特許 7588339 無電解メッキ繊維材料並びにその製造方法及び製造システム

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-11-14

(45)【発行日】2024-11-22

(54)【発明の名称】無電解メッキ繊維材料並びにその製造方法及び製造システム

(51)【国際特許分類】

   C23C 18/30 20060101AFI20241115BHJP

   C23C 18/31 20060101ALI20241115BHJP

   D06M 10/00 20060101ALI20241115BHJP

【ＦＩ】

C23C18/30

C23C18/31 A

D06M10/00 L

【請求項の数】 4

(21)【出願番号】P 2020114102

(22)【出願日】2020-07-01

(65)【公開番号】P2022012323

(43)【公開日】2022-01-17

【審査請求日】2023-05-22

(73)【特許権者】

【識別番号】301021533

【氏名又は名称】国立研究開発法人産業技術総合研究所

(73)【特許権者】

【識別番号】518019248

【氏名又は名称】浅野繊維工業株式会社

(73)【特許権者】

【識別番号】000179362

【氏名又は名称】株式会社ヤマダ

(74)【代理人】

【識別番号】100099623

【弁理士】

【氏名又は名称】奥山 尚一

(74)【代理人】

【氏名又は名称】松島 鉄男

(74)【代理人】

【識別番号】100125380

【弁理士】

【氏名又は名称】中村 綾子

(74)【代理人】

【識別番号】100142996

【弁理士】

【氏名又は名称】森本 聡二

(74)【代理人】

【識別番号】100166268

【弁理士】

【氏名又は名称】田中 祐

(74)【代理人】

【識別番号】100170379

【弁理士】

【氏名又は名称】徳本 浩一

(74)【代理人】

【識別番号】100180231

【弁理士】

【氏名又は名称】水島 亜希子

(74)【代理人】

【氏名又は名称】有原 幸一

(72)【発明者】

【氏名】脇坂 昭弘

(72)【発明者】

【氏名】中川 美樹

(72)【発明者】

【氏名】小原 ひとみ

(72)【発明者】

【氏名】浅野 貴裕

(72)【発明者】

【氏名】山田 孝男

【審査官】池ノ谷 秀行

(56)【参考文献】

【文献】特開平０７－１７３６３６（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１５－２１４７３５（ＪＰ，Ａ）

【文献】国際公開第２０１５／０６０３４２（ＷＯ，Ａ１）

【文献】国際公開第２０１５／０６０３４１（ＷＯ，Ａ１）

【文献】特開２０１１－２３６５１２（ＪＰ，Ａ）

【文献】米国特許出願公開第２００８／０２１０３０２（ＵＳ，Ａ１）

【文献】米国特許出願公開第２０１４／０３４９０３４（ＵＳ，Ａ１）

【文献】特開昭５９－０３９３６１（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｃ２３Ｃ １８／００－２０／０８

Ｄ０６Ｍ １０／００－１１／８４

Ｂ０５Ｂ ５／００－５／１６

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

触媒前駆体を含有する触媒溶液を正電位又は負電位に帯電した状態で、接地されるか又は前記触媒溶液の電位とは逆の電位に帯電され、かつ水分を付与されている繊維材料に静電噴霧し、かつ前記触媒前駆体の還元剤を含有する第１還元剤溶液を正電位又は負電位に帯電した状態で、接地されるか又は前記第１還元剤溶液の電位とは逆の電位に帯電され、かつ水分を付与されている前記繊維材料に静電噴霧し、これによって、前記繊維材料に触媒が付与された触媒付与繊維材料を得る触媒化工程と、
金属イオンを含有する金属イオン溶液と、前記金属イオンの還元剤を含有する第２還元剤溶液とを、前記金属イオン溶液及び前記第２還元剤溶液がともに正電位又は前記金属イオン溶液及び前記第２還元剤溶液がともに負電位に帯電した状態で、接地されるか又は前記金属イオン溶液及び前記第２還元剤溶液の電位とは逆の電位に帯電され、かつ水分を付与されている前記触媒付与繊維材料に静電噴霧し、これによって、前記触媒付与繊維材料にメッキ被膜が形成された無電解メッキ繊維材料を得る無電解メッキ工程と
を含み、
前記無電解メッキ工程における静電噴霧が、前記金属イオン溶液と前記第２還元剤溶液とが、互いに向き合わせた状態を維持して前記触媒付与繊維材料に噴霧される、
無電解メッキ繊維材料の製造方法。

【請求項2】

前記繊維材料と、前記触媒付与繊維材料と、前記無電解メッキ繊維材料とが、前記触媒化工程の実施位置から前記無電解メッキ工程の実施位置に向かって延びるように一体化した状態で前記触媒化工程の実施位置から前記無電解メッキ工程の実施位置に向かって搬送される、請求項１に記載の無電解メッキ繊維材料の製造方法。

【請求項3】

繊維材料に触媒が付与された触媒付与繊維材料を得るように構成される触媒化装置と、
前記触媒付与繊維材料にメッキ被膜が形成された無電解メッキ繊維材料を得るように構成される無電解メッキ装置と
を備え、
前記触媒化装置が、触媒前駆体を含有する触媒溶液を正電位又は負電位に帯電した状態で、接地されるか又は前記触媒溶液の電位とは逆の電位に帯電され、かつ水分を付与されている前記繊維材料に静電噴霧するように構成される触媒用ノズルと、前記触媒前駆体の還元剤を含有する第１還元剤溶液を正電位又は負電位に帯電した状態で、接地されるか又は前記第１還元剤溶液の電位とは逆の電位に帯電され、かつ水分を付与されている前記繊維材料に静電噴霧するように構成される第１還元剤用ノズルとを有し、
前記無電解メッキ装置が、金属イオンを含有する金属イオン溶液を正電位又は負電位に帯電した状態で前記触媒付与繊維材料に静電噴霧するように構成される金属イオン用ノズルと、前記金属イオンの還元剤を含有する第２還元剤溶液を、前記金属イオン溶液が正電位の場合には正電位に、前記金属イオン溶液が負電位の場合には負電位に帯電した状態で前記触媒付与繊維材料に静電噴霧するように構成される第２還元剤用ノズルとを有し、
前記無電解メッキ装置が、前記金属イオン用ノズルの吐出口と、前記第２還元剤用ノズルの吐出口を、前記触媒付与繊維材料に向けながら、互いに向き合わせた状態を維持するように構成されている、無電解メッキ繊維材料の製造システム。

【請求項4】

前記繊維材料と、前記触媒付与繊維材料と、前記無電解メッキ繊維材料とを前記触媒化装置から前記無電解メッキ装置に向かって延びるように一体化した状態で前記触媒化装置から前記無電解メッキ装置に向けて搬送可能に構成される搬送装置を備える請求項３に記載の無電解メッキ繊維材料の製造システム。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、金属イオンを含有する溶液と、還元剤を含有する溶液とを用いて繊維材料に無電解メッキ処理を施す工程を含む無電解メッキ繊維材料の製造方法に関する。本発明は、このような製造方法によって製造される無電解メッキ繊維材料に関する。本発明はまた、金属イオンを含有する溶液と、還元剤を含有する溶液とを用いて繊維材料に無電解メッキ処理を施すように構成される無電解メッキ装置を有する無電解メッキ繊維材料の製造システムに関する。

【背景技術】

【0002】

導電性を有する繊維材料を作製すること等を目的として、繊維材料に無電解メッキ処理が施されることがある。無電解メッキ処理においては、還元剤を用いて金属イオンを還元することによって金属を析出させたメッキ皮膜を繊維材料に形成する。無電解メッキ繊維材料の製造技術における一例としては、繊維材料をメッキ溶液に浸漬する無電解メッキ処理工程を含むものが挙げられる。（例えば、特許文献１～３を参照。）

【0003】

また、無電解メッキ繊維材料の製造技術における別の一例としては、還元剤を含有する繊維材料に、金属イオンを含有する溶液をエレクトロスプレーによって噴霧し、これによって、金属イオンと還元剤との反応によって金属粒子を繊維材料中に生成する無電解メッキ処理工程を含むものが挙げられる。（例えば、特許文献４を参照。）

【0004】

無電解メッキ繊維材料の製造技術におけるさらなる別の一例としては、繊維材料に、金属イオンを含有する溶液をエレクトロスプレーによって正電位及び負電位の一方に帯電した状態で噴霧し、かつ還元剤を含有する溶液をエレクトロスプレーによって正電位及び負電位の他方に帯電した状態で噴霧し、これによって、金属イオンと還元剤との反応によって金属粒子を繊維材料中に生成する無電解メッキ処理工程を含むものが挙げられる。（例えば、特許文献５を参照。）

【0005】

また、無電解メッキ繊維材料の製造技術における一例、別の一例、及びさらなる一例では、無電解メッキ処理工程の前に、繊維材料を洗浄液に浸漬するクリーニング処理工程、繊維材料とメッキ被膜との密着性を高めるために繊維材料をタンニン酸溶液に浸漬するタンニン酸処理工程、繊維材料に触媒を付着させるために繊維材料を触媒化処理液に浸漬する触媒化処理工程等のような準備工程が行われる。（例えば、特許文献１～５を参照。）

【先行技術文献】

【特許文献】

【0006】

【文献】米国特許第３８７７９６５号明細書

【文献】特開平７－１７３６３６号公報

【文献】特開２００３－１０５５５２号公報

【文献】国際公開第２０１５／０６０３４１号

【文献】国際公開第２０１５／０６０３４２号

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

上記無電解メッキ繊維材料の製造技術における一例の無電解メッキ処理工程、並びに上記無電解メッキ繊維材料の製造技術における一例及び別の一例の準備工程では、槽等に大量に貯められた各種加工溶液に繊維材料を浸漬する必要がある。しかしながら、加工溶液は貴金属を含むことがあり、このような加工溶液を大量に用いることは製造コストを増大させる。また、使用後の溶液は環境負荷物質を含んでおり、このような溶液を環境規制に適合するように廃棄処理するためには高いコストが掛かる。繊維材料を加工溶液に浸漬するときには、溶液を貯めた槽等においてバッチ処理を行うことが必要となる。バッチ処理を行うための装置を用いることもまた製造コストを増大させる要因となる。さらに、これらのことは無電解メッキ繊維材料の製造効率を低下させる要因になる。

【0008】

無電解メッキ繊維材料においては、その品質を高めることについての改善の余地がある。例えば、無電解メッキ繊維材料の導電性を高めること、無電解メッキ繊維材料のメッキ被膜の厚さを抑えること等が望まれている。

【0009】

このような実情を鑑みると、無電解メッキ繊維材料の製造方法においては、使用される加工溶液の量を低減すること、製造される無電解メッキ繊維材料の品質を高めることが望まれる。ひいては、無電解メッキ繊維材料の製造方法においては、製造される無電解メッキ繊維材料の導電性を高めること、製造される無電解メッキ繊維材料のメッキ被膜の厚さを低減すること、無電解メッキ繊維材料の製造コストを低減すること、環境負荷を低減すること、無電解メッキ繊維材料の製造効率を向上させることが望まれる。

【0010】

無電解メッキ繊維材料においては、製造時に使用される加工溶液の量を低減すること、品質を高めることが望まれる。ひいては、無電解メッキ繊維材料においては、導電性を高めること、メッキ被膜の厚さを低減すること、製造コストを低減すること、製造時に起こり得る環境負荷を低減すること、製造効率を向上させることが望まれる。

【0011】

無電解メッキ繊維材料の製造システムにおいては、使用される加工溶液の量を低減すること、製造される無電解メッキ繊維材料の品質を高めることが望まれる。ひいては、無電解メッキ繊維材料の製造システムにおいては、製造される無電解メッキ繊維材料の導電性を高めること、製造される無電解メッキ繊維材料のメッキ被膜の厚さを低減すること、製造コストを低減すること、環境負荷を低減すること、無電解メッキ繊維材料の製造効率を向上させることが望まれる。

【課題を解決するための手段】

【0012】

一態様に係る無電解メッキ繊維材料の製造方法は、触媒前駆体を含有する触媒溶液を正電位又は負電位に帯電した状態で、接地されるか又は前記触媒溶液の電位とは逆の電位に帯電され、かつ水分を付与されている繊維材料に静電噴霧し、かつ前記触媒前駆体の還元剤を含有する第１還元剤溶液を正電位又は負電位に帯電した状態で、接地されるか又は前記第１還元剤溶液の電位とは逆の電位に帯電され、かつ水分を付与されている前記繊維材料に静電噴霧し、これによって、前記繊維材料に触媒が付与された触媒付与繊維材料を得る触媒化工程と、金属イオンを含有する金属イオン溶液と、前記金属イオンの還元剤を含有する第２還元剤溶液とを、それぞれ同じように正電位又は負電位に帯電した状態で、接地されるか又は前記金属イオン溶液及び前記第２還元剤溶液の電位とは逆の電位に帯電され、かつ水分を付与されている前記触媒付与繊維材料に、前記触媒付与繊維材料にて同一の電場内で反応させるようにそれぞれ静電噴霧し、これによって、前記触媒付与繊維材料にメッキ被膜が形成された無電解メッキ繊維材料を得る無電解メッキ工程とを含む。

