特許 7590738 磁気記録媒体

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-11-19

(45)【発行日】2024-11-27

(54)【発明の名称】磁気記録媒体

(51)【国際特許分類】

   G11B 5/70 20060101AFI20241120BHJP

   G11B 5/706 20060101ALI20241120BHJP

   G11B 5/714 20060101ALI20241120BHJP

   G11B 5/84 20060101ALI20241120BHJP

   G11B 5/78 20060101ALI20241120BHJP

   G11B 5/02 20060101ALI20241120BHJP

   G11B 5/008 20060101ALI20241120BHJP

【ＦＩ】

G11B5/70

G11B5/706

G11B5/714

G11B5/84 C

G11B5/78

G11B5/02 B

G11B5/008 Z

【請求項の数】 11

(21)【出願番号】P 2021572760

(86)(22)【出願日】2021-01-20

(86)【国際出願番号】 JP2021001829

(87)【国際公開番号】W WO2021149716

(87)【国際公開日】2021-07-29

【審査請求日】2023-12-28

(31)【優先権主張番号】P 2020007832

(32)【優先日】2020-01-21

(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP

(73)【特許権者】

【識別番号】000002185

【氏名又は名称】ソニーグループ株式会社

(73)【特許権者】

【識別番号】301021533

【氏名又は名称】国立研究開発法人産業技術総合研究所

(74)【代理人】

【識別番号】110001357

【氏名又は名称】弁理士法人つばさ国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】高橋 健

(72)【発明者】

【氏名】前嶋 克紀

(72)【発明者】

【氏名】山鹿 実

(72)【発明者】

【氏名】寺川 潤

(72)【発明者】

【氏名】市瀬 奈津貴

(72)【発明者】

【氏名】佐藤 友恵

(72)【発明者】

【氏名】潟口 嵩

(72)【発明者】

【氏名】砥綿 篤哉

(72)【発明者】

【氏名】尾崎 公洋

(72)【発明者】

【氏名】松本 章宏

【審査官】川中 龍太

(56)【参考文献】

【文献】特許第６６２４３３２（ＪＰ，Ｂ１）

【文献】特開２０１９－１７５５３２（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１９－０２３９５０（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００８－１８９９９６（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｇ１１Ｂ ５／６２ － ５／８２

Ｇ１１Ｂ ５／８４ － ５／８５８

Ｇ１１Ｂ ５／００ － ５／０２４

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

磁性層および基体を有する磁気記録媒体であって、
前記磁性層はε酸化鉄を含む磁性粉を有し、
前記磁気記録媒体の垂直方向保磁力（Ｈｃ）に対する、パルス磁界を用いて前記磁気記録媒体の垂直方向に測定した残留保磁力（Ｈｒｐ）の比（Ｈｒｐ／Ｈｃ）が２．０以下であり、
前記磁気記録媒体の単位面積当りの飽和磁化（Ｍｓｔ）が４．５ｍＡ以上である
磁気記録媒体。

【請求項2】

前記磁気記録媒体の面内Ｘ線回折（Ｃｕ管球）による回折パターンにおいて３２．９°の第１ピークおよび３６．６°の第２ピークを発現する
請求項１記載の磁気記録媒体。

【請求項3】

前記磁性層の平均厚みは、８０ｎｍ以下である
請求項１記載の磁気記録媒体。

【請求項4】

前記垂直方向保磁力は、２０００Ｏｅ以上６０００Ｏｅ以下である
請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。

【請求項5】

前記垂直方向保磁力は、２５００Ｏｅ以上４５００Ｏｅ以下である
請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。

【請求項6】

前記磁性粉の質量磁化は、３０ｅｍｕ／ｇ以上６０ｅｍｕ／ｇ以下である
請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。

【請求項7】

前記磁性粉の平均粒子径は、２０ｎｍ以下である
請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。

【請求項8】

前記ε酸化鉄は、ジルコニウム（Ｚｒ）およびコバルト（Ｃｏ）を含有する
請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。

【請求項9】

前記磁性層における磁化と磁場との関係を表す磁化曲線（Ｍ－Ｈループ）は、－１５ｋＯｅ以上＋１５ｋＯｅ以下の範囲で閉塞している
請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。

【請求項10】

前記ε酸化鉄における鉄（Ｆｅ）とコバルトとを合わせた原子％を１００としたときのコバルトのモル比は、３原子％以上２０原子％以下である
請求項８記載の磁気記録媒体。

【請求項11】

前記ε酸化鉄における鉄（Ｆｅ）とジルコニウムとを合わせた原子％を１００としたときのジルコニウムのモル比は、１原子％以上８原子％以下である
請求項８記載の磁気記録媒体。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、磁気記録媒体に関する。

【背景技術】

【0002】

電子データの保存のために、テープ状の磁気記録媒体が幅広く利用されている。例えば特許文献１には、高温環境下における電磁変換特性に優れた磁気記録媒体が提案されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【文献】国際公開第２０１８／２０３４６８号明細書

【発明の概要】

【0004】

ところで、このようなテープ状の磁気記録媒体に対しては、電磁変換特性を向上させつつ、高い長期信頼性を有することが期待されている。

【0005】

そこで、電磁変換特性の向上と高い長期信頼性の確保とを両立できる磁気記録媒体が望まれる。

【0006】

本開示の一実施形態としての磁気記録媒体は、磁性層および基体を有する。磁性層はε酸化鉄を含む磁性粉を有する。磁気記録媒体の垂直方向保磁力（Ｈｃ）に対する、パルス磁界を用いて測定した残留保磁力（Ｈｒｐ）の比（Ｈｒｐ／Ｈｃ）は２．０以下であり、磁気記録媒体の単位面積当りの飽和磁化（Ｍｓｔ）は４．５ｍＡ以上である。

【0007】

本開示の一実施形態としての磁気記録媒体では、上述の構成を有するので、電磁変換特性の向上と熱安定性の向上とを両立できる。

【図面の簡単な説明】

【0008】

【図1】本開示の一実施の形態に係る磁気記録媒体の断面図である。

【図2】図１に示した磁性層における面内Ｘ線回折（Ｃｕ管球）により測定される回折パターンの一例を模式的に表している。

【図3A】図１に示した磁性層における磁化曲線（Ｍ－Ｈループ）の一例を表している。

【図3B】参考例としての磁性層における磁化曲線（Ｍ－Ｈループ）の一例を表している。

【図4】図１に示した磁性層に含まれるε酸化鉄粒子の断面構造を模式的に表す断面図である。

【図5】図１に示した磁気記録媒体における残留保磁力を測定するための残留磁化曲線の一例を表す特性図である。

【図6】変形例としてのε酸化鉄粒子の断面構造を模式的に表す断面図である。

【図7】他の変形例としての磁気記録媒体の断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0009】

以下、本開示の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
１．経緯
２．一実施の形態
２－１．磁気記録媒体の構成
２－２．磁気記録媒体の製造方法
２－３．効果
３．変形例

【0010】

＜１．経緯＞
まず、本開示の技術を創作するに至った経緯について説明する。これまでに、磁気記録媒体の磁性層を構成する磁性粉としてε酸化鉄の採用を検討してきた。磁気記録媒体における高密度記録を実現するには磁性粉の微細化が望ましいところ、このε酸化鉄は、微粒子化しても高い保磁力を有するからである。しかしながら、ε酸化鉄の質量磁化が小さいので、磁気記録媒体として出力および熱安定性が不十分である。なお、熱安定性は、後述する比Ｈｒｐ／Ｈｃを２．０以下とすることにより、その低下を回避できる。また、比Ｈｒｐ／Ｈｃが２．０以下であれば、後述する１０年後の信号減衰率が改善され、長期信頼性を確保することができる。そこで、本開示は、例えばε酸化鉄を含む磁性層を採用しつつ、電磁変換特性の向上と熱安定性、すなわち長期信頼性の確保との両立を図るようにした磁気記録媒体を提案する。

【0011】

＜２．一実施の形態＞
［２－１ 磁気記録媒体１０の構成］
図１は、本開示の一実施の形態に係る磁気記録媒体１０の断面構成例を表している。図１に示したように、磁気記録媒体１０は複数層が積層された積層構造を有する。具体的には、磁気記録媒体１０は、長尺のテープ状の基体１１と、基体１１の一方の主面１１Ａ上に設けられた下地層１２と、下地層１２の上に設けられた磁性層１３と、基体１１の他方の主面１１Ｂ上に設けられたバック層１４とを備える。磁性層１３の表面１３Ｓが、磁気ヘッドが当接しつつ走行することとなる表面となる。なお、下地層１２およびバック層１４は、必要に応じて備えられるものであり、無くてもよい。なお、磁気記録媒体１０の平均厚みは、例えば５．６μｍ以下であるとよい。

【0012】

磁気記録媒体１０は長尺のテープ状をなし、記録動作および再生動作の際には、自らの長手方向に沿って走行することとなる。磁気記録媒体１０は、例えば記録用ヘッドとしてリング型ヘッドを備える記録再生装置に用いられるものであることが好ましい。

【0013】

（基体１１）
基体１１は、下地層１２および磁性層１３を支持する非磁性支持体である。基体１１は、長尺のフィルム状をなしている。基体１１の平均厚みの上限値は、好ましくは４．２μｍ以下、より好ましくは４.０μｍ以下である。基体１１の平均厚みの上限値が４．２μ
ｍ以下であると、１データカートリッジ内に記録できる記録容量を一般的な磁気記録媒体よりも高めることができる。基体１１の平均厚みの下限値は、好ましくは３μｍ以上、より好ましくは３．２μｍ以上である。基体１１の平均厚みの下限値が３μｍ以上であると、基体１１の強度低下を抑制することができる。

【0014】

基体１１の平均厚みは以下のようにして求められる。まず、１／２インチ幅の磁気記録媒体１０を準備し、それを２５０ｍｍの長さに切り出し、サンプルを作製する。続いて、サンプルの基体１１以外の層、すなわち下地層１２、磁性層１３およびバック層１４をＭＥＫ（メチルエチルケトン）または希塩酸等の溶剤で除去する。次に、測定装置としてミツトヨ（Mitutoyo）社製レーザーホロゲージ（LGH-110C）を用いて、サンプルである基体１１の厚みを５点以上の位置で測定する。その後、それらの測定値を単純に平均（算術平均）して、基体１１の平均厚みを算出する。なお、測定位置は、サンプルから無作為に選ばれるものとする。

【0015】

基体１１は、例えば、ポリエステル類を主たる成分として含んでいる。または、基体１１は、ＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）を主たる成分として含んでいてもよい。基体１１は、ポリエステル類またはＰＥＥＫに加えて、ポリオレフィン類、セルロース誘導体、ビニル系樹脂、およびその他の高分子樹脂のうちの少なくとも１種を含んでいてもよい。基体１１が上記材料のうちの２種以上を含む場合、それらの２種以上の材料は混合されていてもよいし、共重合されていてもよいし、積層されていてもよい。

【0016】

基体１１に含まれるポリエステル類は、例えば、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）、ＰＢＮ（ポリブチレンナフタレート）、ＰＣＴ（ポリシクロヘキシレンジメチレンテレフタレート）、ＰＥＢ（ポリエチレン－ｐ－オキシベンゾエート）およびポリエチレンビスフェノキシカルボキシレートのうちの少なくとも１種を含む。

【0017】

基体１１に含まれるポリオレフィン類は、例えば、ＰＥ（ポリエチレン）およびＰＰ（ポリプロピレン）のうちの少なくとも１種を含む。セルロース誘導体は、例えば、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、ＣＡＢ（セルロースアセテートブチレート）およびＣＡＰ（セルロースアセテートプロピオネート）のうちの少なくとも１種を含む。ビニル系樹脂は、例えば、ＰＶＣ（ポリ塩化ビニル）およびＰＶＤＣ（ポリ塩化ビニリデン）のうちの少なくとも１種を含む。

【0018】

基体１１に含まれるその他の高分子樹脂は、例えば、ＰＡ（ポリアミド、ナイロン）、芳香族ＰＡ（芳香族ポリアミド、アラミド）、ＰＩ（ポリイミド）、芳香族ＰＩ（芳香族ポリイミド）、ＰＡＩ（ポリアミドイミド）、芳香族ＰＡＩ（芳香族ポリアミドイミド）、ＰＢＯ（ポリベンゾオキサゾール、例えばザイロン（登録商標））、ポリエーテル、ＰＥＫ（ポリエーテルケトン）、ポリエーテルエステル、ＰＥＳ（ポリエーテルサルフォン）、ＰＥＩ（ポリエーテルイミド）、ＰＳＦ（ポリスルフォン）、ＰＰＳ（ポリフェニレンスルフィド）、ＰＣ（ポリカーボネート）、ＰＡＲ（ポリアリレート）およびＰＵ（ポリウレタン）のうちの少なくとも１種を含む。

