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特許7598773６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテートの製造方法及びその中間体
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-12-04
(45)【発行日】2024-12-12
(54)【発明の名称】６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテートの製造方法及びその中間体
(51)【国際特許分類】
C07C 67/08 20060101AFI20241205BHJP
C07C 69/145 20060101ALI20241205BHJP
C07C 21/19 20060101ALI20241205BHJP
C07C 17/16 20060101ALI20241205BHJP
C07C 67/24 20060101ALI20241205BHJP
C07C 309/66 20060101ALI20241205BHJP
C07C 303/28 20060101ALI20241205BHJP
C07C 69/22 20060101ALI20241205BHJP
A01N 37/02 20060101ALN20241205BHJP
A01P 19/00 20060101ALN20241205BHJP
【ＦＩ】
C07C67/08
C07C69/145 CSP
C07C21/19
C07C17/16
C07C67/24
C07C309/66
C07C303/28
C07C69/22
A01N37/02
A01P19/00
【請求項の数】
15
(21)【出願番号】P 2021011957
(22)【出願日】2021-01-28
(65)【公開番号】P2022022960
(43)【公開日】2022-02-07
【審査請求日】2023-02-22
(31)【優先権主張番号】P 2020119194
(32)【優先日】2020-07-10
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(73)【特許権者】
【識別番号】000002060
【氏名又は名称】信越化学工業株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100085545
【弁理士】
【氏名又は名称】松井 光夫
(74)【代理人】
【識別番号】100118599
【弁理士】
【氏名又は名称】村上 博司
(74)【代理人】
【識別番号】100160738
【弁理士】
【氏名又は名称】加藤 由加里
(74)【代理人】
【識別番号】100114591
【弁理士】
【氏名又は名称】河村 英文
(72)【発明者】
【氏名】馬場 啓弘
(72)【発明者】
【氏名】金生 剛
【審査官】澤田 浩平
(56)【参考文献】
【文献】特開昭５２－００７４２７（ＪＰ，Ａ）
【文献】米国特許第０４１５８０９６（ＵＳ，Ａ）
【文献】Tetrahedron，1988年，44(14)，pp.4541-4546
【文献】European Journal of Organic Chemistry ，2013年，2013(29)，pp.6710-6721
【文献】Tetrahedron，1988年，44(2)，pp.471-480
【文献】Journal of the American Chemical Society ，1974年，96(8)，pp.2540-2549
【文献】Journal of the American Chemical Society ，1968年，90(11)，pp.2882-2889
【文献】Tetrahedron，2016年，72(27-28)，pp.4001-4006
【文献】Bulletin of the Chemical Society of Japan ，2003年，76(5)，pp.1055-1062
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ａ０１Ｎ，Ｃ０７Ｃ
ＣＡｐｌｕｓ／ＣＡＳＲＥＡＣＴ／ＲＥＧＩＳＴＲＹ （ＳＴＮ）
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記一般式（１）【化1】
で表される、１位に脱離基Ｘを有する２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物と、下記一般式（２）
【化2】
で表される、５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル求核試薬との求核置換反応により、下記一般式（３）
【化3】
で表される、１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物を得る工程と、
１位に保護された水酸基を有する前記６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）の脱保護反応により、下記式（４）
【化4】
前記６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）をアセチル化して、下記式（５）
【化5】
で表される６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテートを得る工程と
を少なくとも含む、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート（５）の製造方法。
【請求項2】
下記式（６）【化6】
【請求項3】
下記一般式（１）【化7】
で表される、１位に脱離基Ｘを有する２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物と、下記一般式（２）
【化8】
で表される、５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル求核試薬との求核置換反応により、下記一般式（３）
【化9】
で表される、１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物を得る工程と、
１位に保護された水酸基を有する前記６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）をアセチル化反応に付して、下記式（５）
【化10】
で表される６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテートを得る工程と
を少なくとも含む、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート（５）の製造方法。
【請求項4】
下記式（６）【化11】
【請求項5】
下記一般式（１’）【化12】
で表され、前記アシルオキシ基が、直鎖状の脂肪族アシルオキシ基、分岐状の脂肪族アシルオキシ基、ハロゲン化アシルオキシ基及び芳香族アシルオキシ基から成る群から選択される、１位にＸ’を有する２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物。
【請求項13】
前記芳香族アシルオキシ基がベンゾイルオキシ基から成る群から選択される、請求項１
２に記載の、１位にＸ’を有する２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物。【請求項15】
下記一般式（１’’）【化13】
で表される、１位にＸ’’を有する２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、柑橘類の害虫であるＣａｌｉｆｏｒｎｉａ ｒｅｄ ｓｃａｌｅ（アカマルカイガラムシ、学名：Ａｏｎｉｄｉｅｌｌａ ａｕｒａｎｔｉｉ）の性フェロモン物質である６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテートの製造方法及びその中間体に関する。