【0013】

一態様に係る無電解メッキ繊維材料は、触媒前駆体を含有する触媒溶液を正電位又は負電位に帯電した状態で、接地されるか又は前記触媒溶液の電位とは逆の電位に帯電され、かつ水分を付与されている繊維材料に静電噴霧し、かつ前記触媒前駆体の還元剤を含有する第１還元剤溶液を正電位又は負電位に帯電した状態で、接地されるか又は前記第１還元剤溶液の電位とは逆の電位に帯電され、かつ水分を付与されている前記繊維材料に静電噴霧し、これによって、前記繊維材料に触媒が付与された触媒付与繊維材料を得る触媒化工程と、金属イオンを含有する金属イオン溶液と、前記金属イオンの還元剤を含有する第２還元剤溶液とを、それぞれ同じように正電位又は負電位に帯電した状態で、接地されるか又は前記金属イオン溶液及び前記第２還元剤溶液の電位とは逆の電位に帯電され、かつ水分を付与されている前記触媒付与繊維材料に、前記触媒付与繊維材料にて同一の電場内で反応させるようにそれぞれ静電噴霧し、これによって、前記触媒付与繊維材料にメッキ被膜が形成された無電解メッキ繊維材料を得る無電解メッキ工程とを含む製造方法によって製造される。

【0014】

一態様に係る無電解メッキ繊維材料の製造システムは、繊維材料に触媒が付与された触媒付与繊維材料を得るように構成される触媒化装置と、前記触媒付与繊維材料にメッキ被膜が形成された無電解メッキ繊維材料を得るように構成される無電解メッキ装置と、前記触媒化装置に送られる繊維材料とを備え、前記触媒化装置が、触媒前駆体を含有する触媒溶液を正電位又は負電位に帯電した状態で、接地されるか又は前記触媒溶液の電位とは逆の電位に帯電され、かつ水分を付与されている前記繊維材料に静電噴霧するように構成される触媒用ノズルと、前記触媒前駆体の還元剤を含有する第１還元剤溶液を正電位又は負電位に帯電した状態で、接地されるか又は前記第１還元剤溶液の電位とは逆の電位に帯電され、かつ水分を付与されている前記繊維材料に静電噴霧するように構成される第１還元剤用ノズルとを有し、前記無電解メッキ装置が、金属イオンを含有する金属イオン溶液を正電位又は負電位に帯電した状態で前記触媒付与繊維材料に静電噴霧するように構成される金属イオン用ノズルと、前記金属イオンの還元剤を含有する第２還元剤溶液を前記金属イオン溶液と同じ電位に帯電した状態で前記触媒付与繊維材料に静電噴霧するように構成される第２還元剤用ノズルとを有し、前記無電解メッキ装置が、前記金属イオン用ノズルから静電噴霧された金属イオン溶液と、前記第２還元剤用ノズルから静電噴霧された第２還元剤溶液とを、接地されるか又は前記金属イオン溶液及び前記第２還元剤溶液の電位とは逆の電位に帯電され、かつ水分を付与されている前記触媒付与繊維材料にて同一の電場内で反応させるように構成されている。

【発明の効果】

【0015】

一態様に係る無電解メッキ繊維材料の製造方法においては、使用される加工溶液の量を低減でき、製造される無電解メッキ繊維材料の品質を高めることができる。ひいては、一態様に係る無電解メッキ繊維材料の製造方法においては、製造される無電解メッキ繊維材料の導電性を高めることができ、製造される無電解メッキ繊維材料のメッキ被膜の厚さを低減でき、無電解メッキ繊維材料の製造コストを低減でき、環境負荷を低減でき、無電解メッキ繊維材料の製造効率を向上させることができる。

【0016】

一態様に係る無電解メッキ繊維材料においては、製造時に使用される加工溶液の量を低減でき、品質を高めることができる。ひいては、一態様に係る無電解メッキ繊維材料においては、導電性を高めることができ、メッキ被膜の厚さを低減でき、製造コストを低減でき、製造時に起こり得る環境負荷を低減でき、製造効率を向上させることができる。

【0017】

一態様に係る無電解メッキ繊維材料の製造システムにおいては、使用される加工溶液の量を低減でき、製造される無電解メッキ繊維材料の品質を高めることができる。ひいては、一態様に係る無電解メッキ繊維材料の製造システムにおいては、製造される無電解メッキ繊維材料の導電性を高めることができ、製造される無電解メッキ繊維材料のメッキ被膜の厚さを低減でき、製造コストを低減でき、環境負荷を低減でき、無電解メッキ繊維材料の製造効率を向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【0018】

【図1】図１は、第１実施形態に係る無電解メッキ繊維材料の製造方法を説明するためのフローチャートである。

【図2】図２は、第１実施形態に係る無電解メッキ繊維材料の製造方法の触媒化工程に用いられる触媒化装置を、繊維材料を支持する支持装置と共に模式的に示す正面図である。

【図3】図３は、第１実施形態に係る無電解メッキ繊維材料の製造方法の無電解メッキ工程に用いられる無電解メッキ装置を支持装置と共に模式的に示す正面図である。

【図4】図４は、第１実施形態に係る無電解メッキ繊維材料の製造方法の脱脂工程に用いられる脱脂装置を模式的に示す断面図である。

【図5】図５は、第１実施形態に係る無電解メッキ繊維材料の製造方法の前処理工程に用いられる前処理装置を模式的に示す断面図である。

【図6】図６は、第１実施形態に係る無電解メッキ繊維材料の製造方法の前、中、及び後洗浄工程のそれぞれに用いられる洗浄装置を支持装置と共に模式的に示す正面図である。

【図7】図７は、第２実施形態に係る無電解メッキ繊維材料の製造システムの模式図である。

【発明を実施するための形態】

【0019】

第１及び第２実施形態のそれぞれに係る無電解メッキ繊維材料並びにその製造方法及び製造システムについて以下に説明する。第１及び第２実施形態に係る製造方法及び製造システムのそれぞれにおいては、無電解メッキ処理によって金属を析出させたメッキ皮膜を有する繊維材料、すなわち、無電解メッキ繊維材料を作製する。

【0020】

「第１実施形態」
第１実施形態に係る無電解メッキ繊維材料並びにその製造方法及び製造システムについて説明する。

【0021】

「無電解メッキ繊維材料及びその製造方法の概略」
図１～図３を参照して、本実施形態に係る無電解メッキ繊維材料Ａ４及びその製造方法の概略について説明する。図１に示すように、無電解メッキ繊維材料Ａ４の製造方法は、概略的には、触媒化工程Ｓ５（詳細を図２に示す）と、無電解メッキ工程Ｓ７（詳細を図３に示す）とを含む。

【0022】

このような製造方法においては、図２に示すように、触媒化工程Ｓ５にて、後述する繊維材料Ａ２を接地し、かつこの繊維材料Ａ２に水分を付与しながら、触媒前駆体を含有する溶液である触媒溶液Ｂを正電位（符号＋により示す）に帯電した状態で繊維材料Ａ２に静電噴霧する。しかしながら、触媒化工程にて、繊維材料を接地する代わりに、繊維材料を触媒溶液の電位とは逆の電位に帯電させることができる。また、触媒溶液を負電位に帯電した状態で繊維材料に静電噴霧することもできる。

【0023】

また、触媒化工程Ｓ５にて、繊維材料Ａ２を接地し、かつこの繊維材料Ａ２に水分を付与しながら、触媒前駆体の還元剤を含有する溶液である第１還元剤溶液Ｃを正電位（符号＋により示す）に帯電した状態で繊維材料Ａ２に静電噴霧する。触媒溶液Ｂの電位と、第１還元剤溶液Ｃの電位とは同じになっている。

【0024】

しかしながら、触媒化工程にて、繊維材料を接地する代わりに、繊維材料を第１還元剤溶液の電位とは逆の電位に帯電させることができる。また、第１還元剤溶液を負電位に帯電した状態で繊維材料に静電噴霧することもできる。第１還元剤溶液の電位を、触媒溶液の電位と異ならせることもできる。

【0025】

このような触媒化工程Ｓ５においては、繊維材料Ａ２に触媒が付与された触媒付与繊維材料Ａ３が得られる。なお、以下においては、必要に応じて、触媒付与繊維材料Ａ３を単に繊維材料Ａ３と呼ぶ。

【0026】

図３に示すように、無電解メッキ工程Ｓ７においては、触媒付与繊維材料Ａ３を接地し、かつこの繊維材料Ａ３に水分を付与しながら、金属イオンを含有する溶液である金属イオン溶液Ｄと、金属イオンの還元剤を含有する溶液である第２還元剤溶液Ｅとを、それぞれ正電位（符号＋により示す）に帯電した状態で、繊維材料Ａ３にて同一の電場内で反応させるように繊維材料Ａ３にそれぞれ静電噴霧する。金属イオン溶液Ｄの電位と、第２還元剤溶液Ｅの電位とは同じになっている。金属イオン溶液Ｄ及び第２還元剤溶液Ｅの電位はまた、触媒溶液Ｂ及び第１還元剤溶液Ｃの電位と同じになっている。

【0027】

しかしながら、無電解メッキ工程にて、繊維材料を接地する代わりに、繊維材料を金属イオン溶液及び第２還元剤溶液の電位とは逆の電位に帯電させることができる。また、金属イオン溶液及び第２還元剤溶液を負電位に帯電した状態で繊維材料に静電噴霧することもできる。金属イオン溶液及び第２還元剤溶液の電位を、触媒溶液及び第１還元剤溶液の電位の一方又は両方と異ならせることもできる。

【0028】

このような無電解メッキ工程Ｓ７においては、繊維材料Ａ３にメッキ被膜が形成された無電解メッキ繊維材料Ａ４が得られる。なお、以下においては、必要に応じて、無電解メッキ繊維材料Ａ４を単に繊維材料Ａ４と呼ぶ。本実施形態に係る無電解メッキ繊維材料Ａ４は、概略的には、このような製造方法によって製造することができる。

【0029】

「無電解メッキ繊維材料及びその製造方法の詳細」
図１～図６を参照して、本実施形態に係る無電解メッキ繊維材料Ａ４及びその製造方法の詳細について説明する。図１に示すように、無電解メッキ繊維材料Ａ４の製造方法はまた、詳細には、脱脂工程Ｓ１（詳細を図４に示す）と、前乾燥工程Ｓ２と、前処理工程Ｓ３（詳細を図５に示す）と、前洗浄工程Ｓ４（詳細を図６に示す）と、触媒化工程Ｓ５（詳細を図２に示す）と、中洗浄工程Ｓ６（詳細を図６に示す）と、無電解メッキ工程Ｓ７（詳細を図３に示す）と、後洗浄工程Ｓ８（詳細を図６に示す）と、後乾燥工程Ｓ９とを含むことができる。

【0030】

このような製造方法においては、図４に示すように、脱脂工程Ｓ１にて、繊維材料Ａ１を脱脂する。特に明確に図示はしないが、脱脂工程Ｓ１後に、前乾燥工程Ｓ２において繊維材料Ａ１を乾燥させる。なお、脱脂液Ｆが揮発性である場合は、前乾燥工程Ｓ２を省略することもできる。

【0031】

図５に示すように、前処理工程Ｓ３において、次に述べる前処理繊維材料Ａ２とメッキ被膜との密着性を高めるべく、前乾燥工程Ｓ２にて乾燥された繊維材料Ａ１を負電荷に帯電させるように前処理を施す。前処理工程Ｓ３においては、繊維材料Ａ１に前処理を施した前処理繊維材料Ａ２が得られる。なお、以下においては、必要に応じて、前処理繊維材料Ａ２を単に繊維材料Ａ２と呼ぶ。しかしながら、上述のように触媒化工程及び無電解メッキ処理工程の一方又は両方が、負電位に帯電された溶液を繊維材料に静電噴霧する作業を含む場合、前処理工程を省略することもできる。

【0032】

図６に示すように、前処理工程Ｓ３後に、前洗浄工程Ｓ４において前処理繊維材料Ａ２を洗浄する。図２に示すように、触媒化工程Ｓ５において、前洗浄工程Ｓ４にて洗浄された繊維材料Ａ２を接地し、かつこの繊維材料Ａ２に水分を付与しながら、触媒溶液Ｂを正電位に帯電した状態で繊維材料Ａ２に静電噴霧する。また、触媒化工程Ｓ５において繊維材料Ａ２を接地し、かつこの繊維材料Ａ２に水分を付与しながら、第１還元剤溶液Ｃを正電位に帯電した状態で繊維材料Ａ２に静電噴霧する。触媒化工程Ｓ５において、触媒付与繊維材料Ａ３が得られる。

【0033】

図６に示すように、触媒化工程Ｓ５後に、中洗浄工程Ｓ６において触媒付与繊維材料Ａ３を洗浄する。図３に示すように、無電解メッキ工程Ｓ７にて、中洗浄工程Ｓ６にて洗浄された繊維材料Ａ３を接地し、かつこの繊維材料Ａ３に水分を付与しながら、金属イオン溶液Ｄと、第２還元剤溶液Ｅとを、それぞれ正電位に帯電した状態で、繊維材料Ａ３にて同一の電場内で反応させるように繊維材料Ａ３にそれぞれ静電噴霧する。無電解メッキ工程Ｓ７において、無電解メッキ繊維材料Ａ４が得られる。