【0019】

（磁性層１３）
磁性層１３は、信号を記録するための記録層であり、例えばε酸化鉄相を含む酸化鉄を有している。磁性層１３は、例えば、磁性粉、結着剤および潤滑剤を含む。磁性層１３が、必要に応じて、導電性粒子、研磨剤、防錆剤等の添加剤をさらに含んでいてもよい。

【0020】

磁性層１３がε酸化鉄相を含むことにより、例えば図２に例示したように、磁気記録媒体１０は、面内Ｘ線回折（Ｃｕ管球）による回折パターンにおいて３２．９°の第１ピークＰＫ１および３６．６°の第２ピークＰＫ２を発現する。なお、図２は、面内Ｘ線回折（Ｃｕ管球）により測定される磁気記録媒体１０の回折パターンの一例を模式的に表している。図２に示した回折パターンのピーク位置は、Ｘ線回折（ＸＲＤ）装置に付属している任意の解析ソフトを用いて行う。この際、得られた回折パターンの平均化など、解析に必要な一定の処理を行っても構わない。このように、磁性層１３の面内Ｘ線回折（Ｃｕ管球）による回折パターンにおいて３２．９°の第１ピークＰＫ１と３６．６°の第２ピークＰＫ２とが検出されるということは、磁性層１３がε酸化鉄相を含むことを表している。ε酸化鉄を磁性粉として含むことにより、磁性層１３は、高い垂直方向保磁力Ｈｃを有する。
面内XRDについては以下のように測定を行う。
測定サンプルはカートリッジ内に巻かれている磁気テープのうち、任意のデータ領域から切り出して準備する。切り出すサイズは、例えば12.65mm×60mmである。切り出したサンプルを非晶質のガラス基板に張り付け、ガラス基板をグリスを用いてXRDの測定ステージに固定をし、アライメント調整等、測定に必要な作業を行いin-plane XRDの測定を行う。以下に測定条件を示す。
装置名称：Rigaku ATX-G
管球(X線源)：Cu Kα
管球出力：50 kV、200 mA
ステップ(2θ)：0.05 degree
ステップ速度：1.5 degree/sec

【0021】

また、磁気記録媒体１０の単位面積当りの飽和磁化Ｍｓｔは４．５ｍＡ以上であるとよい。磁気記録媒体１０の単位面積当りの飽和磁化Ｍｓｔが４．５ｍＡ以上であることにより、磁気記録媒体１０の出力をより向上させることができ、結果として良好なＳＮＲ（Signal-to-Noise Ratio）が実現できる。磁性層１３の単位面積当りの飽和磁化Ｍｓｔが大きくなるほど磁気記録媒体１０としての出力が向上し、磁気ヘッドそのものが有するシステムノイズの影響が相対的に小さくなるからである。また、磁性層１３に含まれる磁性粉の充填量や組成等を調整することにより、磁性層１３の単位面積当りの飽和磁化Ｍｓｔを調整できる。例えば、磁性層１３中に含まれるバインダーなどの非磁性成分を低減することで磁性層１３の単位面積当りの飽和磁化Ｍｓｔを大きくすることができる。また、たとえばε酸化鉄粒子の鉄（Ｆｅ）の一部をコバルト（Ｃｏ）などの添加元素で置換するなど、磁性粉の組成を調整したり、磁性粉の合成条件(焼成温度等)を調整したりすることで磁性粉の質量磁化を大きくし、磁性層１３の単位面積当りの飽和磁化Ｍｓｔを大きくすることができる。

【0022】

磁性層１３の単位面積当りの飽和磁化Ｍｓｔは以下のようにして求められる。まず、磁気記録媒体１０を、両面テープを介して３枚重ね合わせた後、φ６．３９ｍｍのパンチで打ち抜くことにより、測定サンプルを作成する。この際に、磁気記録媒体１０の長手方向（走行方向）が認識できるように、磁性を持たない任意のインクでマーキングを行う。そして、振動試料型磁力計（ＶＳＭ）を用いて磁気記録媒体１０の垂直方向（厚み方向）に対応する測定サンプル（磁気記録媒体１０全体）のＭ－Ｈループを測定する。

【0023】

次に、アセトンまたはエタノール等を用いて塗膜、すなわち下地層１２、磁性層１３およびバック層１４などを払拭し、基体１１のみを残すようにする。そして、得られた基体１１を両面テープを介して３枚重ね合わせた後、φ６．３９ｍｍのパンチで打ち抜くことにより、バックグラウンド補正用のサンプル（以下、単に補正用サンプル）を得る。その後、ＶＳＭを用いて基体１１の垂直方向（磁気記録媒体１０の垂直方向）に対応する補正用サンプル（基体１１）のＭ－Ｈループを測定する。

【0024】

測定サンプル（磁気記録媒体１０全体）のＭ－Ｈループおよび補正用サンプル（基体１１）のＭ－Ｈループの測定においては、例えば東英工業製の好感度振動試料型磁力計「ＶＳＭ－Ｐ７－１５型」が用いられる。測定条件は、測定モード：フルループ、最大磁界：１５ｋＯｅ、磁界ステップ：４０ｂｉｔ、Time constant of Locking amp：０．３ｓｅｃ、Waiting time：１ｓｅｃ、ＭＨ平均数：２０とする。

【0025】

２つのＭ－Ｈループが得られた後、測定サンプル（磁気記録媒体１０全体）のＭ－Ｈループから補正用サンプル（基体１１）のＭ－Ｈループを差し引くことでバックグラウンド補正が行われ、バックグラウンド補正後のＭ－Ｈループが得られる。このバックグラウンド補正の計算には、「ＶＳＭＰ７－１５型」に付属されている測定・解析プログラムが用いられる。

【0026】

得られたバックグラウンド補正後のＭ－Ｈループの飽和磁化Ｍｓ（ｅｍｕ）と測定サンプルの面積（ｃｍ²）から、以下の式を用いて単位面積当りの飽和磁化Ｍｓｔが算出される。
Ｍｓｔ（ｍＡ）＝Ｍｓ（ｅｍｕ）／面積（ｃｍ²）×１００００

【0027】

サンプルの面積は以下の式により算出される。
面積（ｃｍ²）＝３．１４×（０．６３９／２）²×３

【0028】

なお、上記のＭ－Ｈループの測定はいずれも、２５℃にて行われるものとする。また、Ｍ－Ｈループを磁気記録媒体１０の垂直方向において測定する際の“反磁界補正”は行わないものとする。

【0029】

磁性層１３は、例えば多数の凹みが設けられた表面１３Ｓを有している。これらの多数の凹みには、潤滑剤が蓄えられている。多数の凹みは、磁性層１３の表面に対して垂直方向に延設されていることが好ましい。磁性層１３の表面１３Ｓに対する潤滑剤の供給性を向上することができるからである。なお、多数の凹みの一部が垂直方向に延設されていてもよい。

【0030】

磁性層１３の平均厚みの上限値は、好ましくは９０ｎｍ以下、特に好ましくは８０ｎｍ以下、より好ましくは７０ｎｍ以下、さらにより好ましくは５０ｎｍ以下である。磁性層１３の平均厚みの上限値が９０ｎｍ以下であると、記録ヘッドとしてはリング型ヘッドを用いた場合に、磁性層１３の厚み方向に均一に磁化を記録できるため、電磁変換特性を向上することができる。

【0031】

磁性層１３の平均厚みの下限値は、好ましくは３５ｎｍ以上である。磁性層１３の平均厚みの上限値が３５ｎｍ以上であると、再生ヘッドとしてはＭＲ型ヘッドを用いた場合に、出力を確保できるため、電磁変換特性を向上することができる。

【0032】

磁性層１３の平均厚みは以下のようにして求められる。まず、磁気記録媒体１０の磁性層１３の表面１３Ｓおよびバック層１４の表面１４Ｓにカーボン膜を蒸着法により形成したのち、磁性層１３の表面１３Ｓを覆うカーボン膜の上にタングステン薄膜を蒸着法によりさらに形成する。これらのカーボン膜およびタングステン膜は、後述の薄片化処理においてサンプルを保護するものである。

【0033】

次に、磁気記録媒体１０をＦＩＢ（Focused Ion Beam）法等により加工して薄片化を行う。ＦＩＢ法を使用する場合には、後述の断面のＴＥＭ像を観察する前処理として、保護膜としてカーボン膜及びタングステン薄膜を形成する。当該カーボン膜は蒸着法により磁気記録媒体１０の磁性層側表面及びバック層側表面に形成され、そして、当該タングステン薄膜は蒸着法又はスパッタリング法により磁性層側表面にさらに形成される。当該薄片化は磁気記録媒体１０の長さ方向（長手方向）に沿って行われる。すなわち、当該薄片化によって、磁気記録媒体１０の長手方向及び厚み方向の両方に平行な断面が形成される。得られた薄片化サンプルの前記断面を、透過型電子顕微鏡（Transmission Electron Microscope：ＴＥＭ）により、下記の条件で観察し、ＴＥＭ像を得る。なお、装置の種類に応じて、倍率及び加速電圧は適宜調整されてよい。
装置：ＴＥＭ（日立製作所製Ｈ９０００ＮＡＲ）
加速電圧：３００ｋＶ
倍率：１００，０００倍

【0034】

次に、得られたＴＥＭ像を用い、磁気記録媒体１０の長手方向の少なくとも１０点以上の位置で磁性層１３の厚みを測定する。得られた測定値を単純に平均（算術平均）した平均値を磁性層１３の平均厚みとする。なお、前記測定が行われる位置は、試験片から無作為に選ばれるものとする。

【0035】

また、図３Ａに示したように、磁性層１３における磁化Ｍと磁場Ｈとの関係を表す磁化曲線（Ｍ－Ｈループ）は、－１５ｋＯｅ超＋１５ｋＯｅ未満の磁場Ｈの範囲で閉塞しているとよい。より良好な電磁変換特性が得られるからである。ここでいうＭ－Ｈループが「閉塞している」とは、図３Ａに示したように、－１５ｋＯｅ以上＋１５ｋＯｅ以下の範囲の磁場ＨにおいてＭ－Ｈループに重なり合う部分が存在していることを意味する。図３Ａの例では、Ｍ－Ｈループのうち、磁場Ｈが－１５ｋＯｅの近傍における端部領域ＭＨ－と、磁場Ｈが＋１５ｋＯｅの近傍における端部領域ＭＨ＋との双方において、重なり合う部分が存在する。これに対し、Ｍ－Ｈループが「閉塞していない」とは、図３Ｂに示したように、－１５ｋＯｅ以上＋１５ｋＯｅ以下の範囲の磁場ＨにおいてＭ－Ｈループに重なり合う部分が存在しないことを意味する。図３Ｂの例では、端部領域ＭＨ－および端部領域ＭＨ＋の双方において、Ｍ－Ｈループには重なり合う部分が存在していない。なお、図３Ｂは、参考例としての磁性層における磁化Ｍと磁場Ｈとの関係を表す磁化曲線（Ｍ－Ｈループ）の一例を表している。Ｍ－Ｈループが「閉塞していない」ということは、垂直方向保磁力Ｈｃが過度に高いか、垂直方向保磁力Ｈｃの分布が広範囲の磁場Ｈに及んでいる、ということである。したがって、磁気記録ヘッドでの飽和記録が難しくなることにつながる。その結果、良好な電磁変換特性を得ることが困難となると考えられる。

【0036】

（磁性粉）
磁性層１３に含まれる磁性粉は、例えば３０ｅｍｕ／ｇ以上６０ｅｍｕ／ｇ以下の質量磁化σｓを有するとよい。磁性粉の質量磁化σｓが３０ｅｍｕ／ｇ以上であることにより、磁気記録媒体１０としての出力の向上が期待できる。

