特許 7592959 ＲＦパルス化電子ビームベースのＳＴＥＭのためのシステムおよび方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-11-25

(45)【発行日】2024-12-03

(54)【発明の名称】ＲＦパルス化電子ビームベースのＳＴＥＭのためのシステムおよび方法

(51)【国際特許分類】

   H01J 37/147 20060101AFI20241126BHJP

   H01J 37/28 20060101ALI20241126BHJP

   H01J 37/244 20060101ALI20241126BHJP

   G01N 23/04 20180101ALI20241126BHJP

【ＦＩ】

H01J37/147 A

H01J37/28 C

H01J37/244

G01N23/04 330

【請求項の数】 18

【外国語出願】

(21)【出願番号】P 2021127667

(22)【出願日】2021-08-03

(65)【公開番号】P2022031205

(43)【公開日】2022-02-18

【審査請求日】2024-06-04

(31)【優先権主張番号】16/985811

(32)【優先日】2020-08-05

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

【早期審査対象出願】

(73)【特許権者】

【識別番号】501233536

【氏名又は名称】エフ イー アイ カンパニ

【氏名又は名称原語表記】ＦＥＩ ＣＯＭＰＡＮＹ

(74)【代理人】

【識別番号】100107766

【弁理士】

【氏名又は名称】伊東 忠重

(74)【代理人】

【識別番号】100070150

【弁理士】

【氏名又は名称】伊東 忠彦

(74)【代理人】

【識別番号】100135079

【弁理士】

【氏名又は名称】宮崎 修

(72)【発明者】

【氏名】エリック レーン キーフト

(72)【発明者】

【氏名】ベルト へニング フレイタグ

【審査官】佐藤 海

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１８－１３７１６０（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１８－０８８４０２（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１８－０８８３９３（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１７－１５２３６６（ＪＰ，Ａ）

【文献】国際公開第２０１９／１０２６０３（ＷＯ，Ａ１）

【文献】特開２０１５－１３５８３３（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平１０－０９３４２５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開昭５９－１０５２５６（ＪＰ，Ａ）

【文献】特公昭４９－０２９０９１（ＪＰ，Ｂ１）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｈ０１Ｊ ３７／００－３７／３６

Ｇ０１Ｎ ２３／０４

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

方法であって、
ＲＦ波で電子ビームをパルス化して、パルス周期を有するパルス化電子ビームを形成することと、
複数の場所でサンプルと相互作用するように前記パルス化電子ビームを移動させることであって、前記複数の場所の各々における前記相互作用が、滞在時間の間発生する、移動させることと、
前記電子ビームの前記パルス化および並進に基づいて、前記パルス化電子ビームの前記サンプルとの前記相互作用のデータ取得を同期させることであって、前記滞在時間が、前記パルス周期の派生的周波数情報に基づく、同期させることと、を含み、
前記ＲＦ波が、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）における交差面で形成される、
方法。

【請求項2】

前記パルス化および前記並進に基づいて、前記電子ビームのデータ取得を前記サンプルと同期させることが、前記複数の場所の各場所で、同数の電子ビームパルスを提供することを含む、請求項１に記載の方法。

【請求項3】

前記滞在時間が、パルス周期の整数倍に等しい、請求項１に記載の方法。

【請求項4】

前記パルス周期の前記派生的周波数情報が、複数のパルス周期を含む、請求項１に記載の方法。

【請求項5】

前記データ取得の前記同期化が、ＲＦ電子機器からの制御信号に基づいており、前記ＲＦ電子機器が、前記ＲＦ波を制御する、請求項１に記載の方法。

【請求項6】

前記ＲＦ電子機器によって制御されるＲＦキャビティが、前記ＲＦ波を形成する、請求項５に記載の方法。

【請求項7】

前記交差面が、ガンレンズと前記ＴＥＭのコンデンサシステムとの間に形成される、請求項１に記載の方法。

【請求項8】

前記交差が、前記ガンレンズによって形成される、請求項７に記載の方法。

【請求項9】

前記ＴＥＭが、走査モードで動作している、請求項１に記載の方法。

【請求項10】

前記パルス化電子ビームが、５０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲でパルス化される、請求項１に記載の方法。

【請求項11】

装置であって、
光軸に沿って電子ビームを提供するための電子エミッタと、
開口を含む高周波（ＲＦ）キャビティであって、前記光軸が前記開口を通って延在するように配置された、ＲＦキャビティと、
前記電子ビームを偏向させるように結合された偏向器と、
少なくとも前記ＲＦキャビティおよび前記偏向器に結合されたコントローラであって、
前記コントローラが、前記コントローラによって実行されるとき、前記コントローラに、
前記ＲＦキャビティ内にＲＦ波を確立することであって、前記ＲＦ波が、パルス周期を有するパルス化電子ビームを生成する、確立することと、
前記偏向器を使用して前記パルス化電子ビームを移動させることであって、移動する前記パルス化電子ビームが、滞在時間の間、複数の場所の各場所でサンプルと相互作用する、移動させることと、
前記電子ビームの前記パルス化および前記移動に基づいて、前記パルス化電子ビームの前記サンプルとの前記相互作用のデータ取得を同期させることであって、前記滞在時間が、前記パルス周期の派生的周波数情報に基づく、同期させることと、を行わせる、コードを含む、非一時的な機械可読媒体を含み、または非一時的な機械可読媒体と結合する、コントローラと、を含み、
前記ＲＦ波が、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）における交差面で形成される、
装置。

【請求項12】

前記パルス化電子ビームと前記サンプルとの前記相互作用のデータ取得を同期させるための前記コードが、前記コントローラによって実行されるとき、前記コントローラに、前記複数の場所の各場所で、同数の電子ビームパルスを提供させるコードをさらに含む、請求項１１に記載の装置。

【請求項13】

前記パルス周期の前記派生的周波数情報が、複数のパルス周期を含む、請求項１１に記載の装置。

【請求項14】

前記交差面で形成される、前記電子ビームの交差が、前記ＴＥＭのガンレンズによって形成される、請求項１１に記載の装置。

【請求項15】

前記ＴＥＭが、走査モードで動作している、請求項１１に記載の装置。

【請求項16】

ＲＦ波を確立するための前記コードが、前記コントローラによって実行されるとき、前記コントローラに、前記ＲＦキャビティ内に２つのＲＦ波を確立させるコードをさらに含む、請求項１１に記載の装置。