【0034】

図６に示すように、無電解メッキ工程Ｓ７後に、後洗浄工程Ｓ８において無電解メッキ繊維材料Ａ４を洗浄する。特に明確に図示はしないが、後乾燥工程Ｓ９において、後洗浄工程Ｓ８にて洗浄された繊維材料Ａ４を乾燥させる。なお、無電解メッキ繊維材料の製造方法は、後乾燥工程の後に、無電解メッキ繊維材料にアニール処理を施すアニール処理工程を含むこともできる。本実施形態に係る無電解メッキ繊維材料Ａ４は、詳細には、このような製造方法によって製造することができる。

【0035】

「繊維材料の詳細」
繊維材料Ａ１は、詳細には次のようなものとすることができる。繊維材料Ａ１は、高分子化合物を構成成分として含む糸状の材料、又はこれを束ねた材料（綿、織布、不織布、紙等）であれば、具体的な材質、天然繊維・合成繊維の違い、材料の形態等は特に限定されない。例えば、繊維材料の種類としては、麻、木綿等の植物繊維、羊毛、絹等の動物繊維、レーヨン等の再生繊維、ナイロン（ナイロン６，６等）等のポリアミド系合成繊維、ポリエステル系合成繊維、アクリル系合成繊維、ポリビニルアルコール系合成繊維、ポリオレフィン系合成繊維、ポリウレタン系合成繊維、セルロース系半合成繊維、タンパク質系半合成繊維等が挙げられる。繊維材料は、糸、織布、不織布、編物、紙、又はフィルムがより好ましい。

【0036】

繊維材料が糸である場合、例えば、糸の太さは、約３０デニール～約１２００デニールとすることができる。さらに、糸の太さは、約３０デニール～約３００デニールあると好ましい。

【0037】

触媒化工程Ｓ５及び無電解メッキ工程Ｓ７にて繊維材料Ａ２，Ａ３に水分を付与することを勘案すると、繊維材料Ａ１は親水性であると好ましい。しかしながら、繊維材料は疎水性であってもよく、この場合、繊維材料に親水性をもたらすための処理、例えば、表面改質処理等が、繊維材料に施されるとよい。

【0038】

「脱脂工程の詳細」
図４に示すように、脱脂工程Ｓ１は、詳細には次のようなものとすることができる。脱脂工程Ｓ１においては、繊維材料Ａ１を脱脂液Ｆに浸漬し、これによって、繊維材料Ａ１を脱脂する。脱脂工程Ｓ１においては、繊維材料Ａ１から原糸油剤、織布油剤、編物油剤、汚れ等を除去できる。

【0039】

脱脂工程Ｓ１においては、繊維材料Ａ１を脱脂可能に構成される脱脂装置１０が用いられる。脱脂装置１０は、脱脂液Ｆを貯めることができるように構成される槽１１を有する。脱脂工程Ｓ１において、繊維材料Ａ１の全体が槽１１内で脱脂液Ｆに浸漬される。

【0040】

脱脂液Ｆとしては、繊維の種類により、当該繊維の脱脂に通常用いられているものを使用することができる。例えば、脱脂液Ｆは、アセトン、イソプロピルアルコール、エタノール、クロロホルム、メタノール、キシレン等を含有する有機溶剤とすることができる。脱脂液Ｆはまた、苛性ソーダ、炭酸ソーダ、第三燐酸ソーダ、トリポリ燐酸ソーダ、オルソ珪酸ソーダ、メタ珪酸ソーダ、非イオン系界面活性剤等を含有するアルカリ性洗浄剤とすることができる。

【0041】

脱脂工程Ｓ１を実施する環境の雰囲気温度、すなわち、脱脂装置１０の周囲温度は、室温とすることができる。脱脂液Ｆの処理温度は、常温（約２０℃）～約８０℃とすることができる。繊維材料Ａ１を脱脂液Ｆに浸漬する浸漬時間は、約１分～約１０分とすることができる。しかしながら、雰囲気温度、処理温度、及び浸漬時間は、これらに限定されない。雰囲気温度、処理温度、及び浸漬時間は、繊維材料から原糸油剤、織布油剤、編物油剤、汚れ等を効率的に除去可能とするように適宜調節することができる。

【0042】

「前及び後乾燥工程の詳細」
特に明確に図示はしないが、前及び後乾燥工程Ｓ２，Ｓ９は、次のようなものとすることができる。前乾燥工程Ｓ２においては、脱脂工程Ｓ１にて脱脂された繊維材料Ａ１を乾燥させるように、この繊維材料Ａ１に温風又は熱風を当てる。後乾燥工程Ｓ９においては、後洗浄工程Ｓ８にて洗浄された無電解メッキ繊維材料Ａ４を乾燥させるように、この繊維材料Ａ４に温風又は熱風を当てる。

【0043】

前及び後乾燥工程Ｓ２，Ｓ９のそれぞれにおいては、繊維材料Ａ１，Ａ４に温風又は熱風を当てることができるように構成される乾燥装置（図示せず）が用いられる。しかしながら、前及び及び後乾燥工程のいずれか一方において、繊維材料を自然乾燥させることもできる。

【0044】

「前処理工程の詳細」
図５に示すように、前処理工程Ｓ３は、詳細には次のようなものとすることができる。前処理工程Ｓ３においては、処理剤を含有する処理液Ｇに繊維材料Ａ１を浸漬し、これによって、繊維材料Ａ１を負電荷に帯電させる。前処理工程Ｓ３によって、前処理繊維材料Ａ２とメッキ被膜との密着性を高めることができる。

【0045】

前処理工程Ｓ３においては、繊維材料Ａ２とメッキ被膜との密着性を高めることを可能とする前処理を実施可能に構成される前処理装置２０が用いられる。前処理装置２０は、処理液Ｇを貯めることができるように構成される槽２１を有する。前処理工程Ｓ３において、繊維材料Ａ２の全体が槽２１内で処理液Ｇに浸漬される。

【0046】

処理液Ｇに含有される処理剤は、タンニン酸、没食子酸、ピロガロール、カテコール等のポリフェノール化合物等のように、繊維材料Ａ１に負電荷を与えることが可能な物質を含む溶液とすることができる。繊維材料Ａ１に負電荷を与え、負に帯電することにより、後続の触媒化工程Ｓ５において、触媒前駆体である金属イオンの前処理繊維材料Ａ２への付着性を高めることができる。また、その後に形成されるメッキ被膜と触媒付与繊維材料Ａ３との密着性を高めることができる。処理剤がタンニン酸である場合、処理液Ｇは、タンニン酸溶液Ｇと呼ぶこともでき、かつ前処理工程Ｓ３は、タンニン酸処理工程Ｓ３と呼ぶこともできる。処理液Ｇ中の処理剤の濃度は、約０．１質量％～約５．０質量％とすることができる。

【0047】

前処理工程Ｓ３を実施する環境の雰囲気温度、すなわち、前処理装置２０の周囲温度は、室温とすることができる。処理液Ｇの処理温度は、常温（約２０℃）～約１００℃とすることができる。繊維材料Ａ１を処理液Ｇに浸漬する浸漬時間は、約１分～約１０分とすることができる。しかしながら、雰囲気温度、処理温度、及び浸漬時間は、これらに限定されない。雰囲気温度、処理温度、及び浸漬時間は、繊維材料とメッキ被膜との密着性を高めることを可能とするように適宜調節することができる。なお、前処理工程は、繊維材料の種類により、当該繊維の無電解メッキの前処理として通常行われている他の処理であってもよく、処理液を使用した前処理には限定されない。

【0048】

「前、中、及び後洗浄工程の詳細」
図６に示すように、前、中、及び後洗浄工程Ｓ４，Ｓ６，Ｓ８のそれぞれは、詳細には次のようなものとすることができる。前洗浄工程Ｓ４においては、洗浄液Ｈを前処理繊維材料Ａ２に吐出し、これによって、この繊維材料Ａ２を洗浄する。中洗浄工程Ｓ６においては、洗浄液Ｈを触媒付与繊維材料Ａ３に吐出し、これによって、この繊維材料Ａ３を洗浄する。後洗浄工程Ｓ８においては、洗浄液Ｈを無電解メッキ繊維材料Ａ４に吐出し、これによって、この繊維材料Ａ４を洗浄する。前、中、及び後洗浄工程Ｓ４，Ｓ６，Ｓ８のそれぞれにおいては、洗浄液Ｈを繊維材料Ａ２，Ａ３，Ａ４に吐出可能とする洗浄装置３０が用いられる。洗浄装置３０は、洗浄液Ｈを吐出するように構成される吐出口３０ｂを有する洗浄ノズル３０ａを含む。

【0049】

しかしながら、前、中、及び後洗浄工程のうち少なくとも１つにおいて、繊維材料を洗浄液に浸漬し、これによって、繊維材料を洗浄することもできる。この場合、前、中、及び後洗浄工程のうち少なくとも１つにおいて、洗浄液を貯めることができる槽を有する洗浄装置を用いることができる。

【0050】

洗浄液Ｈは、水とすることができる。かかる水は、蒸留水、イオン交換水、ＲＯ（Reverse Osmosis）水、純水、超純水等の精製水、水道水、天然水等とすることができる。前、中、及び後洗浄工程の洗浄液Ｈは、互いに同じものとすることができる。しかしながら、洗浄液は、水に限定されない。前、中、及び後洗浄工程Ｓ４，Ｓ６，Ｓ８の洗浄液を互いに異ならせることができる。前、中、及び後洗浄工程の洗浄液のうち１つを残り２つと異ならせることもできる。

【0051】

ここで、図６に示すように、前、中、及び後洗浄工程Ｓ４，Ｓ６，Ｓ８のそれぞれにおいて、繊維材料Ａ２，Ａ３，Ａ４を支持する支持装置４０について説明する。支持装置４０は、繊維材料Ａ２～Ａ４を架け渡すように互いに間隔を空けて配置される２つの支持部４１，４２を有する。以下必要に応じて、これら２つの支持部４１，４２のうち一方の支持部４１を第１支持部４１と呼び、かつ２つの支持部４１，４２のうち他方の支持部４２を第２支持部４２と呼ぶ。

【0052】

支持装置４０は、第１及び第２支持部４１，４２を連結する連結部４３を有する。繊維材料Ａ２～Ａ４は、所定の張力を付与された状態で第１及び第２支持部４１，４２に架け渡されている。このとき、繊維材料Ａ２～Ａ４には、繊維材料Ａ２～Ａ４の径方向の位置をバラつかせる弛みが生じない程度の張力が付与されると好ましい。支持装置４０は、繊維材料Ａ２～Ａ４を第１及び第２支持部４１，４２に固定するように構成されている。しかしながら、支持装置は、繊維材料を第１及び第２支持部によって支持しながら繊維材料をその長手方向に沿って移動させるように構成することができる。

【0053】

図６においては、第１支持部４１は第２支持部４２に対して上方に間隔を空けて配置される。繊維材料Ａ２～Ａ４は、実質的に鉛直方向に沿うように第１及び第２支持部４１，４２に架け渡されている。しかしながら、第１及び第２支持部の配置関係は、これに限定されない。例えば、第１及び第２支持部は、互いに対して水平方向に間隔を空けて配置することができる。この場合、繊維材料は、実質的に水平方向に沿うように第１及び第２支持部に架け渡すことができる。

【0054】

２つの支持部４１，４２のうち一方又は両方は、導電性を有するように構成され、かつ電気的に接地されている。繊維材料Ａ２～Ａ４は、このような２つの支持部４１，４２のうち一方又は両方を介して接地されることとなる。図６においては、第２支持部４２が、導電性を有し、かつ電気的に接地されている。この場合、第１支持部４１は、導電性を有することもでき、かつ導電性を有さないこともできる。しかしながら、第２支持部の代わりに、第１支持部が、導電性を有し、かつ電気的に接地することもできる。また、第１及び第２支持部の両方を接地させることもできる。

【0055】

上述のように、第１支持部４１が第２支持部４２に対して上方に間隔を空けて配置され、かつ繊維材料Ａ２～Ａ４が実質的に鉛直方向に沿って配置される場合において、洗浄装置３０の洗浄ノズル３０ａの吐出口３０ｂは、第１支持部４１の上方に配置されている。吐出口３０ｂから吐出される洗浄液Ｈは、重力に従って、第１支持部４１から繊維材料Ａ２～Ａ４に沿って第２支持部４２に流れる。このような洗浄液Ｈによって、繊維材料Ａ２～Ａ４を洗浄することができる。

【0056】

詳細は後述するが、さらに触媒化工程Ｓ５及び無電解メッキ工程Ｓ７において、支持装置４０が繊維材料Ａ２，Ａ３を支持する。後乾燥工程Ｓ９においてもまた、支持装置４０が繊維材料Ａ４を支持することができる。

【0057】

「触媒化工程の詳細」
図２に示すように、触媒化工程Ｓ５は、詳細には次のようなものとすることができる。触媒化工程Ｓ５においては、先行して触媒溶液Ｂを前処理繊維材料Ａ２に静電噴霧し、かつこの触媒溶液Ｂに後続して第１還元剤溶液Ｃを同繊維材料Ａ２に静電噴霧する。しかしながら、触媒化工程においては、触媒溶液と第１還元剤溶液とを同時に繊維材料に静電噴霧することもできる。触媒化工程においては、先行して第１還元剤溶液を繊維材料に静電噴霧し、かつこの第１還元剤溶液に後続して触媒溶液を繊維材料に静電噴霧することもできる。

