(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-10-18
(45)【発行日】2024-10-28
(54)【発明の名称】研磨装置及び研磨方法
(51)【国際特許分類】
B24B 37/00 20120101AFI20241021BHJP
B24B 55/06 20060101ALI20241021BHJP
B24B 57/02 20060101ALI20241021BHJP
H01L 21/304 20060101ALI20241021BHJP
【ＦＩ】
B24B37/00 K
B24B55/06
B24B57/02
H01L21/304 622E
【請求項の数】
22
(21)【出願番号】P 2021002919
(22)【出願日】2021-01-12
(65)【公開番号】P2021146498
(43)【公開日】2021-09-27
【審査請求日】2023-10-05
(31)【優先権主張番号】P 2020044050
(32)【優先日】2020-03-13
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(73)【特許権者】
【識別番号】000000239
【氏名又は名称】株式会社荏原製作所
(74)【代理人】
【識別番号】100106208
【弁理士】
【氏名又は名称】宮前 徹
(74)【代理人】
【識別番号】100146710
【弁理士】
【氏名又は名称】鐘ヶ江 幸男
(74)【代理人】
【識別番号】100186613
【弁理士】
【氏名又は名称】渡邊 誠
(74)【代理人】
【識別番号】100117640
【弁理士】
【氏名又は名称】小野 達己
(72)【発明者】
【氏名】森浦 拓也
(72)【発明者】
【氏名】寺田 哲也
(72)【発明者】
【氏名】外崎 宏
(72)【発明者】
【氏名】曽根 忠一
(72)【発明者】
【氏名】伊藤 雅佳
(72)【発明者】
【氏名】小畠 厳貴
(72)【発明者】
【氏名】松尾 尚典
【審査官】マキロイ 寛済
(56)【参考文献】
【文献】米国特許出願公開第２０１２／０２２０２０６（ＵＳ，Ａ１）
【文献】特開２００３－２２５８６２（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開平１１－１１４８１１（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｂ２４Ｂ ３７／００
Ｂ２４Ｂ ５５／０６
Ｂ２４Ｂ ５７／０２
Ｈ０１Ｌ ２１／３０４
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
研磨面を有する研磨パッドを使用して対象物の研磨を行う研磨装置であって、研磨液供給装置と、
前記研磨面に対して水平移動可能なアームと、
前記アームを昇降する昇降機構と、
前記アーム及び前記研磨液供給装置に連結され、前記研磨液供給装置を前記研磨パッドの前記研磨面に追従させる追従機構と、
前記アーム及び前記研磨液供給装置に連結され、前記昇降機構による前記アームの昇降時において前記研磨液供給装置を吊り下げる吊下機構と、
を備え、
前記追従機構は、
２つのロッドであって、各ロッドが第１端及び第２端を有し、各ロッドの第１端が、前記研磨液供給装置に対して第１の球面ジョイントを介して取り付けられる２つのロッドと、
前記２つのロッドの間にて前記アームに対して固定され、前記各ロッドの第２端を摺動自在に受け入れる２つの第２の球面ジョイントと、を有し、
前記吊下機構は、
前記研磨液供給装置に対して固定された第１ストッパと、
前記アームに対して固定され、前記アームが前記研磨液供給装置に対して上昇する際に前記第１ストッパに係合する係合部と、
を備える研磨装置。
【請求項2】
請求項１に記載の研磨装置において、前記第１ストッパ又は前記係合部の一方は、シャフトに設けられた大径部であり、
前記第１ストッパ又は前記係合部の他方は、前記シャフトが通過する貫通穴又は切り欠きの周辺部であり、
前記大径部が前記貫通穴又は切り欠きの周辺部に係合する、
研磨装置。
【請求項3】
請求項２に記載の研磨装置において、前記シャフトの前記大径部は、前記シャフトに設けられた環状部材である、研磨装置。
【請求項4】
請求項１から３の何れかに記載の研磨装置において、前記追従機構は、前記アームに対して固定されたハウジングを有し、
前記第２の球面ジョイントは、前記ハウジングの両側側面に設けられている、
研磨装置。
【請求項5】
請求項４に記載の研磨装置において、前記追従機構は、前記ハウジングに対して固定され前記各ロッドの前記第１端及び前記第２端の間の部分に下方から係合する第２ストッパを更に有する、研磨装置。
【請求項6】
請求項５に記載の研磨装置において、前記第２ストッパは、前記各ロッドの前記第１端及び前記第２端の間の部分に係合する溝を有する、研磨装置。
【請求項7】
請求項１から６の何れかに記載の研磨装置において、前記各ロッドの前記第１端は、前記研磨液供給装置の底面近傍に対して取り付けられる、研磨装置。
【請求項8】
請求項１から７の何れかに記載の研磨装置において、前記各ロッドは前記第１端にロッドエンドを有し、前記ロッドエンドに前記第１の球面ジョイントが設けられる、研磨装置。
【請求項9】
請求項１から８の何れかの研磨装置において、前記研磨液供給装置は、前記研磨パッドの回転方向に関し、前記アームの下流側に配置される、研磨装置。
【請求項10】
請求項１から９の何れかの研磨装置において、前記アームを旋回する旋回機構を更に備える、研磨装置。
【請求項11】
請求項１から１０の何れかの研磨装置において、前記研磨液供給装置は、
パッド本体と、
前記パッド本体に対して固定される複数の錘と、
を有する、研磨装置。
【請求項12】
請求項１１に記載の研磨装置において、前記研磨液供給装置は、
前記パッド本体及び前記錘を覆うカバーと、
前記カバーと前記パッド本体との間をシールするパッキンと、
を更に有する、研磨装置。
【請求項13】
請求項１から１１の何れかに記載の研磨装置において、前記研磨液供給装置、前記追従機構、及び前記吊下機構を覆う第１カバーを更に備える、研磨装置。
【請求項14】
請求項１３に記載の研磨装置において、前記第１カバーは、その上面において、前記研磨液供給装置、前記追従機構、及び／又は前記吊下機構の一部を露出し、
前記研磨装置は、前記第１カバーから露出する部分を覆う第２カバーを更に備える、
研磨装置。
【請求項15】
請求項１３又は１４に記載の研磨装置において、前記研磨液供給装置は、パッド本体を有し、
前記パッド本体は、前記第１カバーの底面において前記第１カバーと所定の隙間を空けて露出している、研磨装置。
【請求項16】
請求項１５に記載の研磨装置において、前記研磨パッドの回転方向に関して上流側において、前記パッド本体は、底面より高い位置で前記上流側に突出するかえしを有する、研磨装置。
【請求項17】
請求項１６に記載の研磨装置において、前記研磨液供給装置は、前記パッド本体上に配置される１又は複数の錘を更に有する、研磨装置。
【請求項18】
請求項１３から１７の何れかに記載の研磨装置において、前記吊下機構と前記アームとの接続箇所を囲む防水構造を備え、
前記防水構造は、少なくとも一部にラビリンス構造を有する、研磨装置。
【請求項19】
請求項１８に記載の研磨装置において、前記防水構造は、
前記第２カバーの上面から突出して設けられ、前記吊下機構と前記アームとの接続箇所を囲む第１防水壁と、
前記第１防水壁から連続して、前記アームの両側を前記アームと隙間を空けて前記アームに沿って延びる第２防水壁と、
前記アームの両側面に設けられる第３防水壁であり、前記アームに沿って前記第２防水壁の外側を前記第２防水壁と隙間を空けて延び、前記第１防水壁と隙間を空けて終端する第３防水壁と、
を有し、
前記第１防水壁、前記第２防水壁及び前記第３防水壁がラビリンス構造のシールを構成する、研磨装置。
【請求項20】
請求項１から１９の何れかに記載の研磨装置において、前記研磨パッドの外側に配置された、前記研磨液供給装置を洗浄するための洗浄装置を更に備える、研磨装置。
【請求項21】
請求項１から２０の何れかに記載の研磨装置を使用して対象物を研磨する方法であって、前記研磨液供給装置に接続された前記アームを下降させて、研磨パッドの研磨面上に前記研磨液供給装置を着地させた後、前記アームを更に下降させて、前記係合部の前記第１ストッパに対する係合を解除し、前記アームによる前記研磨液供給装置の保持を解除すること、
前記研磨液供給装置から前記研磨面に研磨液を供給すると共に、前記研磨パッド及び／又は前記対象物を回転させつつ前記対象物を前記研磨面に押し付けて研磨すること、
研磨終了後に、前記アームを上昇させて、前記係合部を前記第１ストッパに係合させて前記アームにより前記研磨液供給装置を保持し、前記研磨液供給装置を前記アームと共に上昇させること、
を含む方法。
【請求項22】
請求項２１に記載の方法において、前記研磨液供給装置を前記アームと共に上昇させた後に、前記アームを旋回させることにより前記研磨液供給装置を前記研磨パッド外に水平移動させることを更に含む方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、研磨装置及び研磨方法に関する。
【背景技術】
【0002】
半導体デバイスの製造工程においては、半導体デバイス表面の平坦化技術がますます重要になっている。平坦化技術としては、化学的機械研磨（ＣＭＰ(chemical Mechanical Polishing)）が知られている。この化学的機械研磨は、研磨装置を用いて、シリカ（ＳｉＯ２）及び／又はセリア（ＣｅＯ２）等の砥粒を含んだ研磨液（スラリー）を研磨パッドに供給しつつ半導体ウェハなどの基板を研磨パッドに摺接させて研磨を行うものである。
【0003】
ＣＭＰプロセスを行う研磨装置は、研磨パッドを支持する研磨テーブルと、基板を保持するためのトップリング又は研磨ヘッド等と称される基板保持機構と、を備えている。この研磨装置は、研磨液供給ノズルから研磨液を研磨パッドに供給し、基板を研磨パッドの表面（研磨面）に対して所定の圧力で押圧する。このとき、研磨テーブルと基板保持機構とを回転させることにより基板が研磨面に摺接し、基板の表面が平坦かつ鏡面に研磨される。
【0004】
ここで、ＣＭＰ装置に使用される研磨液は、高価であり、使用済みの研磨液の処分にもコストを要するため、ＣＭＰ装置の運転コスト及び半導体デバイスの製造コスト削減のためには、研磨液の使用量の削減が求められる。また、使用済みの研磨液及び副生成物が、基板の品質及び／又は研磨レートに与える影響を抑制ないし防止することが求められている。
【0005】
本課題の解決策の一つとして、研磨装置には、研磨パッド上に載置されるパッド状又はボックス状の研磨液供給装置又は調整機構を介して研磨液を研磨パッド上に供給するものがある（例えば、特許文献１から５）。これら研磨液供給装置又は調整機構ではワイパーや囲い形状のタンクやインジェクタを研磨パッドに押し付けて、研磨液の流れを調製している。具体的には、特許文献１には、研磨剤供給機構から研磨面上に供給される研磨剤を、ワイパーとして機能する調整機構で満遍なく延ばして基板に供給する構成が記載されている。特許文献２には、研磨テーブルの中心から遠心力で広がり研磨テーブル外に向かう研磨液を、直方体容器の一方の側壁を超えて流入させ、他方の側壁のうち研磨面中心側から基板に供給する構成が記載されている。
【0006】
特許文献３には、底のない囲いの形状のタンクを研磨面に載置し、タンクの壁と研磨面との間から研磨液を供給するとともに、押し付け軸によりタンクを研磨面に押し付ける構成が記載されている。また、特許文献４に記載されるように、ワイパーブレードを研磨面に接触させ、ワイパーブレードと研磨面との間から研磨液を基板保持位置に供給するものがある。この構成では、ワイパーブレードの研磨面に対する押し付け力を調整するために、アクチュエータでワイパーブレードを押圧している。
【0007】
特許文献５に記載される装置では、内部に錘を備えるパッド状のインジェクタ（供給装置）により研磨液を研磨面上に供給するものが記載されている。このパッド状の供給装置は、研磨テーブル外の支持構造に接続されたロッドにより研磨面上に支持され、自重で研磨面に押圧されつつ、底面と研磨面との間の隙間から研磨液を基板保持位置に向かって供給するものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0008】
【文献】特開平１０－２１７１１４号
【文献】特許第２９０３９８０号
【文献】特開平１１－１１４８１１号
【文献】特表２０１９－５２０９９１号
【文献】米国特許第８８４５３９５号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0009】
上記文献に開示の供給装置及び調整機構では、研磨処理中、研磨面上に配置される供給装置及び調整機構に、研磨液及び／又は研磨残渣等が飛散して研磨液供給装置の表面及び内部に付着する場合がある。付着した研磨液及び／又は研磨残渣等は、供給装置の表面や内部で固化して、研磨面上に落下することがあり、その場合、基板表面にダメージを与えることで、研磨品質に影響を与える可能性がある。ここで、通常の研磨装置では研磨後の研磨パッド表面の洗浄を目的として、アトマイザーや高圧水リンス等のパッド洗浄機構が付加されており、本洗浄機構によるパッド洗浄の際に、供給装置に付着した一部の研磨液の除去はできる。しかし、本洗浄は研磨パッド上での洗浄のため、除去された研磨液及び／又は研磨残渣等が研磨パッド上に残留する可能性があり、その場合、次研磨の基板に対して残留した研磨液及び／研磨残渣等によるダメージが発生するおそれがある。従って、供給装置に付着した研磨液／又は研磨残渣等研磨パッドの範囲外で除去できることが好ましい。