【0037】

磁性粉は、例えば２０ｎｍ以下の平均粒子径を有する複数の磁性粒子を含んでいる。具体的には、磁性粉は、例えば、ε酸化鉄を含有するナノ粒子（以下「ε酸化鉄粒子」という。）の粉末を含んでいる。ε酸化鉄粒子は微粒子でも高保磁力を得ることができる。磁性層１３に含まれるε酸化鉄は、磁気記録媒体１０の厚み方向（垂直方向）に優先的に結晶配向していることが好ましい。

【0038】

図４は、磁性層１３に含まれるε酸化鉄粒子２０の断面構造の一例を模式的に表す断面図である。図４に示したように、ε酸化鉄粒子２０は、球状もしくはほぼ球状を有しているか、または立方体状もしくはほぼ立方体状を有している。ε酸化鉄粒子２０が上記のような形状を有しているので、磁性粒子としてε酸化鉄粒子２０を用いた場合、磁性粒子として六方晶フェライトなどの六角板状の磁性粒子を用いた場合に比べて、磁気記録媒体１０の厚み方向における単位体積当たりの粒子同士の接触面積を低減し、粒子同士の凝集を抑制することができる。したがって、磁性粉の分散性を高め、より良好なＳＮＲを得ることができる。

【0039】

ε酸化鉄粒子２０は、例えばコアシェル型構造を有していてもよい。具体的には、ε酸化鉄粒子２０は、図４に示したように、コア部２１と、このコア部２１の周囲に設けられた２層構造のシェル部２２とを備える。２層構造のシェル部２２は、コア部２１上に設けられた第１シェル部２２ａと、第１シェル部２２ａ上に設けられた第２シェル部２２ｂとを有する。ε酸化鉄粒子２０は、後述するように、添加元素としてコバルト（Ｃｏ）およびジルコニウム（Ｚｒ）の双方を含んでいることが望ましい。

【0040】

ε酸化鉄粒子２０は、例えば以下のように形成される。まず、鉄元素を含有する第１化合物と、上記添加元素を含む第２化合物とを含む溶液にケイ素化合物を添加して、鉄元素および上記添加元素をシリカ中に含んだシリカキセロゲルを生成する。次に、生成されたシリカキセロゲルを８５０～１３００℃の温度で４～６時間に亘って熱処理する。こうすることにより、ε酸化鉄および上記添加元素を含むε酸化鉄粒子２０が形成される。なお、本開示におけるε酸化鉄粒子２０中の上記添加元素の量は、Ｆｅと添加元素とを合わせた原子％を１００としたときの上記添加元素の存在比率（原子％、ａｔ％）のことをいう。

【0041】

ε酸化鉄粒子２０中の上記添加元素の含有量は、例えば以下のように測定する。まず、磁気記録媒体１０の磁性層１３の表面１３Ｓおよびバック層１４の表面１４Ｓにカーボン膜を蒸着法により形成したのち、磁性層１３の表面１３Ｓを覆うカーボン膜の上にタングステン薄膜を蒸着法によりさらに形成する。これらのカーボン膜およびタングステン膜は、後述の薄片化処理においてサンプルを保護するものである。 次に、磁気記録媒体１０をＦＩＢ（Focused Ion Beam）法等により加工して薄片化を行う。ＦＩＢ法を使用する場合には、後述の断面のＴＥＭ像を観察する前処理として、保護膜としてカーボン膜及びタングステン薄膜を形成する。当該カーボン膜は蒸着法により磁気記録媒体１０の磁性層側表面及びバック層側表面に形成され、そして、当該タングステン薄膜は蒸着法又はスパッタリング法により磁性層側表面にさらに形成される。当該薄片化は磁気記録媒体１０の長さ方向（長手方向）に沿って行われる。すなわち、当該薄片化によって、磁気記録媒体１０の長手方向及び厚み方向の両方に平行な断面が形成される。得られた薄片化サンプルの前記断面を、走査型電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope：ＳＥＭ）により、下記の条件で観察し、ＳＥＭ像を得る。なお、装置の種類に応じて、倍率及び加速電圧は適宜調整されてよい。ＳＥＭ像を得たのち、記録層について、以下の条件で元素分析を行う。＜元素分析(面分析)＞
分析手法 : エネルギー分散型X線分光法(EDS)
走査透過電子顕微鏡 : 日本電子製 JEM-ARM200F
加速電圧 : 200kV
ビーム径 : 約0.2nmφ
元素分析装置 : JED-2300T
X線検出器 : Siドリフト検出器
エネルギー分解能 : 約140eV
X線取出角 : 21.9°
立体角 : 0.98sr
取込画素数 : 256×256
次に、得られた元素分析の結果から、Ｆｅ原子％に対する添加元素の原子％を計算する。なお、ε酸化鉄粒子２０中の上記添加元素の含有量の測定が行われる位置は、試験片から無作為に選ばれるものとする。

【0042】

ε酸化鉄粒子２０におけるコア部２１は、ε酸化鉄を含んでいる。コア部２１に含まれるε酸化鉄は、ε－Ｆｅ₂Ｏ₃結晶を主相とするものが好ましく、単相のε－Ｆｅ₂Ｏ₃からなるものがより好ましい。ところで、磁気記録媒体１０として高密度記録を実現するには、コア部２１に含まれるε酸化鉄が微粒子化されたものであることが望ましい。しかしながら、微粒子化されたε酸化鉄は高い保磁力を示すものの、その質量磁化σｓが小さくなってしまう傾向にある。磁性粉における質量磁化σｓの低下は、磁気記録媒体１０としての出力低下や熱安定性の低下を招く可能性があり、好ましくない。そこで、コア部２１には、Ｃｏ（コバルト）が添加されている。ε酸化鉄にＣｏを含有させることにより、ε酸化鉄粒子２０の質量磁化σｓの向上が期待できるからである。

【0043】

しかしながら、単相のε－Ｆｅ₂Ｏ₃に対しＣｏ（コバルト）のみを添加すると、Ｍ－Ｈループの一部に歪みが生じてしまう。このような現象を解消するため、本開示では、コア部２１が、Ｃｏと併せてＺｒ（ジルコニウム）をさらに含むようにしている。コア部２１の構成材料として、ε－Ｆｅ₂Ｏ₃に対し、添加元素としてＣｏおよびＺｒの双方を添加したものを用いることにより、Ｍ－Ｈループの歪みが緩和され、磁気記録媒体１０のＳＦＤ（Switching Field Distribution）曲線においてサブピークが生じにくくなる。２価の元素のＣｏと共に４価の元素であるＺｒを併せて添加することにより、平均価数を３価にすることができ、Ｃｏ元素が導入されやすくなる効果があるのではないかと考えている。したがって、３価の元素のＦｅを含むε酸化鉄に対し２価の元素のＣｏをより均質に分布させることができ、Ｍ－Ｈループの歪みを解消もしくは低減できると考えられる。その結果、磁気記録媒体１０のＳＦＤ曲線におけるサブピークの発生が抑制され、磁性層１３において磁気記録に寄与することのできる領域をより広く確保できる。よって、高密度記録に有利な磁気記録媒体１０となる。なお、コア部２１におけるＣｏの添加量は、ＦｅとＣｏとを合わせた原子％を１００としたとき、３原子％以上２０原子％以下が好ましい。さらにその場合、コア部２１におけるＺｒの添加量は、ＦｅとＣｏとＺｒとを合わせた原子％を１００としたとき、１原子％以上８原子％以下が好ましい。コア部２１におけるＣｏの添加量およびＺｒの添加量を上記の範囲とすることにより、垂直方向の保磁力Ｈｃをより高くしつつ、Ｍ－Ｈループの歪みを十分に低減できるので、高密度記録により有利な磁気記録媒体１０となる。

【0044】

なお、コア部２１は、Ｈｆ（ハフニウム）などの金属元素をさらなる添加元素として含んでいてもよい。

【0045】

第１シェル部２２ａは、コア部２１の周囲のうちの少なくとも一部を覆っている。具体的には、第１シェル部２２ａは、コア部２１の周囲を部分的に覆っていてもよいし、コア部２１の周囲全体を覆っていてもよい。コア部２１と第１シェル部２２ａの交換結合を十分なものとし、磁気特性を向上する観点からすると、コア部２１の表面全体を覆っていることが好ましい。

【0046】

第１シェル部２２ａは、いわゆる軟磁性層であり、例えば、α－Ｆｅ、Ｎｉ－Ｆｅ合金、ＣｏＯＦｅ₂Ｏ₃またはＦｅ－Ｓｉ－Ａｌ合金等の軟磁性体を含む。α－Ｆｅは、コア部２１に含まれるε酸化鉄を還元することにより得られるものであってもよい。

【0047】

第２シェル部２２ｂは、酸化防止層としての酸化被膜である。第２シェル部２２ｂは、α酸化鉄、酸化アルミニウムまたは酸化ケイ素を含む。α酸化鉄は、例えばＦｅ₃Ｏ₄、Ｆｅ₂Ｏ₃およびＦｅＯのうちの少なくとも１種の酸化鉄を含んでいる。第１シェル部２２ａがα－Ｆｅ（軟磁性体）を含む場合には、α酸化鉄は、第１シェル部２２ａに含まれるα－Ｆｅを酸化することにより得られるものであってもよい。

【0048】

ε酸化鉄粒子２０が、上述のように第１シェル部２２ａを有することで、熱安定性を確保するためにコア部２１単体の保磁力Ｈｃを大きな値に保ちつつ、ε酸化鉄粒子（コアシェル粒子）２０全体としての保磁力Ｈｃを記録に適した保磁力Ｈｃに調整できる。また、ε酸化鉄粒子２０が、上述のように第２シェル部２２ｂを有することで、磁気記録媒体１０の製造工程およびその工程前において、ε酸化鉄粒子２０が空気中に暴露されて粒子表面に錆び等が発生することによりε酸化鉄粒子２０の特性が低下するのを抑制することができる。したがって、第１シェル部２２ａを第２シェル部２２ｂにより覆うことで、磁気記録媒体１０の特性劣化を抑制することができる。

【0049】

磁性粉の平均粒子サイズ（平均最大粒子サイズ）は、好ましくは２０ｎｍ以下、より好ましくは８ｎｍ以上１６ｎｍ以下、さらにより好ましくは８ｎｍ以上１３ｎｍ以下である。磁気記録媒体１０では、記録波長の１／２のサイズの領域が実際の磁化領域となる。このため、磁性粉の平均粒子サイズを最短記録波長の半分以下に設定することで、良好なＳＮＲを得ることができる。したがって、磁性粉の平均粒子サイズが２０ｎｍ以下であると、高記録密度の磁気記録媒体１０（例えば５０ｎｍ以下の最短記録波長で信号を記録可能に構成された磁気記録媒体１０）において、良好な電磁変換特性（例えばＳＮＲ）を得ることができる。一方、磁性粉の平均粒子サイズが８ｎｍ以上であると、磁性粉の分散性がより向上し、より優れた電磁変換特性（例えばＳＮＲ）を得ることができる。

【0050】

磁性粉の平均アスペクト比が、好ましくは１以上３．０以下、より好ましくは１以上２．８以下、さらにより好ましくは１以上１．８以下である。磁性粉の平均アスペクト比が１以上３．０以下の範囲内であると、磁性粉の凝集を抑制することができると共に、磁性層１３の形成工程において磁性粉を垂直配向させる際に、磁性粉に加わる抵抗を抑制することができる。したがって、磁性粉の垂直配向性を向上することができる。

【0051】

上記の磁性粉の平均粒子サイズおよび平均アスペクト比は、以下のようにして求められる。まず、測定対象となる磁気記録媒体１０をＦＩＢ（Focused Ion Beam）法等により加工して薄片化を行う。薄片化は磁気テープの長さ方向(長手方向)に沿うかたちで行う。すなわち、この薄片化によって、磁気記録媒体１０の長手方向および厚み方向の双方に平行な断面が形成される。得られた薄片サンプルについて、透過電子顕微鏡(日立ハイテクノロジーズ製 H-9500)を用いて、加速電圧：２００ｋＶ、総合倍率５００，０００倍で磁性層１３の厚み方向に対して磁性層１３全体が含まれるように断面観察を行い、ＴＥＭ写真を撮影する。次に、撮影したＴＥＭ写真から５０個の粒子を無作為に選び出し、各粒子の長軸長ＤＬと短軸長ＤＳとを測定する。ここで、長軸長ＤＬとは、各粒子の輪郭に接するように、あらゆる角度から引いた２本の平行線間の距離のうち最大のもの（いわゆる最大フェレ径）を意味する。一方、短軸長ＤＳとは、粒子の長軸長ＤＬと直交する方向における粒子の長さのうち最大のものを意味する。

