次いで、位相子１又は３における第２保護層とは反対側の面に粘着剤層を積層して、光学積層体を得た。具体的には次のとおりである。
【0254】
第１保護層及び第２保護層の表面（第２保護層を有する積層体を用いた場合は、該積層体の第２保護層の表面）の一方面に、それぞれコロナ処理を施した。偏光子の一方の面に、水系接着剤を塗布し、第１保護層を貼り合わせた。偏光子のもう一方の面に、水系接着剤を塗布し、第２保護層（又は第２保護層を有する積層体）を貼り合わせた。その後、乾燥させて偏光板を得た。前記水系接着剤は、水１００部に対して、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール〔株式会社クラレから入手した商品名「ＫＬ－３１８」〕を３部溶解させ、水溶性エポキシ樹脂であるポリアミドエポキシ系添加剤〔田岡化学工業株式会社製の商品名「スミレーズレジン ６５０（３０）」、固形分濃度３０％の水溶液〕を１．５部添加したものである。以上により、第１保護層／接着剤層／偏光子／接着剤層／第２保護層からなる積層体Ｘを得た。ここで、第２保護層を有する積層体を用いた場合は、積層体Ｘは、第１保護層／接着剤層／偏光子／接着剤層／第２保護層／支持基材となる。
【0255】
次に、上記積層体Ｘの第２保護層の表面（積層体Ｘが支持基材を有する場合は、支持基材を剥離除去した表面）及び位相子１又は３の基材Ａを剥離除去することにより露出した表面に、それぞれコロナ処理を施した。コロナ処理装置には、春日電機株式会社製のＡＧＦ－Ｂ１０を用いた。コロナ処理は、上記コロナ処理装置を用いて、出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回行った。積層体Ｘのコロナ処理面と位相子１又は３のコロナ処理面とを、上記粘着剤層１を介して貼り合わせた。その後、位相子１又は３の基材Ｂを剥離除去して、第１保護層／接着剤層／偏光子／接着剤層／第２保護層／粘着剤層１／光配向膜Ａ／位相差膜Ａ／接着剤層／位相差膜Ｂ／配向膜Ｂをこの順に含む積層体Ｙを得た。最後に、積層体Ｙの配向膜Ｂ側の面に上記粘着剤層２を積層して、光学積層体を得た。各実施例で使用した第１保護層、偏光子、第２保護層及び位相子の種類を下記表の「層構成」の欄に示す。
【0256】
＜実施例１８～１９＞
第２保護層を積層しないこと以外は実施例１～１７と同様の手法により、第１保護層／接着剤層／偏光子からなる積層体Ｚを得た。支持基材の厚み５０μｍの環状ポリオレフィンフィルム２枚のうちの一方を積層体Ｚに変更し、紫外線を環状ポリオレフィンフィルム側から照射したこと以外は第２保護層８又は９の作製手法と同様にして、第１保護層／接着剤層／偏光子／第２保護層／支持基材からなる積層体Ｚ’を得た。次に、積層体Ｚ’の支持基材を剥離除去することにより露出した表面、及び位相子３の基材Ａを剥離除去することにより露出した表面に、それぞれコロナ処理（０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分）を施した。積層体Ｚ’のコロナ処理面と位相子３のコロナ処理面とを、上記粘着剤層１を介して貼り合わせた。その後、位相子３の基材Ｂを剥離除去して、第１保護層／接着剤層／偏光子／第２保護層／粘着剤層１／光配向膜Ａ／位相差膜Ａ／接着剤層／位相差膜Ｂ／配向膜Ｂをこの順に含む積層体を得た。最後に、この積層体の配向膜Ｂ側の面に上記粘着剤層２を積層して、光学積層体を得た。各実施例で使用した第１保護層、偏光子、第２保護層及び位相子の種類を下記表の「層構成」の欄に示す。
第２保護層を積層しないこと以外は実施例１～１７と同様の手法により、第１保護層／接着剤層／偏光子からなる積層体Ｚを得た。支持基材の厚み５０μｍの環状ポリオレフィンフィルム２枚のうちの一方を積層体Ｚに変更し、紫外線を環状ポリオレフィンフィルム側から照射したこと以外は第２保護層８又は９の作製手法と同様にして、第１保護層／接着剤層／偏光子／第２保護層／支持基材からなる積層体Ｚ’を得た。次に、積層体Ｚ’の支持基材を剥離除去することにより露出した表面、及び位相子３の基材Ａを剥離除去することにより露出した表面に、それぞれコロナ処理（０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分）を施した。積層体Ｚ’のコロナ処理面と位相子３のコロナ処理面とを、上記粘着剤層１を介して貼り合わせた。その後、位相子３の基材Ｂを剥離除去して、第１保護層／接着剤層／偏光子／第２保護層／粘着剤層１／光配向膜Ａ／位相差膜Ａ／接着剤層／位相差膜Ｂ／配向膜Ｂをこの順に含む積層体を得た。最後に、この積層体の配向膜Ｂ側の面に上記粘着剤層２を積層して、光学積層体を得た。各実施例で使用した第１保護層、偏光子、第２保護層及び位相子の種類を下記表の「層構成」の欄に示す。