【背景技術】
【0002】
昆虫の性フェロモンは、通常、雌個体が雄個体を誘引する機能をもつ生物活性物質であり、少量で高い誘引活性を示す。性フェロモンは、発生予察及び地理的な拡散（特定地域への侵入）の確認の手段として、また害虫防除の手段として広く利用されている。害虫防除の手段としては、大量誘殺法（Ｍａｓｓ ｔｒａｐｐｉｎｇ）、誘引殺虫法（Ｌｕｒｅ ａｎｄ ｋｉｌｌ又はＡｔｔｒａｃｔ ａｎｄ ｋｉｌｌ）、誘引感染法（Ｌｕｒｅ ａｎｄ ｉｎｆｅｃｔ又はＡｔｔｒａｃｔ ａｎｄ ｉｎｆｅｃｔ）及び交信撹乱法（Ｍａｔｉｎｇ ｄｉｓｒｕｐｔｉｏｎ）と呼ばれる防除法が広く実用に供されている。昆虫１個体から抽出できる性フェロモンはごく微量であることから、天然由来の性フェロモンを交信攪乱等に利用することは難しく、性フェロモンの利用にあたっては必要量の性フェロモン原体を人工的に製造することが、基礎研究のために、更には応用のために必要とされる。
【0003】
Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ ｒｅｄ ｓｃａｌｅは、世界中に広く分布し、柑橘類を加害する害虫である。Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ ｒｅｄ ｓｃａｌｅの性フェロモンとしては、（３Ｓ，６Ｒ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテートが報告されている（下記の非特許文献１）。６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテートとしては、（３Ｒ，６Ｒ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート、（３Ｒ，６Ｓ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート、（３Ｓ，６Ｒ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート、（３Ｓ，６Ｓ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテートの４異性体が存在する。Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ ｒｅｄ ｓｃａｌｅは、これら４異性体混合物によっても誘引されることが報告されている（下記の非特許文献１）。
６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテートの製造方法としては、例えば、二酸化セレン及びｔｅｒｔ－ブチルヒドロペルオキシドを用いて、シトロネロールアセテートの三置換二重結合部分を酸化し、導入した水酸基をトリフェニルホスフィン及び四塩化炭素によって塩素化させた後、求核置換反応により、（３Ｓ，６ＲＳ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテートを合成する方法が報告されている（下記の非特許文献２）。また、シトロネロールアセテートからスルフィド化合物を導き、そして強塩基処理による１，２－Ｓｔｅｖｅｎｓ転位反応、次いでメタクロロ過安息香酸を用いて酸化反応を行い、スルホン化合物を合成し、その後トリアルキル化、スルホンの還元的脱離により、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテートを合成する方法が報告されている（下記の非特許文献３）。
さらに、（－）－ジヒドロカルボンをシリルエノールエーテル化合物へと導いた後、オゾン酸化、次いで水素化ホウ素ナトリウムによる還元、ジアゾメタンによるカルボン酸のメチル化を含む８工程により、（２Ｓ，５Ｒ）－５－イソプロペニル－２－メチル－８－ノネニル＝ヨージドを合成し、次いでシアン化ナトリウムによってニトリル化合物を導く工程を含む４工程を経て、（３Ｓ，６Ｒ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテートを合成する方法も報告されている（非特許文献４）。
６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテートの製造方法としては、例えば、二酸化セレン及びｔｅｒｔ－ブチルヒドロペルオキシドを用いて、シトロネロールアセテートの三置換二重結合部分を酸化し、導入した水酸基をトリフェニルホスフィン及び四塩化炭素によって塩素化させた後、求核置換反応により、（３Ｓ，６ＲＳ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテートを合成する方法が報告されている（下記の非特許文献２）。また、シトロネロールアセテートからスルフィド化合物を導き、そして強塩基処理による１，２－Ｓｔｅｖｅｎｓ転位反応、次いでメタクロロ過安息香酸を用いて酸化反応を行い、スルホン化合物を合成し、その後トリアルキル化、スルホンの還元的脱離により、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテートを合成する方法が報告されている（下記の非特許文献３）。
さらに、（－）－ジヒドロカルボンをシリルエノールエーテル化合物へと導いた後、オゾン酸化、次いで水素化ホウ素ナトリウムによる還元、ジアゾメタンによるカルボン酸のメチル化を含む８工程により、（２Ｓ，５Ｒ）－５－イソプロペニル－２－メチル－８－ノネニル＝ヨージドを合成し、次いでシアン化ナトリウムによってニトリル化合物を導く工程を含む４工程を経て、（３Ｓ，６Ｒ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテートを合成する方法も報告されている（非特許文献４）。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【0004】
【文献】Ｍ．Ｊ．ＧＩＥＳＥＬＭＡＮＮ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｉｎｓｅｃｔ．Ｐｈｙｓｉｏｌ．２６，１７９（１９８０）
【文献】Ｐａｎａｇｉｏｔｉｓ Ｋｅｆａｌａｓ ｅｔ ａｌ．，Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ．６４４（１９９５）
【文献】Ｖ．Ａ．Ｄｒａｇａｎ ｅｔ ａｌ．，Ｒｕｓｓ．Ｃｈｅｍ．Ｂｕｌｌ．３８，１０３８（１９８９）
【文献】Ｒ．Ｂｏｕｄｄｕｙ ｅｔ ａｌ．，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ．４４，４７１（１９８８）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかしながら、非特許文献２では、シトロネロールアセテートの酸化反応において、二酸化セレン及びｔｅｒｔ－ブチルヒドロペルオキシドを用いており、これらは有毒かつ環境負荷の高い廃棄物を与えるため、環境の観点から好ましくない。また、当該酸化反応は、爆発を引き起こす恐れもあるために工業的な実施が困難である上に、酸化反応の収率も５２％と低い。
非特許文献３では、スルフィドの酸化にメタクロロ過安息香酸を用いており、爆発を引き起こす恐れがある上に、アルキル化の溶媒には毒性の強いヘキサメチルホスホリック＝トリアミドが使用されていることから、工業的な実施が困難である。また、全８工程後の収率も１２．３％と低い。
非特許文献４の場合では、中間体である（２Ｓ，５Ｒ）－５－イソプロペニル－２－メチル－８－ノネニル＝ヨージドの合成に８工程を要し、工業的に実施困難なオゾン酸化や、爆発性があり非常に有毒なジアゾメタンが使用されていることから、工業的に有利でない。また、（２Ｓ，５Ｒ）－５－イソプロペニル－２－メチル－８－ノネニル＝ヨージドから、（３Ｓ，６Ｒ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテートを導く工程についても、全４工程を要すことに加え、毒性の強いシアン化ナトリウムが使用されているため、工業的な実施は困難である。