【0058】

触媒化工程Ｓ５において、繊維材料Ａ２は支持装置４０によって支持される。触媒化工程Ｓ５においてはまた、繊維材料Ａ２の表面にて、無電解メッキ反応のための触媒を付与する反応を生じさせるように構成される触媒化装置５０が用いられる。

【0059】

触媒化装置５０は、触媒溶液Ｂを静電噴霧可能に構成される触媒用ノズル機構５１を有する。触媒用ノズル機構５１は、触媒溶液Ｂを静電噴霧する噴霧口５１ｂを有する触媒用ノズル５１ａを有する。触媒用ノズル５１ａは、両側矢印Ｐ１により示すように、繊維材料Ａ２の長手方向に沿って移動可能に構成されている。触媒用ノズル５１ａはまた、繊維材料Ａ２の長手方向に沿って繰り返し往復移動することができる。触媒用ノズル機構５１は、触媒用ノズル５１ａに供給される触媒溶液Ｂを通過可能とするように構成される触媒用供給管５１ｃを有する。触媒溶液Ｂを正電位（又は負電位）に帯電させるためには電源（図示せず）を用いることができる。

【0060】

このような触媒用ノズル機構５１において、触媒溶液Ｂは、液滴の状態で、触媒用供給管５１ｃを通って触媒用ノズル５１ａの噴霧口５１ｂから噴霧される。このとき、エレクトロスプレー現象によって、触媒用ノズル５１ａと繊維材料Ａ２との間には電場を生じさせることができる。なお、繊維材料を触媒溶液の電位とは逆の電位に帯電させる場合には、電源を用いて繊維材料を逆の電位に帯電させることができる。

【0061】

ここで、エレクトロスプレー現象について説明する。例えば、触媒用ノズル機構５１の触媒用ノズル５１ａと繊維材料Ａ２との間の電場において、電源等を用いることによって触媒用ノズル５１ａ側を正電位とし、かつ接地された繊維材料Ａ２側を約０ｋＶ又は負電位とする。このように触媒用ノズル５１ａと繊維材料Ａ２との間に電位勾配を設けることによって、エレクトロスプレー現象を生じさせることができる。

【0062】

さらに、繊維材料Ａ２が支持装置４０の第１及び第２支持部４１，４２に固定されている構成において、触媒用ノズル５１ａを繊維材料Ａ２の長手方向に沿って移動させながら、触媒用ノズル５１ａから触媒溶液Ｂを噴霧すれば、繊維材料Ａ２全体に触媒溶液Ｂを吹き付けることができる。しかしながら、上述のように支持装置が、繊維材料を第１及び第２支持部によって支持しながら繊維材料をその長手方向に沿って移動させる構成においては、触媒用ノズルを一定の位置に固定しても、繊維材料全体に触媒溶液を吹き付けることができる。

【0063】

触媒化装置５０は、第１還元剤溶液Ｃを静電噴霧可能に構成される第１還元剤用ノズル機構５２を有する。第１還元剤用ノズル機構５２は、第１還元剤溶液Ｃを静電噴霧する噴霧口５２ｂを有する第１還元剤用ノズル５２ａを含む。第１還元剤用ノズル５２ａは、両側矢印Ｐ２により示すように、繊維材料Ａ２の長手方向に沿って移動可能に構成されている。第１還元剤用ノズル５２ａはまた、繊維材料Ａ２の長手方向に沿って繰り返し往復移動することができる。第１還元剤用ノズル機構５２は、第１還元剤用ノズル５２ａに供給される第１還元剤溶液Ｃを通過可能とするように構成される第１還元剤用供給管５２ｃを有する。第１還元剤溶液Ｃを正電位（又は負電位）に帯電させるためには電源（図示せず）を用いることができる。

【0064】

このような第１還元剤用ノズル機構５２において、第１還元剤溶液Ｃは、液滴の状態で、第１還元剤用供給管５２ｃを通って第１還元剤用ノズル５２ａの噴霧口５２ｂから噴霧される。さらに、触媒用ノズル機構５１と同様のエレクトロスプレー現象によって、第１還元剤用ノズル５２ａと繊維材料Ａ２との間には電場を生じさせることができる。なお、繊維材料を第１還元剤溶液の電位とは逆の電位に帯電させる場合には、電源を用いて繊維材料を逆の電位に帯電させることができる。

【0065】

さらに、繊維材料Ａ２が支持装置４０の第１及び第２支持部４１，４２に固定されている構成において、第１還元剤用ノズル５２ａを繊維材料Ａ２の長手方向に沿って移動させながら、第１還元剤用ノズル５２ａから第１還元剤溶液Ｃを噴霧すれば、繊維材料Ａ２全体に第１還元剤溶液Ｃを吹き付けることができる。しかしながら、上述のように支持装置が、繊維材料を第１及び第２支持部によって支持しながら繊維材料をその長手方向に沿って移動させる構成においては、第１還元剤用ノズルを一定の位置に固定しても、繊維材料全体に第１還元剤溶液を吹き付けることができる。

【0066】

触媒用ノズル機構５１と第１還元剤用ノズル機構５２との関係について、触媒用ノズル５１ａと第１還元剤用ノズル５２ａとは、繊維材料Ａ２に沿った移動を互いに妨げないように移動可能に構成される。図２においては、触媒用ノズル５１ａと第１還元剤用ノズル５２ａとが、互いに対して繊維材料Ａ２の周方向にズレて配置されている。触媒用ノズル５１ａ及び第１還元剤用ノズル５２ａを、これらの吐出口５１ｂ，５２ｂを繊維材料Ａ２に向けながら互いに対向する方向に向くように配置することができる。この場合、触媒用ノズル５１ａ及び第１還元剤用ノズル５２ａが繊維材料Ａ２の長手方向にて各別に移動することに応じて、これらの吐出口５１ｂ，５２ｂ間における繊維材料Ａ２の長手方向の距離を変化させることもできる。

【0067】

しかしながら、触媒用ノズルと第１還元剤用ノズルとを、繊維材料の長手方向に間隔を空けるように配置することもできる。触媒用ノズル及び第１還元剤用ノズルを、これらの一方を繊維材料に静電噴霧するために繊維材料に接近した静電噴霧位置に配置するときに、これらの他方を静電噴霧位置から退避させるように互いに入れ替えることもできる。

【0068】

触媒溶液Ｂは、一例として、白金、金、銀、パラジウム等の一種若しくは複合系の塩、錯体化合物等、又はこれらのうち２種類以上の混合物を溶解した溶液とすることができる。塩は、硝酸塩、硫酸塩、塩化物、酢酸塩等とすることができる。したがって、触媒溶液Ｂには、触媒前駆体である、白金、金、銀、パラジウム等の金属イオンが含有されている。

【0069】

特に、触媒用ノズル５１ａから噴霧される液滴の表面張力を下げるために、触媒溶液Ｂが、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等の炭素数１～３の低級アルコール類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；又はこれらのうち２種類以上の混合物を含有することができる。また、触媒溶液Ｂ中における触媒前駆体の濃度は、適宜調整可能である。例えば、この触媒前駆体の濃度は、約０．０１ｍｏｌ／Ｌ以上かつ約５ｍｏｌ／Ｌ以下の範囲とすることができる。

【0070】

第１還元剤溶液Ｃに含有される還元剤は、還元される触媒前駆体種に適合するように最適なものを選択することができる。還元剤は、一例として、ヒドロキシメタンスルフィン酸、チオグリコール酸、亜硫酸、若しくはそれらのナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩等の塩、アスコルビン酸、クエン酸、ハイドロサルファイトナトリウム、チオ尿素、ジチオスレイトール、ヒドラジン類、ホルムアルデヒド類、ホウ素ハイドライド類、又はこれらのうち２種類以上の混合物とすることができる。

【0071】

ヒドラジン類は一例として、ヒドラジン、ヒドラジン水和物、ヒドラジンの塩、ヒドラジンの置換基誘導体又はその塩等とすることができる。具体的には、ヒドラジン水和物、一塩酸ヒドラジン、二塩酸ヒドラジン、硫酸ヒドラジン、臭酸ヒドラジン、炭酸ヒドラジン、メチルヒドラジン、フェニルヒドラジン、ｔｅｒｔ－ブチルヒドラジン塩酸塩、カルボヒドラジド等が例示できる。

【0072】

ホルムアルデヒド類の一例として、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド等、又はこれらの２種類以上の混合物とすることができる。ホウ素ハイドライド類とは、ホウ素－水素結合を有する還元性の化合物を表し、具体的には、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素リチウム、シアノトリヒドロホウ酸ナトリウム、リチウムトリエチルボロハイドライド、テトラヒドロフラン・ボラン錯体、ジメチルアミン・ボラン錯体、ジフェニルアミン・ボラン錯体、ピリジン・ボラン錯体等が例示できる。特に還元剤は、アスコルビン酸又はヒドラジン類であると好ましい。

【0073】

また、第１還元剤溶液Ｃにおける還元剤の添加量は、還元剤の種類、触媒溶液Ｂ中における触媒前駆体の濃度等に対応して適宜調整することができる。例えば、還元剤の添加量は、触媒前駆体の化学当量の１倍～２倍の範囲であることが好ましい。還元剤の添加量が化学当量未満では触媒への還元反応が十分に進まないおそれがある。一方、還元剤の添加量が化学当量の２倍を越えても差し支えないが、コストが高くなる。

【0074】

触媒溶液Ｂ及び第１還元剤溶液Ｃは、互いに相溶する水溶液系又は水溶性であるとよい。一例として、触媒溶液Ｂ及び第１還元剤溶液Ｃのそれぞれに用いられる溶媒は、水、エタノール、ＤＭＦ（N,N-dimethylformamide）、アセトン、又はこれらのうち２種類以上の混合物とすることができる。特に、触媒溶液Ｂ及び第１還元剤溶液Ｃのそれぞれに用いられる溶媒は、水であるか、又は水とエタノール、ＤＭＦ、アセトン等の水溶性の溶媒との水溶液であるとよい。また、触媒溶液Ｂ及び第１還元剤溶液Ｃのそれぞれに用いられる溶媒は同種であると好ましい。

【0075】

触媒用ノズル５１ａ及び第１還元剤用ノズル５２ａのそれぞれにおいて、噴霧口５１ｂ，５２ｂの口径は、約０．０３ｍｍ以上、好ましくは、約０．０５ｍｍ以上、より好ましくは、約０．１ｍｍ以上とすることができ、かつ約１．０ｍｍ以下、好ましくは、約０．５ｍｍ以下、より好ましくは、約０．３ｍｍ以下とすることができる。触媒化工程Ｓ５を実施する環境の雰囲気温度、すなわち、触媒化装置５０の周囲温度は、室温とすることができる。

【0076】

触媒化工程Ｓ５において、触媒用ノズル５１ａの噴霧口５１ｂ及び繊維材料Ａ２間の距離と、第１還元剤用ノズル５２ａの噴霧口５２ｂ及び繊維材料Ａ２間の距離とのそれぞれは、約５ｍｍ以上、好ましくは、約７ｍｍ以上、より好ましくは、約１０ｍｍ以上とすることができ、かつ約４０ｍｍ以下、好ましくは、約３０ｍｍ以下、より好ましくは、約２０ｍｍ以下とすることができる。

【0077】

触媒化工程Ｓ５において、触媒用ノズル５１ａからの触媒溶液Ｂの単位時間あたりの噴霧量と、第１還元剤用ノズル５２ａからの第１還元剤溶液Ｃの単位時間あたりの噴霧量とのそれぞれは、約３μＬ／ｍｉｎ以上、好ましくは、約５μＬ／ｍｉｎ以上、より好ましくは、約７μＬ／ｍｉｎ以上とすることができ、かつ約５０μＬ／ｍｉｎ以下、好ましくは、約３０μＬ／ｍｉｎ以下、より好ましくは、約２０μＬ／ｍｉｎ以下とすることができる。触媒化工程Ｓ５において、触媒用ノズル５１ａ側の正電位と、第１還元剤用ノズル５２ａ側の正電位とのそれぞれは、約＋２．０ｋＶ以上、好ましくは、約＋３．０ｋＶ以上、より好ましくは、約＋４．５ｋＶ以上とすることができ、かつ約＋１０．０ｋＶ以下、好ましくは、約＋８ｋＶ以下、より好ましくは、約＋７ｋＶ以下とすることができる。

【0078】

さらに、触媒化工程Ｓ５においては、水Ｉを繊維材料Ａ２に吐出し、これによって、繊維材料Ａ２に水分を付与する。繊維材料Ａ２に水分を付与することで、繊維材料Ａ２を確実に接地することができる。触媒化装置５０は、繊維材料Ａ２に水Ｉを供給するように構成される第１水分供給機構５３を有する。第１水分供給機構５３は、水Ｉを吐出するように構成される吐出口５３ｂを有する第１水分供給ノズル５３ａを有する。繊維材料Ａ２への水Ｉの供給は、触媒化工程Ｓ５を実施する間にわたって、連続的に行ってもよく、断続的に行ってもよい。

【0079】

触媒化工程Ｓ５において、繊維材料Ａ２に水分を付与するための水Ｉは、蒸留水、イオン交換水、ＲＯ（Reverse Osmosis）水、純水、超純水等の精製水とすることができる。しかしながら、水は、これに限定されない。