【0257】
＜比較例１＞
特許文献１の実施例１に準拠して、第１保護層／接着剤層／偏光子／接着剤層／第２保護層／アクリル系粘着剤層／位相差膜（λ／４位相差板）／接着剤層／位相差膜Ｂ（ポジティブＣプレート）／アクリル系粘着剤層をこの順に含む光学積層体を作製した。第１保護層は、上記第１保護層１に相当する。偏光子は、上記偏光子２に相当する。第２保護層は、厚みＴ２が２０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（富士フイルム株式会社製「ＺＲＧ２０ＳＬ」）である。この第２保護層を第２保護層７とする。第２保護層７の温度８５℃における引張弾性率Ｅ２は８３０ＭＰａ、透湿度は１８００ｇ／ｍ２／２４ｈｒ、光弾性率は８．８×１０－１２Ｐａ－１であった。また、比較例１における位相子を位相子２とする。使用した第１保護層、偏光子、第２保護層及び位相子の種類を下記表の「層構成」の欄に示す。
特許文献１の実施例１に準拠して、第１保護層／接着剤層／偏光子／接着剤層／第２保護層／アクリル系粘着剤層／位相差膜（λ／４位相差板）／接着剤層／位相差膜Ｂ（ポジティブＣプレート）／アクリル系粘着剤層をこの順に含む光学積層体を作製した。第１保護層は、上記第１保護層１に相当する。偏光子は、上記偏光子２に相当する。第２保護層は、厚みＴ２が２０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（富士フイルム株式会社製「ＺＲＧ２０ＳＬ」）である。この第２保護層を第２保護層７とする。第２保護層７の温度８５℃における引張弾性率Ｅ２は８３０ＭＰａ、透湿度は１８００ｇ／ｍ２／２４ｈｒ、光弾性率は８．８×１０－１２Ｐａ－１であった。また、比較例１における位相子を位相子２とする。使用した第１保護層、偏光子、第２保護層及び位相子の種類を下記表の「層構成」の欄に示す。
【0258】
＜比較例２、３＞
第２保護層を積層しなかったこと、及び、下記表に示す第１保護層、偏光子及び位相子を用いたこと以外は実施例１～１７と同様にして、第１保護層／接着剤層／偏光子／粘着剤層１／位相差膜Ａ／接着剤層／位相差膜Ｂ／配向膜Ｂ／粘着剤層２をこの順に含む光学積層体を作製した。使用した第１保護層、偏光子及び位相子の種類を下記表の「層構成」の欄に示す。
第２保護層を積層しなかったこと、及び、下記表に示す第１保護層、偏光子及び位相子を用いたこと以外は実施例１～１７と同様にして、第１保護層／接着剤層／偏光子／粘着剤層１／位相差膜Ａ／接着剤層／位相差膜Ｂ／配向膜Ｂ／粘着剤層２をこの順に含む光学積層体を作製した。使用した第１保護層、偏光子及び位相子の種類を下記表の「層構成」の欄に示す。
【0259】
＜実施例２０＞
位相子３の代わりに位相子１を使用したこと以外は実施例１８と同様にして、第１保護層／接着剤層／偏光子／第２保護層／粘着剤層１／光配向膜Ａ／位相差膜Ａ／接着剤層／位相差膜Ｂ／配向膜Ｂ／粘着剤層２をこの順に含む光学積層体を得た。使用した第１保護層、偏光子、第２保護層及び位相子の種類を下記表の「層構成」の欄に示す。
位相子３の代わりに位相子１を使用したこと以外は実施例１８と同様にして、第１保護層／接着剤層／偏光子／第２保護層／粘着剤層１／光配向膜Ａ／位相差膜Ａ／接着剤層／位相差膜Ｂ／配向膜Ｂ／粘着剤層２をこの順に含む光学積層体を得た。使用した第１保護層、偏光子、第２保護層及び位相子の種類を下記表の「層構成」の欄に示す。
【0260】
＜比較例４＞
第２保護層２の代わりに第２保護層７を使用したこと以外は実施例７と同様にして、第１保護層／接着剤層／偏光子／第２保護層／粘着剤層１／光配向膜Ａ／位相差膜Ａ／接着剤層／位相差膜Ｂ／配向膜Ｂ／粘着剤層２をこの順に含む光学積層体を得た。使用した第１保護層、偏光子、第２保護層及び位相子の種類を下記表の「層構成」の欄に示す。
第２保護層２の代わりに第２保護層７を使用したこと以外は実施例７と同様にして、第１保護層／接着剤層／偏光子／第２保護層／粘着剤層１／光配向膜Ａ／位相差膜Ａ／接着剤層／位相差膜Ｂ／配向膜Ｂ／粘着剤層２をこの順に含む光学積層体を得た。使用した第１保護層、偏光子、第２保護層及び位相子の種類を下記表の「層構成」の欄に示す。
【0261】
実施例及び比較例で作製した光学積層体について行った、位相差変化量の面内バラツキの評価及び金属腐食の評価の結果を下記表に示す。
【0262】
【表1】
【0263】
【表2】
【0264】
【表3】
【符号の説明】
【0265】
５ 偏光子、１０ 第１保護層、２０ 第２保護層、３０ 位相子、４１ 第１粘接着剤層、４２ 第２粘接着剤層、４３ 第３粘接着剤層、５０ 粘着剤層、１６ 積層体α、１７ 糊付き台紙、１８ 切抜部。
【図1】
【図2】
【図3】