【請求項17】

前記パルス化電子ビームが、５０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲でパルス化される、請求項１１に記載の装置。

【請求項18】

明視野検出器、環状暗視野検出器、および高角度環状暗視野検出器をさらに含む、請求項１１に記載の装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、概して、荷電粒子顕微鏡学、具体的には、パルス化ビーム荷電粒子顕微鏡学に関する。

【背景技術】

【0002】

非導電性サンプルの電子顕微鏡分析は、電荷の蓄積が引き起こす可能性のある損傷および画像化の影響に起因して、典型的に困難である。例えば、電子ビームによって引き起こされる荷電および放電事象に起因するサンプルの移動は、画質の低下をもたらす。追加的に、生物学的材料などの柔らかい材料は、電子ビームへの曝露に起因して損傷を受ける可能性があり、これにより、画像化および後続の分析が制限され得る。かかる問題を解決するための試みがなされてきたが、これまでの試みは、独自の欠点を有する。かかる試みは、低減された全体的な電子線量、線量率の低減、および極低温電子顕微鏡法を含む。線量および／または線量率を低減させることは、ノイズの多い画像および長い取得時間につながる可能性があり、一方で極低温電子顕微鏡法は、複数のレベルの複雑さおよびコストが加わる。既知の技術を考慮しても、非導電性材料を画像化するための新規の技術が、所望される。

【発明の概要】

【0003】

本明細書に開示されるのは、電子ビームをパルス化し、パルス化された電子ビームを、複数の走査場所においてサンプルを走査することと同期させるためのシステムおよび方法である。例示的な方法は、少なくとも、高周波キャビティで、電子ビームをパルス化して、パルス周期を有するパルス化電子ビームを形成することと、パルス化電子ビームを移動させて、複数の場所でサンプルと相互作用させることであって、複数の場所の各々における相互作用が滞在（dwell）時間の間発生する、相互作用させることと、電子ビームのパルス化および並進に基づいて、パルス化電子ビームとサンプルとの相互作用のデータ取得を同期させることと、を含み、滞在（dwell）時間は、パルス周期の派生物（derivative）に基づく。

【0004】

電子ビームをパルス化し、パルス化電子ビームを複数の走査場所において、サンプルを走査することと同期させるための例示的なシステムは、少なくとも、光軸に沿って電子ビームを提供するための電子エミッタと、開口を含むＲＦキャビティであって、光軸が開口を通って延在するように配置された、ＲＦキャビティと、電子ビームを偏向するために結合された偏向器と、少なくともＲＦキャビティおよび偏向器に結合されたコントローラと、を含む。コントローラは、コントローラによって実行されるとき、コントローラに、ＲＦキャビティ内にＲＦ波を確立することであって、ＲＦ波が、パルス周期を有するパルス化電子ビームを生成する、確立することと、偏向器を使用してパルス化電子ビームを移動させることであって、移動するパルス化電子ビームが、滞在（dwell）時間の間、複数の場所の各場所でサンプルと相互作用する、移動させることと、電子ビームのパルス化および移動に基づいて、パルス化電子ビームのサンプルとの相互作用のデータ取得を同期させることであって、滞在（dwell）時間が、パルス周期の派生物（derivative）に基づく、同期させることと、を行わせる、コードを含む、非一時的な機械可読媒体を含み、または非一時的な機械可読媒体と結合する。

【図面の簡単な説明】

【0005】

【図1】本開示の一実施形態によるＳＴＥＭシステムである。

【図2】本開示の一実施形態による電子顕微鏡の一部の例示的な図である。

【図3】本開示の一実施形態による、例示的な方法である。

【図4】いくつかのサンプル場所におけるパルス周期と滞在（dwell）時間との関係の図解である。

【図5】本開示の一実施形態による、例示的な機能的ブロック図である。

【0006】

同様の参照番号は、図面のいくつかの図を通して対応する部分を指す。

【発明を実施するための形態】

【0007】

本発明の実施形態は、サンプル走査が、パルス化電子ビームのパルス速度に同期されるパルス化電子ビームを生成する電子顕微鏡の文脈内で以下に説明される。いくつかの実施形態では、電子顕微鏡は、走査透過電子顕微鏡である。サンプルの走査は、パルス速度に同期され、そのため同数のパルスが、各走査場所でサンプルに適用される。しかしながら、本明細書に記載の方法は一般に、コーンビームシステムおよびパラレルビームシステムの両方を含む広範囲の異なる断層撮影の方法および装置に適用可能であり、特定の装置タイプ、ビームタイプ、対象物タイプ、長さスケール、または走査軌道に限定されないことを理解すべきである。

【0008】

本出願および特許請求の範囲において使用される、「ａ」、「ａｎ」、および「ｔｈｅ」という単数形は、文脈上他に明確に指示されない限り、複数形も含む。追加的に、「含む」という用語は、「備える」を意味する。さらに、「結合された」という用語は、結合された項目間の中間要素の存在を排除するものではない。

【0009】

本明細書に記載のシステム、装置、および方法は、多少なりとも制限的なものとして解釈されるべきではない。代替的に、本開示は、単独で、ならびに相互の様々な組み合わせおよび部分的な組み合わせにおいて、様々な開示された実施形態のすべての新規でかつ非自明な特徴および態様を対象とする。開示されたシステム、方法、および装置は、任意の特定の態様もしくは特徴またはそれらの組み合わせに限定されず、開示されたシステム、方法、および装置は、任意の１つ以上の特定の利点が存在すべきである、または問題が解決されるべきであることも必要としない。いずれの動作理論も説明を容易にするためであるが、開示されたシステム、方法、および装置は、そのような動作理論に限定されない。

【0010】

開示された方法のいくつかの動作は、便宜的な提示のため、特定の順番で記載されているが、以下に記載される具体的な用語によって特定の順序が要求されない限り、この説明様式が並び替えを包含することを理解されたい。例えば、順に記載される動作は、場合によっては、並び替えられるかまたは同時に実施され得る。さらに、単純化のために、添付の図は、開示されたシステム、方法、および装置を、他のシステム、方法、および装置とともに使用することができる様々な方式を示していない場合がある。追加的に、本説明は、時に、開示された方法を説明するために、「生成する」および「提供する」のような用語を使用する。これらの用語は、実施される実際の動作の高レベルの抽象化である。これらの用語に対応する実際の動作は、特定の実施に応じて、様々であり、当業者には容易に認識可能である。