【0080】

上述のように、第１支持部４１が第２支持部４２に対して上方に間隔を空けて配置され、かつ繊維材料Ａ２が実質的に鉛直方向に沿って配置される場合において、第１水分供給ノズル５３ａの吐出口５３ｂは、第１支持部４１の上方に配置されている。吐出口５３ｂから吐出される水Ｉは、重力に従って、第１支持部４１から繊維材料Ａ２に沿って第２支持部４２に流れる。このような水Ｉによって、繊維材料Ａ２に水分を付与することができる。

【0081】

しかしながら、上述のように支持装置が、繊維材料を第１及び第２支持部によって支持しながら繊維材料をその長手方向に沿って移動させるように構成される場合、第１水分供給機構を、水を貯めることができるように構成される槽を有するように構成することができる。この場合、繊維材料は、触媒溶液を噴霧される直前と、第１還元剤溶液を噴霧される直前との一方又は両方において、第１水分供給機構の槽内の水を通過することができる。

【0082】

さらに、触媒化工程Ｓ５によって、繊維材料Ａ２に、触媒金属被膜、例えば、金属パラジウムや白金の被膜を形成することができる。繊維材料Ａ２に付与される触媒の量は、その後の無電解メッキ工程Ｓ７において、所望の電気抵抗値、所望のメッキ金属皮膜の膜厚等を有する無電解メッキ繊維材料Ａ４を得ることができるように、適宜調節することができる。

【0083】

「無電解メッキ工程の詳細」
図３に示すように、無電解メッキ工程Ｓ７は、詳細には次のようなものとすることができる。無電解メッキ工程Ｓ７においては、金属イオン溶液Ｄと第２還元剤溶液Ｅとを、それぞれ正電位に帯電した状態で、触媒付与繊維材料Ａ３にて同一の電場内で反応させるように、同時にこの繊維材料Ａ３にそれぞれ静電噴霧する。

【0084】

無電解メッキ工程Ｓ７において、繊維材料Ａ３は支持装置４０によって支持される。無電解メッキ工程Ｓ７においてはまた、繊維材料Ａ３に無電解メッキ処理を施すように構成される無電解メッキ装置６０が用いられる。

【0085】

無電解メッキ装置６０は、金属イオン溶液Ｄを静電噴霧可能に構成される金属イオン用ノズル機構６１を有する。金属イオン用ノズル機構６１は、金属イオン溶液Ｄを静電噴霧する噴霧口６１ｂを有する金属イオン用ノズル６１ａを有する。金属イオン用ノズル６１ａは、両側矢印Ｑ１により示すように、繊維材料Ａ３の長手方向に沿って移動可能に構成されている。金属イオン用ノズル機構６１は、金属イオン用ノズル６１ａに供給される金属イオン溶液Ｄを通過可能とするように構成される金属イオン用供給管６１ｃを有する。金属イオン溶液Ｄを正電位（又は負電位）に帯電させるためには電源（図示せず）を用いることができる。

【0086】

このような金属イオン用ノズル機構６１において、金属イオン溶液Ｄは、液滴の状態で、金属イオン用供給管６１ｃを通って金属イオン用ノズル６１ａの噴霧口６１ｂから噴霧される。このとき、上述した触媒用ノズル機構５１と同様のエレクトロスプレー現象によって、金属イオン用ノズル６１ａと繊維材料Ａ３との間には電場を生じさせることができる。なお、繊維材料を金属イオン溶液の電位とは逆の電位に帯電させる場合には、電源を用いて繊維材料を逆の電位に帯電させることができる。

【0087】

さらに、繊維材料Ａ３が支持装置４０の第１及び第２支持部４１，４２に固定されている構成において、金属イオン用ノズル６１ａを繊維材料Ａ３の長手方向に沿って移動させながら、金属イオン用ノズル６１ａから金属イオン溶液Ｄを噴霧すれば、繊維材料Ａ３全体に金属イオン溶液Ｄを吹き付けることができる。しかしながら、上述のように支持装置が、繊維材料を第１及び第２支持部によって支持しながら繊維材料をその長手方向に沿って移動させる構成においては、金属イオン用ノズルを一定の位置に固定しても、繊維材料全体に金属イオン溶液を吹き付けることができる。

【0088】

無電解メッキ装置６０は、第２還元剤溶液Ｅを静電噴霧可能に構成される第２還元剤用ノズル機構６２を有する。第２還元剤用ノズル機構６２は、第１還元剤溶液Ｃの代わりに、第２還元剤溶液Ｅを静電噴霧する点を除いて、第１還元剤用ノズル機構５２と同様に構成される。第２還元剤用ノズル機構６２の第２還元剤用ノズル６２ａ、噴霧口６２ｂ、及び第２還元剤用供給管６２ｃは、それぞれ、第１還元剤用ノズル機構５２の第１還元剤用ノズル５２ａ、噴霧口５２ｂ、及び第１還元剤用供給管５２ｃに相当する。

【0089】

第２還元剤用ノズル６２ａは、両側矢印Ｑ２により示すように、繊維材料Ａ３の長手方向に沿って移動可能である。第２還元剤溶液Ｅを正電位（又は負電位）に帯電させるためには電源（図示せず）を用いることができる。なお、繊維材料を第２還元剤溶液の電位とは逆の電位に帯電させる場合には、電源を用いて繊維材料を逆の電位に帯電させることができる。

【0090】

なお、無電解メッキ装置においては、第２還元剤用ノズル機構の代わりに、第１還元剤用ノズル機構を用いることもできる。この場合、第１還元剤用ノズル機構が、触媒化装置及び無電解メッキ装置において共通して用いられることとなる。

【0091】

金属イオン用ノズル機構６１と第２還元剤用ノズル機構６２との関係について、金属イオン用ノズル６１ａと第２還元剤用ノズル６２ａとは、繊維材料Ａ３に沿った移動を互いに妨げないように移動可能に構成される。図３においては、金属イオン用ノズル６１ａと第２還元剤用ノズル６２ａとが、互いに対して繊維材料Ａ３の周方向にズレて配置されている。さらに、金属イオン用ノズル６１ａ及び第２還元剤用ノズル６２ａを、これらの吐出口６１ｂ，６２ｂを繊維材料Ａ３に向けながら互いに向き合わせた状態を維持するように配置することができる。

【0092】

金属イオン溶液Ｄに含有される金属イオンは、繊維材料Ａ３上にメッキする所望の金属のイオンであってよい。したがって、金属イオン溶液Ｄは、一例として、白金、金、銀、銅、スズ、ニッケル、鉄、パラジウム、亜鉛、鉄、コバルト、タングステン、ルテニウム、インジウム、モリブテン等の一種若しくは複合系の塩、錯体化合物等、又はこれらのうち２種類以上の混合物を適当な溶媒に溶解した溶液とすることができる。塩は、硝酸塩、硫酸塩、塩化物、酢酸塩等とすることができる。

【0093】

特に、金属イオン用ノズル６１ａから噴霧される液滴の表面張力を下げるために、金属イオン溶液Ｄが、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等の炭素数１～３の低級アルコール類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；又はこれらのうち２種類以上の混合物を含有することができる。また、金属イオン溶液Ｄ中における金属イオンの濃度は、適宜調整可能である。例えば、この金属イオンの濃度は、０．０１ｍｏｌ／Ｌ以上かつ５ｍｏｌ／Ｌ以下の範囲とすることができる。

【0094】

第２還元剤溶液Ｅに含有される還元剤は、還元される金属イオン種に適合するように最適なものを選択することができる。第２還元剤溶液Ｅに含有される還元剤の例としては、第１還元剤溶液Ｃに含有される還元剤と同様のものを挙げることができる。

【0095】

また、第２還元剤溶液Ｅにおける還元剤の添加量は、還元剤の種類、金属イオン溶液Ｄ中における金属イオンの濃度等に対応して適宜調整することができる。例えば、還元剤の添加量は、金属イオンの化学当量の１倍～２倍の範囲であることが好ましい。還元剤の添加量が化学当量未満では金属イオンへの還元反応が十分に進まないおそれがある。一方、還元剤の添加量が化学当量の２倍を越えても差し支えないが、コストが高くなる。

【0096】

金属イオン溶液Ｄ及び第２還元剤溶液Ｅは、互いに相溶する水溶液系又は水溶性であるとよい。一例として、金属イオン溶液Ｄ及び第２還元剤溶液Ｅのそれぞれに用いられる溶媒は、水、エタノール、ＤＭＦ、アセトン、又はこれらのうち２種類以上の混合物とすることができる。特に、金属イオン溶液Ｄ及び第２還元剤溶液Ｅのそれぞれに用いられる溶媒は、水であるか、又は水とエタノール、ＤＭＦ、アセトン等の水溶性の溶媒との水溶液であるとよい。また、金属イオン溶液Ｄ及び第２還元剤溶液Ｅのそれぞれに用いられる溶媒は同種であると好ましい。

【0097】

さらに、無電解メッキ工程Ｓ７においては、水Ｊを繊維材料Ａ３に吐出し、これによって、繊維材料Ａ３に水分を付与する。無電解メッキ装置６０は、繊維材料Ａ３に水Ｊを供給するように構成される第２水分供給機構６３を有する。第２水分供給機構６３は、水Ｊを吐出するように構成される吐出口６３ｂを有する第２水分供給ノズル６３ａを有する。繊維材料Ａ３への水Ｊの供給は、無電解メッキ工程Ｓ７を実施する間にわたって、連続的に行ってもよく、断続的に行ってもよい。

【0098】

金属イオン用ノズル６１ａ及び第２還元剤用ノズル６２ａのそれぞれにおいて、噴霧口６１ｂ，６２ｂの口径は、約０．０３ｍｍ以上、好ましくは、約０．０５ｍｍ以上、より好ましくは、約０．１ｍｍ以上とすることができ、かつ約１．０ｍｍ以下、好ましくは、約０．５ｍｍ以下、より好ましくは、約０．３ｍｍ以下とすることができる。無電解メッキ工程Ｓ７を実施する環境の雰囲気温度、すなわち、無電解メッキ装置６０の周囲温度は、室温とすることができる。

【0099】

無電解メッキ工程Ｓ７において、金属イオン用ノズル６１ａの噴霧口６１ｂ及び繊維材料Ａ３間の距離と、第２還元剤用ノズル６２ａの噴霧口６２ｂ及び繊維材料Ａ３間の距離とのそれぞれは、約５ｍｍ以上、好ましくは、約７ｍｍ以上、より好ましくは、約１０ｍｍ以上とすることができ、かつ約４０ｍｍ以下、好ましくは、約３０ｍｍ以下、より好ましくは、約２０ｍｍ以下とすることができる。

【0100】

無電解メッキ工程Ｓ７において、金属イオン用ノズル６１ａからの金属イオン溶液Ｄの単位時間あたりの噴霧量と、第２還元剤用ノズル６２ａからの第２還元剤溶液Ｅの単位時間あたりの噴霧量とのそれぞれは、約３μＬ／ｍｉｎ以上、好ましくは、約５μＬ／ｍｉｎ以上、より好ましくは、約７μＬ／ｍｉｎ以上とすることができ、かつ約５０μＬ／ｍｉｎ以下、好ましくは、約３０μＬ／ｍｉｎ以下、より好ましくは、約２０μＬ／ｍｉｎ以下とすることができる。無電解メッキ工程Ｓ７において、金属イオン用ノズル６１ａ側の正電位と、第２還元剤用ノズル６２ａ側の正電位とのそれぞれは、約＋２．０ｋＶ以上、好ましくは、約＋３．０ｋＶ以上、より好ましくは、約＋４．５ｋＶ以上とすることができ、かつ約＋１０．０ｋＶ以下、好ましくは、約＋８ｋＶ以下、より好ましくは、約＋７ｋＶ以下とすることができる。

【0101】

無電解メッキ工程Ｓ７において、繊維材料Ａ３に水分を付与するための水Ｊは、蒸留水、イオン交換水、ＲＯ水、純水、超純水等の精製水とすることができる。無電解メッキ工程Ｓ７にて用いられる水Ｊは、触媒化工程Ｓ５にて用いられる水Ｉと同種とすることができる。また、無電解メッキ工程Ｓ７にて用いられる水Ｊは、触媒化工程Ｓ５にて用いられる水Ｉと異種とすることもできる。しかしながら、水は、これに限定されない。

【0102】

なお、無電解メッキ装置においては、第２水分供給機構の代わりに、第１水分供給機構を用いることもできる。この場合、第１水分供給機構が、触媒化装置及び無電解メッキ装置において共通して用いられることとなる。

【0103】

上述のように、第１支持部４１が第２支持部４２に対して上方に間隔を空けて配置され、かつ繊維材料Ａ３が実質的に鉛直方向に沿って配置される場合において、第２水分供給ノズル６３ａの吐出口６３ｂは、第１支持部４１の上方に配置されている。吐出口６３ｂから吐出される水Ｊは、重力に従って、第１支持部４１から繊維材料Ａ３に沿って第２支持部４２に流れる。このような水Ｊによって、繊維材料Ａ３に水分を付与することができる。

【0104】

しかしながら、上述のように支持装置が、繊維材料を第１及び第２支持部によって支持しながら繊維材料をその長手方向に沿って移動させるように構成される場合、第２水分供給機構を、水を貯めることができるように構成される槽を有するように構成することができる。この場合、繊維材料は、金属イオン溶液及び第２還元剤溶液を噴霧される直前において、第２水分供給機構の槽内の水を通過することができる。