【0010】
また、上記文献に開示の供給装置及び調整機構では、研磨パッドに押し付けて研磨液流れを調製するため、研磨処理時に研磨テーブルの回転により、研磨液供給装置と研磨パッドとの間に摩擦トルクが発生することにより、供給装置が傾いたり、振動が生じて、供給装置と研磨パッドとの接触状態が不均一になる。その場合、研磨液の流れの調整が不均一になることで、研磨性能が変動してしまう。よって、研磨性能の安定性の観点からは、研磨時において、摩擦トルクによる供給装置と研磨パッドとの接触状態の不均一化を抑制／防止することが望まれる。
【0011】
本発明の目的は、上述した課題の少なくとも一部を解決する研磨液供給システムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0012】
本発明の一側面によれば、 研磨面を有する研磨パッドを使用して対象物の研磨を行う研磨装置であって、 研磨液供給装置と、 前記研磨パッドに対して水平移動可能なアームと、 前記アームを昇降する昇降機構と、 前記アーム及び前記研磨液供給装置に連結され、前記研磨液供給装置を前記研磨パッドの前記研磨面に追従させる追従機構と、 前記アーム及び前記研磨液供給装置に連結され、前記昇降機構による前記アームの昇降時において前記研磨液供給装置を吊り下げる吊下機構と、を備え、 前記追従機構は、 ２つのロッドであって、各ロッドが第１端及び第２端を有し、各ロッドの第１端が、前記研磨液供給装置に対して第１の球面ジョイントを介して取り付けられる２つのロッドと、 前記２つのロッドの間にて前記アームに対して固定され、前記各ロッドの第２端を摺動自在に受け入れる２つの第２の球面ジョイントと、を有し、 前記吊下機構は、 前記研磨液供給装置に対して固定された第１ストッパと、 前記アームに対して固定され、前記アームが前記研磨液供給装置に対して上昇する際に前記第１ストッパに係合する係合部と、 を備える研磨装置が提供される。
【0013】
本発明の一側面によれば、 研磨面を有する研磨パッドを使用して対象物を研磨する方法であって、 研磨液供給装置に接続されたアームを下降させて、前記研磨面上に研磨液供給装置を着地させた後、前記アームを更に下降させて、前記アームによる前記研磨液供給装置の保持を解除すること、 前記研磨面に研磨液を供給すると共に、前記研磨パッド及び／又は前記対象物を回転させつつ前記対象物を前記研磨面に押し付けて研磨すること、 研磨終了後に、前記アームを上昇させて、前記アームにより前記研磨液供給装置を保持し、前記研磨液供給装置を前記アームと共に上昇させること、を含む方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【0014】
【図1】本発明の一実施形態に係る研磨装置の概略構成を示す図である。
【図2】研磨液供給システムの下流側から見た斜視図である。
【図3】研磨液供給システムの上流側から見た斜視図である。
【図4】昇降機構の構成を示す模式図である。
【図5】研磨液供給装置の斜視図である。
【図6】研磨液供給装置の分解斜視図である。
【図7】研磨液供給装置のパッド本体を底面側から見た斜視図である。
【図8A】上流側からみた追従機構及び吊下機構の動作を説明するための説明図である。
【図8B】上流側からみた追従機構及び吊下機構の動作を説明するための説明図である。
【図8C】上流側からみた追従機構及び吊下機構の動作を説明するための説明図である。
【図9A】下流側からみた追従機構及び吊下機構の動作を説明するための説明図である。
【図9B】下流側からみた追従機構及び吊下機構の動作を説明するための説明図である。
【図9C】下流側からみた追従機構及び吊下機構の動作を説明するための説明図である。
【図10】第２実施形態に係る研磨液供給機構の斜視図である。
【図11】補助カバーを取り外した状態の研磨液供給機構の平面図を示す。
【図12】補助カバー及び上カバーを取り外した状態の研磨液供給機構の斜視図である。
【図13】研磨液供給機構の分解斜視図である。
【図14】研磨液供給機構の底面図である。
【図15】研磨液供給機構の短辺の側からみた側面図である。
【発明を実施するための形態】
【0015】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。添付図面において、同一または類似の要素には同一または類似の参照符号が付され、各実施形態の説明において同一または類似の要素に関する重複する説明は省略することがある。また、各実施形態で示される特徴は、互いに矛盾しない限り他の実施形態にも適用可能である。
【0016】
本明細書において「基板」には、半導体基板、ガラス基板、液晶基板、プリント回路基板だけでなく、磁気記録媒体、磁気記録センサ、ミラー、光学素子、微小機械素子、あるいは部分的に製作された集積回路、その他任意の被処理対象物を含む。基板は、多角形、円形を含む任意の形状のものを含む。また、本明細書において「前面」、「後面」、「前方」、「後方」、「上」、「下」、「左」、「右」、「鉛直」、「水平」等の表現を用いる場合があるが、これらは、説明の都合上、例示の図面の紙面上における位置、方向を示すものであり、装置使用時等の実際の配置では異なる場合がある。
【0017】
＜第１実施形態＞
（研磨装置の概略構成）
図１は、本発明の一実施形態に係る研磨装置の概略構成を示す図である。本実施形態の研磨装置１は、研磨面１０２を有する研磨パッド１００を使用して、研磨対象物としての半導体ウェハ等の基板ＷＦの研磨を行うことができるように構成されている。図示するように、研磨装置１は、研磨パッド１００を支持する研磨テーブル２０と、基板を保持して研磨パッド１００の研磨面１０２に押し当てるトップリング（基板保持部）３０と、を備えている。さらに、研磨装置１は、研磨パッド１００に研磨液（スラリー）を供給する研磨液供給システム４０と、研磨面１０２に純水等の液体及び／又は窒素等のガスを噴射し
て、使用済みのスラリー、研磨残渣等を洗い流すためのアトマイザー５０と、を備えている。
（研磨装置の概略構成）
図１は、本発明の一実施形態に係る研磨装置の概略構成を示す図である。本実施形態の研磨装置１は、研磨面１０２を有する研磨パッド１００を使用して、研磨対象物としての半導体ウェハ等の基板ＷＦの研磨を行うことができるように構成されている。図示するように、研磨装置１は、研磨パッド１００を支持する研磨テーブル２０と、基板を保持して研磨パッド１００の研磨面１０２に押し当てるトップリング（基板保持部）３０と、を備えている。さらに、研磨装置１は、研磨パッド１００に研磨液（スラリー）を供給する研磨液供給システム４０と、研磨面１０２に純水等の液体及び／又は窒素等のガスを噴射し
て、使用済みのスラリー、研磨残渣等を洗い流すためのアトマイザー５０と、を備えている。
【0018】
研磨テーブル２０は、円盤状に形成されており、その中心軸を回転軸線として回転可能に構成される。研磨テーブル２０には、貼付け等によって研磨パッド１００が取り付けられる。研磨パッド１００の表面は、研磨面１０２を形成する。研磨パッド１００は、図示しないモータによって研磨テーブル２０が回転することにより、研磨テーブル２０と一体に回転する。
【0019】
トップリング３０は、その下面において、研磨対象物としての基板ＷＦを真空吸着などによって保持する。トップリング３０は、図示しないモータからの動力により基板と共に回転可能に構成されている。トップリング３０の上部は、シャフト３１を介して支持アーム３４に接続されている。トップリング３０は、図示しないエアシリンダやボールねじを介したモータ駆動によって上下方向に移動可能であり、研磨テーブル２０との距離を調整可能である。これにより、トップリング３０は、保持した基板ＷＦを研磨パッド１００の表面（研磨面１０２）に押し当てることができる。また、トップリング３０は図示しないが、その内部に複数の領域に分割されたエアバッグを有し、各エアバッグ領域に任意のエア等の流体圧力を供給することで、基板ＷＦを背面から加圧する。さらに、支持アーム３４は、図示しないモータにより旋回可能に構成されており、トップリング３０を研磨面１０２に平行な方向に移動させる。本実施形態では、トップリング３０は、図示しない基板の受取位置と、研磨パッド１００の上方位置とで移動可能に構成されているとともに、研磨パッド１００に対する基板ＷＦの押し当て位置を変更可能なように構成されている。以下、トップリング３０による基板ＷＦの押し当て位置（保持位置）を「研磨領域」ともいう。
【0020】
研磨液供給システム４０は、研磨パッド１００に研磨液（スラリー）を供給する研磨液供給装置４１を有し、研磨液供給装置４１を、研磨面１０２上の供給位置と、研磨テーブル２０の外側の退避位置との間で移動可能に構成されている。また、研磨液供給システム４０は、研磨液供給装置４１の研磨面１０２上における供給位置を変更可能に構成されている。研磨液供給システム４０の詳細については後述する。
【0021】
アトマイザー５０は、１又は複数のノズルを介して、研磨面１０２に液体及び／又は気体（例えば、純水、窒素）を噴射して、使用済みのスラリー、研磨残渣等を洗い流す装置である。アトマイザー５０は、昇降及び／又は旋回機構５１に接続されている。アトマイザー５０は、昇降及び／又は旋回機構５１により、研磨面１０２上の動作位置と、研磨テーブル２０の外側の退避位置との間で移動可能に構成されている。また、アトマイザー５０は、昇降及び／又は旋回機構５１により、研磨面１０２上における動作位置、高さを変更可能に構成されている。
【0022】
研磨装置１は、研磨装置１の動作全般を制御する制御装置２００を更に備えている。制御装置２００は、ＣＰＵ、メモリ等を備え、研磨レシピ等のソフトウェア及び／又は予め入力された関連機器のマシンパラメータの情報を用いて所望の機能を実現するマイクロコンピュータとして構成されてもよいし、専用の演算処理を行うハードウェア回路として構成されてもよいし、マイクロコンピュータと、専用の演算処理を行うハードウェア回路との組み合わせで構成されてもよい。
【0023】
研磨装置１では、以下のようにして基板ＷＦの研磨が行われる。まず、基板ＷＦを下面に保持するトップリング３０を回転させると共に、研磨パッド１００を回転させる。この状態で、後述する研磨液供給システム４０を用いて、スラリーを供給する。具体的には、研磨液供給装置４１が、それに係合するアーム６０の昇降旋回機構７０（後述）による旋
回動作により、スラリー供給前に研磨パッド１００の研磨面１０２の所定位置に移動された後、スラリー供給開始と同時に、旋回昇降機構７０の昇降動作により研磨パッド１００の研磨面１０２に下降され、研磨面１０２に接触する。なお、研磨液供給装置４１の旋回停止及び降下のそれぞれの動作と供給開始動作の関係は、上記に限定されず、装置の仕様によって適宜設定され得る。その後、トップリング３０に保持された基板ＷＦが研磨面１０２に対して押し当てられる。これにより、基板ＷＦの表面がスラリーの存在下で研磨パッド１００と接触した状態で、基板ＷＦと研磨パッド１００とが相対移動する。こうして、基板は研磨される。また、研磨終了後は昇降旋回機構７０により研磨液供給装置４１が上昇され、その後、昇降旋回機構７０によるアーム６０の旋回動作により研磨パッド１００の外側の退避位置に移動された後、洗浄ノズル３００にて洗浄される。また、これらの一連の動作シーケンスについては、制御装置２００に内在する研磨レシピ及び／又は予め設定されたマシンパラメータにて事前に設定可能である。
回動作により、スラリー供給前に研磨パッド１００の研磨面１０２の所定位置に移動された後、スラリー供給開始と同時に、旋回昇降機構７０の昇降動作により研磨パッド１００の研磨面１０２に下降され、研磨面１０２に接触する。なお、研磨液供給装置４１の旋回停止及び降下のそれぞれの動作と供給開始動作の関係は、上記に限定されず、装置の仕様によって適宜設定され得る。その後、トップリング３０に保持された基板ＷＦが研磨面１０２に対して押し当てられる。これにより、基板ＷＦの表面がスラリーの存在下で研磨パッド１００と接触した状態で、基板ＷＦと研磨パッド１００とが相対移動する。こうして、基板は研磨される。また、研磨終了後は昇降旋回機構７０により研磨液供給装置４１が上昇され、その後、昇降旋回機構７０によるアーム６０の旋回動作により研磨パッド１００の外側の退避位置に移動された後、洗浄ノズル３００にて洗浄される。また、これらの一連の動作シーケンスについては、制御装置２００に内在する研磨レシピ及び／又は予め設定されたマシンパラメータにて事前に設定可能である。
【0024】
上述の研磨装置１の構成は一例であり、他の構成を採用してもよい。例えば、研磨装置１は、ドレッサー及び／又は温度調節装置などを更に備えてもよいし、アトマイザーを省略してもよい。ドレッサーは、研磨間、研磨中において、研磨パッド１００の研磨面１０２の表面をコンディショニングするものであり、ダイヤモンド砥粒が配置された研磨パッド１００よりも小径のディスクを研磨パッド１００の研磨面１０２に押付け、研磨パッド１００と相対運動をさせながら、研磨パッド１００の研磨面１０２全面のコンディショニングを行う。また、温度調節機構は、例えば研磨液供給装置に接続されて、スラリーそのものを加熱冷却するものでも良く、また研磨１００の研磨面１０２に対して、熱交換体を近接させ、熱交換体内部にヒータ、あるいは、温水乃至冷水のいずれか又は所定の混合率で調整したものを供給させることで、熱交換体を加温・冷却し、これを研磨面１０２に伝えることで、研磨面１０２の温度を調製しても良い。また、例えば、研磨パッド１００の研磨面１０２に気体（例えばエア、Ｎ２等）を噴射供給することで、研磨面１０２を冷却しても良い。
【0025】
（研磨液供給システム）