【0011】

いくつかの例では、値、手順、または装置は、「最低」、「最良」、「最小」などと呼ばれる。そのような記載は、多くの使用される機能的選択肢からの選択が可能であることを示すことを意図しており、そのような選択は、他の選択よりも優れている、小さい、または他の点で望ましい必要はないことが理解されよう。

【0012】

透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）、走査型ＴＥＭ（ＳＴＥＭ）などの電子顕微鏡（ＥＭ）を使用する、生物学的サンプルを含む非導電性サンプルの分析は、サンプル材料自体に起因して妨げられる可能性がある。例えば、ＥＭ環境内の非導電性サンプルは、衝突する電子ビームに起因して電荷を蓄積する。しかしながら、かかる電荷の蓄積は、荷電および放電事象によるサンプルのドリフトに起因して、取得された画像の品質を低下させる。かかる電荷の蓄積はまた、電子ビームの経路にも影響を及ぼし、画質に影響を与える。生体サンプルに関して、電荷の蓄積の問題があるだけでなく、電子ビームの照射もまた、サンプルに損傷を与える可能性がある。これらの問題は、すべて画像の質の低下につながり、画像ベース分析の質の低下をもたらし得る。

【0013】

上記のように、これらの問題を解決するために従来の試みが行われているが、それらの試みは、他の望ましくない問題をもたらす。例えば、全体的な線量送達（線量は所与の場所でサンプルに提供される電荷の量および／または合計）を制限することは、電荷および損傷の影響を低減または排除し得るが、また信号比への少ないノイズに起因して、画質の低下をもたらす可能性もある。別の例は、線量送達、例えば、電子ビームがサンプルに電子を提供する速度の減少であるが、そのような画像化戦略は、取得時間の増加をもたらす。このような時間の増加は、非常に望ましくない。クライオＥＭの使用に関しては、サンプル調製および顕微鏡の両方が、大きく影響を受ける。まず、サンプルは、極低温で冷却されなければならず、これは生物学的サンプルでは扱いにくい場合があり、顕微鏡は、極低温冷却段を含めなければならず、顕微鏡が複雑になり、コストが増加する。クライオＥＭは、高品質の画像を提供することができるが、このようなサンプル調製およびコストの増加は、多くの使用ケースにおいて所望されない。そのため、非導電性および生物学的サンプルに対処するための新しい技術が、所望される。

【0014】

１つの解決策は、サンプルを調査するために使用される電子ビームを一時的に構造化することである。電子ビームを一次的に構造化するための１つの技術は、電子ビームをパルス化することである。研究によると、一時的に構造化された照明は、単に線量率および／または全体の線量を低減するだけでなく、損傷メカニズムを低減することに有益な影響を有する可能性があることが示される。例えば、生体サンプルを含む非導電性サンプルをパルス化電子ビームで照射するとき、画像の荷電／放電の不安定性（例えば、ＳＴＥＭ画像内のジャンプ）を回避できることが示される。

【0015】

電子ビームのパルス化は、高周波（ＲＦ）キャビティ、光電子誘導電子エミッタ、高速ビームブランキング、およびそれらの組み合わせを使用することなど、様々な方法で達成することができる。ＲＦキャビティの場合、キャビティ内に確立された１つ以上のＲＦ波は、通過する電子ビームを出力開口全体に掃引して、電子パルスを生成する。電子ビームが開口と位置合わせされるとき、電子ビームは、経路に沿って続くが、ＲＦ波が開口から離れる方向に掃引するとき、開口から出ることを停止する。電子ビームをＲＦ波または複数のＲＦ波で移動させるこのプロセスは、所望の周波数およびデューティサイクルのパルス周期を生成することができる。電子ビームパルスの周波数とＲＦ波の周波数との間の関係は、１対１である必要はないが、可能である。例えば、１つの電子ビームパルスは、１つのＲＦ波周期に対して形成され得る。代替的に、１つのＲＦ波周期当たり、２つの電子ビームパルスが形成されてもよい。キャビティ内に複数のＲＦ波、例えば、２つ、を同時に含む実施形態では、存在するＲＦ周波数の派生物（derivative）は、電子ビームパルスの周波数を生成する。かかる実施形態では、派生物（derivative）は、周波数の差または周波数の倍数を含み得る。前述のように、ビームのパルス化は、サンプルの損傷および荷電の影響を低減することに役立ち、線量の低減に起因する画質を改善させる。

【0016】

画質をさらに改善させるために、電子ビームのパルスは、サンプルの走査と同期させることができる。かかる同期は、同数の電子ビームパルスが各走査場所、例えば、ピクセルに送達されることをもたらすことができる。例えば、滞在（dwell）時間、例えば、電子ビームが各走査場所に方向付けられる時間は、同期させることができ、例えば、正確な整数のパルス周期などの所望の数のパルス周期に設定することができる。かかる走査および画像戦略は、各走査ピクセル間で等しい線量分布をもたらすことができ、これは、特にＳＴＥＭ画像化において、非導電性サンプル上の損傷および荷電／放電の影響を左右する。

【0017】

図１は、本開示の実施形態によるＳＴＥＭシステム１００である。ＳＴＥＭシステム１００、略してシステム１００は、集束カラム１２に向けて電子ビーム１１などの荷電粒子を放出する電子源１０を含む。電子ビームは、高エネルギー電子、すなわち、約１０ｋｅＶ～１，０００ｋｅＶの典型的なエネルギーを有する電子を生成してもよい。いくつかの実施形態では、集束カラム１２は、コンデンサレンズ１２１、開口１２２、走査コイル１２３、および上部対物レンズ１２４のうちの１つ以上を含むことができる。集束カラム１２は、電子源１０からの電子をサンプル１４上の小さなスポットに集束させる。サンプルの異なる場所は、走査コイル１２３を介して電子ビームの方向を調整することにより、走査され得る。例えば、走査コイル１２３を動作させることによって、入射ビーム１１２は、サンプル１４の異なる場所に焦点を合わせるために（破線で示されるように）移されるか、または走査され得る。システム１００は、集束カラム１２内に配置されたビームブランカ１２５を追加的に含む。ビームブランカ１２５は、開口１２２の前に配置されてもよい。ビームブランカ１２５は、コントローラ３０によって制御されて、（パルス化された）電子ビームを光路から離れて、光軸１１０の外側の開口１２２の表面上に偏向させ得る。いくつかの実施形態では、ビームブランカ１２５は、１００ｋＨｚ～１ＧＨｚの周波数で動作させることができる。もちろん、他の動作周波数が、同様に利用される。