【0052】

続いて、測定した５０個の粒子の長軸長ＤＬを単純に平均（算術平均）して平均長軸長ＤＬaveを求める。このようにして求めた平均長軸長ＤＬaveを磁性粉の平均粒子サイズとする。また、測定した５０個の粒子の短軸長ＤＳを単純に平均（算術平均）して平均短軸長ＤＳaveを求める。そして、平均長軸長ＤＬaveおよび平均短軸長ＤＳaveから粒子の平均アスペクト比（ＤＬave／ＤＳave）を求める。

【0053】

磁性粉の平均粒子体積は、好ましくは５５００ｎｍ³以下、より好ましくは２７０ｎｍ³以上５５００ｎｍ³以下、さらにより好ましくは９００ｎｍ³以上５５００ｎｍ³以下である。磁性粉の平均粒子体積が５５００ｎｍ³以下であると、磁性粉の平均粒子サイズを２２ｎｍ以下とする場合と同様の効果が得られる。一方、磁性粉の平均粒子体積が２７０ｎｍ³以上であると、磁性粉の平均粒子サイズを８ｎｍ以上とする場合と同様の効果が得られる。

【0054】

ε酸化鉄粒子２０が球状またはほぼ球状を有している場合には、磁性粉の平均粒子体積は以下のようにして求められる。まず、上記の磁性粉の平均粒子サイズの算出方法と同様にして、平均長軸長ＤＬaveを求める。次に、以下の式により、磁性粉の平均体積Ｖを求める。
Ｖ＝（π/６）×（ＤＬave）³

【0055】

（結着剤）
結着剤としては、ポリウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂等に架橋反応を付与した構造の樹脂が好ましい。しかしながら結着剤はこれらに限定されるものではなく、磁気記録媒体１０に対して要求される物性等に応じて、その他の樹脂を適宜配合してもよい。配合する樹脂としては、通常、塗布型の磁気記録媒体１０において一般的に用いられる樹脂であれば、特に限定されない。

【0056】

例えば、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル－酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル－塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル－アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル－アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル－塩化ビニル－塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル－アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル－アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル－塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステル－塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステル－塩化ビニル共重合体、メタクリル酸エステル－エチレン共重合体、ポリ弗化ビニル、塩化ビニリデン－アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル－ブタジエン共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セルロース誘導体（セルロースアセテートブチレート、セルロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネート、ニトロセルロース）、スチレンブタジエン共重合体、ポリエステル樹脂、アミノ樹脂、合成ゴム等が挙げられる。

【0057】

また、熱硬化性樹脂、または反応型樹脂の例としては、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミン樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂等が挙げられる。

【0058】

また、上述した各結着剤には、磁性粉の分散性を向上させる目的で、－ＳＯ₃Ｍ、－ＯＳＯ₃Ｍ、－ＣＯＯＭ、Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂等の極性官能基が導入されていてもよい。ここで、上記化学式中のＭは、水素原子、またはリチウム、カリウム、ナトリウム等のアルカリ金属である。

【0059】

さらに、極性官能基としては、－ＮＲ１Ｒ２、－ＮＲ１Ｒ２Ｒ３⁺Ｘ^-の末端基を有する側鎖型のもの、＞ＮＲ１Ｒ２⁺Ｘ^-の主鎖型のものが挙げられる。ここで、上記式中のＲ１、Ｒ２、Ｒ３は、水素原子、または炭化水素基であり、Ｘ^-は弗素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン元素イオン、または無機もしくは有機イオンである。また、極性官能基としては、－ＯＨ、－ＳＨ、－ＣＮ、エポキシ基等も挙げられる。

【0060】

（潤滑剤）
磁性層１３に含まれる潤滑剤は、例えば脂肪酸および脂肪酸エステルを含有している。潤滑剤に含有される脂肪酸は、例えば下記の一般式＜１＞により示される化合物および一般式＜２＞により示される化合物のうちの少なくとも一方を含むことが好ましい。また、潤滑剤に含有される脂肪酸エステルは、下記の一般式＜３＞により示される化合物および一般式＜４＞により示される化合物のうちの少なくとも一方を含むことが好ましい。潤滑剤が、一般式＜１＞により示される化合物および一般式＜３＞により示される化合物の２種を含むことにより、一般式＜２＞により示される化合物および一般式＜３＞により示される化合物の２種を含むことにより、一般式＜１＞により示される化合物および一般式＜４＞により示される化合物の２種を含むことにより、一般式＜２＞により示される化合物および一般式＜４＞により示される化合物の２種を含むことにより、一般式＜１＞により示される化合物、一般式＜２＞により示される化合物および一般式＜３＞により示される化合物の３種を含むことにより、一般式＜１＞により示される化合物、一般式＜２＞により示される化合物および一般式＜４＞により示される化合物の３種を含むことにより、一般式＜１＞により示される化合物、一般式＜３＞により示される化合物および一般式＜４＞により示される化合物の３種を含むことにより、一般式＜２＞により示される化合物、一般式＜３＞により示される化合物および一般式＜４＞により示される化合物の３種を含むことにより、または、一般式＜１＞により示される化合物、一般式＜２＞により示される化合物、一般式＜３＞により示される化合物および一般式＜４＞により示される化合物の４種を含むことにより、磁気記録媒体１０における繰り返しの記録又は再生による動摩擦係数の増加を抑制することができる。その結果、磁気記録媒体１０の走行性をさらに向上させることができる。
ＣＨ₃（ＣＨ₂）_kＣＯＯＨ ・・・＜１＞
（但し、一般式＜１＞において、ｋは１４以上２２以下の範囲、より好ましくは１４以上１８以下の範囲から選ばれる整数である。）
ＣＨ₃（ＣＨ₂）_nＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）_mＣＯＯＨ ・・・＜２＞
（但し、一般式＜２＞において、ｎとｍとの和は１２以上２０以下の範囲、より好ましくは１４以上１８以下の範囲から選ばれる整数である。）
ＣＨ₃（ＣＨ₂）_pＣＯＯ（ＣＨ₂）_qＣＨ₃ ・・・＜３＞
（但し、一般式＜３＞において、ｐは１４以上２２以下、より好ましくは１４以上１８以下の範囲から選ばれる整数であり、且つ、ｑは２以上５以下の範囲、より好ましくは２以上４以下の範囲から選ばれる整数である。）
ＣＨ₃（ＣＨ₂）_pＣＯＯ－（ＣＨ₂）_qＣＨ（ＣＨ₃）₂…＜４＞
（但し、前記一般式＜４＞において、ｐは１４以上２２以下の範囲から選ばれる整数であり、ｑは１以上３以下の範囲から選ばれる整数である。）

【0061】

（添加剤）
磁性層１３は、非磁性補強粒子として、酸化アルミニウム（α、βまたはγアルミナ）、酸化クロム、酸化珪素、ダイヤモンド、ガーネット、エメリー、窒化ホウ素、チタンカーバイト、炭化珪素、炭化チタン、酸化チタン（ルチル型またはアナターゼ型の酸化チタン）等をさらに含んでいてもよい。

【0062】

（下地層１２）
下地層１２は、非磁性粉および結着剤を含む非磁性層である。下地層１２が、必要に応じて、潤滑剤、導電性粒子、硬化剤および防錆剤等のうちの少なくとも１種の添加剤をさらに含んでいてもよい。また、下地層１２は、複数層が積層されてなる多層構造を有していてもよい。下地層１２の平均厚みは、好ましくは０．５μｍ以上０．９μｍ以下、より好ましくは０．６μｍ以上０．７μｍ以下である。下地層１２の平均厚みを０．９μｍ以下に薄くすることにより、基体１１の厚みを薄くする場合よりも磁気記録媒体１０全体のヤング率が効果的に低下する。このため、磁気記録媒体１０に対するテンションコントロールが容易となる。また、下地層１２の平均厚みを０．５μｍ以上とすることにより、基体１１と下地層１２との接着力が確保される。そのうえ、下地層１２の厚みのばらつきを抑えることができ、磁性層１３の表面１３Ｓの粗さが大きくなるのを防ぐことができる。

【0063】

なお、下地層１２の平均厚みは、例えば次のように求められる。まず、１／２インチ幅の磁気記録媒体１０を準備し、それを２５０ｍｍの長さに切り出し、サンプルを作製する。続いて、サンプルの磁気記録媒体１０について、下地層１２および磁性層１３を基体１１から剥がす。次に、測定装置としてミツトヨ（Mitutoyo）社製レーザーホロゲージ（LGH-110C）を用い、基体１１から剥がした下地層１２と磁性層１３との積層体の厚みを、５点以上の位置で測定する。そののち、それらの測定値を単純平均（算術平均）し、下地層１２と磁性層１３との積層体の平均厚みを算出する。なお、測定位置は、サンプルから無作為に選ばれるものとする。最後に、その積層体の平均厚みから、上述のようにＴＥＭを用いて測定した磁性層１３の平均厚みを差し引くことにより、下地層１２の平均厚みを求める。

【0064】

下地層１２は、細孔を有していてよく、すなわち、下地層１２は、多数の細孔が設けられていてもよい。下地層１２の細孔は、例えば磁性層１３に細孔（凹み）を形成することに伴い形成されてよく、特には、磁気記録媒体１０のバック層１４の表面１４Ｓに設けられた多数の突部を磁性層側表面に押し当てることによって形成されうる。すなわち、突部の形に対応する凹みが磁性層１３の表面１３Ｓに形成されることによって、磁性層１３および下地層１２に細孔がそれぞれ形成されうる。また、磁性層形成用塗料の乾燥工程で溶剤が揮発することに伴い細孔が形成されてもよい。また、磁性層１３を形成するために磁性層形成用塗料を下地層１２の表面に塗布した際に磁性層形成用塗料中の溶剤が下層を塗布乾燥させた際に形成された下地層１２の細孔を通り、下地層１２内に浸透しうる。そののち磁性層１３の乾燥工程において下地層１２内に浸透した溶剤が揮発する際に、下地層１２内に浸透した溶剤が下地層１２から磁性層１３の表面１３Ｓへ移動していくことによって細孔が形成されてもよい。このように形成された細孔は、例えば磁性層１３と下地層１２とを連通しているものでありうる。磁性層形成用塗料の固形分若しくは溶剤の種類及び／又は磁性層形成用塗料の乾燥条件を変更することによって、細孔の平均直径を調整することが出来る。磁性層１３および下地層１２の両方に細孔が形成されていることによって、良好な走行安定性のために特に適した量の潤滑剤が磁性層側表面に現れ、繰り返しの記録又は再生による動摩擦係数の増加をさらに抑制することができる。

【0065】

繰り返し記録または再生後における動摩擦係数の低下を抑制する観点からすると、下地層１２の細孔と磁性層１３の凹みとがつながっていることが好ましい。ここで、下地層１２の細孔と磁性層１３の凹みとがつながっているとは、下地層１２の多数の細孔のうちの一部のものと、磁性層１３の多数の凹みのうちの一部のものとがつながっている状態を含むものとする。

【0066】

磁性層１３の表面１３Ｓに対する潤滑剤の供給性を向上する観点からすると、多数の凹みは、磁性層１３の表面１３Ｓに対して垂直方向に延設されているものを含んでいることが好ましい。また、磁性層１３の表面１３Ｓに対する潤滑剤の供給性を向上する観点からすると、磁性層１３の表面１３Ｓに対して垂直方向に延設された下地層１２の細孔と、磁性層１３の表面１３Ｓに対して垂直方向に延設された磁性層１３の凹みとがつながっていることが好ましい。

【0067】

（下地層１２の非磁性粉）
非磁性粉は、例えば無機粒子粉または有機粒子粉の少なくとも１種を含む。また、非磁性粉は、カーボンブラック等の炭素粉を含んでいてもよい。なお、１種の非磁性粉を単独で用いてもよいし、２種以上の非磁性粉を組み合わせて用いてもよい。無機粒子は、例えば、金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物または金属硫化物等を含む。非磁性粉の形状としては、例えば、針状、球状、立方体状、板状等の各種形状が挙げられるが、これに限定されるものではない。