非特許文献３では、スルフィドの酸化にメタクロロ過安息香酸を用いており、爆発を引き起こす恐れがある上に、アルキル化の溶媒には毒性の強いヘキサメチルホスホリック＝トリアミドが使用されていることから、工業的な実施が困難である。また、全８工程後の収率も１２．３％と低い。
非特許文献４の場合では、中間体である（２Ｓ，５Ｒ）－５－イソプロペニル－２－メチル－８－ノネニル＝ヨージドの合成に８工程を要し、工業的に実施困難なオゾン酸化や、爆発性があり非常に有毒なジアゾメタンが使用されていることから、工業的に有利でない。また、（２Ｓ，５Ｒ）－５－イソプロペニル－２－メチル－８－ノネニル＝ヨージドから、（３Ｓ，６Ｒ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテートを導く工程についても、全４工程を要すことに加え、毒性の強いシアン化ナトリウムが使用されているため、工業的な実施は困難である。
【0006】
このように、従来の製造方法では、工業的に十分量の６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテートを製造するのは、非常に困難と考えられた。
【0007】
本発明は上記事情に鑑みなされたもので、生物学的又は農学的活性試験、及び／又は実際の応用又は利用等に必要な十分量の原体を供給するために、酸化反応を不要とし、効率的かつ工業的に６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテートを製造する方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテートの製造における有用な中間体として、２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物を見出し、さらに、当該中間体を用いて工業的に６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテートが得られることを見出し、本発明を為すに至った。
【0009】
本発明の一つの態様によれば、下記一般式（１）
（式中、Ｘはカルボニル基の炭素を含めた炭素数１～１０のアシルオキシ基、炭素数１～１０のアルカンスルホニルオキシ基、炭素数６～２０のアレーンスルホニルオキシ基、又はハロゲン原子を表す。）
で表される、１位に脱離基Ｘを有する２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物と、下記一般式（２）
（式中、Ｍは、Ｌｉ、ＭｇＺ１、ＺｎＺ１、Ｃｕ、ＣｕＺ１又はＣｕＬｉＺ１を表し、Ｚ１は、ハロゲン原子又はＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＯＲ基を表し、かつＲは水酸基の保護基を表す。）
で表される、５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル求核試薬との求核置換反応により、下記一般式（３）
（式中、Ｒは、上記で定義した通りである。）
で表される、１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物を得る工程と、
１位に保護された水酸基を有する上記６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）の脱保護反応により、下記式（４）
で表される６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノールを得る工程と、
上記６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）をアセチル化して、下記式（５）
（式中、Ａｃはアセチル基を表す。）
で表される６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテートを得る工程と
を少なくとも含む、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート（５）の製造方法が提供される。
【化1】
で表される、１位に脱離基Ｘを有する２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物と、下記一般式（２）
【化2】
で表される、５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル求核試薬との求核置換反応により、下記一般式（３）
【化3】
で表される、１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物を得る工程と、
１位に保護された水酸基を有する上記６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）の脱保護反応により、下記式（４）
【化4】
上記６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）をアセチル化して、下記式（５）
【化5】
で表される６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテートを得る工程と
を少なくとも含む、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート（５）の製造方法が提供される。
【0010】
また、本発明の他の態様では、下記一般式（１）
（式中、Ｘはカルボニル基の炭素を含めた炭素数１～１０のアシルオキシ基、炭素数１～１０のアルカンスルホニルオキシ基、炭素数６～２０のアレーンスルホニルオキシ基、又はハロゲン原子を表す。）
で表される、１位に脱離基Ｘを有する２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物と、下記一般式（２）
（式中、Ｍは、Ｌｉ、ＭｇＺ１、ＺｎＺ１、Ｃｕ、ＣｕＺ１又はＣｕＬｉＺ１を表し、Ｚ１は、ハロゲン原子又はＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＯＲ基を表し、かつＲは水酸基の保護基を表す。）
で表される、５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル求核試薬との求核置換反応により、下記一般式（３）
（式中、Ｒは、上記で定義した通りである。）
で表される、１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物を得る工程と、
１位に保護された水酸基を有する上記６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）をアセチル化反応に付して、下記式（５）
（式中、Ａｃはアセチル基を表す。）
で表される６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテートを得る工程と
を少なくとも含む、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート（５）の製造方法が提供される。
【化6】
で表される、１位に脱離基Ｘを有する２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物と、下記一般式（２）
【化7】
で表される、５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル求核試薬との求核置換反応により、下記一般式（３）
【化8】
で表される、１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物を得る工程と、
１位に保護された水酸基を有する上記６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）をアセチル化反応に付して、下記式（５）