図２は、研磨液供給システムの下流側から見た斜視図である。図３は、研磨液供給システムの上流側から見た斜視図である。図４は、昇降機構の構成を示す模式図である。なお、本明細書において、上流及び下流は、図１において研磨テーブル２０（研磨パッド１００）が時計回りに回転する場合の上流及び下流を示すものとする。
図２は、研磨液供給システムの下流側から見た斜視図である。図３は、研磨液供給システムの上流側から見た斜視図である。図４は、昇降機構の構成を示す模式図である。なお、本明細書において、上流及び下流は、図１において研磨テーブル２０（研磨パッド１００）が時計回りに回転する場合の上流及び下流を示すものとする。
【0026】
図示されるように、研磨液供給システム４０は、研磨液供給装置４１と、アーム６０と、研磨液供給装置４１とアーム６０とを連結する追従機構４５及び吊下機構４６と、を備えている。研磨液供給装置４１は、研磨液供給装置４１内に設けられた錘（後述）による重みにより研磨面１０２に接触するように構成されており、錘の重さを変えることで、研磨面１０２への研磨液供給装置４１の接触圧力（荷重）が調整可能である。なお、この例では、研磨液供給装置４１は、錘の荷重により研磨面１０２に均一に接触させられるが、他の方式でも良く、例えばエアバッグ等の弾性体を介した流体圧を研磨液供給装置４１のパッド本体（後述）に印加することで、均一に研磨面１０２に接触させられてもよい。本明細書において、研磨液供給装置４１が研磨面１０２に「接触する」と記載する意味は、研磨パッドの凹凸を均すために圧力をかけるように研磨液供給装置４１を押し付ける訳ではなく、研磨パッドの凹凸に追従すれば良いのであり、最低限、研摩液供給装置４１の錘(無論、研磨液供給装置４１のパッド本体等の重量は含む)の自重、又はエアバッグ等の弾性体を介した流体圧だけで良いからである。
【0027】
研磨液供給装置４１には、スラリー供給ライン１２０が接続されている。研磨液供給装置４１は、スラリー供給ライン１２０からのスラリーを装置底面から研磨面１０２上に供給する。追従機構４５及び吊下機構４６は、研磨液供給装置４１とアーム６０との間の接
続状態を変更する。具体的には、追従機構４５及び吊下機構４６は、研磨液供給装置４１を後述の昇降旋回機構７０によるアーム６０の上下移動（アーム６０による保持）から解放させる解除状態と、研磨液供給装置４１をアーム６０の上下移動に追従させる（アーム６０に保持される状態）ロック状態と、をとるように両者の接続状態を変更する。アーム６０は、基端部から、研磨液供給装置４１が取り付けられる先端部まで延びている。なお、この例では、アーム６０は他ユニットとの干渉を避けるため、途中から湾曲し、平面視で研磨テーブルの回転方向の下流側に向かって延びている。なお、装置の仕様によって、アーム６０は、湾曲せず直線的であっても良い。アーム６０は、図４に示すように、先端側部６０ａと、別部材の基端部６０ｂとを有し、両者がボルト等の任意の固定手段で連結されてもよい。アーム６０の先端側部６０ａ及び基端部６０ｂは一体に形成されてもよい。先端側部６０ａと基端部６０ｂとを別部材とする場合には、作業性及び／又は位置決め性を考慮して、湾曲角度が異なる先端側部６０ａ（アーム）を複数種類用意してもよい。また、各種類の先端側部６０ａ（アーム）は、基端部６０ｂに対して複数（例えば３つ）の角度の間で調整できるように複数のピン穴又はピンを備えてもよい。これにより、同一種類の先端側部６０ａでの設置角度の微調整が可能となる。
続状態を変更する。具体的には、追従機構４５及び吊下機構４６は、研磨液供給装置４１を後述の昇降旋回機構７０によるアーム６０の上下移動（アーム６０による保持）から解放させる解除状態と、研磨液供給装置４１をアーム６０の上下移動に追従させる（アーム６０に保持される状態）ロック状態と、をとるように両者の接続状態を変更する。アーム６０は、基端部から、研磨液供給装置４１が取り付けられる先端部まで延びている。なお、この例では、アーム６０は他ユニットとの干渉を避けるため、途中から湾曲し、平面視で研磨テーブルの回転方向の下流側に向かって延びている。なお、装置の仕様によって、アーム６０は、湾曲せず直線的であっても良い。アーム６０は、図４に示すように、先端側部６０ａと、別部材の基端部６０ｂとを有し、両者がボルト等の任意の固定手段で連結されてもよい。アーム６０の先端側部６０ａ及び基端部６０ｂは一体に形成されてもよい。先端側部６０ａと基端部６０ｂとを別部材とする場合には、作業性及び／又は位置決め性を考慮して、湾曲角度が異なる先端側部６０ａ（アーム）を複数種類用意してもよい。また、各種類の先端側部６０ａ（アーム）は、基端部６０ｂに対して複数（例えば３つ）の角度の間で調整できるように複数のピン穴又はピンを備えてもよい。これにより、同一種類の先端側部６０ａでの設置角度の微調整が可能となる。
【0028】
（昇降旋回機構）
アーム６０の基端部６０ｂは、図４に示すように、アーム６０を昇降旋回させる昇降旋回機構７０に接続されている。昇降旋回機構７０は、アーム６０を昇降させるための昇降機構８０と、アーム６０を旋回させるための旋回機構９０とを備えている。昇降機構８０及び旋回機構９０は、制御装置２００により制御される。
アーム６０の基端部６０ｂは、図４に示すように、アーム６０を昇降旋回させる昇降旋回機構７０に接続されている。昇降旋回機構７０は、アーム６０を昇降させるための昇降機構８０と、アーム６０を旋回させるための旋回機構９０とを備えている。昇降機構８０及び旋回機構９０は、制御装置２００により制御される。
【0029】
昇降機構８０は、この例では、フレーム８５に固定された昇降シリンダ８１を有し、アーム６０の基端部６０ｂは、昇降シリンダ８１の軸８２に固定されている。昇降シリンダ８１は、流体ライン１３０から流体（エアー等の気体、又は作動油等の液体）の供給を受け、軸８２を進退させるものである。昇降シリンダ８１は、例えば、ピストンにより仕切られた２つの室を有し、一方の室には流体ライン１３０の一方が接続され、他方の室には流体ライン１３０の他方が接続される。昇降シリンダ８１は、一方の室に流体を導入するとともに他方の室から流体を排出し、及び、他方の室に流体を導入するとともに一方の室から流体を排出することにより、軸８２を進退させる。アーム６０は、昇降シリンダ８１の軸８２進退により、上下方向に移動されるように構成されている。昇降機構８０は、アーム６０の上下動を案内するボールスプライン８３を更に備えている。ボールスプライン８３は、フレーム８５に固定されている。アーム６０の基端部６０ｂは、ボールスプライン８３の軸８４に篏合され、昇降シリンダ８１によるアーム６０の上下移動が軸８４に沿って案内される。アーム６０の上下動を案内する構成は、ボールスプラインに限定されず、任意の案内機構を採用することができ、省略してもよい。また、昇降シリンダ８１の軸８２の移動を検出してアーム６０の高さを検出するためのセンサ８６（例えばマグネット式センサ）が設けられている。電気ケーブル１４０は、センサに接続されるケーブルである。センサは、省略することもできる。昇降機構８０は、上述の構成に限定されず、アーム６０を昇降可能な構成であれば、任意の構成を採用することが可能である。また、この例では、昇降機構８０は昇降シリンダ８１による駆動方式を採用するが、ボールねじ、ベルト機構を介したモータ駆動でもよい。
【0030】
また、アーム６０の基端部６０ｂは、フレーム８５を介してアーム６０を旋回させるための旋回機構９０に接続されている。この例では、旋回機構９０は、例えば、図４に示すように、フレーム８５の下部に固定されたシャフト９２の下端に接続されたモータ９３を有する。モータ９３は、例えば、減速機構等を介してシャフト９２に接続される。なお、モータ９３の軸をシャフト９２に直接接続してもよい。アーム６０は、モータ９３の回転により、シャフト９２が回転されることにより、研磨面１０２に平行な面内で旋回可能に構成されている。なお、旋回機構９０は、上述の構成に限定されず、アーム６０を旋回可
能な構成であれば、任意の構成を採用することが可能である。また、旋回機構９０のモータ９３に例えばパルスモータの使用し、パルスモータの入力パルスを調製することで、任意の角度にアーム６０を旋回させてもよい。
能な構成であれば、任意の構成を採用することが可能である。また、旋回機構９０のモータ９３に例えばパルスモータの使用し、パルスモータの入力パルスを調製することで、任意の角度にアーム６０を旋回させてもよい。
【0031】
この例では、図２及び図３に示すように、金属製のアーム６０の基端部６０ｂ、並びに昇降機構８０は、これらの構成をスラリー、水、研磨残渣等の飛散から保護するための防水ボックス７１内に収納される。また、図２及び図３に示すように、アーム６０の基端側は、防水ボックス７２により覆われる。更なるアーム６０の防水のため、アーム６０の表面（特に、図２及び図３において防水ボックス７１、７２の外にあるアーム６０の部分、第２実施形態における防水手段で覆われていないアーム６０の露出部分（例えば補助カバー５２０外にあるアーム６０の部分））をフッ素樹脂等の撥水性材料にてコーティングしてもよい。この場合、防水ボックス７１、７２の外のアーム６０の部分は、研磨テーブル２０外において、洗浄ノズル３００（図１）で適宜、洗浄することにより、スラリー等の付着による不都合を抑制することができる。なお、アーム６０を樹脂でコーティングする代わりに、アーム６０の大部分又は全部を防水カバーで覆う構成を採用しても良い。また、防水ボックス７１、７２も、洗浄ノズル３００（図１）で適宜、洗浄してもよい。
【0032】
（吊下機構）
図５は、研磨液供給装置の斜視図である。吊下機構４６は、図２、図５に示すように、アーム６０の先端に固定されたアーム側ストッパ４５０（「係合部」に相当）と、研磨液供給装置４１にシャフト４５４を介して固定されたパッド側ストッパ４５５（「第１ストッパ」に相当）と、を有する。アーム側ストッパ４５０は、ボルト、接着剤、その他の任意の手段でアーム６０に固定されてもよい。アーム側ストッパ４５０をアーム６０と一体に形成してもよい（アーム６０の一部をアーム側ストッパ４５０としてもよい）。シャフト４５４は、その一端が研磨液供給装置４１のカバー４３０（図６参照）に固定され、他端にパッド側ストッパ４５５が設けられる。パッド側ストッパ４５５として、例えば、ワッシャ、フランジ等を採用することができるが、シャフト４５４の大径部として機能する部分であれば任意の構成を採用することができる。パッド側ストッパ４５５は、ナットによる挟み込み、接着剤、その他任意の手段でシャフト４５４に固定されてよく、シャフト４５４と一体に形成されてもよい。シャフト４５４は、研磨液供給装置４１とパッド側ストッパ４５５との間で、アーム側ストッパ４５０に設けられた貫通穴４５２を通過している。貫通穴４５２は、内壁がシャフト４５４に接触しない大きさの通過面積を有し、追従機構４５の作動中にシャフト４５４が通路壁に接触しないように構成されている。貫通穴４５２は、この例では円形の穴であるが、任意の形状（多角形等を含む）の穴又は切り欠きであってもよい。切り欠きの場合、メンテナンス時に、パッド側ストッパ４５５をシャフト４５４から取り外すことなく、研磨液供給装置４１をアーム側ストッパ４５０から取り外すことができる。
図５は、研磨液供給装置の斜視図である。吊下機構４６は、図２、図５に示すように、アーム６０の先端に固定されたアーム側ストッパ４５０（「係合部」に相当）と、研磨液供給装置４１にシャフト４５４を介して固定されたパッド側ストッパ４５５（「第１ストッパ」に相当）と、を有する。アーム側ストッパ４５０は、ボルト、接着剤、その他の任意の手段でアーム６０に固定されてもよい。アーム側ストッパ４５０をアーム６０と一体に形成してもよい（アーム６０の一部をアーム側ストッパ４５０としてもよい）。シャフト４５４は、その一端が研磨液供給装置４１のカバー４３０（図６参照）に固定され、他端にパッド側ストッパ４５５が設けられる。パッド側ストッパ４５５として、例えば、ワッシャ、フランジ等を採用することができるが、シャフト４５４の大径部として機能する部分であれば任意の構成を採用することができる。パッド側ストッパ４５５は、ナットによる挟み込み、接着剤、その他任意の手段でシャフト４５４に固定されてよく、シャフト４５４と一体に形成されてもよい。シャフト４５４は、研磨液供給装置４１とパッド側ストッパ４５５との間で、アーム側ストッパ４５０に設けられた貫通穴４５２を通過している。貫通穴４５２は、内壁がシャフト４５４に接触しない大きさの通過面積を有し、追従機構４５の作動中にシャフト４５４が通路壁に接触しないように構成されている。貫通穴４５２は、この例では円形の穴であるが、任意の形状（多角形等を含む）の穴又は切り欠きであってもよい。切り欠きの場合、メンテナンス時に、パッド側ストッパ４５５をシャフト４５４から取り外すことなく、研磨液供給装置４１をアーム側ストッパ４５０から取り外すことができる。
【0033】
アーム６０が昇降機構８０により上昇すると、アーム側ストッパ４５０が、パッド側ストッパ４５５の下面に係合し（パッド側ストッパ４５５がアーム側ストッパ４５０の貫通穴４５２の周辺部に係合し）、アーム６０の上昇とともに研磨液供給装置４１が上昇する。このとき、パッド側ストッパ４５５は、研磨液供給装置４１の幅方向／短手方向（長手方向を横切る方向）の傾きを抑制する役割を有する。また、研磨液供給装置４１が研磨面１０２に着地した状態でアーム６０が下降すると、アーム側ストッパ４５０が、パッド側ストッパ４５５の下面から離れて下方に移動する。この状態では、研磨液供給装置４１は、アーム６０による保持／支持から解放され、アーム６０の位置に関係なく研磨面１０２に対して、その内部の錘４２３（後述）の荷重により均一に（研磨面１０２の凹凸に追従するように）接触させられる。なお、この例では、アーム側ストッパ４５０の上面４５１が、パッド側ストッパ４５５と係合する部分において、他の部分よりも低くなった段差面４５１ａ（以下、ストッパ面４５１ａとも称す）を有する。段差面４５１ａの高さはパッ