【0105】

無電解メッキ工程Ｓ７によって、繊維材料Ａ３に付与された触媒金属被膜上に、所望のメッキ金属被膜を形成することができる。無電解メッキ工程Ｓ７によってメッキ金属皮膜形成された無電解メッキ繊維材料Ａ４においては、先行技術と比較して、その電気抵抗値を低くしながら、そのメッキ金属皮膜の膜厚を小さくすることができる。例えば、先行技術としては、電気抵抗値を約２．０Ω／ｃｍとすると共にメッキ金属皮膜の膜厚を約２．１μｍとする市販の銀メッキ導電糸が挙げられる。例えば、無電解メッキ繊維材料Ａ４のメッキ金属皮膜においては、電気抵抗値を約２．０Ω／ｃｍ以下とし、かつメッキ金属皮膜の膜厚を、約０．４μｍ以下の範囲に設定することができる。

【0106】

「無電解メッキ繊維材料の製造システム」
図２～図６を参照すると、本実施形態に係る無電解メッキ繊維材料Ａ４の製造方法を実施可能とする無電解メッキ繊維材料Ａ４の製造システムは、次のように構成される。すなわち、製造システムは、概略的には、触媒化装置５０と、無電解メッキ装置６０とを有する。触媒化装置５０は、触媒化工程Ｓ５を実施可能に構成される。無電解メッキ装置６０は、無電解メッキ工程Ｓ７を実施可能に構成される。

【0107】

さらに、製造システムは、詳細には、脱脂装置１０と、前処理装置２０と、洗浄装置３０と、支持装置４０と、上記触媒化装置５０と、上記無電解メッキ装置６０と、乾燥装置（図示せず）とを有することができる。脱脂装置１０は、脱脂工程Ｓ１を実施可能に構成される。前処理装置２０は、前処理工程Ｓ３を実施可能に構成される。洗浄装置３０は、前、中、及び後洗浄工程Ｓ４，Ｓ６，Ｓ８を実施可能に構成される。支持装置４０は、繊維材料Ａ２～Ａ４を支持可能に構成される。乾燥装置は、前及び後乾燥工程Ｓ２，Ｓ９を実施可能に構成される。

【0108】

なお、無電解メッキ繊維材料の製造方法がアニール処理工程を含む場合において、無電解メッキ繊維材料の製造システムは、アニール処理工程を実施可能に構成されるアニール処理装置を含むことができる。例えば、アニール処理装置は、繊維材料を加熱可能に構成される加熱機構を有することができる。加熱機構は熱風循環オーブンとすることができる。この場合、アニール処理装置は、乾燥装置を兼ねることもできる。かかる装置を乾燥兼アニール処理装置と呼ぶこともできる。

【0109】

以上、本実施形態に係る無電解メッキ繊維材料Ａ４の製造方法は、触媒前躯体を含有する触媒溶液Ｂを正電位又は負電位に帯電した状態で、接地されるか又は触媒溶液Ｂの電位とは逆の電位に帯電され、かつ水分を付与されている繊維材料Ａ２に静電噴霧し、かつ前記触媒前躯体の還元剤を含有する第１還元剤溶液Ｃを正電位又は負電位に帯電した状態で、接地されるか又は第１還元剤溶液Ｃの電位とは逆の電位に帯電され、かつ水分を付与されている前記繊維材料Ａ２に静電噴霧し、これによって、金属イオンを含有する金属イオン溶液Ｄと、前記金属イオンの還元剤を含有する第２還元剤溶液Ｅとを、それぞれ同じように正電位又は負電位に帯電した状態で、接地されるか又は前記金属イオン溶液Ｄ及び前記第２還元剤溶液Ｅの電位とは逆の電位に帯電され、かつ水分を付与されている前記触媒付与繊維材料Ａ３に、前記触媒付与繊維材料Ａ３にて同一の電場内で反応させるように前記触媒付与繊維材料Ａ３にそれぞれ静電噴霧し、これによって、触媒付与繊維材料Ａ３にメッキ被膜が形成された無電解メッキ繊維材料Ａ４を得る無電解メッキ工程Ｓ７とを含む。

【0110】

本実施形態に係る無電解メッキ繊維材料Ａ４は、触媒前躯体を含有する触媒溶液Ｂを正電位又は負電位に帯電した状態で、接地されるか又は触媒溶液Ｂの電位とは逆の電位に帯電され、かつ水分を付与されている繊維材料Ａ２に静電噴霧し、かつ前記触媒前躯体の還元剤を含有する第１還元剤溶液Ｃを正電位又は負電位に帯電した状態で、接地されるか又は第１還元剤溶液Ｃの電位とは逆の電位に帯電され、かつ水分を付与されている前記繊維材料Ａ２に静電噴霧し、これによって、金属イオンを含有する金属イオン溶液Ｄと、前記金属イオンの還元剤を含有する第２還元剤溶液Ｅとを、それぞれ同じように正電位又は負電位に帯電した状態で、接地されるか又は前記金属イオン溶液Ｄ及び前記第２還元剤溶液Ｅの電位とは逆の電位に帯電され、かつ水分を付与されている前記触媒付与繊維材料Ａ３に、前記触媒付与繊維材料Ａ３にて同一の電場内で反応させるように前記触媒付与繊維材料Ａ３にそれぞれ静電噴霧し、これによって、触媒付与繊維材料Ａ３にメッキ被膜が形成された無電解メッキ繊維材料Ａ４を得る無電解メッキ工程Ｓ７とを含む製造方法によって製造される。

【0111】

本実施形態に係る無電解メッキ繊維材料Ａ４の製造システムは、繊維材料Ａ２に触媒が付与された触媒付与繊維材料Ａ３を得るように構成される触媒化装置５０と、前記触媒付与繊維材料Ａ３にメッキ被膜が形成された無電解メッキ繊維材料Ａ４を得るように構成される無電解メッキ装置６０とを備え、前記触媒化装置５０が、触媒前駆体を含有する触媒溶液Ｂを正電位又は負電位に帯電した状態で、接地されるか又は前記触媒溶液Ｂの電位とは逆の電位に帯電され、かつ水分を付与されている前記繊維材料Ａ２に静電噴霧するように構成される触媒用ノズル５１ａと、前記触媒前駆体の還元剤を含有する第１還元剤溶液Ｃを正電位又は負電位に帯電した状態で、接地されるか又は前記第１還元剤溶液Ｃの電位とは逆の電位に帯電され、かつ水分を付与されている前記繊維材料Ａ２に静電噴霧するように構成される第１還元剤用ノズル５２ａとを有し、前記無電解メッキ装置６０が、金属イオンを含有する金属イオン溶液Ｄを正電位又は負電位に帯電した状態で前記触媒付与繊維材料Ａ３に静電噴霧するように構成される金属イオン用ノズル６１ａと、前記金属イオンの還元剤を含有する第２還元剤溶液Ｅを前記金属イオン溶液Ｄと同じ電位に帯電した状態で前記触媒付与繊維材料Ａ３に静電噴霧するように構成される第２還元剤用ノズル６２ａとを有し、前記無電解メッキ装置６０が、前記金属イオン用ノズル６１ａから静電噴霧された金属イオン溶液Ｄと、前記第２還元剤用ノズル６２ａから静電噴霧された第２還元剤溶液Ｅとを、接地されるか又は前記金属イオン溶液Ｄ及び前記第２還元剤溶液Ｅの電位とは逆の電位に帯電され、かつ水分を付与されている前記触媒付与繊維材料Ａ３にて同一の電場内で反応させるように構成されている。

【0112】

上記無電解メッキ工程Ｓ７及び無電解メッキ装置６０それぞれにおいては、金属イオン溶液Ｄと第２還元剤溶液Ｅとが静電噴霧されたときには同じ電位に帯電している。そのため、金属イオン溶液Ｄと第２還元剤溶液Ｅとは、繊維材料Ａ３に到達するまでは互いに衝突しない。その後、金属イオン溶液Ｄと第２還元剤溶液Ｅとが、接地された繊維材料Ａ３に到達したときには電荷を失う。このとき、金属イオン溶液Ｄと第２還元剤溶液Ｅとが、初めて接触・混合しかつ反応することとなる。そのため、繊維材料Ａ３上にて、第２還元剤溶液Ｅの還元剤によって金属イオン溶液Ｄの金属イオンが効率的に還元されて、その結果、繊維材料Ａ３にて、金属を析出させたメッキ皮膜を効率的に形成することができる。特に、このようなメッキ被膜を有する無電解メッキ繊維材料Ａ４は、その導電性を高めることができ、かつメッキ被膜の厚さを低減できる。よって、無電解メッキ繊維材料Ａ４の品質を高めることができる。

【0113】

このような無電解メッキ繊維材料Ａ４並びのその製造方法及び製造システムにおいては、触媒化工程Ｓ５及び触媒化装置５０それぞれにて、静電噴霧される加工溶液の使用量は、先行技術のように浸漬に用いられる加工溶液の使用量と比較して削減することができる。また、無電解メッキ工程Ｓ７及び無電解メッキ装置６０それぞれにて、静電噴霧される加工溶液の使用量は、先行技術のように浸漬に用いられる加工溶液の使用量と比較して削減することができる。ひいては、このような加工溶液の使用量の削減によって、製造コストを低減でき、環境負荷を低減でき、無電解メッキ繊維材料Ａ４の製造効率を向上させることができる。従来のメッキ浴を用いたメッキ処理においては、メッキ浴中の物質濃度が経時的に変化するため、メッキ浴の濃度管理が困難であった。本発明においては、加工溶液を静電噴霧するため、メッキ浴の濃度管理に関する問題も解決することができる。

【0114】

「第２実施形態」
第２実施形態に係る無電解メッキ繊維材料並びにその製造方法及び製造システムについて説明する。本実施形態にて用いられる繊維材料Ａ１は、第１実施形態にて用いられる繊維材料Ａ１と同様である。

【0115】

「無電解メッキ繊維材料及びその製造方法の概略」
図１及び図７を参照して、本実施形態に係る無電解メッキ繊維材料Ａ４及びその製造方法の概略について説明する。本実施形態に係る無電解メッキ繊維材料Ａ４の製造方法は、概略的には、第１実施形態と同様の触媒化工程Ｓ５及び無電解メッキ処理工程Ｓ７を含む。

【0116】

さらに、本実施形態に係る無電解メッキ繊維材料Ａ４の製造方法においては、繊維材料Ａ２と、触媒付与繊維材料Ａ３と、無電解メッキ繊維材料Ａ４とが、触媒化工程Ｓ５の実施位置から無電解メッキ処理工程Ｓ７の実施位置に向かって延びるように一体化されている。このように一体化された繊維材料Ａ２～Ａ４が、触媒化工程Ｓ５の実施位置から無電解メッキ処理工程Ｓ７の実施位置に向かって搬送される。本実施形態に係る無電解メッキ繊維材料Ａ４は、概略的には、このような製造方法によって製造することができる。

【0117】

「無電解メッキ繊維材料及びその製造方法の詳細」
図１及び図７を参照して、本実施形態に係る無電解メッキ繊維材料Ａ４及びその製造方法の詳細について説明する。本実施形態に係る無電解メッキ繊維材料Ａ４の製造方法はまた、詳細には、第１実施形態と同様の脱脂工程Ｓ１、前乾燥工程Ｓ２、前処理工程Ｓ３、前洗浄工程Ｓ４、触媒化工程Ｓ５、中洗浄工程Ｓ６、無電解メッキ工程Ｓ７、後洗浄工程Ｓ８、及び後乾燥工程Ｓ９を含む。なお、脱脂液Ｆが揮発性である場合は、前乾燥工程Ｓ２を省略することもできる。

【0118】

さらに、本実施形態に係る無電解メッキ繊維材料Ａ４の製造方法においては、繊維材料Ａ１と、前処理繊維材料Ａ２と、触媒付与繊維材料Ａ３と、無電解メッキ繊維材料Ａ４とが、脱脂工程Ｓ１の実施位置から後乾燥工程Ｓ９の実施位置に向かって延びるように一体化されている。このように一体化された繊維材料Ａ１～Ａ４が、脱脂工程Ｓ１の実施位置から後乾燥工程Ｓ９の実施位置に向かって搬送される。本実施形態に係る無電解メッキ繊維材料Ａ４は、詳細には、このような製造方法によって製造することができる。

【0119】

「無電解メッキ繊維材料の製造システム」
図７を参照して、本実施形態に係る無電解メッキ繊維材料Ａ４の製造システムについて説明する。かかる製造システムは、概略的には、触媒化装置１５０と、無電解メッキ装置１７０と、搬送装置２００とを含む。触媒化装置１５０は、触媒化工程Ｓ５を実施可能に構成される。無電解メッキ装置１７０は、無電解メッキ工程Ｓ７を実施可能に構成される。搬送装置２００は、繊維材料Ａ１～Ａ４を搬送可能に構成される。