【化9】
で表される６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテートを得る工程と
を少なくとも含む、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート（５）の製造方法が提供される。
【0011】
また、本発明の他の態様では、下記式（６）
で表される２－メチル－２，６－ヘプタジエノールの水酸基をＸ（Ｘは、上記に定義したとおりである。）に変換することにより、１位に脱離基Ｘを有する上記２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物（１）を得る工程をさらに含む、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート（５）の製造方法が提供される。
【化10】
【0012】
また、本発明の他の態様では、下記一般式（１’）
（式中、Ｘ’は、カルボニル基の炭素を含めた炭素数１～１０のアシルオキシ基を表す。）
で表される、１位にＸ’を有する２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物が提供される。
【化11】
で表される、１位にＸ’を有する２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物が提供される。
【0013】
また、本発明の他の態様では、下記一般式（１’’）
（式中、Ｘ’’は炭素数１～１０のアルカンスルホニルオキシ基又は炭素数６～２０のアレーンスルホニルオキシ基を表す。）
で表される、１位にＸ’’を有する２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物が提供される。
【化12】
で表される、１位にＸ’’を有する２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物が提供される。
【発明の効果】
【0014】
本発明によれば、安全性、経済性及び環境負荷の面から工業的な実施が困難である酸化反応を不要とし、効率的かつ工業的に６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテートを製造する方法を提供できる。また、本発明によれば、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテートを製造において有用な中間体である、２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物（１’）と２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物（１’’）とをまた提供できる。
【発明を実施するための形態】
【0015】
以下、本発明の実施の形態を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。また、本明細書中の中間体、試薬及び目的物の化学式において、構造上、エナンチオ異性体又はジアステレオ異性体等の立体異性体が存在しうるものがあるが、特に記載がない限り、いずれの場合も各化学式はこれらの異性体のすべてを表すものとする。また、これらの異性体は、単独であってもよく、混合物であってもよい。
【0016】
本発明者らは、以下に説明するように、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート（５）の合成計画を考察した。
【化13】
【0017】
上記の逆合成解析の反応式中、白抜き矢印は逆合成解析（Ｒｅｔｒｏｓｙｎｔｈｅｔｉｃ ａｎａｌｙｓｉｓ）におけるトランスフォームを表す。また、Ａｃはアセチル基を表し、Ｒは水酸基の保護基を表し、Ｘは、カルボニル基の炭素を含めた炭素数１～１０のアシルオキシ基、炭素数１～１０のアルカンスルホニルオキシ基、炭素数６～２０のアレーンスルホニルオキシ基、又はハロゲン原子を表し、かつＭは、Ｌｉ、ＭｇＺ１、ＺｎＺ１、Ｃｕ、ＣｕＺ１又はＣｕＬｉＺ１を表し、Ｚ１は、ハロゲン原子又はＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＯＲ基を表し、かつＲは水酸基の保護基を表す。
【0018】
（工程Ｄ’） 本発明の目的化合物である６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート（５）は、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）をアセチル化することにより合成できると考えられる。
【0019】
上記式（５）は、下記式（５ａ）で表される（３Ｒ，６Ｒ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート、下記式（５ｂ）で表される（３Ｒ，６Ｓ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート、下記式（５ｃ）で表される（３Ｓ，６Ｒ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート、若しくは下記式（５ｄ）で表される（３Ｓ，６Ｓ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート、又はそれらの２以上の組み合わせを表す。
【化14】
【0020】
上記式（４）は、下記式（４ａ）で表される（３Ｒ，６Ｒ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール、下記式（４ｂ）で表される（３Ｒ，６Ｓ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール、下記式（４ｃ）で表される（３Ｓ，６Ｒ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール、若しくは下記式（４ｄ）で表される（３Ｓ，６Ｓ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール、又はそれらの２以上の組み合わせを表す。
【化15】
【0021】
（工程Ｃ’） 目的化合物である６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）は、１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）を脱保護することにより合成できると考えられる。
【0022】
上記一般式（３）は、下記一般式（３ａ）で表される、１位に保護された水酸基を有する（３Ｒ，６Ｒ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物、下記一般式（３ｂ）で表される１位に保護された水酸基を有する（３Ｒ，６Ｓ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物、下記一般式（３ｃ）で表される、１位に保護された水酸基を有する（３Ｓ，６Ｒ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物、若しくは下記一般式（３ｄ）で表される、１位に保護された水酸基を有する（３Ｓ，６Ｓ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物、又はそれらの２以上の組み合わせを表す。
【化16】
【0023】
（工程Ｂ’） 目的化合物である、１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）は、５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル求核試薬（２）を、１位に脱離基Ｘを有する２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物（１）の３位の炭素原子へ位置選択的に反応させることにより合成できると考えられる。