【0018】

画像化システムの一次軸１１０は、電子源１０から放出される電子ビームの中心軸であり得る。一次軸１１０はまた、コンデンサレンズ１２１の中心軸であり得る。入射ビームが移されないか、または走査されないとき（すなわち、入射ビーム１１２）、入射ビームは、一次軸１１０がサンプル１４と交差する場所で集束され得る。

【0019】

システム１００は、システム１００の交差面で配置されたＲＦキャビティ１５０をさらに含む。図１に示される実施形態では、ＲＦキャビティ１５０は、電子源１０の後の第１の交差面で位置付けられる。しかしながら、示される配置は、限定的ではなく、ＲＦキャビティ１５０は、電子源１０とサンプル１４との間のシステム１００の任意の交差面で位置付けられてもよい。ＲＦキャビティ１５０は、１つ以上のＲＦ波で通電されて、連続電子ビームからパルス化電子ビームを生成し得る。例えば、ＲＦキャビティ１５０に入る連続電子ビーム１１は、キャビティ内に形成された１つ以上のＲＦ波によって判定されたパルス幅およびパルス周波数を有するパルス化電子ビームとしてキャビティを出てもよい。ＲＦキャビティ１５０は、電子ビーム１１の入口および出口のために、上部および下部の両方に開口を含む。電子パルスを形成するために、ＲＦキャビティ１５０内部のＲＦ波は、出口開口を横切って電子ビーム１１を掃引する。

【0020】

ＲＦキャビティ１５０は、コントローラ３０などのコントローラ、またはＲＦ固有のコントローラ（図示せず）に結合され得る。コントローラは、所望の周波数でキャビティ内に１つ以上のＲＦ波を確立し得る。例えば、例示的な周波数は、１ＧＨｚ～１０ＧＨｚの範囲であるが、その範囲外の周波数もまた可能である。所望の動作周波数は、所望のパルス幅および／またはパルス周期に基づいて判定され得る。いくつかの実施形態では、例えば、互いに垂直に配向された２つのＲＦ波は、電子ビームパルスを形成するために共に確立され得る。使用されないとき、ＲＦキャビティ１５０は、電子ビーム１１が入射することなく通過し、パルスが形成されないように、非通電にされてもよい。そのような場合では、システム１００は、例えば、連続電子ビーム１１でサンプル１４を調査することができる。

【0021】

サンプル１４は、サンプルホルダ１３によって保持され得る。サンプルホルダ１３は、サンプルを傾斜および／または並進させることによってサンプル配向を調整し得る。一例として、座標系が、サンプル配向を調整するために画定されてもよく、その結果、入射ビーム１１２は、画像化システムの一次軸１１０に沿ってサンプル１４上に集束され得る。座標系のｚ軸は、主軸１１０に対して平行であり得、ｘｙ平面は、ｚ軸に対して垂直な平面であり得る。サンプル１４は、ｘ軸の周りまたはｙ軸の周りを回転することによって、一次軸１１０に対して傾斜されてもよい。サンプルホルダはまた、サンプル１４をｘ軸、ｙ軸、およびｚ軸のいずれかに沿って並進させるか、または移してもよい。いくつかの実施形態では、サンプル１４は、ｚ軸の周りで回転されてもよい。

【0022】

入射ビーム１１２に起因してサンプル１４を出る電子１０１は、プロジェクタ１６に入ってもよい。一実施形態では、プロジェクタ１６は、集束カラムとは別個の部品であってもよい。別の実施形態において、プロジェクタ１６は、集束カラム１２内のレンズからのレンズ視野の延長部であってもよい。

【0023】

プロジェクタ１６は、コントローラ３０によって調整され得、その結果、サンプルを通過した直接電子は、円盤状の明視野検出器１１５に衝突し、一方で、サンプル１４によってより強く偏向された回折または散乱電子は、１つ以上の高角度環状暗視野（ＨＡＡＤＦ）検出器１８および／または環状暗視野（ＡＤＦ）検出器１９によって検出される。ＨＡＡＤＦおよびＡＤＦ検出器からの信号は、それぞれ、増幅器２０および増幅器２１によって増幅され得、一方、明視野検出器１１５からの信号は、増幅器２２によって増幅され得る。増幅器２０、２１、および２２からの信号は、画像処理装置２４に送信され得、検出された電子からサンプル１４の画像を形成することができる。ＨＡＡＤＦ検出器１８、ＡＤＦ検出器１９、および明視野検出器１１５の各々は、シンチレータ光電子増倍管検出器、固体ＰＩＮ検出器、または金属板であり得る。ＳＴＥＭシステム１００は、１つ以上のＡＤＦ検出器、ＡＤＦ検出器、およびＨＡＡＤＦ検出器からの信号を同時に検出し得る。

【0024】

コントローラ３０は、オペレータの命令に応答して手動で、または非一時的メモリ３２内に格納されたコンピュータ可読命令に従って自動的に、のいずれかで、画像化システム１００の動作を制御し得る。コントローラ３０は、本明細書に記載の方法のいずれかを実装するために、コンピュータ可読命令を実行し、画像化システム１００の様々な構成要素を制御するように構成することができる。例えば、コントローラは、走査コイル１２３を操作することによって、サンプル上のビーム場所を調整し得る。コントローラは、集束カラム１２内の１つ以上の開口および／またはレンズを調整することによって、入射ビームのプロファイルを調整し得る。コントローラは、サンプルホルダ１３を傾斜させることにより、入射ビームに対するサンプル配向を調整し得る。コントローラは、サンプルホルダ１３を並進させることにより、入射ビームに対してサンプルを移してもよい。コントローラ３０は、ＲＦキャビティ１５０および制御ビームブランカ１２５内にＲＦ波を確立し得、さらに、コントローラ３０は、各走査場所での滞在（dwell）時間などのパルス化電子ビームの走査を、パルス化電子ビーム１１２の周波数と同期させ得、その結果、同じまたは同様の数のパルスが、各走査場所に向かって方向付けられる。コントローラ３０は、通知および／またはサンプルの画像を表示するためにディスプレイ３１にさらに結合されてもよい。コントローラ３０は、ユーザ入力デバイス３３からユーザ入力を受信し得る。ユーザ入力デバイス３３は、キーボード、マウス、またはタッチスクリーンを含み得る。