【0068】

（下地層１２の結着剤）
下地層１２における結着剤は、上述の磁性層１３と同様である。

【0069】

（バック層１４）
バック層１４は、例えば結着剤および非磁性粉を含んでいる。バック層１４が、必要に応じて潤滑剤、硬化剤および帯電防止剤等のうちの少なくとも１種の添加剤をさらに含んでいてもよい。バック層１４における結着剤および非磁性粉は、上述の下地層１２における結着剤および非磁性粉と同様である。

【0070】

バック層１４における非磁性粉の平均粒子サイズは、好ましくは１０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下、より好ましくは１５ｎｍ以上１１０ｎｍ以下である。バック層１４の非磁性粉の平均粒子サイズは、上記の磁性層１３における磁性粉の平均粒子サイズと同様にして求められる。非磁性粉が、２以上の粒度分布を有するものを含んでいてもよい。

【0071】

バック層１４の平均厚みの上限値は、好ましくは０．６μｍ以下であり、特に好ましくは０．５μｍ以下である。バック層１４の平均厚みの上限値が０．６μｍ以下であると、磁気記録媒体１０の平均厚みが５．６μｍ以下である場合でも、下地層１２や基体１１の厚みを厚く保つことができるので、磁気記録媒体１０の記録再生装置内での走行安定性を保つことができる。バック層１４の平均厚みの下限値は特に限定されるものではないが、例えば０．２μｍ以上であり、特に好ましくは０．３μｍ以上である。

【0072】

バック層１４の平均厚みは以下のようにして求められる。まず、１／２インチ幅の磁気記録媒体１０を準備し、それを２５０ｍｍの長さに切り出し、サンプルを作製する。次に、測定装置としてミツトヨ（Mitutoyo）社製レーザーホロゲージ（LGH-110C）を用いて、サンプルである磁気記録媒体１０の厚みを５点以上で測定し、それらの測定値を単純に平均（算術平均）して、磁気記録媒体１０の平均厚みｔ_T［μｍ］を算出する。なお、測定位置は、サンプルから無作為に選ばれるものとする。続いて、サンプルの磁気記録媒体１０からバック層１４をＭＥＫ（メチルエチルケトン）または希塩酸等の溶剤で除去する。そののち、再び上記のレーザーホロゲージを用い、磁気記録媒体１０からバック層１４を除去したサンプルの厚みを５点以上で測定し、それらの測定値を単純に平均（算術平均）してバック層１４を除去した磁気記録媒体１０の平均厚みｔ_B［μｍ］を算出する。なお、測定位置は、サンプルから無作為に選ばれるものとする。最後に、以下の式よりバック層１４の平均厚みｔ_b［μｍ］を求める。
ｔ_b［μｍ］＝ｔ_T［μｍ］－ｔ_B［μｍ］

【0073】

（磁気記録媒体１０の平均厚み）
磁気記録媒体１０の平均厚み（平均全厚）の上限値は、好ましくは５．６μｍ以下、より好ましくは５．０μｍ以下、特に好ましくは４．６μｍ以下、さらにより好ましくは４．４μｍ以下である。磁気記録媒体１０の平均厚みが５．６μｍ以下であると、１データカートリッジ内に記録できる記録容量を一般的な磁気記録媒体よりも高めることができる。磁気記録媒体１０の平均厚みの下限値は特に限定されるものではないが、例えば３．５μｍ以上である。

【0074】

磁気記録媒体１０の平均厚みｔＴは以下のようにして求められる。まず、１／２インチ幅の磁気記録媒体１０を準備し、それを２５０ｍｍの長さに切り出し、サンプルを作製する。次に、測定装置としてMitutoyo社製レーザーホロゲージ（LGH-110C）を用いて、サンプルの厚みを５点以上の位置で測定し、それらの測定値を単純に平均（算術平均）して、平均値ｔＴ［μｍ］を算出する。なお、測定位置は、サンプルから無作為に選ばれるものとする。

【0075】

（比Ｈｒｐ／Ｈｃ）
さらに、磁気記録媒体１０の膜面に垂直の方向における垂直方向保磁力Ｈｃ（図３Ａ参照）に対する、パルス磁界を用いて磁気記録媒体１０の膜面に垂直の方向に測定した残留保磁力Ｈｒｐ（図３Ａ参照）の比Ｈｒｐ／Ｈｃが２．０以下であるとよい。比Ｈｒｐ／Ｈｃを所定の範囲内に収めることにより、信号減衰量を改善することができる。すなわち、残留保磁力Ｈｒｐと垂直方向保磁力Ｈｃとの差が小さく、比Ｈｒｐ／Ｈｃが１に近い値を示す磁気記録媒体１０の熱安定性は高い。一方、残留保磁力Ｈｒｐと垂直方向保磁力Ｈｃとの差が大きく、比Ｈｒｐ／Ｈｃの値が１よりも大幅に（例えば２を超える程度に）大きくなる磁気記録媒体１０における熱安定性は低い。比Ｈｒｐ／Ｈｃを２．０以下とすることにより、熱安定性の低下を回避することができ、磁化信号の書き込み易さも確保できる。熱安定性の低下を回避することで、磁気記録媒体１０が周囲の温度の影響を受けやすい不安定な状態になることを抑制し、データの保存性（磁気記録媒体１０の長期信頼性）を改善することができる。なお、比Ｈｒｐ／Ｈｃを２．０以下とするには、例えば３０ｅｍｕ／ｇ以上６０ｅｍｕ／ｇ以下の質量磁化σｓを有する磁性粉を用いて磁性層１３を形成するとよい。本開示のε酸化鉄は、前述のように高い質量磁化σｓを有し、かつ、ε酸化鉄本来の特徴である高い垂直方向保磁力Ｈｃを有することから、微粒子においても高い熱安定性を有することが可能となる。同時に、質量磁化σｓが高いことから、高いＭｓｔ（単位面積当たりの飽和磁化）を確保でき、高い記録再生出力を維持できることになる。すなわち、前述のように、高い熱安定性、すなわち長期信頼性と高い電磁変換特性とを両立することが可能となる。なお、垂直方向保磁力Ｈｃは、２０００Ｏｅ以上６０００Ｏｅ以下であることが望ましく、２５００Ｏｅ以上４５００Ｏｅ以下であることがより望ましい。

【0076】

垂直方向保磁力Ｈｃの測定の際は、磁界を低速度で掃引させながら測定することから、測定中でも周囲の熱の影響を受けて磁性層１３の質量磁化σが変動する。一方、残留保磁力Ｈｒｐの測定は、パルス状の磁界を印加して、一瞬で測定を行う。このため、周囲からの熱の影響が少なり、残留保磁力Ｈｒｐが大きくなると考えられる。熱安定性が高い磁気記録媒体であれば熱による垂直方向保磁力Ｈｃの低下が少ないことから、比Ｈｒｐ／Ｈｃが小さくなると考えられる。これに対し、熱安定性が低い磁気記録媒体の場合、逆の現象が発生し、熱による垂直方向保磁力Ｈｃの低下が大きくなり、比Ｈｒｐ／Ｈｃが大きくなると考えられる。

【0077】

垂直方向保磁力Ｈｃは以下のようにして求められる。まず、磁気記録媒体１０を両面テープを介して３枚重ね合わせた後、φ６．３９ｍｍのパンチで打ち抜くことにより、測定サンプルを作成する。この際に、磁気記録媒体１０の長手方向（走行方向）が認識できるように、磁性を持たない任意のインクでマーキングを行う。そして、ＶＳＭを用いて磁気記録媒体１０の垂直方向（厚み方向）に対応する測定サンプル（磁気記録媒体１０全体）のＭ－Ｈループを測定する。

【0078】

次に、アセトンまたはエタノール等を用いて塗膜、すなわち下地層１２、磁性層１３およびバック層１４などを払拭し、基体１１のみを残すようにする。そして、得られた基体１１を両面テープを介して３枚重ね合わせた後、φ６．３９ｍｍのパンチで打ち抜くことにより、バックグラウンド補正用のサンプル（以下、単に補正用サンプル）を得る。その後、ＶＳＭを用いて基体１１の垂直方向（磁気記録媒体１０の垂直方向）に対応する補正用サンプル（基体１１）のＭ－Ｈループを測定する。

【0079】

測定サンプル（磁気記録媒体１０全体）のＭ－Ｈループおよび補正用サンプル（基体１１）のＭ－Ｈループの測定においては、例えば東英工業製の好感度振動試料型磁力計「ＶＳＭ－Ｐ７－１５型」が用いられる。測定条件は、測定モード：フルループ、最大磁界：１５ｋＯｅ、磁界ステップ：４０ｂｉｔ、Time constant of Locking amp：０．３ｓｅｃ、Waiting time：１ｓｅｃ、ＭＨ平均数：２０とする。

【0080】

２つのＭ－Ｈループが得られた後、測定サンプル（磁気記録媒体１０全体）のＭ－Ｈループから補正用サンプル（基体１１）のＭ－Ｈループを差し引くことでバックグラウンド補正が行われ、バックグラウンド補正後のＭ－Ｈループが得られる。このバックグラウンド補正の計算には、「ＶＳＭＰ７－１５型」に付属されている測定・解析プログラムが用いられる。

【0081】

得られたバックグラウンド補正後のＭ－Ｈループから垂直方向保磁力Ｈｃが求められる。なお、上記のＭ－Ｈループの測定はいずれも、２５℃にて行われるものとする。また、Ｍ－Ｈループを磁気記録媒体１０の垂直方向において測定する際の“反磁界補正”は行わないものとする。なお、この計算には、「ＶＳＭ－Ｐ７－１５型」に付属されている測定・解析プログラムが用いられる。

【0082】

残留保磁力Ｈｒｐは以下のように求められる。測定サンプルは上述の垂直方向保磁力Ｈｃの算出に使用したサンプルと同様のサンプルについて、ハヤマ社製高速応答特性評価装置ＨＲ－ＰＶＳＭ２０を用いて膜面に対して垂直方向に残留磁化曲線を測定する。

【0083】

まず、サンプル全体に約－３９８０ｋＡ／ｍ（約－１５ｋＯｅ）の垂直方向の磁界を印加し、磁界をゼロに戻し残留磁化状態とする。その後、反対方向に約４０．２ｋＡ／ｍ（約５０５Ｏｅ）の磁界を印加し再びゼロに戻し残留磁化量を測定する。この際の印加磁界はパルス幅が１０^-8ｓｅｃのパルス磁界である。その後も同様に、先ほどの印加磁界よりもさらに約４０．２ｋＡ／ｍ大きい磁界を印加しゼロに戻す測定を繰り返し行い、印加磁界に対して残留磁化量をプロットしＤＣＤ曲線を測定する。測定磁界は約２０ｋＯｅまでとする。なお、バックグラウンド補正、反磁界補正は特には行わない。なお、サンプルに印加する磁界の大きさは、印加する電圧を変えることによって変える。そのステップ電圧は１７．５Ｖ（磁界に換算すると約５０５Ｏｅである）である。
主な測定条件を以下に示す。
初期着磁電圧：２２０V（－３９８０ｋＡ／ｍに相当）
測定開始電圧：０V（０Oeに相当）
ステップ電圧：17.5V（約５０５Ｏｅに相当）
最大電圧：３５０V（２０ｋＯｅに相当）
ロックインアンプの待ち時間：１０秒
測定後に保存されるデータから、位相補正を行うことにより、残留磁化曲線が得られる（図５）。図５中でＸ軸を挟んだ２点（点Ｐ１および点Ｐ２）を直線で結び、Ｘ軸と交わる点を残留保磁力Ｈｒｐとして算出する。
磁化量の単位は本来ｅｍｕであるが、上述の高速応答特性評価装置においては、各印加磁界での磁化量は電圧Ｖとして出力され、かつ、当該各印加磁界での磁化量（電圧Ｖ）は、正または負のいずれの値も正の値として出力される。そのため、各印加磁界での位相に応じた補正が必要である。この補正のために、上述の高速応答特性評価装置による出力結果に含まれる位相情報データが用いられる。位相情報データも、各印加磁界での磁化量（電圧Ｖ）と一緒に、各印加磁界について出力される。ある磁界について測定された磁化量（電圧Ｖ）の位相情報データが負の値である場合は、当該測定された磁化量（電圧Ｖ）に「－１」を乗じる必要があり、当該測定された磁化量（電圧Ｖ）に「－１」を乗じて得られた値が、残留磁化曲線を得るために用いられる。当該「－１」を乗じる処理が、上述の位相補正である。
他方で、ある磁界について測定された磁化量（電圧Ｖ）の位相情報データが正の値である場合は、当該測定された磁化量（電圧Ｖ）に「－１」を乗じる必要はなく、測定された磁化量（電圧Ｖ）がそのまま、残留磁化曲線を得るために用いられる。以上の通りにして得られた位相補正後の磁化量（「－１」が乗じられたもの）及び測定された磁化量（「－１」が乗じられていないもの）を、磁界に対してプロットすることによって、図に示されるような残留磁化曲線が得られる。