【0024】
上記一般式（２）は、下記一般式（２ａ）で表される、５位に保護された水酸基を有する（Ｒ）－３－メチルペンチル求核試薬、若しくは下記一般式（２ｂ）で表される、５位に保護された水酸基を有する（Ｓ）－３－メチルペンチル求核試薬、又はそれらの組み合わせを表す。尚、上記一般式（２ａ）及び（２ｂ）の各求核試薬の命名について、ＲＳ表記法における原子の優先順位をＭ＞Ｏとした。
【化17】
【0025】
上記一般式（１）は、下記一般式（１ａ）で表される１位に脱離基Ｘを有する（Ｚ）－２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物、若しくは下記一般式（１ｂ）で表される１位に脱離基Ｘを有する（Ｅ）－２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物、又はそれらの組み合わせを表す。
【化18】
【0026】
（工程Ａ’） 目的化合物である、１位に脱離基Ｘを有する２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物（１）は、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）の水酸基の変換反応により合成できると考えられる。
【0027】
上記式（６）は、下記式（６ａ）で表される（Ｚ）－２－メチル－２，６－ヘプタジエノール、下記式（６ｂ）で表される（Ｅ）－２－メチル－２，６－ヘプタジエノール、又はそれらの組み合わせを表す。
【化19】
【0028】
そして、上記逆合成解析の反応式を考慮すると、本発明の１つの実施態様に従う化学反応式は、下記の通りに示される。
【化20】
【0029】
すなわち、上記化学反応式は、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）の水酸基の変換反応により得られる、１位に脱離基Ｘを有する２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物（１）を合成する工程Ａ；次に、５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル求核試薬（２）を、１位に脱離基Ｘを有する２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物（１）の３位の炭素原子へ位置選択的に求核置換反応させることにより、１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）を合成する工程Ｂ；そして、１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）を脱保護する工程Ｃ；最後に、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）をアセチル化することにより、本発明の目的化合物である６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート（５）を合成する工程Ｄを含む。
【0030】
以下に、本発明の実施の形態としての上記工程Ａ～Ｄを詳細に説明する。まず、１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）を合成する工程Ｂ、そして、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）を合成する工程Ｃ、そして、本発明の目的化合物である６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート（５）を合成する工程Ｄ、最後に、上述の工程Ｂの出発物質である１位に脱離基Ｘを有する２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物（１）を合成する工程Ａの順に説明する。なお、該工程Ｂでは、有用な中間体である２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物（１’）及び２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物（１’’）についても併せて説明する。
【0031】
［１］工程Ｂ
以下に、１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）を得る工程Ｂについて説明する。１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）は、下記の化学反応式に示されている通り、１位に脱離基Ｘを有する２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物（１）と、５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル求核試薬（２）との求核置換反応により得られる。
以下に、１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）を得る工程Ｂについて説明する。１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）は、下記の化学反応式に示されている通り、１位に脱離基Ｘを有する２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物（１）と、５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル求核試薬（２）との求核置換反応により得られる。
【0032】
【化21】
【0033】
まず、下記一般式（１）で表される、１位に脱離基Ｘを有する２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物について述べる。
【0034】
【化22】
【0035】
１位に脱離基Ｘを有する２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物（１）は、下記一般式（１ａ）で表される、１位に脱離基Ｘを有する（Ｚ）－２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物、下記一般式（１ｂ）で表される、１位に脱離基Ｘを有する（Ｅ）－２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物として存在しうるが、これらの異性体は、単独であってもよく、又は混合物であってもよい。
【化23】
【0036】
脱離基Ｘは、カルボニル基の炭素を含めた炭素数１～１０のアシルオキシ基、炭素数１～１０のアルカンスルホニルオキシ基、炭素数６～２０のアレーンスルホニルオキシ基、又はハロゲン原子を表し、これらの中から反応性、反応選択性、原料入手の容易さ、合成の容易さ、保存安定性、劇毒性、及び／又は価格等を考慮し、適切なものを選択できる。
【0037】
カルボニル基の炭素を含めた炭素数１～１０のアシルオキシ基としては、ホルミルオキシ基、アセトキシ基、プロパノイルオキシ基、ブタノイルオキシ基、ペンタノイルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基、ヘプタノイルオキシ基、オクタノイルオキシ基、ノナノイルオキシ基、デカノイルオキシ基及びクロトニルオキシ基等の直鎖状の脂肪族アシルオキシ基；２－メチルプロパノイルオキシ基、ピバロイルオキシ基、２－メチルブタノイルオキシ基、３－メチル－２－ブテノイルオキシ基及び３－メチル－３－ブテノイルオキシ基等の分岐状の脂肪族アシルオキシ基；トリクロロアセトキシ基及びトリフルオロアセトキシ基等のハロゲン化アシルオキシ基；並びに、ベンゾイルオキシ基等の芳香族アシルオキシ基等が挙げられ、これらと異性体の関係にあるアシルオキシ基でもよい。また、これらのアシルオキシ基の水素原子の一部がメチル基、エチル基又はハロゲン原子等で置換されていてもよく、ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