【0025】

動作中、システム１００は、ＲＦキャビティ１５０および集束カラム１２を介してサンプル１４に向けて電子ビーム１１を放出する。サンプル１４を画像化するために、走査コイル１２３は、パルス化電子ビームを、サンプル１４の表面上のピクセルとも呼ばれる異なる場所に移動させ、各ピクセル場所の画像を提供する。各場所で、パルス化電子ビーム１１は、滞在（dwell）時間の間留まることができる。いくつかのサンプルタイプに関して、上記で考察されるように、電子ビームが、損傷し得るため、露光時間、例えば、線量を制限することが望ましい。かかるサンプルに関して、走査コイル１２３は、ＲＦ制御信号と同期され得、その結果、所望の数のパルスが、各場所に提供される。いくつかの実施形態では、同じ数のパルスが各場所で提供され、その結果、各場所での線量が等しい。いくつかの実施形態では、滞在（dwell）時間は、所望の整数の電子ビームパルスに基づき得る。いくつかの実施形態では、ビームブランカ１３５は、ＲＦキャビティ１５０よりも低い周波数で、パルス化電子ビーム１２を形成するために使用されてもよい。ビームブランカ１２５の使用は、パルス化電子ビーム１２の全周波数範囲に延在する。追加的に、走査コイル１２３の制御は、所望のパルス周期を形成するＲＦ制御信号に基づいてもよく、その結果、走査コイルが、電子ビームを各場所まで移動させ、パルスの位相、例えば、滞在（dwell）時間の開始から最初に到達する電子パルスまでの遅延などは、パルスが誤って失われることがないようにし、したがって、各場所が、同じ数のパルスを受信することを保証する。次いで、各場所からの画像データは、組み合わされて、例えば、サンプル１４のＳＴＥＭ画像を形成してもよい。

【0026】

ＳＴＥＭシステムは、例として記載されるが、開示された技術は、任意のタイプの荷電粒子カラムにおいて電子ビームパルスを形成するために使用され得ることを理解されたい。ＳＴＥＭ画像化の本考察は、単に１つの好適な画像化モダリティの実施例として提供される。

【0027】

図２は、本開示のある実施形態による、電子顕微鏡２００の一部の例示的な図である。電子顕微鏡（ＥＭ）２００は、例えば、ＳＴＥＭシステム１００の一部であり得るか、または任意のタイプの電子ベースの顕微鏡の一部であり得る。実施形態に関係なく、ＥＭ２００は、少なくとも、電子源２１０、ＲＦキャビティ２５０、集束構成要素２１２、およびコントローラ２３０を含む。ＥＭ２００は、開口プレートまたは開口１２２およびビームブランカ１２５などのビームブランカを示さないが、そのような構成要素もまた、含めることができる。ＥＭ２００は、例えば、連続電子ビームからパルス化電子ビームを生成し、パルス化電子ビームをサンプルに方向付けるように構成される。

【0028】

電子源２１０は、少なくとも電子エミッタ２６０およびガンレンズ２６２を含み得る。電子エミッタ２６０は、Ｓｃｈｏｔｔｋｙ、電界放出、冷電界放出、熱など、現在既知の、または将来開発される任意のタイプのエミッタであり得る。エミッタ２１０は、ガンレンズ２６２によって収集される電子ビーム２１１Ａを生成し得る。ガンレンズ２６２は、電子ビーム２１１Ａを受信し、集束構成要素２１２に向けて送達するように調節するために結合された１つ以上の光学構成要素を有し得る。ガンレンズ２６２は、ガンレンズ２６２と集束構成要素２１２との間の平面で電子ビーム２１１Ａを集束させるように通電され得る。かかる平面は、交差平面と称されてもよく、電子ビーム２１１Ａが、点、点Ｙに来る場所によって示される。図２に関して、電子ビーム２１１Ａが交差する点Ｙ自体は、ＲＦキャビティ２５０と一致する。

【0029】

従来、電子顕微鏡は、電子光学がどのように配置および通電されるかに応じて、カラムに沿って複数の交差点を有し得、電子ビームは、収束角として既知の異なる角度で各交差面に近づき得る。例えば、電子ビーム２１１Ａは、点Ｙに近づくにつれて収束角αを有する。前述のように、角度αは、変化する可能性があり、後続の交差面では、第１の交差面のそれよりも大きくなる可能性がある。ソース２１０とサンプルとの間の任意の交差面は、ＲＦキャビティ２５０を位置付けるために使用され得ながら、初期交差点ＹにおいてＲＦキャビティ２５０を位置付けることは、角度が比較的小さいので、実装を容易にし得る。かかる比較的小さい角度は、ＲＦキャビティ２５０の設計要件を緩和して、すべての電子ビームが十分に掃引され、開口２５２などの開口を出力することを確実にし得る。

【0030】

ＲＦキャビティ２５０は、キャビティを完全に貫通して延在する開口２５２を含み得る。開口２５２は、電子ビーム２１１Ａが通過し、ＲＦキャビティ２５０内に確立された１つ以上のＲＦ波によって操作されることを可能にする。ＲＦキャビティ２５０は、パルス化電子ビームを生成するために所望される１つ以上のＲＦ波を確立するために、コントローラ２３０に結合された１つ以上のアンテナを含み得る。１つ以上のＲＦ波は、開口２５２上で電子ビーム２１１Ａを掃引して、パルス化電子ビーム２１１Ｂを形成し得る。例えば、電子ビーム２１１Ａが開口２５２を通過するとき、電子ビームは、ＥＭ２００光軸に沿って伝播し続ける。しかしながら、ＲＦ波が電子ビーム２１１Ａを開口２５２から離れて移動させる際、次いで、電子ビーム２１１Ａは、光軸に沿って伝播し続けることはない。電子ビーム２１１Ａを所望の周波数で開口２５２上に移動させることにより、パルス化電子ビーム２１１Ｂが、形成される。ＲＦ波の周波数は、パルス化電子ビーム２１１Ｂのパルス周期を判定する。例えば、１つの電子パルスは、１対１の周波数変換を生成するであろう、１つのＲＦ波周期によって生成され得る。代替的に、２つの電子パルスが、１つのＲＦ波周期によって生成されてもよく、これにより、パルス化電子ビームの周波数がＲＦ波の周波数から２倍になり得る。いくつかの実施形態では、２つ以上のＲＦ波が確立され得、それらのそれぞれの周波数は、異なるパルス周期およびデューティサイクルのパルス化電子ビーム２１１Ｂを生成することができる。かかる実施形態では、パルス化電子ビーム２１１Ｂの周波数は、派生物（derivative）、例えば、それらの間の差、またはその倍数、２つ以上のＲＦ波の周波数であろう。