ド側ストッパ４５５とアーム側ストッパ４５０の係合位置を調整するために設定されるものである。なお、段差面４５１ａが形成されず上面４５１が平坦であってもよい。パッド側ストッパ４５５とアーム側ストッパ４５０の係合位置は、段差面４５１ａを設けず又は段差面４５１ａと組み合わせて、研磨液供給装置４１（シャフト４５４）に対するパッド側ストッパ４５５の位置を調整することにより実施することも可能である。また、これらの調整方法に代えて又は組み合わせて、アーム６０とアーム側ストッパ４５０との間にシム（図示せず）を配置し、シムの高さを変更することにより、アーム側ストッパ４５０とパッド側ストッパ４５５との係合位置を調整してもよい。
ド側ストッパ４５５とアーム側ストッパ４５０の係合位置を調整するために設定されるものである。なお、段差面４５１ａが形成されず上面４５１が平坦であってもよい。パッド側ストッパ４５５とアーム側ストッパ４５０の係合位置は、段差面４５１ａを設けず又は段差面４５１ａと組み合わせて、研磨液供給装置４１（シャフト４５４）に対するパッド側ストッパ４５５の位置を調整することにより実施することも可能である。また、これらの調整方法に代えて又は組み合わせて、アーム６０とアーム側ストッパ４５０との間にシム（図示せず）を配置し、シムの高さを変更することにより、アーム側ストッパ４５０とパッド側ストッパ４５５との係合位置を調整してもよい。
【0034】
（追従機構）
追従機構４５は、図３、図５に示すように、アーム側ストッパ４５０に固定されたハウジング型の球面ジョイントアセンブリ４６０と、球面ジョイントアセンブリ４６０の両側に設けられる回止兼ストッパ４６３（「第２ストッパ」に対応）と、球面ジョイントアセンブリ４６０の両側において、球面ジョイントアセンブリ４６０と研磨液供給装置４１とを相対移動可能に接続するロッド４６５と、を備えている。本実施形態では、球面ジョイントアセンブリ４６０（球面ジョイント４６１ｂ）は、各ロッド４６５の間にてアーム側ストッパ４５０を介してアーム６０に対して固定されている。本実施形態では、球面ジョイントアセンブリ４６０は研磨液供給装置４１の長手方向の中心にあり（球面ジョイント４６１ｂは長手方向中心付近で中心に対象な位置にあり）、各ロッド４６５は同一の長さを有し、研磨面１０２に略垂直な平面内で移動可能である。これにより、研磨液供給装置４１の長手方向にて各ロッドを対称に配置及び摺動させることができ、研磨液供給装置４１の長手方向の傾きを抑制することができる。但し、他の実施形態では、各ロッド４６５が研磨面１０２に略垂直な平面とは異なる平面内で移動可能であり得る。他の実施形態では、各ロッド４６５は同一の長さである構成に限定されない。球面ジョイントアセンブリ４６０及び／又は回止兼ストッパ４６３は、ロッド４６５毎に分割された構成でもよい。例えば、各球面ジョイント４６１ｂは、ハウジング４６１ａに代えて、アーム６０に対してアーム側ストッパ４５０を介して固定された個別の板状部材に設けられてもよい。アーム側ストッパ４５０、球面ジョイントアセンブリ４６０、及び回止兼ストッパ４６３は、それぞれ別部材で形成され、ねじ止め、接着等の任意の手段で互いに固定することができる。アーム側ストッパ４５０、球面ジョイントアセンブリ４６０、及び回止兼ストッパ４６３の一部又は全部は一体に形成されてもよい。
追従機構４５は、図３、図５に示すように、アーム側ストッパ４５０に固定されたハウジング型の球面ジョイントアセンブリ４６０と、球面ジョイントアセンブリ４６０の両側に設けられる回止兼ストッパ４６３（「第２ストッパ」に対応）と、球面ジョイントアセンブリ４６０の両側において、球面ジョイントアセンブリ４６０と研磨液供給装置４１とを相対移動可能に接続するロッド４６５と、を備えている。本実施形態では、球面ジョイントアセンブリ４６０（球面ジョイント４６１ｂ）は、各ロッド４６５の間にてアーム側ストッパ４５０を介してアーム６０に対して固定されている。本実施形態では、球面ジョイントアセンブリ４６０は研磨液供給装置４１の長手方向の中心にあり（球面ジョイント４６１ｂは長手方向中心付近で中心に対象な位置にあり）、各ロッド４６５は同一の長さを有し、研磨面１０２に略垂直な平面内で移動可能である。これにより、研磨液供給装置４１の長手方向にて各ロッドを対称に配置及び摺動させることができ、研磨液供給装置４１の長手方向の傾きを抑制することができる。但し、他の実施形態では、各ロッド４６５が研磨面１０２に略垂直な平面とは異なる平面内で移動可能であり得る。他の実施形態では、各ロッド４６５は同一の長さである構成に限定されない。球面ジョイントアセンブリ４６０及び／又は回止兼ストッパ４６３は、ロッド４６５毎に分割された構成でもよい。例えば、各球面ジョイント４６１ｂは、ハウジング４６１ａに代えて、アーム６０に対してアーム側ストッパ４５０を介して固定された個別の板状部材に設けられてもよい。アーム側ストッパ４５０、球面ジョイントアセンブリ４６０、及び回止兼ストッパ４６３は、それぞれ別部材で形成され、ねじ止め、接着等の任意の手段で互いに固定することができる。アーム側ストッパ４５０、球面ジョイントアセンブリ４６０、及び回止兼ストッパ４６３の一部又は全部は一体に形成されてもよい。
【0035】
追従機構４５は、研磨液供給装置４１のパッド本体４１０（図６）の底面が、接する相手となる研磨パッド１００の時間的凹凸の変化（研磨パッド回転による時間的凹凸変化、摩耗による時間的凹凸変化を含む）に対し、パッド本体４１０の底面全体が水平を維持したまま（底面が全体として水平を維持したまま）、凹凸に追従できる機能を有する構造を提供する。なお、図３および図５では球面ジョイントアセンブリ４６０は研磨テーブル２０の回転上流側においてアーム側ストッパ４５０に固定されている。研磨液供給部材４１が研磨パッド１００と接触時に、研磨パッド１００との摩擦により回転モーメントがかかることで、研磨液供給部材４１が回転上流側の端を支点に傾きやすくなるが、本支点位置に球面ジョイントアセンブリを配置することで、研磨液供給装置４１の傾きを抑制可能となる。
【0036】
球面ジョイントアセンブリ４６０は、ハウジング４６１ａと、ハウジングの両側側面にねじ止めその他任意の固定手段で取り付けられた球面ジョイント４６１ｂとを備えている。球面ジョイント４６１ｂは、シャフトが通過可能な軸受（貫通穴）を有する球体と、球体を回転可能に保持する本体とを有する。この構成により、シャフト（ロッド４６５）が傾きを変えながら球面ジョイント４６１ｂを通じて摺動可能である。ハウジング４６１ａは、各ロッド４６５の一端（この例では、先端／第２端とも称す）を受け入れる内部空間を有している。各ロッド４６５を受け入れる内部空間は互いに仕切られていても、連通し
ていてもよい。各ロッド４６５の一端は、球面ジョイント４６１ｂの軸受を通過しハウジング４６１ａの内部空間に挿入され、球面ジョイント４６１ｂの軸受に摺動可能に配置される。これにより、各ロッド４６５は、球面ジョイントアセンブリ４６０が研磨液供給装置４１に対して相対的に上昇下降する際に、球面ジョイント４６１ｂにより研磨面１０２に対する角度を変えながら摺動することが可能であり、各ロッド４６５がアーム６０の上下動に追従することができる。
ていてもよい。各ロッド４６５の一端は、球面ジョイント４６１ｂの軸受を通過しハウジング４６１ａの内部空間に挿入され、球面ジョイント４６１ｂの軸受に摺動可能に配置される。これにより、各ロッド４６５は、球面ジョイントアセンブリ４６０が研磨液供給装置４１に対して相対的に上昇下降する際に、球面ジョイント４６１ｂにより研磨面１０２に対する角度を変えながら摺動することが可能であり、各ロッド４６５がアーム６０の上下動に追従することができる。
【0037】
ロッド４６５の他端（この例では、基端／第１端とも称す）は、球面ジョイント４６６ａ（図５）を有するロッドエンド４６６にねじ止め、圧着等で接続されている。ロッドエンド４６６は、ロッド４６５に接続される一端を有する筒状部と、筒状部の他端に設けられた概ね平坦な取付部とを有している。この取付部には、シャフト（この例では、シャフト４６７）が通過可能な軸受（貫通穴）を有する球体が回転可能に取り付けられた球面ジョイント４６６ａが設けられている。シャフト４６７が、ロッドエンド４６６の球面ジョイント４４６ａの軸受に通されてブラケット４３４の取付部４３５の取付面に固定されることにより、ロッド４６５が球面ジョイント４４６ａを介して研磨液供給装置４１に固定される。取付部４３５の取付面の各々は、研磨液供給装置４１の長手方向外側から内側に向かって上昇するように傾斜している。ブラケット４３４は、研磨液供給装置４１のカバー４３０にねじ止め、接着、その他任意の固定手段で固定される。球面ジョイント４６１ｂのがたつきを抑制するために、ロッドエンド４６６とブラケット４３４の取付部４３５の取付面との間にワッシャが配置されてもよい。ロッドエンド４６６は、球面ジョイントアセンブリ４６０が上昇下降する際に、球面ジョイント４６６ａにより、研磨面１０２に対する傾きを変更できるようになっている。ロッドエンド４６６の傾きの変更によりロッド４６５の傾きが変更される。球面ジョイントアセンブリ４６０が上昇下降すると、各ロッド４６５の両端の球面ジョイント４６１ｂ及び４６６ａにより各ロッド４６５が傾きを変えながら、各ロッド４６５の先端側が球面ジョイント４６１ｂを摺動する。このようにして、各ロッド４６５が、球面ジョイントアセンブリ４６０（アーム６０）の上下方向の移動に追従する。なお、ロッド４６５及びロッドエンド４６６を合わせてロッドと把握し、ロッドがロッドエンド４６６を有すると考えてもよい。
【0038】
また、球面ジョイントアセンブリ４６０の下部には、研磨液供給装置４１の長手方向の両側に延びるアーム４６２を介して回止兼ストッパ４６３が設けられており、回止兼ストッパ４６３には各ロッド４６５の中間部分（ロッドエンド４６６と球面ジョイント４６１ｂとの間）を受け入れる溝４６４が設けられている。回止兼ストッパ４６３は、溝４６４の両側の側壁により各ロッド４６５が横方向に移動すること（研磨液供給装置４１側及び反対側に倒れること）を抑制／防止する。また、溝４６４の底面により、各ロッド４６５を下方から支持する。これにより、各ロッド４６５を球面ジョイントアセンブリ４６０に対称な同じ高さの位置で回止兼ストッパ４６３に係合させることにより、研磨液供給装置４１の幅方向の傾きを抑制／防止する。また、研磨液供給装置４１をアーム６０で上昇させる際に、研磨液供給装置４１による荷重を回止兼ストッパ４６３（溝４６４）で受け止めるよう構成される。
【0039】
各ロッド４６５のロッドエンド４６６が、研磨液供給装置４１の下部（底面近傍）に固定され、及び／又は、研磨テーブル２０の回転方向に対して研磨液供給装置４１を引くようにアーム６０（追従機構４５）が配置されることにより、研磨テーブル２０の回転による摩擦トルクに起因する研磨液供給装置４１への曲げモーメントの影響を低減することができる。
【0040】
また、研磨液供給装置４１は、図５に示すように、球面ジョイントアセンブリ４６０及びロッド４６５、ロッドエンド４６６を介してアーム６０に傾き変更可能に固定され、アーム６０との固定部より下流側に配置される。言い換えれば、アーム６０が流れ（研磨パ
ッド１００の回転方向）に対して研磨液供給装置４１を引くように支持する。これにより、研磨テーブル２０の回転による研磨液供給装置４１への曲げモーメントの影響を低減することができる。また、アーム６０が流れ（研磨パッド１００の回転方向）に対して研磨液供給装置４１を引くように保持するので、研磨パッド１００（研磨テーブル２０）の回転による研磨液供給装置４１のアーム６０への突っ込みに起因する振動を低減することができる。
ッド１００の回転方向）に対して研磨液供給装置４１を引くように支持する。これにより、研磨テーブル２０の回転による研磨液供給装置４１への曲げモーメントの影響を低減することができる。また、アーム６０が流れ（研磨パッド１００の回転方向）に対して研磨液供給装置４１を引くように保持するので、研磨パッド１００（研磨テーブル２０）の回転による研磨液供給装置４１のアーム６０への突っ込みに起因する振動を低減することができる。
【0041】
アーム６０の上昇により球面ジョイントアセンブリ４６０が上昇すると、各ロッド４６５が研磨面１０２に鉛直な方向に近づくように角度を変えながら、各ロッド４６５の先端側が球面ジョイントアセンブリ４６０（球面ジョイント４６１ｂ）を摺動する。また、アーム６０の下降により球面ジョイントアセンブリ４６０が下降すると、各ロッド４６５が研磨面１０２に水平な方向に近づくように角度を変えながら、各ロッド４６５の先端側が球面ジョイントアセンブリ４６０（球面ジョイント４６１ｂ）を摺動する。このとき、各ロッド４６５の中間部分は、回止兼ストッパ４６３の溝４６４内で下方から支持されつつ研磨面１０２に対する角度を変え、研磨液供給装置４１の幅方向の傾きが抑制／防止される。アーム６０が上昇し、アーム側ストッパ４５０（段差面４５１ａ）がパッド側ストッパ４５５に係合すると、研磨液供給装置４１とアーム側ストッパ４５０との間の距離が固定され、球面ジョイントアセンブリ４６０及び回止兼ストッパ４６３の位置も研磨液供給装置４１に対して固定される。また、研磨液供給装置４１とアーム側ストッパ４５０との間の距離が固定されることにより、球面ジョイントアセンブリ４６０及び回止兼ストッパ４６３、並びに、各ロッド４６５の研磨液供給装置４１に対する位置が固定される。さらにアーム６０が上昇すると、パッド側ストッパ４５５がアーム側ストッパ４５０（段差面４５１ａ）にロックされた状態で、かつ、各ロッド４６５が回止兼ストッパ４６３にロックされた状態で、研磨液供給装置４１がアーム６０と共に上昇する。このとき、研磨液供給装置４１は、パッド側ストッパ４５５及び回止兼ストッパ４６３の２箇所のストッパで同時にロックされるので、安定した姿勢で上昇される。また、回止兼ストッパ４６３により各ロッド４６５が固定され、研磨液供給装置４１の幅方向の傾きが抑制／防止されるので、研磨液供給装置４１は安定した姿勢で上昇することができる。一方、パッド側ストッパ４５５がアーム側ストッパ４５０から解放されると、研磨液供給装置４１は、その内部の錘により研磨面１０２に対して、均一に（研磨面１０２の凹凸に追従するように）接触させられるが、研磨液供給装置４１の移動に応じて各ロッド４６５が摺動し、これにより、研磨液供給装置４１が水平な姿勢を維持したまま研磨面１０２上の凹凸に追従可能となる。