上記アシルオキシ基の中でも、入手の容易さの観点から、ホルミルオキシ基、アセトキシ基、プロパノイルオキシ基、ピバロイルオキシ基、２－メチルプロパノイルオキシ基及びベンゾイルオキシ基が好ましい。
上記アシルオキシ基の中でも、入手の容易さの観点から、ホルミルオキシ基、アセトキシ基、プロパノイルオキシ基、ピバロイルオキシ基、２－メチルプロパノイルオキシ基及びベンゾイルオキシ基が好ましい。
【0038】
炭素数１～１０のアルカンスルホニルオキシ基としては、メタンスルホニルオキシ基、エタンスルホニルオキシ基、１－ブタンスルホニルオキシ基、１－ペンタンスルホニルオキシ基、１－ヘキサンスルホニルオキシ基、１－ヘプタンスルホニルオキシ基、１－オクタンスルホニルオキシ基、１－ノナンスルホニルオキシ基、１－デカンスルホニルオキシ基、アリルスルホニルオキシ基、１０－カンファースルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基及びα－ベンジルスルホニルオキシ基等が挙げられ、これらと異性体の関係にあるアルカンスルホニルオキシ基でもよい。また、これらのアルカンスルホニルオキシ基の水素原子の一部がメチル基、エチル基又はハロゲン原子等で置換されていてもよく、ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
上記アルカンスルホニルオキシ基の中でも、入手の容易さの観点から、メタンスルホニルオキシ基及びエタンスルホニルオキシ基が好ましい。
上記アルカンスルホニルオキシ基の中でも、入手の容易さの観点から、メタンスルホニルオキシ基及びエタンスルホニルオキシ基が好ましい。
【0039】
炭素数６～２０のアレーンスルホニルオキシ基としては、ベンゼンスルホニルオキシ基、４－クロロベンゼンスルホニルオキシ基、４－メトキシベンゼンスルホニルオキシ基、２－ニトロベンゼンスルホニルオキシ基、２，４，６－トリメチルベンゼンスルホニルオキシ基、ｐ－トルエンスルホニルオキシ基、１－ナフタレンスルホニルオキシ基及び２－ナフタレンスルホニルオキシ基が挙げられ、これらと異性体の関係にあるアレーンスルホニルオキシ基でもよい。また、これらのアレーンスルホニルオキシ基の水素原子の一部がメチル基、エチル基又はハロゲン原子等で置換されていてもよく、ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
上記アレーンスルホニルオキシ基の中でも、入手の容易さの観点から、ベンゼンスルホニルオキシ基及びｐ－トルエンスルホニルオキシ基が好ましい。
上記アレーンスルホニルオキシ基の中でも、入手の容易さの観点から、ベンゼンスルホニルオキシ基及びｐ－トルエンスルホニルオキシ基が好ましい。
【0040】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
上記ハロゲン原子の中でも、入手の容易さの観点から、塩素原子及び臭素原子が好ましい。
上記ハロゲン原子の中でも、入手の容易さの観点から、塩素原子及び臭素原子が好ましい。
【0041】
１位に脱離基Ｘを有する２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物（１）の中でも、反応性及び／又は経済性の観点から、下記一般式（１’）
で表される２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物が特に好ましい。
一般式（１’）において、Ｘ’はカルボニル基の炭素を含めた炭素数１～１０のアシルオキシ基を表す。
カルボニル基の炭素を含めた炭素数１～１０のアシルオキシ基の具体例としては、上記脱離基Ｘにおけるカルボニル基の炭素を含めた炭素数１～１０のアシルオキシ基と同じである。
【化24】
一般式（１’）において、Ｘ’はカルボニル基の炭素を含めた炭素数１～１０のアシルオキシ基を表す。
カルボニル基の炭素を含めた炭素数１～１０のアシルオキシ基の具体例としては、上記脱離基Ｘにおけるカルボニル基の炭素を含めた炭素数１～１０のアシルオキシ基と同じである。
【0042】
また、上記２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物（１’）の他に、原料入手の観点から、下記一般式（１’’）
で表される２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物も好ましい。
一般式（１’’）において、Ｘ’’は炭素数１～１０のアルカンスルホニルオキシ基、又は炭素数６～２０のアレーンスルホニルオキシ基を表す。
炭素数１～１０のアルカンスルホニルオキシ基及び炭素数６～２０のアレーンスルホニルオキシ基の具体例としては、上記Ｘにおける炭素数１～１０のアルカンスルホニルオキシ基及び炭素数６～２０のアレーンスルホニルオキシ基と同じである。
【化25】
一般式（１’’）において、Ｘ’’は炭素数１～１０のアルカンスルホニルオキシ基、又は炭素数６～２０のアレーンスルホニルオキシ基を表す。
炭素数１～１０のアルカンスルホニルオキシ基及び炭素数６～２０のアレーンスルホニルオキシ基の具体例としては、上記Ｘにおける炭素数１～１０のアルカンスルホニルオキシ基及び炭素数６～２０のアレーンスルホニルオキシ基と同じである。
【0043】
ここで、１位に脱離基Ｘを有する２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物（１）は該脱離基Ｘをアリル位に有するため、５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル求核試薬（２）による１位に脱離基Ｘを有する２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物（１）への攻撃部位として、該脱離基Ｘの結合する１位の炭素原子と、３位の炭素原子とが考えられる。
５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル求核試薬（２）が１位に脱離基Ｘを有する２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物（１）の３位の炭素原子を攻撃する場合（所謂、ＳＮ２’機構）には、アリル転位を伴う求核置換反応が起こり、１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）が生成する。
一方、５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル求核試薬（２）が１位に脱離基Ｘを有する２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物（１）の１位の炭素原子を攻撃する場合（所謂、ＳＮ２機構）には、下記一般式（３’）で表される、１位に保護された水酸基を有する３，７－ジメチル－７，１１－ドデカジエン化合物が生成する。
５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル求核試薬（２）が１位に脱離基Ｘを有する２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物（１）の３位の炭素原子を攻撃する場合（所謂、ＳＮ２’機構）には、アリル転位を伴う求核置換反応が起こり、１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）が生成する。
一方、５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル求核試薬（２）が１位に脱離基Ｘを有する２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物（１）の１位の炭素原子を攻撃する場合（所謂、ＳＮ２機構）には、下記一般式（３’）で表される、１位に保護された水酸基を有する３，７－ジメチル－７，１１－ドデカジエン化合物が生成する。