【0031】

集束構成要素２１２は、少なくともコンデンサレンズ２２１および走査コイル２２３を含み得る。コンデンサレンズ２２１は、静電レンズ、アブ電磁レンズ、またはそれらの組み合わせである。レンズ２２１は、ＲＦキャビティ２５０を出た後のパルス化電子ビーム２１１Ｂを受信し、パルス化電子ビーム２１１Ｂを調節するように配置される。電子ビーム２１１Ｂの調節は、例えば、視準、集束、非点補正、またはそれらの組み合わせを含み得る。もちろん、パルス化電子ビーム２１１Ｂに他の変更を加えてもよい。

【0032】

走査コイル２２３は、コントローラ２３０に結合された静電コイルまたは電磁コイルであり得る。走査コイル２２３を所望のパターンで荷電することにより、パルス化電子ビーム２１１Ｂの軌道は、サンプル１４などのサンプル上に所望の場所で衝突するように操作され得る。追加的に、走査コイル２２３への後続の制御信号を遅延させることが、所望の滞在（dwell）時間を設定し得る。このように、走査コイルは、パルス化電子ビーム２１１Ｂがサンプルと相互作用する場所および時間を制御する。さらに、パルス化電子ビーム２１１Ｂがサンプルと相互作用する場所のシーケンスもまた、コントローラであり得る。例えば、パルス化電子ビーム２１１Ｂは、例えば、蛇行パターンでサンプルを横切ってラスタされ得るか、またはサンプル上のいくつかの異なる、かつランダムな場所に方向付けられてもよい。

【0033】

動作中、コントローラ２３０は、ＲＦキャビティ２５０内に確立された１つ以上のＲＦ波を制御し、ならびに走査コイル２２３を制御する。走査コイル２２３およびＲＦキャビティ２５０の制御は、別個に実施され得ながら、走査コイル２２３の制御をＲＦキャビティ２５０の制御に基づくことにより、同数のパルスが、サンプル上の各走査場所に提供されることを確実とし得る。例えば、コントローラ２３０は、ＲＦキャビティ２５０内にＲＦ波を確立し、これは、パルス周期およびタイミングを判定する。次いで、かかる情報を使用して、走査コイル２２３は、パルス化電子ビーム２１１Ｂをある場所から次の場所に移動させ得、その結果、所望の数のパルスが、各走査場所に提供される。

【0034】

図３は、本開示の実施形態による、例示的な方法３０１である。方法３０１は、各場所が、同じまたは同様の数のパルスを受信するように、サンプル上の場所のパルス化電子ビーム露光を同期させるプロセスを概説する。方法３００は、例えば、ＳＴＥＭシステム１００またはＥＭ２００などの電子顕微鏡で実施することができる。

【0035】

方法３０１は、電子ビームをパルス化してパルス化電子ビームを形成することを含む、プロセスブロック３０３で始まる。電子ビームパルスを形成することは、例えば、ＲＦキャビティ１５０または２５０などのＲＦキャビティを使用して実施され得る。かかる実施形態では、図１および図２に関して上記に記載されるように、ＲＦキャビティは、電子顕微鏡の交差面において位置付けられ得る。例えば、電子源の後の第１の交差面である。しかしながら、パルス化電子ビームを提供するための任意の既知の技術もまた、機能し、本明細書で企図されることに留意されたい。例えば、パルス化電子ビームは、パルス化光学エネルギーを受信して、パルス化電子ビームを生成する光電子源を使用して生成されてもよい。代替的に、ビームブランカが、連続電子ビームからパルス化電子ビームを生成するために使用されてもよい。追加的または代替的に、技術の組み合わせが、所望の幅および／または周期のパルスを取得するために使用されてもよい。さらに、パルスの所望の周波数は、最良のパルス生成技術の情報を与えてもよい。例えば、１００ＫＨｚ～１ＧＨｚの範囲のパルスがビームブランカを使用して生成され得る場合、一方で１ＧＨｚを上回るパルスは、ＲＦキャビティまたは光電子源を使用して生成され得る。明らかに、複数のパルス生成技術を利用することにより、広範囲の周波数が、取得され得る。

【0036】

プロセスブロック３０３は、複数の場所でサンプルと相互作用するようにパルス化電子ビームを移動させることを含む、プロセスブロック３０５が続く場合がある。各場所で、パルス化電子ビームは、滞在（dwell）時間の間留まる。滞在（dwell）時間は、サンプルが各場所で受信する電子線量の量、ならびに電子パルスの数を判定する。複数の場所は、ランダムに、指定された順序で、またはラスタパターンを使用して順次など、任意の順序で標的化され得る。

【0037】

プロセスブロック３０５は、電子ビームのパルスおよび並進に基づいて、パルス化電子ビームとサンプルとの相互作用のデータ取得を同期させることを含む、プロセスブロック３０７が続く場合があり、滞在（dwell）時間は、パルス周期の派生物（derivative）に基づく。同期は、例えば、各場所が、同じまたは同様の数の電子パルスを受信することを確実にし得る。少数、例えば、１０以下のパルスを各走査場所に提供する実施形態では、各場所での線量がほぼ等しくなることを確実とするために、同じ数のパルスが送達されることが望ましい。他方、より多くの数のパルスが各走査場所に提供される場合、例えば、１０を超える場合、次いで、増分電荷は有害ではないので、各走査場所に提供されるパルスの数は、正確である必要はない。