【0084】

［２－２ 磁気記録媒体１０の製造方法］
次に、上述の構成を有する磁気記録媒体１０の製造方法について説明する。まず、非磁性粉、結着剤および潤滑剤等を溶剤に混練、分散させることにより、下地層形成用塗料を調製する。次に、磁性粉、結着剤および潤滑剤等を溶剤に混練、分散させることにより、磁性層形成用塗料を調製する。次に、結着剤および非磁性粉等を溶剤に混練、分散させることにより、バック層形成用塗料を調製する。磁性層形成用塗料、下地層形成用塗料およびバック層形成用塗料の調製には、例えば、以下の溶剤、分散装置および混練装置を用いることができる。

【0085】

上述の塗料調製に用いられる溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、乳酸エチル、エチレングリコールアセテート等のエステル系溶媒、ジエチレングリコールジメチルエーテル、２－エトキシエタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、適宜混合して用いてもよい。

【0086】

上述の塗料調製に用いられる混練装置としては、例えば、連続二軸混練機、多段階で希釈可能な連続二軸混練機、ニーダー、加圧ニーダー、ロールニーダー等の混練装置を用いることができるが、特にこれらの装置に限定されるものではない。また、上述の塗料調製に用いられる分散装置としては、例えば、ロールミル、ボールミル、横型サンドミル、縦型サンドミル、スパイクミル、ピンミル、タワーミル、パールミル（例えばアイリッヒ社製「ＤＣＰミル」等）、ホモジナイザー、超音波分散機等の分散装置を用いることができるが、特にこれらの装置に限定されるものではない。

【0087】

次に、下地層形成用塗料を基体１１の一方の主面１１Ａに塗布して乾燥させることにより、下地層１２を形成する。続いて、この下地層１２上に磁性層形成用塗料を塗布して乾燥させることにより、磁性層１３を下地層１２上に形成する。なお、乾燥の際に、例えばソレノイドコイルにより、磁性粉を基体１１の厚み方向に磁場配向させることが好ましい。また、乾燥の際に、例えばソレノイドコイルにより、磁性粉を基体１１の走行方向（長手方向）に磁場配向させたのちに、基体１１の厚み方向に磁場配向させるようにしてもよい。このような磁場配向処理をすることで、磁性粉の垂直配向度（すなわち角形比Ｓ１）を向上することができる。磁性層１３の形成後、バック層形成用塗料を基体１１の他方の主面１１Ｂに塗布して乾燥させることにより、バック層１４を形成する。これにより、磁気記録媒体１０が得られる。

【0088】

その後、得られた磁気記録媒体１０にカレンダー処理を行い、磁性層１３の表面１３Ｓを平滑化する。次に、カレンダー処理が施された磁気記録媒体１０をロール状に巻き取ったのち、この状態で磁気記録媒体１０に加熱処理を行うことにより、バック層１４の表面１４Ｓの多数の突部を磁性層１３の表面１３Ｓに転写する。これにより、磁性層１３の表面１３Ｓに多数の凹みが形成される。

【0089】

加熱処理の温度は、５０℃以上８０℃以下であることが好ましい。加熱処理の温度が５０℃以上であると、良好な転写性を得ることができる。一方、加熱処理の温度が８０℃以下であると、細孔量が多くなりすぎ、磁性層１３の表面１３Ｓの潤滑剤が過多になってしまうおそれがある。ここで、加熱処理の温度は、磁気記録媒体１０を保持する雰囲気の温度である。

【0090】

加熱処理の時間は、１５時間以上４０時間以下であることが好ましい。加熱処理の時間が１５時間以上であると、良好な転写性を得ることができる。一方、加熱処理の時間が４０時間以下であると、生産性の低下を抑制することができる。

【0091】

また、加熱処理の際に磁気記録媒体１０に対して付与する圧力の範囲は１５０ｋｇ／ｃｍ以上４００ｋｇ／ｃｍ以下であるとよい。

【0092】

最後に、磁気記録媒体１０を所定の幅（例えば１／２インチ幅）に裁断する。以上に
より、目的とする磁気記録媒体１０が得られる。

【0093】

［２－３ 効果］
このように、本実施の形態の磁気記録媒体１０は、基体１１と下地層１２と磁性層１３とバック層１４とが順に積層されたテープ状の部材であり、以下の＜１＞から＜３＞の各構成要件を満たすようにしたものである。
＜１＞磁性層１３がε酸化鉄を含む磁性粉を有する。
＜２＞膜面に垂直の方向における垂直方向保磁力（Ｈｃ）に対する、パルス磁界を用いて磁気記録媒体１０の垂直方向に測定した残留保磁力（Ｈｒｐ）の比（Ｈｒｐ／Ｈｃ）が２．０以下である。
＜３＞単位面積当りの飽和磁化（Ｍｓｔ）が４．５ｍＡ以上である磁性層を有する。

【0094】

本実施の形態の磁気記録媒体１０は、このような構成を有することにより、記録密度を高めた場合であっても優れた電磁変換特性と高い長期信頼性とを実現することができる。磁気記録媒体１０は、例えば磁性層１３が、例えばＣｏおよびＺｒが添加されたε酸化鉄を含有する磁性粉を有することにより、上述の構成要件を満たしている。ＣｏおよびＺｒが添加されたε酸化鉄を含有する磁性粉は高い垂直方向保磁力Ｈｃと質量磁化σｓとを有する。そのため、そのような磁性粉を使用した磁気記録媒体１０は、優れた電磁変換特性と高い長期信頼性との両立を実現することができる。

【0095】

＜３．変形例＞
（変形例１）
上記の一実施の形態では、２層構造のシェル部２２を有するε酸化鉄粒子２０（図４）を例示して説明したが、本技術の磁気記録媒体は、例えば図６に示したように、単層構造のシェル部２３を有するε酸化鉄粒子２０Ａを含むようにしてもよい。ε酸化鉄粒子２０Ａにおけるシェル部２３は、例えば第１シェル部２２ａと同様の構成を有する。但し、特性劣化を抑制する観点においては、変形例１のε酸化鉄粒子２０Ａよりも上記の一実施の形態で説明した２層構造のシェル部２２を有するε酸化鉄粒子２０が好ましい。

【0096】

（変形例２）
磁気記録媒体１０は、例えば図７に示したように、基体１１の少なくとも一方の表面に設けられたバリア層１５をさらに備えるようにしてもよい。バリア層１５は、基体１１が有する環境に応じた寸法変化を抑制するための層である。例えば、その寸法変化を及ぼす原因の一例として、基体１１の吸湿性があるが、バリア層１５を設けることにより基体１１への水分の侵入速度を低減することができる。バリア層１５は、例えば、金属または金属酸化物を含む。ここでいう金属としては、例えば、Ａｌ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｙ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｂａ、Ｐｔ、ＡｕおよびＴａのうちの少なくとも１種を用いることができる。金属酸化物としては、例えば、上記金属を１種または２種以上含む金属酸化物を用いることができる。より具体的には例えば、Ａｌ₂Ｏ₃、ＣｕＯ、ＣｏＯ、ＳｉＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₅およびＺｒＯ₂のうちの少なくとも１種を用いることができる。また、バ
リア層１５が、ダイヤモンド状炭素（Diamond-Like Carbon：ＤＬＣ）またはダイヤモン
ド等を含むようにしてもよい。

【0097】

バリア層１５の平均厚みは、好ましくは２０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下、より好ましくは５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下である。バリア層１５の平均厚みは、磁性層１３の平均厚みと同様にして求められる。但し、ＴＥＭ像の倍率は、バリア層１５の厚みに応じて適宜調整される。

【実施例】

【0098】

以下、実施例により本開示を具体的に説明するが、本開示は以下の実施例のみに限定されるものではない。

【0099】

以下の実施例および比較例において、磁性層１３の単位面積当りの飽和磁化Ｍｓｔ、Ｍ－Ｈループ、垂直方向保磁力Ｈｃ、磁性層１３の質量磁化σｓ、磁性層１３の平均厚み、磁性粉の平均粒子サイズ、残留保磁力Ｈｒｐ、ならびに磁性層１３における面内Ｘ線回折（Ｃｕ管球）により測定される回折パターンにおける第１ピークおよび第２ピークの位置については、上述の一実施形態にて説明した測定方法により求められた値である。

【0100】

［実施例１］
実施例１としての磁気記録媒体を以下のようにして得た。

【0101】

＜磁性層形成用塗料の調製工程＞
磁性層形成用塗料を以下のようにして調製した。まず、下記配合の第１組成物をエクストルーダで混練した。次に、ディスパーを備えた攪拌タンクに、混練した第１組成物と、下記配合の第２組成物を加えて予備混合を行った。続いて、さらにサンドミル混合を行い、フィルター処理を行い、磁性層形成用塗料を調製した。

【0102】

（第１組成物）
第１組成物における各構成要素および重量は以下の通りである。
・ε酸化鉄粒子の粉末（Ｃｏ［ａｔ％］／Ｆｅ［ａｔ％］＝０．１４、Ｚｒ［ａｔ％］／Ｆｅ［ａｔ％］＝０．０５、球状、平均アスペクト比１．１、平均粒子サイズ１６ｎｍ、粒子体積２１５０ｎｍ³、質量磁化σｓは３９ｅｍｕ／ｇ）：１００質量部
・塩化ビニル系樹脂：４２質量部 （溶剤含む）
（樹脂溶液：樹脂分３０質量％、シクロヘキサノン７０質量％）
（重合度３００、Ｍｎ＝１００００、極性基としてＯＳＯ₃Ｋ＝０．０７ｍｍｏｌ／ｇ、２級ＯＨ＝０．３ｍｍｏｌ／ｇを含有する。）
・酸化アルミニウム粉末：５質量部（α－Ａｌ₂Ｏ₃、平均粒径０．１μｍ）
・カーボンブラック（東海カーボン社製、商品名：シーストＴＡ）：２質量部

【0103】

（第２組成物）
第２組成物における各構成要素および重量は以下の通りである。
・塩化ビニル系樹脂：３質量部（溶液含む）
（樹脂溶液：樹脂分３０質量％、シクロヘキサノン７０質量％）
・脂肪酸エステルとしてｎ－ブチルステアレート：２質量部
・メチルエチルケトン：１２１．３質量部
・トルエン：１２１．３質量部
・シクロヘキサノン：６０．７質量部

【0104】

上述のようにして調製した磁性層形成用塗料に、硬化剤としてポリイソシアネート（商品名：コロネートＬ、東ソー株式会社製）：４質量部と、脂肪酸としてステアリン酸：２質量部とを添加した。

【0105】

＜下地層形成用塗料の調製工程＞
下地層形成用塗料を以下のようにして調製した。まず、下記配合の第３組成物をエクストルーダで混練した。次に、ディスパーを備えた攪拌タンクに、混練した第３組成物と、下記配合の第４組成物を加えて予備混合を行った。続いて、さらにサンドミル混合を行い、フィルター処理を行い、下地層形成用塗料を調製した。

【0106】

（第３組成物）
第３組成物における各構成要素および重量は以下の通りである。
・針状酸化鉄粉末（α－Ｆｅ₂Ｏ₃、平均長軸長０．１５μｍ）：１００質量部
・塩化ビニル系樹脂（樹脂溶液：樹脂分３０質量％、シクロヘキサノン７０質量％）：６０.６質量部（溶液含む）
・カーボンブラック（平均粒径２０ｎｍ）：１０質量部

【0107】

（第４組成物）
第４組成物における各構成要素および重量は以下の通りである。
・ポリウレタン系樹脂ＵＲ８２００（東洋紡績製）：１８．５質量部
・脂肪酸エステルとしてｎ－ブチルステアレート：２質量部
・メチルエチルケトン：１０８．２質量部
・トルエン：１０８．２質量部
・シクロヘキサノン：１８．５質量部