【0042】
【0043】
図６に示すように、研磨液供給装置４１は、パッド本体４１０と、複数の錘４２３と、カバー４３０と、パッキン４２２とを備えている。パッド本体４１０及びカバー４３０は、樹脂で形成される。パッド本体４１０は、例えば、ＰＰＳやＰＥＥＫ等の硬質プラスチックで形成することができる。パッド本体４１０は、例えば、板状の部材として形成される。図７に示すように、パッド本体４１０の底面４１８には、研磨面１０２上にスラリーを供給するためのスリット４１９が設けられている。スリット４１９の底面には、スリット４１９内にスラリーを供給するための供給口４１４が設けられている。供給口４１４から供給されるスラリーは、スリット４１９内に広がり、パッド本体４１０の底面４１８と研磨パッド１００との間の隙間から、研磨パッド１００上に押し広げられる。装置の仕様等に応じて、供給口４１４は、スリット４１９内にてスリット長手方向の任意の位置任意の数で設けることができる。供給口４１４は、図６に示すように、パッド本体４１０の上面まで延びて開口している。供給口４１４は、パッド本体４１０の上面側において、チュ
ーブ等のスラリー供給ライン１２０（図５）及び／又はＯリング４２１を受け入れるために面取りされている。シールとして、Ｏリング４２１以外の任意のシールを採用してもよい。図７において、パッド本体４１０は長方形に限らず、２つの方向（例えば、直交する２つの方向）の長さの間で長短のある形状ならば良い。例えば、パッド本体４１０は、長方形以外の多角形（三角形、五角形など）、少なくとも一部に曲線を有する形状でもよい。また、スリット４１９は、長手方向両端の両方又は一方が解放端（図７にて、研磨液供給装置４１の短辺まで延び開口する構成）であっても良い。また、パッド本体４１０には、スラリー供給口４１４及びそのスリット４１９以外に、溝があっても良い。
ーブ等のスラリー供給ライン１２０（図５）及び／又はＯリング４２１を受け入れるために面取りされている。シールとして、Ｏリング４２１以外の任意のシールを採用してもよい。図７において、パッド本体４１０は長方形に限らず、２つの方向（例えば、直交する２つの方向）の長さの間で長短のある形状ならば良い。例えば、パッド本体４１０は、長方形以外の多角形（三角形、五角形など）、少なくとも一部に曲線を有する形状でもよい。また、スリット４１９は、長手方向両端の両方又は一方が解放端（図７にて、研磨液供給装置４１の短辺まで延び開口する構成）であっても良い。また、パッド本体４１０には、スラリー供給口４１４及びそのスリット４１９以外に、溝があっても良い。
【0044】
各錘４２３は、ねじ止め、接着、溶着、その他任意の固定手段によりパッド本体４１０に取り付けられてよい。各錘４２３及びパッド本体４１０には、位置決め用の構成（例えば、ピン及びピン穴）が設けられてもよい。カバー４３０は、ねじ止め、接着、溶着、その他任意の固定手段によりパッド本体４１０に取り付けられてもよい。カバー４３０は、パッド本体４１０上の錘４２３を覆うように、パッド本体４１０に取り付けられる。
【0045】
なお、錘４２３の材質としては、ＳＵＳ等の金属材料を使用してもよく、また表面をフッ素樹脂等のコーティングを施してもよい。この例では、錘４２３は、他の層などを介さずに、パッド本体４１０に直接取り付けられるが、固定方法によっては粘着層や弾性層をパッド本体４１０と錘４２３の間に介在させてもよい。また、一方の端部の錘４２３には、上面から下面まで貫通する貫通穴４２４が設けられ、貫通穴４２４には、チューブ等のスラリー供給ライン１２０（図５）が通される。スラリー供給ライン１２０は、錘４２３の貫通穴４２４を通り、Ｏリング４２１を通してパッド本体４１０の供給口４１４に挿入される。この状態で、錘４２３とパッド本体４１０とをしっかりと固定することにより、Ｏリング４２１が潰れ、スラリー供給ラインと供給口４１４との接続箇所がＯリング４２１でシールされ、気密性が高められる。また、スラリー供給ライン１２０は、カバー４３０の貫通穴４３１に通される。
【0046】
カバー４３０は、パッド本体４１０及び複数の錘４２３を覆うように取り付けられる。このとき、パッド本体４１０上の錘４２３を取り囲むようにパッド本体４１０上にパッキン４２２が配置される。パッキン４２２は、例えば、両面テープによりパッド本体４１０の上面の周囲に取り付けられる。パッキン４２２の固定方法は、両面テープに限らず、接着等の任意の固定手段であってもよい。パッキン４２２は、軟質樹脂（例えば、ＰＴＦＥ）、ゴム（例えば、ＥＰＤＭ）等から形成することができる。カバー４３０をパッド本体４１０に取り付ける際に、パッキン４２２の上面がカバー４３０の内壁に設けられた肩部（図示せず）に当接して所定の厚みだけ、押しつぶされるようにする。これにより、カバー４３０による気密性が高められる。この結果、カバー４３０とパッド本体４１０との間がパッキン４２２によりシールされ、スラリー、研磨残渣等がカバー４３０の内部に侵入することを抑制／防止することができる。
【0047】
研磨液供給装置４１は、図５に示すように、カバー４３０の長手方向の両端の各々に取り付けられる２つのブラケット４３４を更に備える。少なくとも一方のブラケット４３４は、カバー４３０と一体に形成されてもよい。各ブラケット４３４は、概ねＬ字形状を有し、カバー４３０の上面及び上流側の側面に取り付けられる。ブラケット４３４のうちカバー４３０の上流側側面に配置される部分の下部には、追従機構４５のロッドエンド４６６を取り付けるための取付部４３５が一体に設けられている。取付部４３５の下面には、カバー４３０の上流側側面に当たった使用済みスラリーを排出するための通路４４４が設けられている。通路４４４は、カバー４３０の長手方向に沿って取付部４３５を貫通するように設けられている。取付部４３５の上面には、ロッドエンド４６６を取り付けるための取付面が設けられている。取付部４３５の取付面は、カバー４３０の長手方向内側から外側に向かって下がるような斜面で形成されている。取付部４３５の取付面には、ロッド
エンド４６６を取り付けるためのシャフト４６７の先端を固定するための篏合穴又はネジ穴が設けられている。なお、取付部４３５の取付面は研磨面１０２に近いほど、研磨時の摩擦トルクによる研磨液供給装置４１の傾きや振動を抑制できる。
エンド４６６を取り付けるためのシャフト４６７の先端を固定するための篏合穴又はネジ穴が設けられている。なお、取付部４３５の取付面は研磨面１０２に近いほど、研磨時の摩擦トルクによる研磨液供給装置４１の傾きや振動を抑制できる。
【0048】
（吊下／追従動作説明）
図８Ａから図８Ｃ、図９Ａから図９Ｃは、追従機構及び吊下機構の動作を説明するための説明図である。図８Ａから図８Ｃは、研磨液供給装置４１の近傍を上流側（スラリー排出側）から見た側面図を示す。図９Ａから図９Ｃは、研磨液供給装置４１の近傍を下流側（スラリー供給側）から見た側面図を示す。
図８Ａから図８Ｃ、図９Ａから図９Ｃは、追従機構及び吊下機構の動作を説明するための説明図である。図８Ａから図８Ｃは、研磨液供給装置４１の近傍を上流側（スラリー排出側）から見た側面図を示す。図９Ａから図９Ｃは、研磨液供給装置４１の近傍を下流側（スラリー供給側）から見た側面図を示す。
【0049】
図８Ａ及び図９Ａは、アーム６０並びに追従機構４５／吊下機構４６が、研磨液供給装置４１を高さｈ２（研磨面１０２を基準とした研磨液供給装置４１の下面までの高さ）で吊り下げた状態を示す。このとき、アーム側ストッパ４５０の上面４５１（段差面４５１ａ以外の部分）の高さは、Ｈ＝Ｈ０＋ｈ２とする。このとき、アーム側ストッパ４５０の段差面４５１ａがパッド側ストッパ４５５に係合している。また、各ロッド４６５は、回止兼ストッパ４６３により下方から支持されることで、研磨液供給装置４１の幅方向の傾きが抑制／防止されている。また、吊下機構４６（アーム側ストッパ４５０、パッド側ストッパ４５５）によっても、研磨液供給装置４１の幅方向の傾きが抑制／防止されている。
【0050】
図８Ｂ及び図９Ｂは、図８Ａ及び図９Ａの状態からアーム６０を高さｈ２だけ下降させ、アーム６０並びに追従機構４５／吊下機構４６が、研磨液供給装置４１を研磨面１０２に着地した状態を示す。このとき、アーム側ストッパ４５０の段差面４５１ａは依然としてパッド側ストッパ４５５に係合している。この状態では、研磨液供給装置４１はアーム６０に保持され、アーム６０の位置と独立して更に下降することはできない。このとき、研磨液供給装置４１の高さは０であり、アーム側ストッパ４５０の上面４５１の高さは、Ｈ＝Ｈ０である。各ロッド４６５は、回止兼ストッパ４６３により下方から支持されることで、研磨液供給装置４１の幅方向の傾きが抑制／防止されている。また、吊下機構４６（アーム側ストッパ４５０、パッド側ストッパ４５５）によっても、研磨液供給装置４１の幅方向の傾きが抑制／防止されている。
【0051】
図８Ｃ及び図９Ｃは、図８Ｂ及び図９Ｂの状態からアーム６０を更に高さｈ１（＜ｈ２）だけ降下させた状態であり、研磨液供給装置４１からスラリーを研磨面１０２に供給して研磨処理を行う状態である。アーム側ストッパ４５０の上面４５１の高さは、Ｈ＝Ｈ０－ｈ１である。このとき、研磨液供給装置４１は研磨面１０２に着地した状態であるため、パッド側ストッパ４５５の研磨面１０２からの高さは変化せず、アーム側ストッパ４５０（段差面４５１ａ）のみが降下してパッド側ストッパ４５５から離間する。この状態では、パッド側ストッパ４５５がアーム側ストッパ４５０（段差面４５１ａ）から解放され、研磨液供給装置４１は、アーム６０から解放された状態で（アーム６０の位置と独立して）、複数の錘４２３の荷重により研磨面１０２に接触させられる。研磨液供給装置４１の長手方向に配列された複数の錘４２３により、パッド本体４１０が研磨面１０２の凹凸に追従して撓むことが可能である。
【0052】
研磨面１０２が摩耗した場合には、研磨液供給装置４１及びパッド側ストッパ４５５は、図８Ｃ及び図９Ｃの状態から研磨面１０２の下降に追従して降下する一方、アーム６０及びアーム側ストッパ４５０（段差面４５１ａ）は下降せず高さを維持するため、パッド側ストッパ４５５が下降してアーム側ストッパ４５０の段差面４５１ａに接近する傾向にある。この場合、ｈ１（研磨液供給装置４１の着地時点から更にアームを下降させる距離（パッド側ストッパとアーム側ストッパとを離す距離））を研磨面１０２の摩耗分よりも大きく設定しておけば、パッド側ストッパ４５５が、研磨面の摩耗に追従して下降したと
しても、アーム側ストッパ４５０（段差面４５１ａ）に接触することはなく、研磨液供給装置４１がアーム６０から解放された状態が継続され、研磨液供給装置４１内の錘４２３の荷重によりパッド本体４１０の底面４１８が研磨面１０２の摩耗及び凹凸に追従することができる。
しても、アーム側ストッパ４５０（段差面４５１ａ）に接触することはなく、研磨液供給装置４１がアーム６０から解放された状態が継続され、研磨液供給装置４１内の錘４２３の荷重によりパッド本体４１０の底面４１８が研磨面１０２の摩耗及び凹凸に追従することができる。
【0053】
この例では、昇降機構８０（昇降シリンダ８１）によるアーム６０の上下動のストロークはｈ１＋ｈ２である。このストロークでは、昇降機構８０は、アーム６０の上昇により研磨液供給装置４１を研磨面１０２からｈ２の高さまで上昇させる（図８Ａ、図９Ａ）。また、昇降機構８０は、アーム６０を高さｈ２だけ下降させることにより研磨液供給装置４１を研磨面１０２に着地させることができ（図８Ｂ、図９Ｂ）、更に、研磨液供給装置４１を研磨面１０２に着地させた状態でアーム６０を高さｈ１だけ下降させて研磨液供給装置４１をアーム６０から解放することができる（図８Ｃ、図９Ｃ）。
【0054】
研磨液供給装置４１を研磨面１０２上に着地させ、研磨液供給装置４１をアーム６０から解放する動作は、上述の通りである。次に、研磨処理が終了し、研磨液供給装置４１を研磨テーブル２０外に退避させる場合について説明する。図８Ｃ及び図９Ｃの状態で研磨処理が終了した後、アーム６０を上昇させる。このとき、アーム側ストッパ４５０の段差面４５１ａは、パッド側ストッパ４５５から離間しているので、アーム側ストッパ４５０の段差面４５１ａがパッド側ストッパ４５５に接触するまでは、研磨液供給装置４１及びパッド側ストッパ４５５が高さを変えず、アーム６０及びアーム側ストッパ４５０の段差面４５１ａのみが上昇する。アーム側ストッパ４５０の段差面４５１ａが高さｈ１だけ上昇してパッド側ストッパ４５５に接触すると、図８Ｂ及び図９Ｂの状態になる。この状態から更にアーム６０及びアーム側ストッパ４５０の段差面４５１ａを上昇させると、アーム側ストッパ４５０の段差面４５１ａがパッド側ストッパ４５５とともに上昇し、アーム６０の上昇に追従して研磨液供給装置４１が上昇する。図８Ｂ及び図９Ｂの状態からアーム６０を更にｈ２だけ上昇させると、図８Ａ及び図９Ａの状態になる。
【0055】
図８Ａ及び図９Ａの状態で、アーム６０を旋回機構９０により旋回させて研磨液供給装置４１を研磨テーブル２０外の退避位置まで退避させる。研磨テーブル２０外の退避位置において、研磨液供給装置４１を洗浄ノズル３００（図１）により洗浄することができる。この洗浄では、パッド本体４１０の底面、カバー４３０の外表面、及びアーム６０を洗浄する。これにより、研磨液供給装置４１に付着したスラリー、研磨残渣等を洗い流すことができる。また、アーム６０により研磨液供給装置４１を旋回移動させて、研磨面１０２の所望の位置に設置することができる。これにより、研磨液供給装置４１の研磨面１０２上での設置位置を容易に調整することができる。