【0038】

図４は、いくつかのサンプル場所でのパルス周期と滞在（dwell）時間との関係の図解４０１である。図解４０１は、下軸に沿った時間の単位を含み、パルス化電子ビームおよび３つの走査場所（Ａ、Ｂ、およびＣ）を示す。図に示されるように、各走査場所は、３つの電子ビームパルスを受信する。パルス間で、走査場所は、後続の場所に移動される。３つのパルスのみが、各場所で受信されるように示されるが、かかる数は、例解のためだけのものであり、任意の数のパルスが、各走査場所において送達され得る。例えば、各走査場所は、１桁の数のパルス、数十のパルス、数百のパルス、数千のパルスなどを受信することができる。概して、パルスの数は、パルス速度および滞在（dwell）時間の積である。さらに、前述のように、各走査場所が、同じまたは同様の数のパルスを受信することが望ましい。

【0039】

図５は、本開示の一実施形態による、例示的な機能ブロック図５００である。図５は、本開示の一実施形態を実装するために使用され得るコンピュータシステム５００を例解する、ブロック図である。コンピューティングシステム５００は、コントローラ３０／２３０などの、システム１００および／またはＥＭ２００に含まれるコンピューティングハードウェアの一例であり得、メモリ３２を組み込み、例えば、ディスプレイ３１およびユーザ入力デバイス３３に結合され得る。コンピュータシステム５００は、少なくとも、情報を処理するためのコア５３０などのハードウェアプロセッサを含み、通信バスに結合され得る。コンピューティングシステム５００は、方法３０１などの、本明細書に開示される方法および技術を実装するために使用され得、また、パルス化電子ビームのパルス周期とサンプルの走査の同期に基づいて、画像を取得するために使用され得る。

【0040】

コンピュータシステム５００はまた、コア５３０によって実行される情報および命令を記憶するためにバスに結合された、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）または他の動的記憶デバイスなどの、メインメモリ５３２を含む。メインメモリ５３２はまた、コア５３０によって実行される命令の実行中、一時的変数または他の中間情報を記憶するために使用され得る。かかる命令は、コア５３０にアクセス可能な非一時的記憶媒体内に記憶されるとき、コンピュータシステム５００を、命令で指定された動作を実施するようにカスタマイズされた専用マシンにレンダリングする。メインメモリ５３２は、メモリ３２であっても、メモリ３２とは別個のものであってもよい。

【0041】

コンピュータシステム５００は、コア５３０のための静的情報および命令を記憶するためにバスに結合された、読み取り専用メモリ（ＲＯＭ）５３４または他の静的記憶デバイスをさらに含む。磁気ディスクまたは光学ディスクなどの記憶デバイス５３６が、提供され、情報および命令を記憶するためのバスに結合される。

【0042】

コンピュータシステム５００は、情報をコンピュータユーザに表示するための、ディスプレイ３１などのディスプレイにバスを介して結合されてもよい。英数字キーおよび他のキーを含む入力デバイス３３は、コア５３０に情報およびコマンド選択を通信するためのバスに結合される。別のタイプのユーザ入力デバイスは、方向情報および命令選択をコア５３０に通信するため、およびディスプレイ上のカーソル移動を制御するためのマウス、トラックボール、またはカーソル方向キーなどのカーソル制御である。この入力デバイスは通常に、デバイスが平面内の位置を指定することを可能にする、二つの軸、すなわち、第１の軸（例えば、「ｘ」）および第２の軸（例えば、「ｙ」）における２つの自由度を有する。

【0043】

コンピュータシステム５００は、カスタマイズされたハードワイヤードロジック、１つ以上のＡＳＩＣまたはＦＰＧＡ、ファームウェアおよび／またはコンピュータシステムと組み合わせてコンピュータシステム５００を専用マシンにするプログラムロジックを使用して、本明細書に記載の技術を実装してもよい。一実施形態によれば、本明細書の技術は、メインメモリ５３２内に収容される１つ以上の命令の１つ以上のシーケンスを実行するコア５３０に応答して、コンピュータシステム５００によって実施される。そのような命令は、記憶デバイス５３６などの別の記憶媒体からメインメモリ５３２に読み込まれてもよい。メインメモリ５３２内に収容される命令のシーケンスの実行は、コア５３０に、本明細書に記載される処理工程を実施させる。代替的な実施形態では、ソフトウェア命令の代わりに、またはソフトウェア命令と組み合わせて、ハードワイヤード回路を使用してもよい。

【0044】

本明細書で使用される「記憶媒体」という用語は、マシンを特定の方法で動作させるデータおよび／または命令を記憶する任意の非一時的媒体を表す。そのような記憶媒体は、不揮発性媒体および／または揮発性媒体を含み得る。不揮発性媒体は、例えば、記憶デバイス５３６のような、光または磁気ディスクを含む。揮発性媒体は、メインメモリ５３２のような動的メモリを含む。記憶媒体の一般的な形態は、例えば、フロッピーディスク、フレキシブルディスク、ハードディスク、ソリッドステートドライブ、磁気テープもしくは他の磁気データ記憶媒体、ＣＤーＲＯＭ、任意の他の光学データ記憶媒体、穴のパターンを持つ任意の物理媒体、ＲＡＭ、ＰＲＯＭ、ＥＰＲＯＭ、ＦＬＡＳＨーＥＰＲＯＭ、ＮＶＲＡＭ、任意の他のメモリチップもしくはカートリッジ、連想メモリ（ＣＡＭ）、および三値連想メモリ（ＴＣＡＭ）を含む。

【0045】

記憶媒体は、伝送媒体とは異なるが、伝送媒体と連動して使用され得る。伝送媒体は、記憶媒体間の情報の転送に関与する。例えば、伝送媒体は、バス６４０を備えるワイヤを含む、同軸ケーブル、銅線、および光ファイバを含む。伝送媒体はまた、電波および赤外線データ通信中に生成されるものなど、音響波または光波の形態を取ることもできる。

【0046】

様々な形態の媒体が、１つ以上の命令の１つ以上のシーケンスを、実行のためにコア５３０に搬送することに関与し得る。例えば、命令は、最初は遠隔コンピュータの磁気ディスクまたはソリッドステートドライブ上で搬送されてもよい。遠隔コンピュータは、命令をその動的メモリにロードして、ネットワークを介して命令を送信することができる。