【化26】
【0044】
従って、工程Ｂにおいては、１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）と、３，７－ジメチル－７，１１－ドデカジエン化合物（３’）との生成が競合しうる。そこで、後述する求核置換反応の条件の中で、１位に保護された水酸基を有する３，７－ジメチル－７，１１－ドデカジエン化合物（３’）の副生を抑え、１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）が良い収率で得られる最適な条件を選べばよい。最適な条件としては、例えば、１位に脱離基Ｘを有する２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物（１）における脱離基Ｘがカルボニル基の炭素を含めた炭素数１～１０のアシルオキシ基である、２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物（１’）を使用すること、そして５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル求核試薬（２）における保護基が１－エトキシエチル基である、５－（１－エトキシエチルオキシ）－３－メチルペンチルマグネシウム＝ハライド化合物を使用すること、さらに求核置換反応に使用する触媒の組み合わせとして、ハロゲン化銅とリチウム塩との組み合わせを用いることが挙げられる。この触媒の組み合わせが、副生成物の生成を抑えて、目的物の収率を上げると考えられる（例えば、下記の実施例６及び７を参照）。
【0045】
５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル求核試薬（２）は、ＲＳ表記法における原子の優先順位をＭ＞Ｏとした場合、下記一般式（２ａ）で表される、５位に保護された水酸基を有する（Ｒ）－３－メチルペンチル求核試薬、及び下記一般式（２ｂ）で表される、５位に保護された水酸基を有する（Ｓ）－３－メチルペンチル求核試薬として存在しうる。これらの異性体は、単独であってもよく、又は混合物であってもよいが、Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ ｒｅｄ ｓｃａｌｅの雌が有する天然の性フェロモンと同じ骨格をもつ、５位に保護された水酸基を有する（Ｒ）－３－メチルペンチル求核試薬（２ａ）が含まれていることが好ましい。
【化27】
【0046】
１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）は、下記一般式（３ａ）で表される、１位に保護された水酸基を有する（３Ｒ，６Ｒ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物、下記一般式（３ｂ）で表される、１位に保護された水酸基を有する（３Ｒ，６Ｓ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物、下記一般式（３ｃ）で表される、１位に保護された水酸基を有する（３Ｓ，６Ｒ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物、及び下記一般式（３ｄ）で表される、１位に保護された水酸基を有する（３Ｓ，６Ｓ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物として存在しうる。これらの異性体は、単独であってもよく、又は混合物であってもよいが、Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ ｒｅｄ ｓｃａｌｅの雌が有する天然の性フェロモンと同じ骨格をもつ、１位に保護された水酸基を有する（３Ｓ，６Ｒ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３ｃ）が含まれていることが好ましい。
【化28】
【0047】
求核置換反応で副生する、１位に保護された水酸基を有する３，７－ジメチル－７，１１－ドデカジエン化合物（３’）は、下記式（３’ａ）で表される、１位に保護された水酸基を有する（Ｒ，Ｚ）－３，７－ジメチル－７，１１－ドデカジエン化合物、下記式（３’ｂ）で表される、１位に保護された水酸基を有する（Ｒ，Ｅ）－３，７－ジメチル－７，１１－ドデカジエン化合物、下記式（３’ｃ）で表される、１位に保護された水酸基を有する（Ｓ，Ｚ）－３，７－ジメチル－７，１１－ドデカジエン化合物、下記式（３’ｄ）で表される、１位に保護された水酸基を有する（Ｓ，Ｅ）－３，７－ジメチル－７，１１－ドデカジエン化合物、又はそれらの２種以上の混合物として存在しうる。
【化29】
【0048】
５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル求核試薬（２）におけるＲは、水酸基の保護基を表す。保護基としては、目的の反応、後処理及び保存中に安定であり、しかも脱保護が容易な公知の水酸基の保護基の中から適切なものを選択できる。適切な保護基Ｒとしては、例えば、メトキシメチル基、２－メトキシエトキシメチル基、ベンジルオキシメチル基、ｐ－メトキシベンジルオキシメチル基、２，２，２－トリクロロエトキシメチル基、１－エトキシエチル基及びテトラヒドロピラニル基等のオキシアルキル基等が挙げられ、これらと異性体の関係にあるオキシアルキル基でもよい。また、これらの保護基の水素原子中の一部がメチル基、エチル基等で置換されていてもよい。その他の保護基としては、例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ－ブチルジメチルシリル基等のトリアルキルシリル基、ｔ－ブチルジフェニルシリル基等のモノアルキルジアリールシリル基が挙げられ、これらと異性体の関係にあるシリル基でもよい。また、これらのシリル基の水素原子の一部がメチル基、エチル基又はハロゲン原子等で置換されていてもよい。ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
保護基Ｒとしては、反応性及び／又は経済性の観点から、テトラヒドロピラニル基及び１－エトキシエチル基が好ましい。
５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル求核試薬（２）におけるＭは、Ｌｉ、ＭｇＺ１、ＺｎＺ１、Ｃｕ、ＣｕＺ１又はＣｕＬｉＺ１を表し、Ｚ１は、ハロゲン原子又はＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＯＲ基を表し、かつＲは水酸基の保護基を表す。
５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル求核試薬（２）としては、反応性、選択性、及び／又は調製のし易さ等の観点から、５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチルリチウム化合物等の有機リチウム試薬、５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチルマグネシウム＝ハライド化合物（グリニャール試薬）等の有機マグネシウム試薬が好ましく、特に３－メチルペンチルマグネシウム＝ハライド化合物（グリニャール試薬）が好ましい。
保護基Ｒとしては、反応性及び／又は経済性の観点から、テトラヒドロピラニル基及び１－エトキシエチル基が好ましい。
５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル求核試薬（２）におけるＭは、Ｌｉ、ＭｇＺ１、ＺｎＺ１、Ｃｕ、ＣｕＺ１又はＣｕＬｉＺ１を表し、Ｚ１は、ハロゲン原子又はＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＯＲ基を表し、かつＲは水酸基の保護基を表す。