【0108】

上述のようにして調製した下地層形成用塗料に、硬化剤としてポリイソシアネート（商品名：コロネートＬ、東ソー株式会社製）：４質量部と、脂肪酸としてステアリン酸：２質量部とを添加した。

【0109】

＜バック層形成用塗料の調製工程＞
バック層形成用塗料を以下のようにして調製した。下記原料を、ディスパーを備えた攪拌タンクで混合を行い、フィルター処理を行うことで、バック層形成用塗料を調製した。・小粒径のカーボンブラックの粉末（平均粒径（Ｄ５０）２０ｎｍ）：９０質量部
・大粒径のカーボンブラックの粉末（平均粒径（Ｄ５０）２７０ｎｍ）：１０質量部
・ポリエステルポリウレタン（東ソー株式会社製、商品名：Ｎ－２３０４）：１００質量部
・メチルエチルケトン：５００質量部
・トルエン：４００質量部
・シクロヘキサノン：１００質量部

【0110】

＜塗布工程＞
上述のようにして調製した磁性層形成用塗料および下地層形成用塗料を用いて、非磁性支持体である平均厚み４．０μｍの長尺のポリエステルフィルムの一方の主面上に、カレンダー後に平均厚み０．６μｍの下地層、および平均厚み８０ｎｍの磁性層になるように以下のようにして形成した。まず、ポリエステルフィルムの一方の主面上に下地層形成用塗料を塗布、乾燥させることにより、下地層を形成した。次に、下地層上に磁性層形成用塗料を塗布、乾燥させることにより、磁性層を形成した。なお、磁性層形成用塗料の乾燥の際に、ソレノイドコイルにより、磁性粉をフィルムの厚み方向に磁場配向させた。また、磁性層形成用塗料の乾燥条件（乾燥温度および乾燥時間）を調整し、磁気記録媒体の厚み方向（垂直方向）における保磁力Ｈｃを表１に示す値に設定した。続いて、ポリエステルフィルムの他方の主面上にバック層形成用塗料を塗布、乾燥させることにより、平均厚み０．３μｍのバック層を形成した。

【0111】

＜カレンダー工程および転写工程＞
続いて、カレンダー処理を行い、磁性層の表面を平滑化した。次に、磁性層の表面が平滑化された磁気記録媒体をロール状に巻き取ったのち、その状態のまま磁気記録媒体に６０℃、１０時間の加熱処理を行った。そして、内周側に位置している端部が反対に外周側に位置するように、磁気記録媒体をロール状に巻き直したのち、その状態のまま磁気記録媒体に６０℃、１０時間の加熱処理を再度行った。これにより、バック層の表面の多数の突部が磁性層の表面に転写され、磁性層の表面に多数の凹みが形成された。

【0112】

＜裁断工程＞
上述のようにして得られた磁気記録媒体を１／２インチ（１２．６５ｍｍ）幅に裁断した。これにより、目的とする長尺状の磁気記録媒体（平均厚み５．６μｍ）が得られた。

【0113】

上記のようにして得た実施例１としての磁気記録媒体では、磁性層における単位面積当りの飽和磁化Ｍｓｔが６．１ｍＡであり、比Ｈｒｐ／Ｈｃが１．６７であった。

【0114】

［実施例２］
磁性層形成用塗料の調製工程において、ε酸化鉄粒子の平均粒子サイズを１３ｎｍとした。ε酸化鉄粒子におけるＦｅに対するＣｏの存在比率をモル比でＣｏ［ａｔ％］／Ｆｅ［ａｔ％］＝０．１５とした。これにより、ε酸化鉄粒子の質量磁化σｓを４０ｅｍｕ／ｇとした。また、塗布工程において、乾燥条件を調整し、磁気記録媒体の厚み方向（垂直方向）における保磁力Ｈｃと、パルス磁界を用いて測定した残留保磁力Ｈｒｐとを、それぞれ表１に示した値に設定した。これらを除き、他は上記実施例１と同様にして実施例２としての磁気記録媒体を得た。

【0115】

［実施例３］
磁性層形成用塗料の調製工程において、ε酸化鉄粒子の平均粒子サイズを１９ｎｍとした。ε酸化鉄粒子におけるＦｅに対するＣｏの存在比率をモル比でＣｏ［ａｔ％］／Ｆｅ［ａｔ％］＝０．１５とした。これにより、ε酸化鉄粒子の質量磁化σｓを４０ｅｍｕ／ｇとした。また、塗布工程において、乾燥条件を調整し、磁気記録媒体の厚み方向（垂直方向）における保磁力Ｈｃと、パルス磁界を用いて測定した残留保磁力Ｈｒｐとを、それぞれ表１に示した値に設定した。これらを除き、他は上記実施例１と同様にして実施例３としての磁気記録媒体を得た。

【0116】

［実施例４］
磁性層形成用塗料の調製工程において、ε酸化鉄粒子の平均粒子サイズを１５．５ｎｍとした。また、塗布工程において、乾燥条件を調整し、磁気記録媒体の厚み方向（垂直方向）における保磁力Ｈｃと、パルス磁界を用いて測定した残留保磁力Ｈｒｐとを、それぞれ表１に示した値に設定した。さらに、塗布工程において、磁性層の平均厚みを６０ｎｍとした。これらを除き、他は上記実施例１と同様にして実施例４としての磁気記録媒体を得た。なお、このようにして得た実施例４としての磁気記録媒体では、磁性層における単位面積当りの飽和磁化Ｍｓｔが４．５ｍＡであった。

【0117】

［実施例５］
磁性層形成用塗料の調製工程において、ε酸化鉄粒子の平均粒子サイズを１５．５ｎｍとした。ε酸化鉄粒子におけるＦｅに対するＣｏの存在比率をモル比でＣｏ［ａｔ％］／Ｆｅ［ａｔ％］＝０．０８とした。これにより、ε酸化鉄粒子の質量磁化σｓを２５ｅｍｕ／ｇとした。また、塗布工程において、乾燥条件を調整し、磁気記録媒体の厚み方向（垂直方向）における保磁力Ｈｃと、パルス磁界を用いて測定した残留保磁力Ｈｒｐとを、それぞれ表１に示した値に設定した。これらを除き、他は上記実施例１と同様にして実施例５としての磁気記録媒体を得た。なお、このようにして得た実施例５としての磁気記録媒体では、磁性層における単位面積当りの飽和磁化Ｍｓｔが４．７ｍＡであった。

【0118】

［実施例６］
磁性層形成用塗料の調製工程において、ε酸化鉄粒子におけるＦｅに対するＣｏの存在比率をモル比でＣｏ［ａｔ％］／Ｆｅ［ａｔ％］＝０．２０とした。これにより、ε酸化鉄粒子の質量磁化σｓを５０ｅｍｕ／ｇとした。また、塗布工程において、乾燥条件を調整し、磁気記録媒体の厚み方向（垂直方向）における保磁力Ｈｃと、パルス磁界を用いて測定した残留保磁力Ｈｒｐとを、それぞれ表１に示した値に設定した。これらを除き、他は上記実施例１と同様にして実施例６としての磁気記録媒体を得た。なお、このようにして得た実施例６としての磁気記録媒体では、磁性層における単位面積当りの飽和磁化Ｍｓｔが７．８ｍＡであった。

【0119】

［実施例７］
磁性層形成用塗料の調製工程において、ε酸化鉄粒子の平均粒子サイズを１５．５ｎｍとした。ε酸化鉄粒子におけるＦｅに対するＣｏの存在比率をモル比でＣｏ［ａｔ％］／Ｆｅ［ａｔ％］＝０．２０とした。これにより、ε酸化鉄粒子の質量磁化σｓを２５ｅｍｕ／ｇとした。また、塗布工程において、乾燥条件を調整し、磁気記録媒体の厚み方向（垂直方向）における保磁力Ｈｃと、パルス磁界を用いて測定した残留保磁力Ｈｒｐとを、それぞれ表１に示した値に設定した。これらを除き、他は上記実施例１と同様にして実施例７としての磁気記録媒体を得た。なお、このようにして得た実施例７としての磁気記録媒体では、磁性層における単位面積当りの飽和磁化Ｍｓｔが７．８ｍＡであった。

【0120】

［実施例８］
磁性層形成用塗料の調製工程において、ε酸化鉄粒子の平均粒子サイズを１５．２ｎｍとした。ε酸化鉄粒子におけるＦｅに対するＣｏの存在比率をモル比でＣｏ［ａｔ％］／Ｆｅ［ａｔ％］＝０．１６とした。これにより、ε酸化鉄粒子の質量磁化σｓを４１ｅｍｕ／ｇとした。また、塗布工程において、乾燥条件を調整し、磁気記録媒体の厚み方向（垂直方向）における保磁力Ｈｃと、パルス磁界を用いて測定した残留保磁力Ｈｒｐとを、それぞれ表１に示した値に設定した。これらを除き、他は上記実施例１と同様にして実施例８としての磁気記録媒体を得た。なお、このようにして得た実施例８としての磁気記録媒体では、磁性層における単位面積当りの飽和磁化Ｍｓｔが６．４ｍＡであった。

【0121】

［実施例９］
磁性層形成用塗料の調製工程において、ε酸化鉄粒子の平均粒子サイズを１５．５ｎｍとした。ε酸化鉄粒子におけるＦｅに対するＣｏの存在比率をモル比でＣｏ［ａｔ％］／Ｆｅ［ａｔ％］＝０．２０とした。これにより、ε酸化鉄粒子の質量磁化σｓを５０ｅｍｕ／ｇとした。また、塗布工程において、乾燥条件を調整し、磁気記録媒体の厚み方向（垂直方向）における保磁力Ｈｃと、パルス磁界を用いて測定した残留保磁力Ｈｒｐとを、それぞれ表１に示した値に設定した。これらを除き、他は上記実施例１と同様にして実施例９としての磁気記録媒体を得た。なお、このようにして得た実施例９としての磁気記録媒体では、磁性層における単位面積当りの飽和磁化Ｍｓｔが７．８ｍＡであった。

【0122】

［実施例１０］
磁性層形成用塗料の調製工程において、ε酸化鉄粒子の平均粒子サイズを１５．５ｎｍとした。ε酸化鉄粒子の粉末におけるＦｅに対するＣｏの存在比率をモル比でＣｏ［ａｔ％］／Ｆｅ［ａｔ％］＝０．２０とした。これにより、ε酸化鉄粒子の質量磁化σｓを５０ｅｍｕ／ｇとした。また、塗布工程において、乾燥条件を調整し、磁気記録媒体の厚み方向（垂直方向）における保磁力Ｈｃと、パルス磁界を用いて測定した残留保磁力Ｈｒｐとを、それぞれ表１に示した値に設定した。これらを除き、他は上記実施例１と同様にして実施例１０としての磁気記録媒体を得た。なお、このようにして得た実施例１０としての磁気記録媒体では、磁性層における単位面積当りの飽和磁化Ｍｓｔが５．８ｍＡであった。

【0123】

［実施例１１］
磁性層形成用塗料の調製工程において、ε酸化鉄粒子の平均粒子サイズを１６．２ｎｍとした。また、塗布工程において、乾燥条件を調整し、磁気記録媒体の厚み方向（垂直方向）における保磁力Ｈｃと、パルス磁界を用いて測定した残留保磁力Ｈｒｐとを、それぞれ表１に示した値に設定した。これらを除き、他は上記実施例１と同様にして実施例１１としての磁気記録媒体を得た。なお、このようにして得た実施例１１としての磁気記録媒体では、磁性層における単位面積当りの飽和磁化Ｍｓｔが６．１ｍＡであった。

【0124】

［比較例１］
磁性層形成用塗料の調製工程において、ε酸化鉄粒子にＺｒを添加しなかった。これにより、ε酸化鉄粒子の質量磁化σｓを１５ｅｍｕ／ｇとした。また、程において、乾燥条件を調整し、磁気記録媒体の厚み方向（垂直方向）における保磁力Ｈｃと、パルス磁界を用いて測定した残留保磁力Ｈｒｐとを、それぞれ表１に示した値に設定した。これらを除き、他は上記実施例１と同様にして比較例１としての磁気記録媒体を得た。なお、このようにして得た比較例１としての磁気記録媒体では、磁性層における単位面積当りの飽和磁化Ｍｓｔが２．３ｍＡであった。