【0120】

製造システムはまた、詳細には、脱脂装置１１０と、前乾燥装置１２０と、前処理装置１３０と、前洗浄装置１４０と、上記触媒化装置１５０と、中洗浄装置１６０と、上記無電解メッキ装置１７０と、後洗浄装置１８０と、後乾燥装置１９０と、上記搬送装置２００とを有することができる。脱脂装置１１０は、脱脂工程Ｓ１を実施可能に構成される。前乾燥装置１２０は、前乾燥工程Ｓ２を実施可能に構成される。前処理装置１３０は、前処理工程Ｓ３を実施可能に構成される。前洗浄装置１４０は、前洗浄工程Ｓ４を実施可能に構成される。中洗浄装置１６０は、中洗浄工程Ｓ６を実施可能に構成される。後洗浄装置１８０は、後洗浄工程Ｓ８を実施可能に構成される。後乾燥装置１９０は、後乾燥工程Ｓ９を実施可能に構成される。搬送装置２００は、繊維材料Ａ１～Ａ４を脱脂装置１１０、前乾燥装置１２０、前処理装置１３０、前洗浄装置１４０、上記触媒化装置１５０、中洗浄装置１６０、無電解メッキ装置１７０、後洗浄装置１８０、後乾燥装置１９０の順に通過させるように搬送する。

【0121】

「脱脂装置の詳細」
図７を参照すると、脱脂装置１１０は、次のように構成することができる。上記製造システムにおいて、脱脂装置１１０は、脱脂液Ｆを貯めることができるように構成される槽１１１を有する。脱脂装置１１０は、槽１１１に貯められた脱脂液Ｆ内に配置される脱脂用ロール１１２を有する。繊維材料Ａ１は、脱脂液Ｆに浸漬されるように、脱脂用ロール１１２にガイドされながら槽１１１内を通過する。

【0122】

「前乾燥装置の詳細」
図７を参照すると、前乾燥装置１２０は、次のように構成することができる。前乾燥装置１２０は、脱脂装置１１０を通過した後の繊維材料Ａ１に温風又は熱風を当てることができるように構成される。繊維材料Ａ１は、前乾燥装置１２０を通過するときに乾燥する。なお、脱脂液Ｆが揮発性である場合は、前乾燥装置１２０を省略することもできる。

【0123】

「前処理装置の詳細」
図７を参照すると、前処理装置１３０は、次のように構成することができる。前処理装置１３０は、処理液Ｇを貯めることができるように構成される槽１３１を有する。前処理装置１３０は、槽１３１に貯められた処理液Ｇ内に配置される複数の前処理用ロール１３２を有する。前乾燥装置１２０を通過した後の繊維材料Ａ１は、処理液Ｇに浸漬されるべく、処理液Ｇ内を周遊するように複数の前処理用ロール１３２にガイドされながら槽１３１内を通過する。前処理装置１３０においては、繊維材料Ａ１に前処理を施した状態である前処理繊維材料Ａ２が得られる。

【0124】

「前洗浄装置の詳細」
図７を参照すると、前洗浄装置１４０は、次のように構成することができる。前洗浄装置１４０は、洗浄液Ｈを貯めることができるように構成される槽１４１を有する。前洗浄装置１４０は、槽１４１に貯められた洗浄液Ｈ内に配置される前洗浄用ロール１４２を有する。前処理装置１３０を通過した後の前処理繊維材料Ａ２は、洗浄液Ｈによって洗浄されるように、前洗浄用ロール１４２にガイドされながら槽１４１内を通過する。前洗浄装置１４０においては、繊維材料Ａ２は、槽１４１の洗浄液Ｈによって接地され、その結果、後続の触媒化装置１５０に位置する繊維材料Ａ２もまた接地された状態となる。

【0125】

さらに、前洗浄装置１４０においては、槽１４１の洗浄液Ｈによって、繊維材料Ａ２に水分が付与され、その結果、後続の触媒化装置１５０に位置する繊維材料Ａ２にもまた水分が付与された状態となる。このような洗浄液Ｈは、後続する触媒化装置１５０にて用いられる水Ｉと同じにすることができる。

【0126】

「触媒化装置の詳細」
図７を参照すると、触媒化装置１５０は、次のように構成することができる。触媒化装置１５０は、第１実施形態の触媒用ノズル５１ａと同様に構成される触媒用ノズル１５１ａを有する。触媒用ノズル１５１ａは、第１実施形態の触媒用ノズル５１ａの噴霧口５１ｂと同様の噴霧口１５１ｂを有する。

【0127】

触媒化装置１５０は、複数の触媒用ノズル１５１ａを有する触媒用ノズル機構１５１を含む。触媒用ノズル機構１５１は、触媒溶液Ｂを複数の触媒用ノズル１５１ａにそれぞれ送給するように構成される複数の触媒用供給管１５１ｃを有する。しかしながら、触媒用ノズル機構は、１つの触媒用ノズルと、これに触媒溶液を送給する１つの触媒用供給管とを有するように構成することもできる。

【0128】

触媒化装置１５０はまた、第１実施形態の第１還元剤用ノズル５２ａと同様に構成される第１還元剤用ノズル１５２ａを有する。第１還元剤用ノズル１５２ａは、第１実施形態の第１還元剤用ノズル５２ａの噴霧口５２ｂと同様の噴霧口１５２ｂを有する。

【0129】

触媒化装置１５０は、複数の第１還元剤用ノズル１５２ａを有する第１還元剤用ノズル機構１５２を含む。第１還元剤用ノズル機構１５２は、第１還元剤溶液Ｃを複数の第１還元剤用ノズル１５２ａにそれぞれ送給するように構成される複数の第１還元剤用供給管１５２ｃを有する。しかしながら、第１還元剤用ノズル機構は、１つの第１還元剤用ノズルと、これに第１還元剤溶液を送給する１つの第１還元剤用供給管とを有するように構成することもできる。

【0130】

複数の触媒用ノズル１５１ａと、複数の第１還元剤用ノズル１５２ａとは、触媒化装置１５０を通過する繊維材料Ａ２の搬送方向にて並んでいる。触媒用ノズル機構１５１と、第１還元剤用ノズル機構１５２とは、触媒化装置１５０を通過する繊維材料Ａ２の搬送方向にて並んでいる。触媒用ノズル機構１５１は、第１還元剤用ノズル機構１５２に対して繊維材料Ａ１の搬送方向の上流に位置すると好ましい。触媒用ノズル機構１５１と、第１還元剤用ノズル機構１５２とは、固定することもできる。

【0131】

しかしながら、触媒用ノズル機構及び第１還元剤用ノズル機構の位置は、これらに限定されない。触媒用ノズル機構を、第１還元剤用ノズル機構に対して繊維材料の搬送方向の下流に位置させることもできる。触媒用ノズル機構及び第１還元剤用ノズル機構の一方又は両方を可動とすることもできる。

【0132】

前洗浄装置１４０を通過した後の前処理繊維材料Ａ２は、触媒用ノズル機構１５１によって触媒溶液Ｂを静電噴霧され、かつ第１還元剤用ノズル機構１５２によって第１還元剤溶液Ｃを静電噴霧される。このとき、触媒化装置１５０を通過する繊維材料Ａ２は、上述の前洗浄装置１４０及び後述の中洗浄装置１６０によって接地されている。さらに、この繊維材料Ａ２は、上述の前洗浄装置１４０によって水分を付与されている。触媒化装置１５０においては、繊維材料Ａ２に触媒を付与した状態である触媒付与繊維材料Ａ３が得られる。

【0133】

「中洗浄装置の詳細」
図７を参照すると、中洗浄装置１６０は、次のように構成することができる。中洗浄装置１６０は、洗浄液Ｈを貯めることができるように構成される槽１６１を有する。中洗浄装置１６０は、槽１６１に貯められた洗浄液Ｈ内に配置される中洗浄用ロール１６２を有する。触媒化装置１５０を通過した後の触媒付与繊維材料Ａ３は、洗浄液Ｈによって洗浄されるように、中洗浄用ロール１６２にガイドされながら槽１６１内を通過する。中洗浄装置１６０においては、繊維材料Ａ３は、槽１６１の洗浄液Ｈによって接地され、その結果、先行する触媒化装置１５０に位置する繊維材料Ａ２と、後続の無電解メッキ装置１７０に位置する繊維材料Ａ３もまた接地された状態となる。

【0134】

さらに、中洗浄装置１６０においては、槽１６１の洗浄液Ｈによって、繊維材料Ａ３に水分が付与され、その結果、後続の無電解メッキ装置１７０に位置する繊維材料Ａ３にもまた水分が付与された状態となる。このような洗浄液Ｈは、後続する無電解メッキ装置１７０にて用いられる水Ｊと同じにすることができる。

【0135】

「無電解メッキ装置の詳細」
図７を参照すると、無電解メッキ装置１７０は、次のように構成することができる。無電解メッキ装置１７０は、第１実施形態の金属イオン用ノズル６１ａと同様に構成される金属イオン用ノズル１７１ａを有する。金属イオン用ノズル１７１ａは、第１実施形態の金属イオン用ノズル６１ａの噴霧口６１ｂと同様の噴霧口１７１ｂを有する。

【0136】

無電解メッキ装置１７０は、複数の金属イオン用ノズル１７１ａを有する金属イオン用ノズル機構１７１を含む。金属イオン用ノズル機構１７１は、金属イオン溶液Ｄを複数の金属イオン用ノズル１７１ａにそれぞれ送給するように構成される複数の金属イオン用供給管１７１ｃを有する。しかしながら、金属イオン用ノズル機構は、１つの金属イオン用ノズルと、これに金属イオン溶液を送給する１つの金属イオン用供給管とを有するように構成することもできる。

【0137】

無電解メッキ装置１７０は、第１実施形態の第２還元剤用ノズル６２ａと同様に構成される第２還元剤用ノズル１７２ａを有する。第２還元剤用ノズル１７２ａは、第１実施形態の第２還元剤用ノズル６２ａの噴霧口６２ｂと同様の噴霧口１７２ｂを有する。

【0138】

無電解メッキ装置１７０は、複数の第２還元剤用ノズル１７２ａを有する第２還元剤用ノズル機構１７２を含む。第２還元剤用ノズル機構１７２は、第２還元剤溶液Ｅを複数の第２還元剤用ノズル１７２ａにそれぞれ送給するように構成される複数の第２還元剤用供給管１７２ｃを有する。しかしながら、第２還元剤用ノズル機構は、１つの第２還元剤用ノズルと、これに第２還元剤溶液を送給する１つの第２還元剤用供給管とを有するように構成することもできる。

【0139】

金属イオン用ノズル機構１７１と第２還元剤用ノズル機構１７２との関係について、金属イオン用ノズル１７１ａと第２還元剤用ノズル１７２ａとは、固定されている。図７においては、金属イオン用ノズル１７１ａと第２還元剤用ノズル１７２ａとが、互いに対して繊維材料Ａ３の周方向にズレて配置されている。さらに、金属イオン用ノズル１７１ａ及び第２還元剤用ノズル１７２ａを、これらの吐出口１７１ｂ，１７２ｂを繊維材料Ａ３に向けながら互いに向き合わせた状態を維持するように配置することができる。

【0140】

中洗浄装置１６０を通過した後の触媒付与繊維材料Ａ３は、金属イオン用ノズル機構１７１によって金属イオン溶液Ｃを静電噴霧され、かつ第２還元剤用ノズル機構１７２によって第２還元剤溶液Ｅを静電噴霧される。このとき、無電解メッキ装置１７０を通過する繊維材料Ａ３は、上述の中洗浄装置１６０及び後述の後洗浄装置１８０によって接地されている。さらに、この繊維材料Ａ２は、上述の中洗浄装置１６０によって水分を付与されている。無電解メッキ装置１７０においては、繊維材料Ａ３にメッキ被膜を形成した状態である無電解メッキ繊維材料Ａ４が得られる。

【0141】

「後洗浄装置の詳細」
図７を参照すると、後洗浄装置１８０は、次のように構成することができる。後洗浄装置１８０は、洗浄液Ｈを貯めることができるように構成される槽１８１を有する。後洗浄装置１８０は、槽１８１に貯められた洗浄液Ｈ内に配置される後洗浄用ロール１８２を有する。無電解メッキ装置１７０を通過した後の無電解メッキ繊維材料Ａ４は、洗浄液Ｈによって洗浄されるように、後洗浄用ロール１８２にガイドされながら槽１８１内を通過する。後洗浄装置１８０においては、繊維材料Ａ４は、槽１８１の洗浄液Ｈによって接地され、その結果、先行する無電解メッキ装置１７０に位置する繊維材料Ａ３が接地された状態となる。

【0142】

「後乾燥装置の詳細」
図７を参照すると、後乾燥装置１９０は、次のように構成することができる。後乾燥装置１９０は、後洗浄装置１８０を通過した後の繊維材料Ａ４に温風又は熱風を当てることができるように構成される。繊維材料Ａ４は、後乾燥装置１９０を通過するときに乾燥する。

【0143】

なお、後乾燥装置１９０は、アニール処理工程もまた実施可能に構成することができる。例えば、後乾燥装置１９０は、繊維材料Ａ４を加熱可能に構成される加熱機構を有することができる。加熱機構は熱風循環オーブンとすることができる。この場合、かかる装置を乾燥兼アニール処理装置と呼ぶこともできる。しかしながら、後乾燥装置とは別に、アニール処理装置を設けることもできる。

【0144】

「搬送装置の詳細」
図７を参照すると、搬送装置２００は、次のように構成することができる。搬送装置２００は、繊維材料Ａ１を巻き出すように構成される巻き出しロール２０１を有する。搬送装置２００は、無電解メッキ繊維材料Ａ４を巻き取るように構成される巻き取りロール２０２を有する。巻き出しロール２０１と巻き取りロール２０２との間では、繊維材料Ａ１と、前処理繊維材料Ａ２と、触媒付与繊維材料Ａ３と、無電解メッキ繊維材料Ａ４とが一体になって延びている。