【0056】
上述の実施形態によれば、追従機構４５及び吊下機構４６により研磨液供給装置４１を吊り下げて保持することが可能である。これにより、研磨液供給装置４１及び／又は研磨装置１のメンテナンスが容易になる。特に、本実施形態では、追従機構４５及び吊下機構４６により、錘加圧型の研磨液供給装置４１を吊下げて保持することが可能であり、吊下げを解除して研磨液供給装置４１が錘４２３の荷重で研磨面１０２に接触させられるようにすることができる。また、２つのストッパ（アーム側ストッパ４５０、パッド側ストッパ４５５；回止兼ストッパ４６３、ロッド４６５）を係合させた状態で研磨液供給装置４１を吊下げて保持するので、安定した姿勢で上昇及び保持することができる。
【0057】
上述の実施形態によれば、錘加圧型の研磨液供給装置４１を研磨テーブル２０外の退避位置に退避させて洗浄ノズル３００により洗浄することができる。これにより、研磨液供給装置４１に付着したスラリー等が固着し、固着したスラリー等が研磨面１０２に落下して研磨処理に影響を与えることを抑制／防止することが可能であり、また洗浄時に洗い流されたスラリー及び研磨残渣等が研磨パッド１００の研磨面１０２上に残留することなく
、研磨液供給装置４１の洗浄が可能となる。
、研磨液供給装置４１の洗浄が可能となる。
【0058】
上述の実施形態によれば、追従機構４５及び吊下機構４６は、研磨液供給装置４１をアーム６０の上下動から解放することができるので、研磨液供給装置４１が錘の荷重で研磨面１０２に接触させられた状態でスラリーを研磨面１０２に供給することができる。また、研磨液供給装置４１は、複数の錘４２３の構造により、長手方向に沿って柔軟に湾曲することが可能であり、研磨面１０２の凹凸及び／又は研磨面１０２の摩耗に良好に追従することができる。
【0059】
上述の実施形態によれば、研磨液供給装置４１を追従機構４５及び吊下機構４６により吊り下げた状態で、アーム６０の旋回により研磨液供給装置４１を供給位置と退避位置との間で移動させることができる。また、研磨液供給装置４１を旋回させることにより、研磨液供給装置４１の研磨面１０２上での位置を容易に調整することが可能である。また、研磨処理中などに、研磨液供給装置４１を研磨面１０２上で着地させたまま揺動させ、スラリーの供給位置を変更することが可能である。
【0060】
また、研磨液供給装置４１の幅方向の傾きを追従機構４５の回止兼ストッパ４６３により抑制／防止することができる。また、追従機構４５の研磨液供給装置４１への固定箇所（ロッドエンド４６６）を研磨液供給装置４１の下部（底面の近傍）に設け、また研磨パッド（研磨テーブル）の回転方向に対して研磨液供給装置４１を引っ張るようにアーム６０を配置したため、研磨パッド（研磨テーブル）の回転による研磨液供給装置４１への曲げモーメントの影響を抑制することができる。また、低い重心の位置で研磨液供給装置４１を追従機構４５により吊り下げることができ、研磨液供給装置４１の姿勢を安定させることができる。
【0061】
上述の実施形態によれば、吊下機構４６及び／又は追従機構４５により研磨液供給装置４１の幅方向の傾きを抑制できると共に、複数の錘４２３により研磨液供給装置４１の底面を研磨面１０２の凹凸に応じて撓ませることができる。これらの作用効果の組み合わせにより、研磨液供給装置４１を研磨面１０２の凹凸に良好に追従させると共に接触状態の不均一化を効果的に抑制／防止することができる。この結果、安定したスラリーの供給を行い、研磨性能を安定させることができる。更に、上述した通り、研磨液供給装置４１の振動も抑制できるため、接触状態の不均一化を更に効果的に抑制／防止することができ、安定したスラリーの供給を行い、研磨性能を安定させることができる。
【0062】
（他の実施形態）
（１）上記実施形態では、研磨液供給装置４１のパッド本体４１０をカバー４３０で覆い、パッキン４２２で防水する構成とした。しかし、パッキン４２２を設ける代わりに又はパッキン４２２に追加して、カバー４３０の内部空間に気体を供給するラインを接続し、カバー４３０の内部空間を気体（窒素ガス等の不活性ガス）でパージするようにしてもよい。このようにしても、パッド本体４１０の上部及び／又は錘４２３にスラリーが付着することを抑制／防止することができる。また、カバー４３０及びパッキン４２２を省略し、パッド本体４１０及び錘４２３を洗浄ノズル３００で適宜洗浄するようにしてもよい。この場合、パッド本体４１０及び錘４２３がカバー４３０で覆われていないため、これらを容易に洗浄することができる。なお、本実施形態においては、錘表面をフッ素樹脂等のコーティングを施すことで、さらに容易に洗浄が可能となる。
（１）上記実施形態では、研磨液供給装置４１のパッド本体４１０をカバー４３０で覆い、パッキン４２２で防水する構成とした。しかし、パッキン４２２を設ける代わりに又はパッキン４２２に追加して、カバー４３０の内部空間に気体を供給するラインを接続し、カバー４３０の内部空間を気体（窒素ガス等の不活性ガス）でパージするようにしてもよい。このようにしても、パッド本体４１０の上部及び／又は錘４２３にスラリーが付着することを抑制／防止することができる。また、カバー４３０及びパッキン４２２を省略し、パッド本体４１０及び錘４２３を洗浄ノズル３００で適宜洗浄するようにしてもよい。この場合、パッド本体４１０及び錘４２３がカバー４３０で覆われていないため、これらを容易に洗浄することができる。なお、本実施形態においては、錘表面をフッ素樹脂等のコーティングを施すことで、さらに容易に洗浄が可能となる。
【0063】
（２）上記実施形態では、研磨液供給装置４１に錘４２３を内蔵する構成を説明したが、研磨面１０２上でアーム６０の上下動から解放された研磨液供給装置４１の上にロボットハンド等で錘を置いて研磨処理を実施し、錘を取り外してから研磨液供給装置４１を吊り上げるようにしてもよい。研磨液供給装置４１上にエアバッグを設け、アーム６０の上
下動から解放された研磨液供給装置４１をエアバッグの膨張により研磨面１０２に均一に（研磨面の凹凸に追従するように）接触させるようにしてもよい。
下動から解放された研磨液供給装置４１をエアバッグの膨張により研磨面１０２に均一に（研磨面の凹凸に追従するように）接触させるようにしてもよい。
【0064】
＜第２実施形態＞
図１０は、第２実施形態に係る研磨液供給機構４００の斜視図である。同図（Ａ）は、メインカバー５１０及び補助カバー５２０を取り付けた研磨液供給機構４００を示す。同図（Ｂ）は、補助カバー５２０を取り外した研磨液供給機構４００を示す。同図（Ｃ）は、更にアーム６０を取り外した研磨液供給機構４００を示す。図１１は、補助カバー５２０を取り外した状態の研磨液供給装置４１の平面図を示す。
図１０は、第２実施形態に係る研磨液供給機構４００の斜視図である。同図（Ａ）は、メインカバー５１０及び補助カバー５２０を取り付けた研磨液供給機構４００を示す。同図（Ｂ）は、補助カバー５２０を取り外した研磨液供給機構４００を示す。同図（Ｃ）は、更にアーム６０を取り外した研磨液供給機構４００を示す。図１１は、補助カバー５２０を取り外した状態の研磨液供給装置４１の平面図を示す。
【0065】
本実施形態では、上述したパッド本体４１０及び錘４２３を覆うカバー４３０に代えて、研磨液供給装置４１（パッド本体４１０及び錘４２３）、追従機構４５、吊下機構４６を含む構成の全体を覆うカバー５００を設けた点が、上記実施形態と異なるが、他の構成は上記実施形態と同様である。以下、上記実施形態と異なる点を説明し、上記実施形態と同様の構成には同様の符号を付し、説明を省略する。なお、研磨液供給装置４１（パッド本体４１０及び錘４２３）、追従機構４５、吊下機構４６を含む構成を研磨液供給機構４００と称する。また、研磨液供給装置、研磨液供給機構の名称は、本明細書における説明の都合上のものであり、上記定義とは異なってもよい。
【0066】
本実施形態のカバー５００は、研磨液供給機構４００の全体を覆うメインカバー５１０と、メインカバー５１０から露出する研磨液供給機構の部分（研磨液供給機構４００とアーム６０との接続箇所及びその近傍）を覆う補助カバー５２０と、を有する。メインカバー５１０は、研磨液供給機構４００の下部を覆う下カバー５１１と、研磨液供給機構の上部を覆う上カバー５１２とを有する。補助カバー５２０は、下方に開口する概ね直方体形状とすることができるが、下方が開口する任意の形状とすることができる。本実施形態では、補助カバー５２０は、平面視で、上カバー５１２の上面より小さい面積を有し、必要最小限の寸法で形成されるが、上カバー５１２の上面と同一の面積を有してもよい。メインカバー５１０は、概ね直方体形状とすることができるが、研磨液供給機構４００の全体を概ね覆うことができれば、任意の形状であってよい。上カバー５１２は、下方に開口する概ね直方体形状とすることができるが、下カバー５１１の形状に応じて任意の形状とすることができる。上カバー５１２の上壁（図１０）及び下カバーの上壁（図１２）には、スラリー供給ライン１２０を通過させる貫通穴（図示略）が設けられ、第１実施形態と同様にパッド本体４１０に接続される。
【0067】
上カバー５１２の上面には、開口５３１が設けられており、開口５３１の周囲には、開口５３１を囲むように防水壁５３２が上面から突出して設けられている。防水壁５３２の一端側には、図１０（Ｂ）及び図１１に示すように、アーム６０の先端部を通過させる段差部又は切り欠きが設けられており、段差部の両側には、防水壁５３２から連続して延びる２つの防水壁５３３が設けられている。防水壁５３３は、防水壁５３２の外側に向かって、アーム６０の両側に沿ってアーム６０と隙間を空けて延びる。防水壁５３３は、上記段差部の両側で防水壁５３２から延長して一体に設けられている。即ち、２つの防水壁５３３の間をアーム６０の先端部が通過して、吊下機構４６の一部を構成するブラケット（取付部材）４７０に固定される。ブラケット４７０は、図１２に示すように、アーム側ストッパ４５０の上面に取り付けられる略逆Ｕ字形状又はアーチ状の部材であり、ブラケット４７０の上部梁の下面に、アーム６０の先端がねじ止め、接着、その他任意の固定手段で固定される。ブラケット４７０の上面には、吊下機構４６及び追従機構４５を下カバー５１１から取り外す際に使用される取っ手４８０が設けられている。
【0068】
アーム６０の先端部の両側には、図１０（Ｂ）及び図１１に示すように、平面視略Ｕ字状の防水壁５３４が取り付けられている。防水壁５３４は、アーム６０の両側面に取り付
けられており、防水壁５３２と共にアーム６０の先端部を囲むように設けられている。防水壁５３４は、アーム６０の両側で、アーム６０の両側面と隙間を空けて、アーム６０に沿って防水壁５３２に向かって延び、防水壁５３２と隙間を空けて終端している。また、両側の防水壁５３４は、２つの防水壁５３３から隙間をもって、２つの防水壁５３３を外側から挟むように配置される。即ち、防水壁５３３と防水壁５３４が互い違いに重なり合い、防水壁５３４の先端が防水壁５３２に隙間を空けて対向することで、アーム６０と研磨液供給機構４００の接続部を含む、研磨液供給機構４００のメインカバー５１０からの露出部分を防水するラビリンス構造を形成する。
けられており、防水壁５３２と共にアーム６０の先端部を囲むように設けられている。防水壁５３４は、アーム６０の両側で、アーム６０の両側面と隙間を空けて、アーム６０に沿って防水壁５３２に向かって延び、防水壁５３２と隙間を空けて終端している。また、両側の防水壁５３４は、２つの防水壁５３３から隙間をもって、２つの防水壁５３３を外側から挟むように配置される。即ち、防水壁５３３と防水壁５３４が互い違いに重なり合い、防水壁５３４の先端が防水壁５３２に隙間を空けて対向することで、アーム６０と研磨液供給機構４００の接続部を含む、研磨液供給機構４００のメインカバー５１０からの露出部分を防水するラビリンス構造を形成する。
【0069】
アーム６０の上面には、図１０（Ｂ）及び図１１に示すように、１又は複数の支柱５３６（この例では３本）が設けられており、補助カバー５２０が上カバー５１２に取り付けられたときに、これらの支柱５３６の先端面で補助カバー５２０の上壁内面を支えるようになっている。また、支柱５３６の先端面にはネジ穴（図示略）が設けられており、補助カバー５２０の上壁を通したねじ、ボルト等でねじ止めできるようになっている。防水壁５３３と反対側において、防水壁５３２の上端には、研磨液供給装置４１の長手方向に延びる折曲部５３５が設けられている。折曲部５３５は、補助カバー５２０が上カバー５１２に取り付けられたときに、補助カバー５２０の下方開口部の一部を覆い、スラリーが開口５３１に侵入することを防止する。
【0070】
図１２は、補助カバー５２０及び上カバー５１２を取り外した状態の研磨液供給機構４００の斜視図である。同図（Ａ）は、研磨テーブルの回転方向を基準として上流側からみた斜視図である。同図（Ｂ）は、研磨テーブルの回転方向を基準として下流側からみた斜視図である。図１３は、研磨液供給機構４００の分解斜視図である。図１４は、研磨液供給機構４００の底面図である。図１５は研磨液供給機構４００の短辺の側からみた側面図である。
【0071】