【0047】

コンピュータシステム５００は、バスに結合された通信インターフェース５３８も含む。通信インターフェース５３８は、ローカルネットワークに接続されたネットワークリンク（図示せず）に結合される双方向データ通信を提供する。例えば、通信インターフェース５３８は、統合サービスデジタルネットワーク（ＩＳＤＮ）カード、ケーブルモデム、衛星モデム、または対応するタイプの電話回線へのデータ通信接続を提供するモデムであり得る。別の例として、通信インターフェース５３８は、互換性のあるＬＡＮへのデータ通信接続を提供するローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）カードであってもよい。無線リンクの実装であってもよい。そのような実装では、通信インターフェース５３８は、様々なタイプの情報を表すデジタルデータストリームを搬送する電気信号、電磁信号、または光信号を送受信する。

【0048】

コンピュータシステム５００は、ネットワーク、ネットワークリンク、および通信インターフェース５３８を通じて、メッセージを送信し、プログラムコードを含むデータを受信することができる。インターネットの実施例では、サーバは、ＩＳＰ、ローカルネットワーク、および／または通信インターフェース５３８を介して、インターネット６６６を通じるアプリケーションプログラムに対して要求されたコードを送信してもよい。

【0049】

受信されたコードは、受信された際にコア５３０によって実行されてもよく、および／または後の実行のために記憶デバイス５３６もしくは他の不揮発性記憶装置内に記憶されてもよい。

【0050】

開示された技術を例示するために本明細書で考察された実施形態は、限定するものと見なされるべきではなく、実装の例を提供するにすぎない。当業者は、本明細書で意図され、本開示の範囲内にある、開示された技術を実装し得る他の無数の方式を理解するであろう。

【0051】

パルス化電子ビームを生成し、パルス化電子ビームのパルス周期に基づくデータ取得を同期させるための例示的な方法は、ＲＦ波で、電子ビームをパルス化して、パルス周期を有するパルス化電子ビームを形成することと、パルス化電子ビームを移動させて、複数の場所でサンプルと相互作用させることであって、複数の場所の各々における相互作用が滞在（dwell）時間の間発生する、相互作用させることと、電子ビームのパルス化および並進に基づいて、パルス化電子ビームとサンプルとの相互作用のデータ取得を同期させることと、を含み、滞在（dwell）時間は、パルス周期の派生物（derivative）に基づく。

【0052】

パルス化および並進に基づいて、電子ビームのデータ取得をサンプルと同期させる例示的な方法は、複数の場所の各場所に同数の電子ビームパルスを提供することを含む。

【0053】

滞在（dwell）時間が、整数のパルス周期に等しい、上記の例示的な方法。

【0054】

パルス周期の派生物（derivative）が、複数のパルス周期を含む、上記の例示的な方法。

【0055】

データ取得の同期化が、ＲＦ電子機器からの制御信号に基づいており、ＲＦ電子機器が、ＲＦ波を制御する、上記の例示的な方法。

【0056】

ＲＦ電子機器によって制御されるＲＦキャビティが、ＲＦ波を形成する、上記の例示的な方法。

【0057】

ＲＦ波が、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）における交差面で形成される、上記の例示的な方法。

【0058】

交差面が、ガンレンズとＴＥＭのコンデンサシステムとの間に形成される、上記の例示的な方法。

【0059】

交差が、ガンレンズによって形成される、上記の例示的な方法。

【0060】

ＴＥＭが、走査モードで動作している、上記の例示的な方法。

【0061】

パルス化電子ビームが、５０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲でパルス化される、上記の例示的な方法。

【0062】

上記の例示的な方法の代替的な実施形態では、ビームブランカが、パルス化電子ビームを生成するために、ＲＦ波の代わりに、またはＲＦ波に加えて、使用される。

【0063】

パルス化電子ビームを生成し、パルス化電子ビームのパルス周期に基づいて、データ取得を同期させるための例示的なシステムは、光軸に沿って電子ビームを提供するための電子エミッタと、開口を含むＲＦキャビティであって、光軸が開口を通って延在するように配置された、ＲＦキャビティと、電子ビームを偏向するために結合された偏向器と、少なくともＲＦキャビティおよび偏向器に結合されたコントローラと、を含む。コントローラは、コントローラによって実行されるとき、コントローラに、ＲＦキャビティ内にＲＦ波を確立することであって、ＲＦ波が、パルス周期を有するパルス化電子ビームを生成する、確立することと、偏向器を使用してパルス化電子ビームを移動させることであって、移動するパルス化電子ビームが、滞在（dwell）時間の間、複数の場所の各場所でサンプルと相互作用する、移動させることと、電子ビームのパルス化および移動に基づいて、パルス化電子ビームのサンプルとの相互作用のデータ取得を同期させることであって、滞在（dwell）時間が、パルス周期の派生物（derivative）に基づく、同期させることと、を行わせる、コードを含む、非一時的な機械可読媒体を含み、または非一時的な機械可読媒体と結合する。

【0064】

パルス化電子ビームとサンプルとの相互作用のデータ取得を同期させるためのコードが、コントローラによって実行されるとき、コントローラに複数の場所の各場所で、同数の電子ビームパルスを提供させるコードをさらに含む、上記のような例示的なシステム。

【0065】

パルス周期の派生物（derivative）が、複数のパルス周期を含む、上記の例示的なシステム。

【0066】

ＲＦ波が、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）における交差面で形成される、上記のような例示的なシステム。

【0067】

交差面で形成される、電子ビームの交差が、ＴＥＭのガンレンズによって形成される、上記のような例示的なシステム。

【0068】

ＴＥＭが、走査モードで動作している、上記のような例示的なシステム。

【0069】

ＲＦ波を確立するためのコードが、コントローラによって実行されるとき、コントローラに、ＲＦキャビティ内に２つのＲＦ波を確立させるコードをさらに含む、上記のような例示的なシステム。

【0070】

パルス化電子ビームが、５０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲でパルス化される、上記のような例示的なシステム。

【0071】

明視野検出器、環状暗視野検出器、および高角度環状暗視野検出器をさらに含む、上記のような例示的なシステム。

【0072】

上記の例示的なシステムの代替的な実施形態では、ビームブランカが、パルス化電子ビームを生成するために、ＲＦ波の代わりに、またはＲＦ波に加えて、使用される。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】