【0145】

巻き出しロール２０１から巻き出された繊維材料Ａ１は、脱脂装置１１０から前処理装置１３０までを通過し、その後に前処理繊維材料Ａ２へと変化する。前処理装置１３０を通過した後の前処理繊維材料Ａ２は、前洗浄装置１４０から触媒化装置１５０までを通過し、その後に触媒付与繊維材料Ａ３へと変化する。触媒化装置１５０を通過した後の触媒付与繊維材料Ａ３は、中洗浄装置１６０から無電解メッキ装置１７０までを通過し、その後に無電解メッキ繊維材料Ａ４へと変化する。無電解メッキ装置１７０を通過した後の無電解メッキ繊維材料Ａ４は、後洗浄装置１８０から後乾燥装置１９０までを通過し、その後に、巻き取りロール２０２によって巻き取られる。

【0146】

以上、本実施形態に係る無電解メッキ繊維材料Ａ４の製造方法及び製造システムは、第１実施形態に係る無電解メッキ繊維材料Ａ４の製造方法及び製造システムと同様の効果を得ることができる。このような効果に加えて、本実施形態に係る製造方法及び製造システムにおいては、次のような効果を得ることができる。

【0147】

本実施形態に係る無電解メッキ繊維材料Ａ４の製造方法においては、前記繊維材料Ａ２と、前記触媒付与繊維材料Ａ３と、前記無電解メッキ繊維材料Ａ４とが、前記触媒化工程Ｓ５の実施位置から前記無電解メッキ工程Ｓ７の実施位置に向かって延びるように一体化した状態で前記触媒化工程Ｓ５の実施位置から前記無電解メッキ工程Ｓ７の実施位置に向かって搬送される。

【0148】

本実施形態に係る無電解メッキ繊維材料Ａ４の製造システムは、前記繊維材料Ａ２と、前記触媒付与繊維材料Ａ３と、前記無電解メッキ繊維材料Ａ４とを前記触媒化装置１５０から前記無電解メッキ装置１７０に向かって延びるように一体化した状態で前記触媒化装置１５０から前記無電解メッキ装置１７０に向けて搬送可能に構成される搬送装置２００を備える。

【0149】

このような製造方法及び製造システムにおいては、繊維材料Ａ２～Ａ４を効率的に搬送することができる。そのため、製造効率を向上させることができる。

【0150】

さらに、繊維材料Ａ１と、前処理繊維材料Ａ２と、触媒付与繊維材料Ａ３と、無電解メッキ繊維材料Ａ４とが、脱脂工程Ｓ１の実施位置から後乾燥工程Ｓ９の実施位置に向かって延びるように一体化されている。このように一体化された繊維材料Ａ１～Ａ４が、脱脂工程Ｓ１の実施位置から後乾燥工程Ｓ９の実施位置に向かって搬送される場合、繊維材料Ａ１～Ａ４を効率的に搬送することができる。そのため、製造効率を向上させることができる。

【0151】

ここまで本発明の実施形態について説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明は、その技術的思想に基づいて変形及び変更可能である。

【実施例】

【0152】

実施例及び比較例について説明する。実施例においては、図２～図６に示すように、６，６－ナイロンによって構成される繊維材料Ａ１から、無電解メッキ繊維材料Ａ４を作製した。比較例においても、６，６－ナイロンによって構成される繊維材料から、無電解メッキ繊維材料を作製した。実施例１の繊維材料Ａ１及び比較例の繊維材料の太さそれぞれは、７０デニールであった。

【0153】

「実施例」
最初に、実施例について説明する。実施例１においては、第１実施形態に係る製造方法を用いて無電解メッキ繊維材料Ａ４を製造した。具体的には、脱脂工程Ｓ１において、繊維材料Ａ１を脱脂液Ｆに浸漬し、これによって、繊維材料Ａ１を脱脂した。脱脂液Ｆとしては、アセトン溶液Ｆを用いた。脱脂工程Ｓ１の雰囲気温度は、室温であった。繊維材料Ａ１をアセトン溶液Ｆに浸漬した浸漬時間は１分であった。前乾燥工程Ｓ２において、脱脂工程Ｓ１にて脱脂された繊維材料Ａ１に熱風を当てて、これによって、繊維材料Ａ１を乾燥させた。

【0154】

図５に示すように、前処理工程Ｓ３において、前乾燥工程Ｓ２にて乾燥された繊維材料Ａ１を処理液Ｇに浸漬し、これによって、この処理後の繊維材料Ａ２とメッキ被膜との密着性を高めるべく、繊維材料Ａ１に負電荷を与えるように前処理を行った。処理液Ｇとしては、タンニン酸を含有するタンニン酸溶液Ｇを用いており、前処理工程Ｓ３として、タンニン酸処理工程Ｓ３を行った。タンニン酸溶液Ｇ中におけるタンニン酸の濃度は、５重量％であった。タンニン酸溶液Ｇの温度は、５０℃であった。繊維材料Ａ１をタンニン酸溶液Ｇに浸漬した浸漬時間は５分であった。

【0155】

図６に示すように、前処理工程Ｓ３後に、前洗浄工程Ｓ４において前処理繊維材料Ａ２を洗浄液Ｈによって洗浄した。洗浄液Ｈとしては、精製水を用いた。

【0156】

図２に示すように、触媒化工程Ｓ５において、前洗浄工程Ｓ４にて洗浄された繊維材料Ａ２を接地し、かつこの繊維材料Ａ２に水分を付与しながら、触媒溶液Ｂを正電位に帯電した状態で繊維材料Ａ２に静電噴霧した。触媒溶液Ｂの静電噴霧において、触媒溶液Ｂは、酢酸パラジウムを溶媒のアセトニトリルに溶解することにより調製した。触媒溶液Ｂ中における酢酸パラジウムの濃度は、０．１ｍｏｌ／Ｌであった。

【0157】

触媒用ノズル５１ａからの触媒溶液Ｂの単位時間あたりの噴霧量は、０．０３ｍＬ／ｍｉｎであり、かかる噴霧量にて５分間、３０ｃｍの繊維材料Ａ２に触媒溶液Ｂを噴霧した。触媒用ノズル５１ａ側の電位は、＋５ｋＶであった。触媒用ノズル５１ａの噴霧口５１ｂ及び繊維材料Ａ２間の距離は、１ｃｍであった。繊維材料Ａ２に水分を付与すべく、繊維材料Ａ２には精製水が供給された。

【0158】

さらに、触媒溶液Ｂの静電噴霧後において繊維材料Ａ２を接地し、かつこの繊維材料Ａ２に水分を付与しながら、第１還元剤溶液Ｃを正電位に帯電した状態で繊維材料Ａ２に静電噴霧した。第１還元剤溶液Ｃの静電噴霧において、第１還元剤溶液Ｃに含まれる触媒としては、ヒドラジンが用いられた。第１還元剤溶液Ｃ中におけるヒドラジンの濃度は、１．０ｍｏｌ／Ｌであった。第１還元剤溶液Ｃの溶媒として、５０％のエタノールと５０％の水とから成る溶液が用いられた。

【0159】

第１還元剤用ノズル５２ａからの第１還元剤溶液Ｃの単位時間あたりの噴霧量は、０．０３ｍＬ／ｍｉｎであり、かかる噴霧量にて５分間、３０ｃｍの繊維材料Ａ２に第１還元剤溶液Ｃを噴霧した。第１還元剤用ノズル５２ａ側の電位は、＋５ｋＶであった。第１還元剤用ノズル５２ａの噴霧口５２ｂ及び繊維材料Ａ２間の距離は、１ｃｍであった。繊維材料Ａ２に水分を付与すべく、繊維材料Ａ２には精製水が供給された。

【0160】

図６に示すように、触媒化工程Ｓ５後に、中洗浄工程Ｓ６において触媒付与繊維材料Ａ３を洗浄液Ｈによって洗浄した。洗浄液Ｈとしては、精製水を用いた。

【0161】

図３に示すように、無電解メッキ工程Ｓ７において、中洗浄工程Ｓ６にて洗浄された触媒付与繊維材料Ａ３を接地し、かつこの繊維材料Ａ３に水分を付与しながら、金属イオン溶液Ｄと、第２還元剤溶液Ｅとを、それぞれ正電位に帯電した状態で、繊維材料Ａ３にて同一の電場内で反応させるように繊維材料Ａ３にそれぞれ静電噴霧した。金属イオン溶液Ｄは、硝酸銀をエタノールと水とから成る混合溶媒に溶解することにより調製した。金属イオン溶液Ｄ中における硝酸銀の濃度は、０．３ｍｏｌ／Ｌであった。

【0162】

金属イオン用ノズル６１ａからの金属イオン溶液Ｄの単位時間あたりの噴霧量は、０．０３ｍＬ／ｍｉｎであり、かかる噴霧量にて１５分間、３０ｃｍの繊維材料Ａ３に金属イオン溶液Ｄを噴霧した。金属イオン用ノズル６１ａ側の電位は、＋５ｋＶであった。金属イオン用ノズル６１ａの噴霧口６１ｂ及び繊維材料Ａ３間の距離は、１ｃｍであった。

【0163】

第２還元剤溶液Ｅに含まれる還元剤としては、ヒドラジンが用いられた。第２還元剤溶液Ｅ中におけるヒドラジンの濃度は、０．５ｍｏｌ／Ｌであった。第２還元剤溶液Ｅの溶媒として、エタノールと水とから成る混合溶液が用いられた。

【0164】

第２還元剤用ノズル６２ａからの第２還元剤溶液Ｅの単位時間あたりの噴霧量は、０．０３ｍＬ／ｍｉｎであり、かかる噴霧量にて１５分間、３０ｃｍの繊維材料Ａ３に第２還元剤溶液Ｅを噴霧した。第２還元剤用ノズル６２ａ側の電位は、＋５ｋＶであった。第２還元剤用ノズル６２ａの噴霧口６２ｂ及び繊維材料Ａ３間の距離は、１ｃｍであった。

【0165】

図６に示すように、無電解メッキ工程Ｓ７後に、後洗浄工程Ｓ８において無電解メッキ繊維材料Ａ４を洗浄液Ｈによって洗浄した。洗浄液Ｈとしては、精製水を用いた。

【0166】

後乾燥工程Ｓ９において、後洗浄工程Ｓ８にて洗浄された繊維材料Ａ４に熱風を当てて、これによって、繊維材料Ａ４を乾燥させた。その後、複数の無電解メッキ繊維材料Ａ４の電気抵抗を測定した。

【0167】

「比較例」
次に、比較例について説明する。比較例においては、先ずは、実施例と同様の脱脂工程、前乾燥工程、前処理工程、前洗浄工程、触媒化工程、及び中洗浄工程を実施した。その後、中洗浄工程にて洗浄された触媒付与繊維材料を、第２還元剤溶液に浸漬した。第２還元剤溶液に浸漬された触媒付与繊維材料に、エレクトロスプレーを用いて金属イオン溶液を正電位に帯電した状態で静電噴霧し、これによって、無電解メッキ繊維材料を得た。さらに、この無電解メッキ繊維材料に、実施例と同様の後洗浄工程及び後乾燥工程を施した。その後、複数の無電解メッキ繊維材料の電気抵抗を測定した。

【0168】

「実施例と比較例との対比」
比較例において得られた複数の無電解メッキ繊維材料の電気導電率は、実施例において得られた複数の無電解メッキ繊維材料Ａ４の電気導電率よりも著しく劣るものとなった。すなわち、実施例において得られた複数の無電解メッキ繊維材料Ａ４は十分な導電性を示した。その一方で、比較例において、エレクトロスプレーを用いて金属イオン溶液を正電位に帯電した状態で静電噴霧する時間を増加させても、比較例において得られた複数の無電解メッキ繊維材料は、ほとんど導電性を示さなかった。そのため、特に、比較例との対比において、実施例の無電解メッキ工程Ｓ７によって十分な導電性を有する無電解メッキ繊維材料Ａ４が得られることが確認できた。

【0169】

さらに、実施例において得られた複数の無電解メッキ繊維材料Ａ４の電気抵抗は、１．０Ω／ｃｍ～１．５Ω／ｃｍであった。これに対して、市販品の無電解メッキ繊維材料の電気抵抗が、２．０Ω／ｃｍ程度である。よって、実施例において得られた無電解メッキ繊維材料Ａ４は市販品の無電解メッキ繊維材料と同等以上の導電性能を有することが確認できた。

【符号の説明】

【0170】

Ａ２…前処理繊維材料（繊維材料）
Ａ３…触媒付与繊維材料（繊維材料）
Ａ４…無電解メッキ繊維材料（繊維材料）
Ｂ…触媒溶液
Ｃ…第１還元剤溶液
Ｄ…金属イオン溶液
Ｅ…第２還元剤溶液
Ｓ５…触媒化工程
Ｓ７…無電解メッキ工程
５０，１５０…触媒化装置
５１ａ，１５１ａ…触媒用ノズル
５２ａ，１５２ａ…第１還元剤用ノズル
６０，１７０…無電解メッキ装置
６１ａ，１７１ａ…金属イオン用ノズル
６２ａ，１７２ａ…第２還元剤用ノズル
２００…搬送装置

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】