図１２及び図１３に示すように、下カバー５１１は、研磨液供給装置４１のパッド本体４１０、錘４２３、追従機構４５、吊下機構４６を収容する。下カバー５１１の上壁５４１には、錘４２３、追従機構４５、吊下機構４６の一部又は全部を露出する開口５４２が設けられている。下カバー５１１の上壁５４１の周囲には、段差部５４３が設けられており、上カバー５１２の下方開口部の端面及び内側面が段差部５４３に篏合して、上カバー５１２が下カバー５１１に取り付けられるようになっている。パッド本体４１０及び錘４２３は、ねじ止め、接着、その他任意の固定手段（図示省略）で互いに固定され、パッド本体４１０及び錘４２３の組立体が、ねじ止め、接着、その他任意の固定手段（図示省略）で下カバー５１１の内部で下カバーに対して固定される。例えば、パッド本体４１０及び錘４２３が互いに固定された後、錘４２３が下カバー５１１の上壁５４１の内側面に固定される。これにより、パッド本体４１０、錘４２３及び下カバー５１１は、互いに固定され、一体として移動する。但し、後述するように、パッド本体４１０は、下カバー５１１の開口５４６内で隙間５４７をもって配置されており、下カバー５１１の底面に干渉されずに、研磨面の凹凸に応じて変形可能となっている。
【0072】
本実施形態の吊下機構４６のアーム側ストッパ４５０は、図１２（Ｂ）に示すように、下流側に突出する係合部４５６を備えている。また、パッド側ストッパ４５７は、略逆Ｕ字形状の部材で設けられ、下カバー５１１の下流側の長手方向の側壁内面にねじ止め、接着、その他任意の固定手段で固定されている。パッド側ストッパ４５７は、下カバー５１１に上カバー５１２を取り付けた際に、メインカバー５１０内に収容されるように配置されている。アーム側ストッパ４５０の係合部４５６が、第１実施形態のアーム側ストッパ４５０の係合部（貫通穴４５２の周辺部）に対応する。パッド側ストッパ４５７が、第１実施形態のパッド側ストッパ４５５に対応する。本実施形態では、係合部４５６が、パッド側ストッパ４５７の上梁の内側に係合又は解除されることにより、アーム６０側の移動
と研磨液供給装置４１（パッド本体）側の移動とが連動又は分離（解除）されるようになっている。吊下機構４６の動作は、第１実施形態と同様である。
と研磨液供給装置４１（パッド本体）側の移動とが連動又は分離（解除）されるようになっている。吊下機構４６の動作は、第１実施形態と同様である。
【0073】
本実施形態の追従機構４５は、第１実施形態と同様の構成を有するが、ロッド４６４のロッドエンド４６６（球面ジョイント４６６ａ）を取り付ける取付部４３５Ａ（図５の取付部４３５に対応）が下カバー５１１の開口５４２の縁に取り付けられ、メインカバー５１０の内部に収納される。この場合も、ロッドエンド４６６と取付部４３５Ａの接続部は、研磨液供給機構４００の低い位置に配置されるようにする。
【0074】
下カバー５１１の底面には、図１４に示すように、パッド本体４１０の底面４１８を露出させる開口５４６が設けられている。下カバー５１１の底面は、図１５に示すように、低い位置にある底面部５４４と、底面部５４４より所定の高さだけ高い位置にある底面部５４５とを有する。開口５４６は、図１４に示すように、底面部５４４及び底面部５４５にわたって形成されている。開口５４６は、パッド本体４１０より僅かに大きい寸法に形成されており、パッド本体４１０の外周と下カバー５１１の底面（底面部５４４、底面部５４５）との間には、所定の隙間５４７が設けられている。これにより、バッド本体４１０が下カバー５１１に接触することなく変形可能になっている。言い換えれば、パッド本体４１０と下カバー５１１の底面との間に隙間５４７を設けることにより、パッド本体４１０が、下カバー５１１の底面に干渉されることなく、研磨面の凹凸に応じて自由に変形することが可能である。また、パッド本体４１０の底面４１８は、図１５に示すように、所定の高さだけ僅かに下カバー５１１の底面５４４から突出しており、下カバー５１１が研磨パッド１００に接触することなく、パッド本体４１０が研磨パッドに接触できるようになっている。
【0075】
パッド本体４１０には、図１３に示すように、かえし５６０が設けられている。かえし５６０は、パッド本体４１０の底面４１８から所定の高さだけ高い位置に、研磨パッドの回転方向の上流側に向かって突出するように、パッド本体４１０の長手方向の長さ全体にわたって設けられている。この例では、かえし５６０の上面は、パッド本体４１０の上面と面一に形成されているが、パッド本体４１０の上面より低くてもよい。かえし５６０の下面は、図１５に示すように、下カバー５６０の底面部５４５と概ね面一になるように構成されている。かえし５６０は、研磨パッド１００上のスラリーが錘４２３側に侵入することを防止する防水構造を提供する。
【0076】
本実施形態によれば、研磨液供給装置４１、追従機構４５、及び吊下機構４６を含む研磨液供給機構４００の全体をカバー５００で覆うため、露出する追従機構及び／又は吊下機構の各要素（球面ジョイント、ストッパー等）にスラリーが飛散し、固着することで、各要素の機能（摺動等の動作）に影響が生じることを抑制ないし防止することができる。また、露出される各要素で固着したスラリーが研磨テーブル上に脱落することで研磨対象の基板に影響を及ぼすことを抑制ないし防止することができる。なお、メインカバー５１０のみでも、研磨液供給機構４００の大部分を覆うことができるため、補助カバー５２０を省略して、メインカバー５１０のみを設けてもよい。
【0077】
本実施形態によれば、パッド本体４１０にかえし５６０を設けるため、パッド本体４１０と下カバー５１１との間に隙間を設けた場合でも、メインカバー５１０の内部にスラリーが侵入することを抑制ないし防止することができる。なお、第１実施形態のパッド本体４１０に、同様のかえしを設けてもよい。
【0078】
本実施形態によれば、アーム６０と研磨液供給機構４００との接続部にラビリンス構造のシールを設けることにより、メインカバー５１０の内部にスラリーが侵入することを抑制ないし防止することができる。
【0079】
本実施形態によれば、カバー５００（下カバー５１１）の底面とパッド本体４１０との間に隙間５４７を設けることにより、パッド本体４１０の動きがカバー５００の底面に干渉されることなく、パッド本体４１０が研磨面の凹凸に応じて自由に変形することが可能である。また、パッド本体４１０の取り付け構造によっては、パッド本体４１０の接触面が湾曲して平坦にならないおそれがあるが、カバー５００とパッド本体４１０との間に隙間を設けることにより、このような問題を避けることができる。
【0080】
上述した実施形態から少なくとも以下の形態が把握される。
第１形態によれば、 研磨面を有する研磨パッドを使用して対象物の研磨を行う研磨装置であって、 研磨液供給装置と、 前記研磨面に対して水平移動可能なアームと、 前記アームを昇降する昇降機構と、 前記アーム及び前記研磨液供給装置に連結され、前記研磨液供給装置を前記研磨パッドの前記研磨面に追従させる追従機構と、 前記アーム及び前記研磨液供給装置に連結され、前記昇降機構による前記アームの昇降時において前記
研磨液供給装置を吊り下げる吊下機構と、を備え、 前記追従機構は、 ２つのロッドであって、各ロッドが第１端及び第２端を有し、各ロッドの第１端が、前記研磨液供給装置に対して第１の球面ジョイントを介して取り付けられる２つのロッドと、 前記２つのロッドの間にて前記アームに対して固定され、前記各ロッドの第２端を摺動自在に受け入れる２つの第２の球面ジョイントと、を有し、 前記吊下機構は、 前記研磨液供給装置に対して固定された第１ストッパと、 前記アームに対して固定され、前記アームが前記研磨液供給装置に対して上昇する際に前記第１ストッパに係合する係合部と、を備える研磨装置が提供される。
第１形態によれば、 研磨面を有する研磨パッドを使用して対象物の研磨を行う研磨装置であって、 研磨液供給装置と、 前記研磨面に対して水平移動可能なアームと、 前記アームを昇降する昇降機構と、 前記アーム及び前記研磨液供給装置に連結され、前記研磨液供給装置を前記研磨パッドの前記研磨面に追従させる追従機構と、 前記アーム及び前記研磨液供給装置に連結され、前記昇降機構による前記アームの昇降時において前記
研磨液供給装置を吊り下げる吊下機構と、を備え、 前記追従機構は、 ２つのロッドであって、各ロッドが第１端及び第２端を有し、各ロッドの第１端が、前記研磨液供給装置に対して第１の球面ジョイントを介して取り付けられる２つのロッドと、 前記２つのロッドの間にて前記アームに対して固定され、前記各ロッドの第２端を摺動自在に受け入れる２つの第２の球面ジョイントと、を有し、 前記吊下機構は、 前記研磨液供給装置に対して固定された第１ストッパと、 前記アームに対して固定され、前記アームが前記研磨液供給装置に対して上昇する際に前記第１ストッパに係合する係合部と、を備える研磨装置が提供される。
【0081】
この形態によれば、ロッド及び球面ジョイントで構成される追従機構によって、研磨液供給装置を研磨パッドの研磨面に追従させることで、研磨液供給装置と研磨パッドとの間の摩擦トルクに起因して、研磨液供給装置が傾いたり、研磨液供給装置に振動が生じて、研磨パッドとの接触状態が不均一になることを抑制することができる。これにより、研磨性能の安定化を図ることができる。
【0082】
この形態によれば、吊下機構のストッパ非作動時には、研磨液供給装置をアームによる保持から解放した状態で研磨面上に配置することができる。このため、研磨液供給装置を、例えば錘、エアバッグなどによる荷重により、アームの位置と独立して研磨面に接触させる構成を採用することができる。これにより、研磨処理時における研磨液供給装置の傾き及び／又は振動を抑制することができる。研磨液供給装置を上方からアクチュエータ等の押付機構により押圧する場合には、研磨テーブル回転時にアクチュエータのガタに起因して研磨液供給装置に振動が生じる場合がある。一方、研磨液供給装置を錘などによる荷重により研磨面に接触させる構成を採用すれば、アクチュエータに起因する振動を抑制／防止することができる。この形態によれば、研磨液供給装置を錘などによる荷重によりアームの位置と独立して研磨面に接触させる構成によって、研磨液供給装置の研磨面への接触面を研磨面の凹凸及び／又は摩耗に追従させることが容易になる。
【0083】
また、昇降機構及び吊下機構によって研磨液供給装置を研磨面から離して吊下げることができるので、研磨液供給装置を吊下げた状態でアームを水平移動させて、研磨液供給装置を研磨パッドの範囲外に移動させることができる。これにより、研磨パッドの範囲外で研磨液供給装置を洗浄することができる。この結果、洗浄時に洗い流されたスラリー及び研磨残渣等が研磨パッドの研磨面上に残留することなく、研磨液供給装置の洗浄が可能となる。
【0084】
第２形態によれば、第１形態の研磨装置において、 前記第１ストッパ又は前記係合部の一方は、シャフトに設けられた大径部であり、 前記第１ストッパ又は前記係合部の他
方は、前記シャフトが通過する貫通穴又は切り欠きの周辺部であり、 前記大径部が前記貫通穴又は切り欠きの周辺部に係合する。
方は、前記シャフトが通過する貫通穴又は切り欠きの周辺部であり、 前記大径部が前記貫通穴又は切り欠きの周辺部に係合する。
【0085】
この形態によれば、研磨液供給装置をアームの上下動と接続／解除する構成を簡易に設けることができる。また、シャフトと貫通穴又は切り欠きの構成により、研磨液供給装置の傾き（特に、長手方向を横切る幅方向での傾き）を抑制することができる。
【0086】
第３形態によれば、第２形態の研磨装置において、 前記シャフトの前記大径部は、前記シャフトに設けられた環状部材である。
【0087】
この形態によれば、シャフトに環状部材を形成する又は取り付けることにより、第１ストッパ／係合部を容易に構成することができる。
【0088】
第４形態によれば、第１から３形態の何れかの研磨装置において、 前記追従機構は、前記アームに対して固定されたハウジングを有し、 前記第２の球面ジョイントは、前記ハウジングの両側側面に設けられている。
【0089】
この形態によれば、球面ジョイントアセンブリ（ハウジング、第２の球面ジョイント）及び各ロッドにより、アームに対する研磨液供給装置の移動を安定して案内することができる。
【0090】
第５形態によれば、第４形態の研磨装置において、 前記追従機構は、前記ハウジングに対して固定され前記各ロッドの前記第１端及び前記第２端の間の部分に下方から係合する第２ストッパを更に有する。
【0091】
この形態によれば、第２ストッパにより各ロッドを下方から支持するため、研磨液供給装置の傾き（特に、幅方向での傾き）を抑制／防止することができる。また、研磨液供給装置の吊下時の荷重を第２ストッパにより受け止めることができる。
【0092】
第６形態によれば、第５形態の研磨装置において、 前記第２ストッパは、前記各ロッドの前記第１端及び前記第２端の間の部分に係合する溝を有する。
【0093】
この形態によれば、各ロッドを溝に係合させることにより、各ロッドを下方から支持するとともに、各ロッドの横方向への移動を規制することが可能である。
【0094】
第７形態によれば、第１から６形態の何れかの研磨装置において、 前記各ロッドの前記第１端は、前記研磨液供給装置の底面近傍に対して取り付けられる。
【0095】
この形態によれば、研磨液供給装置とアーム側とを連結する固定部（支点）の位置が低いので、研磨液供給装置に対する、研磨パッド（研磨テーブル）の回転による曲げモーメントの影響を抑制することができ、研磨時の摩擦トルクによる研磨液供給装置４１の傾きや振動を抑制することができる。
【0096】
第８形態によれば、第１から７形態の何れかの研磨装置において、前記各ロッドは前記第１端にロッドエンドを有し、前記ロッドエンドに前記第１の球面ジョイントが設けられる。
【0097】
この形態によれば、ロッドと研磨液供給装置との間の球面ジョイントを、ロッドエンドにより簡易に構成することができる。
【0098】
第９形態によれば、第１から８形態の何れかの研磨装置において、 前記研磨液供給装置は、前記研磨パッドの回転方向に関し、前記アームの下流側に配置される。
【0099】