【0125】

［比較例２］
磁性層形成用塗料の調製工程において、ε酸化鉄粒子の平均粒子サイズを１５．５ｎｍとした。また、ε酸化鉄粒子にＺｒを添加しなかった。これにより、ε酸化鉄粒子の質量磁化σｓを１６ｅｍｕ／ｇとした。さらに塗布工程において、乾燥条件を調整し、磁気記録媒体の厚み方向（垂直方向）における保磁力Ｈｃと、パルス磁界を用いて測定した残留保磁力Ｈｒｐとを、それぞれ表１に示した値に設定した。これらを除き、他は上記実施例１と同様にして比較例２としての磁気記録媒体を得た。なお、このようにして得た比較例２としての磁気記録媒体では、磁性層における単位面積当りの飽和磁化Ｍｓｔが２．５ｍＡであった。

【0126】

［比較例３］
磁性層形成用塗料の調製工程において、ε酸化鉄粒子の平均粒子サイズを１５．５ｎｍとした。また、ε酸化鉄粒子にＺｒを添加しなかった。これにより、ε酸化鉄粒子の質量磁化σｓを１６ｅｍｕ／ｇとした。さらに塗布工程において、乾燥条件を調整し、磁気記録媒体の厚み方向（垂直方向）における保磁力Ｈｃと、パルス磁界を用いて測定した残留保磁力Ｈｒｐとを、それぞれ表１に示した値に設定した。これらを除き、他は上記実施例１と同様にして比較例３としての磁気記録媒体を得た。なお、このようにして得た比較例３としての磁気記録媒体では、磁性層における単位面積当りの飽和磁化Ｍｓｔが４．７ｍＡであった。

【0127】

［評価］
上述のようにして得られた実施例１～１１および比較例１～３の磁気記録媒体について以下の評価を行った。

【0128】

（ループ閉塞）
Ｍ－Ｈループが、－１５ｋＯｅ以上＋１５ｋＯｅ以下の範囲で閉塞しているかどうかについて確認した。表１では、Ｍ－Ｈループが－１５ｋＯｅ以上＋１５ｋＯｅ以下の範囲で閉塞している場合にはＯＫと表示し、Ｍ－Ｈループが－１５ｋＯｅ以上＋１５ｋＯｅ以下の範囲で閉塞していない場合にはＮＧと表示している。

【0129】

（面内ＸＲＤピーク検出）
面内Ｘ線回折（Ｃｕ管球）による回折パターンにおいて、３２．９°の位置に第１ピークが発現し、３６．６°の位置に第２ピークが発現しているかどうか、について確認した。表１では、３２．９°の位置に第１ピークが発現している場合、および３６．６°の位置に第２ピークが発現している場合にそれぞれＯＫと表示している。

【0130】

（ＳＮＲ）
記録／再生ヘッドおよび記録／再生アンプを取り付けた１／２インチテープ走行装置（Mountain Engineering II社製、MTS Transport）を用いて、２５℃環境における磁気記録媒体のＳＮＲ（電磁変換特性）を測定した。記録ヘッドにはギャップ長０．２μｍのリングヘッドを用い、再生ヘッドにはシールド間距離０．１μｍのＧＭＲヘッドを用いた。相対速度は６ｍ／ｓ、記録クロック周波数は１６０ＭＨｚ、記録トラック幅は２．０μｍとした。また、ＳＮＲは、下記の文献に記載の方法に基づき算出した。その結果を、比較例３のＳＮＲを０ｄＢとする相対値で表１に示した。
Y.Okazaki: ”An Error Rate Emulation System.”,IEEE Trans. Man., 31,pp.3093-3095(1995)

【0131】

（１０年経過後の信号減衰量）
各実施例および各比較例のサンプルについて、以下のようにして１０年経過後の信号減衰量を求めた。具体的には、Micro Physics社製「Tape Head Tester (以下THTとする)」を用いた。記録再生ヘッドにはIBM社製テープドライブ「TS1140」に搭載されているものをそのまま使用した。測定に際して磁気記録媒体としての磁気テープを９０ｃｍの長さに切り取り、磁気テープの記録層が裏になるようにリング状にした後、磁気テープ両端同士を磁気テープ裏面において粘着テープにより接合した。また、その接合部に隣接して、テープ周回位置を検出するための銀テープを貼った。リング状の磁気テープはTHTに取り付けた後、２ｍ／ｓｅｃの速度で周回させた。

【0132】

次に、Tektronix社製信号発生機「ARBITRARY WAVEFORM GENERATOR AWG2021」を用いて発生させた１０MHzの信号を、磁気テープに最適記録電流を用いて、テープ全長一周分だけ記録した。記録に続いて、次の周回からは、テープに記録された信号を連続して再生させ、再生出力を Hewlett Packard社製スペクトラムアナライザー「8591E」にて計測した。尚、この際のスペクトラムアナライザーの設定はRBW：１MHz、VBW：１MHz、SWP：５００msec、point : 400、ゼロスパンモード とした。計測は、十分な記録が行われていない「テープ接合部近傍」を除いた「記録部」のみの間の０．４ｓｅｃ間だけ行い、この間の再生出力の平均値Ｙを計算した。計測はテープ一周毎に行い、其々の周回における再生出力の平均値Ｙを、信号記録終了時（ｔ＝０）からの経過時間における再生出力平均値Ｙ（ｔ）とした。計測は、ｔ＝１００ｓｅｃまで行い、接続したパソコンへと適時送信し、記録させた。

【0133】

上述の測定フローを、同一の磁気テープを用いて４度行い、各測定により得られたＹ（ｔ）値を、同じ経過時間ｔ毎に平均化してＹａｖｅ（ｔ）の数列とした。得られた Ｙａｖｅ（ｔ）をＹ軸、経過時間ｔをＸ軸にとりグラフにプロットし、このグラフから対数近似を用いて近似曲線を作成した。得られた近似曲線を用いて１０年後の信号減衰量を算出した。

【0134】

表１に、各実施例および各比較例における磁気記録媒体の構成および評価結果をまとめて示す。

【0135】

【表1】

【0136】

表１に示したように、実施例１～１１では、面内Ｘ線回折（Ｃｕ管球）による回折パターンにおいて３２．９°の第１ピークおよび３６．６°の第２ピークを発現し、比Ｈｒｐ／Ｈｃが２．０以下であり、酸化鉄を含み、単位面積当りの飽和磁化Ｍｓｔが４．５ｍＡ以上である磁性層を有するようにした。このため、実施例１～１１では、ＳＮＲおよび信号減衰量の双方において良好な結果が得られた。

【0137】

特に、実施例９では、ＳＮＲおよび信号減衰量の双方において極めて良好な結果が得られた。実施例９では、単位面積当りの飽和磁化Ｍｓｔが高いことに加え、パルス磁界を用いて測定した残留保磁力Ｈｒｐも低く抑えられている。このため、磁性層１３に対して記録磁界が書き込み易く、磁性層１３において急峻な磁化反転を形成できているので、良好なＳＮＲが得られていると考えられる。

【0138】

実施例２では、磁性粒子を小さくしたので、より優れたＳＮＲが得られた。また、実施例３では、比較的大きい磁性粒子を用いるようにしたので、信号減衰量において良好な結果が得られた。

【0139】

比較例１では、単位面積当りの飽和磁化Ｍｓｔが４．５ｍＡ未満であるので、ＳＮＲに劣化が見られた。

【0140】

比較例２では、単位面積当りの飽和磁化Ｍｓｔが４．５ｍＡ未満であるうえ、比Ｈｒｐ／Ｈｃが２．０を超えているので、ＳＮＲが不十分であった。また、１０年経過後の信号減衰量についても劣化が見られた。

【0141】

比較例３では、比Ｈｒｐ／Ｈｃが２．０を超えており、磁性層の平均厚みも比較的厚いので、ＳＮＲが不十分であった。また、１０年経過後の信号減衰量についても劣化が見られた。

【0142】

以上、実施の形態およびその変形例を挙げて本開示を具体的に説明したが、本開示は上記実施の形態等に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。

【0143】

例えば、上述の実施形態およびその変形例において挙げた構成、方法、工程、形状、材料および数値等はあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる構成、方法、工程、形状、材料および数値等を用いてもよい。具体的には、本開示の磁気記録媒体は、基体、下地層、磁性層、バック層およびバリア層以外の構成要素を含んでいてもよい。また、化合物等の化学式は代表的なものであって、同じ化合物の一般名称であれば、記載された価数等に限定されない。

【0144】

また、上述の実施形態およびその変形例の構成、方法、工程、形状、材料および数値等は、本開示の主旨を逸脱しない限り、互いに組み合わせることが可能である。

【0145】

また、本明細書において段階的に記載された数値範囲において、ある段階の数値範囲の上限値または下限値は、他の段階の数値範囲の上限値または下限値に置き換えてもよい。本明細書に例示した材料は、特に断らない限り、１種を単独で用いることができるし、２種以上を組み合わせて用いることもできる。

【0146】

以上説明したように、本開示の一実施形態としての磁気記録媒体によれば、電磁変換特性の向上と高い長期信頼性の確保との両立が実現可能である。
なお、本開示の効果はこれに限定されるものではなく、本明細書に記載のいずれの効果であってもよい。また、本技術は以下のような構成を取り得るものである。
（１）
磁性層および基体を有する磁気記録媒体であって、
前記磁性層はε酸化鉄を含む磁性粉を有し、
前記磁気記録媒体の垂直方向保磁力（Ｈｃ）に対する、パルス磁界を用いて前記磁気記録媒体の垂直方向に測定した残留保磁力（Ｈｒｐ）の比（Ｈｒｐ／Ｈｃ）が２．０以下であり、
前記磁気記録媒体の単位面積当りの飽和磁化（Ｍｓｔ）が４．５ｍＡ以上である
磁気記録媒体。
（２）
面内Ｘ線回折（Ｃｕ管球）による回折パターンにおいて３２．９°の第１ピークおよび３６．６°の第２ピークを発現する
上記（１）記載の磁気記録媒体。
（３）
前記磁性層の平均厚みは、８０ｎｍ以下である
上記（１）記載の磁気記録媒体。
（４）
前記垂直方向保磁力は、２０００Ｏｅ以上６０００Ｏｅ以下である
上記（１）から（３）のいずれか１つに記載の磁気記録媒体。
（５）
前記垂直方向保磁力は、２５００Ｏｅ以上４５００Ｏｅ以下である
上記（１）から（３）のいずれか１つに記載の磁気記録媒体。
（６）
前記磁性粉の質量磁化は、３０ｅｍｕ／ｇ以上６０ｅｍｕ／ｇ以下である
上記（１）から（５）のいずれか１つに記載の磁気記録媒体。
（７）
前記磁性粉の平均粒子径は、２０ｎｍ以下である
上記（１）から（６）のいずれか１つに記載の磁気記録媒体。
（８）
前記ε酸化鉄は、ジルコニウム（Ｚｒ）およびコバルト（Ｃｏ）を含有する
上記（１）から（７）のいずれか１つに記載の磁気記録媒体。
（９）
前記磁性層における磁化と磁場との関係を表す磁化曲線（Ｍ－Ｈループ）は、－１５ｋＯｅ以上＋１５ｋＯｅ以下の範囲で閉塞している
上記（１）から（８）のいずれか１つに記載の磁気記録媒体。
（１０）
前記ε酸化鉄における鉄（Ｆｅ）とコバルトとを合わせた原子％を１００としたときのコバルトのモル比は、３原子％以上２０原子％以下である
上記（８）記載の磁気記録媒体。
（１１）
前記ε酸化鉄における鉄（Ｆｅ）とジルコニウムとを合わせた原子％を１００としたときのジルコニウムのモル比は、１原子％以上８原子％以下である
上記（８）記載の磁気記録媒体。

【0147】

本出願は、日本国特許庁において２０２０年１月２１日に出願された日本特許出願番号２０２０－００７８３２号を基礎として優先権を主張するものであり、この出願のすべての内容を参照によって本出願に援用する。

【0148】

当業者であれば、設計上の要件や他の要因に応じて、種々の修正、コンビネーション、サブコンビネーション、および変更を想到し得るが、それらは添付の請求の範囲やその均等物の範囲に含まれるものであることが理解される。

【図1】

【図2】

【図3A】

【図3B】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】