この形態によれば、研磨液供給装置に対する研磨パッド（研磨テーブル）の回転による曲げモーメントの影響を更に抑制することができる。アームが流れ（研磨パッドの回転方向）と反対側に研磨液供給装置を引くように保持するので、研磨パッド（研磨テーブル）の回転による研磨液供給装置のアームに対する突っ込みに起因する振動を低減することができる。
【0100】
第１０形態によれば、 第１から９形態の何れかの研磨装置において、 前記アームを旋回する旋回機構を更に備える。
【0101】
この形態によれば、研磨液供給装置を吊り下げた状態で旋回装置により旋回させることができるので、研磨液供給装置を研磨パッド外に移動させて洗浄等のメンテナンスを行うことが更に容易になる。研磨液供給装置を洗浄することにより、研磨液供給装置に付着したスラリー、研磨残渣等を洗い流すことができる。これにより、洗浄時に洗い流されたスラリー及び研磨残渣等が研磨パッドの研磨面上に残留することなく、研磨液供給装置の洗浄が可能となる。また、研磨液供給装置の研磨面上での位置を容易に調整することができる。また、研磨処理中などに、研磨液供給装置を研磨面上に着地させたまま旋回機構により移動させ、スラリーの供給位置を変更することが可能である。
【0102】
第１１形態によれば、第１から１０形態の何れかの研磨装置において、 前記研磨液供給装置は、 パッド本体と、 前記パッド本体に対して固定される複数の錘と、を有する。
【0103】
この形態によれば、複数の錘によりパッド本体を研磨面に接触させてスラリーを供給することができる。複数の錘によりパッド本体が柔軟に撓んで研磨面の凹凸に追従できる。
【0104】
第１２形態によれば、第１１形態の研磨装置において、 前記研磨液供給装置は、 前記パッド本体及び前記錘を覆うカバーと、 前記カバーと前記パッド本体との間をシールするパッキンと、を更に有する。
【0105】
この形態によれば、パッド本体の上部及び錘をカバーによりスラリー等から保護する（防水する）ことができる。また、パッキンによりカバー内部の防水性能を向上させることができる。
【0106】
第１３形態によれば、第１から１１形態の何れかの研磨装置において、 前記研磨液供給装置、前記追従機構、及び前記吊下機構を覆う第１カバーを更に備える。
【0107】
この形態によれば、研磨液供給装置、追従機構、及び吊下機構を含む研磨液供給機構の全体をカバーで覆うため、露出する研磨液供給装置、追従機構及び吊下機構の各要素（錘、球面ジョイント、ストッパー等）にスラリーが飛散し、固着することで、各要素の機能（摺動等の動作）に影響が生じることを抑制ないし防止することができる。また、露出される各要素で固着したスラリーが研磨テーブル上に脱落することで研磨対象の基板に影響を及ぼすことを抑制ないし防止することができる。
【0108】
第１４形態によれば、第１３形態の研磨装置において、 前記第１カバーは、その上面において、前記研磨液供給装置、前記追従機構、及び／又は前記吊下機構の一部を露出し、 前記研磨装置は、前記第１カバーから露出する部分を覆う第２カバーを更に備える。
【0109】
この形態によれば、第１カバーで研磨液供給機構を覆った後に、第１カバーの上面において研磨液供給機構とアームとを接続し、研磨液供給機構とアームとの接続箇所を第２カバーで覆うことにより、アームの取り付けを容易にすると共に、研磨液供給機構の全体をより確実に覆うことができる。また、研磨液供給機構の全体を覆うカバーを第１カバーと第２カバーとで構成することにより、第１カバーからの露出部分を覆うように第２カバーを必要十分な寸法で形成することができる。また、研磨液供給機構の全体を良好に防水するカバーを一部材で構成する場合に比較して、容易に製造できる。これにより、カバーの材料費を含む製造コストを低減し得る。
【0110】
第１５形態によれば、第１３又は１４形態の研磨装置において、 前記研磨液供給装置は、パッド本体を有し、 前記パッド本体は、前記カバーの底面において前記カバーと所定の隙間を空けて露出している。
【0111】
この形態によれば、パッド本体とカバーとの間に隙間を設けることにより、パッド本体の動きがカバーに干渉されることなく、研磨面の凹凸に応じて自由に変形することが可能である。また、パッド本体の取り付け構造によっては、パッド本体の接触面が湾曲して平坦にならないおそれがあるが、パッド本体とカバーとの間に隙間を設けることにより、このような問題を避けることができる。
【0112】
第１６形態によれば、第１５形態の研磨装置において、 前記研磨パッドの回転方向に関して上流側において、前記パッド本体は、底面より高い位置で前記上流側に突出するかえしを有する。
【0113】
この形態によれば、研磨液供給機構の全体をカバーで覆うと共に、パッド本体にかえしを設けることにより、第１カバーの内部にスラリーが侵入することを抑制ないし防止することができる。
【0114】
第１７形態によれば、第１６形態の研磨装置において、 前記研磨液供給装置は、前記パッド本体上に配置される１又は複数の錘を更に有する。
【0115】
この形態によれば、パッド本体に設けたかえしにより、パッド本体上に配置される１又は複数の錘にスラリーが付着することを抑制ないし防止することができる。
【0116】
第１８形態によれば、第１３から１７形態の何れかの研磨装置において、 前記吊下機構と前記アームとの接続箇所を囲む防水構造を備え、 前記防水構造は、少なくとも一部にラビリンス構造を有する。
【0117】
この形態によれば、ラビリンス構造を有する防水構造により、第１カバーの内部にスラリーが侵入することを良好に抑制ないし防止することができる。言い換えれば、吊下機構とアームとの接続箇所の近傍で研磨液供給機構側にスラリーが侵入することを良好に抑制ないし防止することができる。
【0118】
第１９形態によれば、第１８形態の研磨装置において、 前記防水構造は、 前記第２カバーの上面から突出して設けられ、前記吊下機構と前記アームとの接続箇所を囲む第１防水壁と、 前記第１防水壁から連続して、前記アームの両側を前記アームと隙間を空けて前記アームに沿って延びる第２防水壁と、 前記アームの両側面に設けられる第３防水壁であり、前記アームに沿って前記第２防水壁の外側を前記第２防水壁と隙間を空けて延び、前記第１防水壁と隙間を空けて終端する第３防水壁と、を有し、 前記第１防水壁、前記第２防水壁及び前記第３防水壁がラビリンス構造のシールを構成する。
【0119】
この形態によれば、吊下機構とアームとの接続箇所を第１防水壁で覆うと共に、第１防水壁に隣接するアームの周りをラビリンス構造のシールで防水するため、吊下機構とアームとの接続箇所の近傍で研磨液供給機構側にスラリーが侵入することをより確実に抑制ないし防止することができる。
【0120】
第２０形態によれば、 第１から１９形態の何れかの研磨装置において、 前記研磨パッドの外側に配置された、前記研磨液供給装置を洗浄するための洗浄装置を更に備える。
【0121】
この形態によれば、研磨パッド外に移動された研磨液供給装置を洗浄装置（例えば、洗浄ノズル）により洗浄することができ、研磨液供給装置に付着したスラリー、研磨残渣等を洗い流すことができる。これにより、洗浄時に洗い流されたスラリー及び研磨残渣等が研磨パッドの研磨面上に残留することなく、研磨液供給装置の洗浄が可能となる。
【0122】
第２１形態によれば、 研磨面を有する研磨パッドを使用して対象物を研磨する方法であって、 研磨液供給装置に接続されたアームを下降させて、前記研磨面上に研磨液供給装置を着地させた後、前記アームを更に下降させて、前記アームによる前記研磨液供給装置の保持を解除すること、 前記研磨液供給装置から前記研磨面に研磨液を供給すると共に、前記研磨パッド及び／又は前記対象物を回転させつつ前記対象物を前記研磨面に押し付けて研磨すること、 研磨終了後に、前記アームを上昇させて、前記アームにより前記研磨液供給装置を保持し、前記研磨液供給装置を前記アームと共に上昇させること、を含む方法が提供される。
【0123】
この形態によれば、研磨処理時には研磨液供給装置をアームによる支持から解除した状態で研磨面上に配置し、研磨液供給装置を例えば錘、エアバッグなどによる荷重によりアームの位置と独立して研磨面に接触させることができる。アームと独立して研磨液供給装置を研磨パッドの研磨面に追従させることで、研磨液供給装置と研磨パッドとの間の摩擦トルクに起因して、研磨液供給装置が傾いたり、研磨液供給装置に振動が生じて、研磨パッドとの接触状態が不均一になることを抑制することができる。これにより、研磨性能の安定化を図ることができる。また、研磨液供給装置をアームにより上昇させるので、研磨液供給装置及び／又は研磨パッドのメンテナンスを容易にすることができる。
【0124】
第２２形態によれば、第２１形態の方法において、 前記研磨液供給装置を前記アームと共に上昇させた後に、前記アームを旋回させることにより前記研磨液供給装置を前記研磨パッド外に水平移動させることを更に含む。
【0125】
この形態によれば、研磨液供給装置を吊り下げた状態で旋回させることができるので、研磨液供給装置を研磨パッド外に移動させて洗浄等のメンテナンスを行うことができる。研磨液供給装置を洗浄することにより、研磨液供給装置に付着したスラリー、研磨残渣等を洗い流すことができる。これにより、洗浄時に洗い流されたスラリー及び研磨残渣等が研磨パッドの研磨面上に残留することなく、研磨液供給装置の洗浄が可能となる。また、研磨液供給装置の研磨面上での位置を容易に調整することができる。
【0126】
以上、いくつかの例に基づいて本発明の実施形態について説明してきたが、上記した発明の実施形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定するものではない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく、変更、改良され得るとともに、本発明には、その均等物が含まれることはもちろんである。また、上述した課題の少なくとも一部を解決できる範囲、または、効果の少なくとも一部を奏する範囲において、特許請求の範囲および明細書に記載された各構成要素の任意の組み合わせ、または、省略が可能である。
【符号の説明】
【0127】
１ 研磨装置
２０ 研磨テーブル
３０ トップリング
４０ 研磨液供給システム
４１ 研磨液供給装置
４５ 追従機構
４６ 吊下機構
５０ アトマイザー
６０ アーム
６０ａ 先端側部
６０ｂ 基端部
７０ 昇降旋回機構
７１ 防水ボックス
７２ 防水ボックス
８０ 昇降機構
８１ 昇降シリンダ
８２ 軸
８３ ボールスプライン
８４ 軸
８５ フレーム
８６ センサ
９０ 旋回機構
９２ シャフト
９３ モータ
１００ 研磨パッド
１０２ 研磨面
１２０ スラリー供給ライン
１３０ 流体ライン
１４０ 電気ケーブル
２００ 制御装置
４００ 研磨液供供給機構
４１０ パッド本体
４１４ 供給口
４１８ 底面
４１９ スリット
４２１ Ｏリング
４２２ パッキン
４２３ 錘
４２４ 貫通穴
４３０ カバー
４３１ 貫通穴
４３４ ブラケット
４３５、４３５Ａ 取付部
４５０ アーム側ストッパ
４５１ 上面
４５１ａ 段差面（ストッパ面）
４５２ 貫通穴
４５４ シャフト
４５５ パッド側ストッパ
４５６ 係合部
４５７ パッド側ストッパ
４６０ 球面ジョイントアセンブリ
４６１ａ ハウジング
４６１ｂ 球面ジョイント
４６２ アーム
４６３ 回止兼ストッパ
４６４ 溝
４６５ ロッド
４６６ ロッドエンド
４６６ａ 球面ジョイント
４６７ シャフト
４７０ ブラケット
４８０ 取っ手
５００ カバー
５１０ メインカバー
５１１ 下カバー
５１２ 上カバー
５２０ 補助カバー
５３１ 開口
５３２，５３３，５３４ 防水壁
５３５ 折曲部
５３６ 支柱
５４１ 上壁
５４２ 開口
５４３ 段差部
５４４、５４５ 底面部
５４６ 開口
５４７ 隙間
５６０ かえし
２０ 研磨テーブル
３０ トップリング
４０ 研磨液供給システム
４１ 研磨液供給装置
４５ 追従機構
４６ 吊下機構
５０ アトマイザー
６０ アーム
６０ａ 先端側部
６０ｂ 基端部
７０ 昇降旋回機構
７１ 防水ボックス
７２ 防水ボックス
８０ 昇降機構
８１ 昇降シリンダ
８２ 軸
８３ ボールスプライン
８４ 軸
８５ フレーム
８６ センサ
９０ 旋回機構
９２ シャフト
９３ モータ
１００ 研磨パッド
１０２ 研磨面
１２０ スラリー供給ライン
１３０ 流体ライン
１４０ 電気ケーブル
２００ 制御装置
４００ 研磨液供供給機構
４１０ パッド本体
４１４ 供給口
４１８ 底面
４１９ スリット
４２１ Ｏリング
４２２ パッキン
４２３ 錘
４２４ 貫通穴
４３０ カバー
４３１ 貫通穴
４３４ ブラケット
４３５、４３５Ａ 取付部
４５０ アーム側ストッパ
４５１ 上面
４５１ａ 段差面（ストッパ面）
４５２ 貫通穴
４５４ シャフト
４５５ パッド側ストッパ
４５６ 係合部
４５７ パッド側ストッパ
４６０ 球面ジョイントアセンブリ
４６１ａ ハウジング
４６１ｂ 球面ジョイント
４６２ アーム
４６３ 回止兼ストッパ
４６４ 溝
４６５ ロッド
４６６ ロッドエンド
４６６ａ 球面ジョイント
４６７ シャフト
４７０ ブラケット
４８０ 取っ手
５００ カバー
５１０ メインカバー
５１１ 下カバー
５１２ 上カバー
５２０ 補助カバー
５３１ 開口
５３２，５３３，５３４ 防水壁
５３５ 折曲部
５３６ 支柱
５４１ 上壁
５４２ 開口
５４３ 段差部
５４４、５４５ 底面部
５４６ 開口
５４７ 隙間
５６０ かえし
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8A】
【図8B】
【図8C】
【図9A】
【図9B】
【図9C】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】