５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル求核試薬（２）としては、反応性、選択性、及び／又は調製のし易さ等の観点から、５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチルリチウム化合物等の有機リチウム試薬、５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチルマグネシウム＝ハライド化合物（グリニャール試薬）等の有機マグネシウム試薬が好ましく、特に３－メチルペンチルマグネシウム＝ハライド化合物（グリニャール試薬）が好ましい。
【0049】
５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチルマグネシウム＝ハライド化合物の具体例としては、５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチルマグネシウム＝クロリド化合物、５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチルマグネシウム＝ブロミド化合物及び５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチルマグネシウム＝ヨージド化合物等が挙げられる。
５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル求核試薬（２）は、例えば、対応するハロゲン化物である５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル＝ハライド化合物から、常法によって調製される。５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル＝ハライド化合物としては、例えば、５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル＝クロリド化合物、５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル＝ブロミド化合物及び５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル＝ヨージド化合物等が挙げられるが、５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル求核試薬（２）の調製のし易さ及び／又は化合物の安定性等の観点から、５位に保護された水酸基を有する３－メチル－ペンチル＝クロリド化合物及び５位に保護された水酸基を有する３－メチル－ペンチル＝ブロミド化合物が好ましい。
５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル求核試薬（２）は、例えば、対応するハロゲン化物である５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル＝ハライド化合物から、常法によって調製される。５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル＝ハライド化合物としては、例えば、５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル＝クロリド化合物、５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル＝ブロミド化合物及び５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル＝ヨージド化合物等が挙げられるが、５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル求核試薬（２）の調製のし易さ及び／又は化合物の安定性等の観点から、５位に保護された水酸基を有する３－メチル－ペンチル＝クロリド化合物及び５位に保護された水酸基を有する３－メチル－ペンチル＝ブロミド化合物が好ましい。
【0050】
５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル求核試薬（２）は、有機リチウム試薬又は有機マグネシウム試薬から化学量論量（１モル以上）の遷移金属化合物を用いた金属交換（ｍｅｔａｌ ｅｘｃｈａｎｇｅ）反応により調製して用いてもよいし、有機リチウム試薬又はグリニャール試薬と、触媒量の遷移金属化合物との反応により、反応系内で生成させて用いてもよい。
【0051】
遷移金属化合物としては、銅、鉄、ニッケル、パラジウム、亜鉛、チタン及び銀等を含む遷移金属化合物等が挙げられるが、塩化銅（Ｉ）、臭化銅（Ｉ）及びヨウ化銅（Ｉ）等の一価のハロゲン化銅；塩化銅（ＩＩ）、臭化銅（ＩＩ）及びヨウ化銅（ＩＩ）等の二価のハロゲン化銅；シアン化銅（Ｉ）及びシアン化銅（ＩＩ）等のシアン化銅；酸化銅（Ｉ）及び酸化銅（ＩＩ）等の酸化銅；並びに、ジリチウム＝テトラクロロキュープレート（Ｌｉ２ＣｕＣｌ４）等の銅化合物が好ましく、反応性の観点から、一価のハロゲン化銅が特に好ましい。
遷移金属化合物の使用量は、触媒量（０．０００１～０．９９９モル）から化学量論量（１モル）、又は過剰量（１を超え、１００モル以下）であるが、０．０００１～１０モルの使用が好ましい。
遷移金属化合物の使用量は、触媒量（０．０００１～０．９９９モル）から化学量論量（１モル）、又は過剰量（１を超え、１００モル以下）であるが、０．０００１～１０モルの使用が好ましい。
【0052】
１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）におけるＲとしては、一般式（２）にて定義したＲと同じである。
【0053】
１位に脱離基Ｘを有する２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物（１）と、５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル求核試薬（２）との求核置換反応には、通常、Ｉ族若しくはＩＩ族の金属元素、又は遷移金属元素を含む有機金属試薬が用いられる。
求核置換反応において遷移金属化合物を用いる場合は、遷移金属化合物の溶媒への溶解性向上の観点から、亜リン酸トリエチル等の亜リン酸トリアルキル、又はトリフェニルホスフィン等のトリアリールホスフィン等のリン化合物等の補触媒を、遷移金属化合物１００部に対して、好ましくは０．００１～１０００部用いてもよい。
求核置換反応において遷移金属化合物を用いる場合は、遷移金属化合物の溶媒への溶解性向上の観点から、亜リン酸トリエチル等の亜リン酸トリアルキル、又はトリフェニルホスフィン等のトリアリールホスフィン等のリン化合物等の補触媒を、遷移金属化合物１００部に対して、好ましくは０．００１～１０００部用いてもよい。
【0054】
該求核置換反応において、反応の触媒として、塩化リチウム、臭化リチウム及びヨウ化リチウム等のリチウム塩類を、１位に脱離基Ｘを有する２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物（１）１モルに対して、０．００１～１，０００モル共存させてもよい。
該求核置換反応において、目的物と副生物との生成比を含む反応性等の観点から、一価のハロゲン化銅とリチウム塩との組み合わせが特に好ましい（下記の実施例６及び７を参照）。
該求核置換反応において、目的物と副生物との生成比を含む反応性等の観点から、一価のハロゲン化銅とリチウム塩との組み合わせが特に好ましい（下記の実施例６及び７を参照）。
【0055】
５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル求核試薬（２）の使用量は、試薬の種類、反応条件、反応の収率、中間体の価格等の経済性、及び／又は反応生成物から目的化合物の単離精製の容易さ等を考慮して任意に決められるが、２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物（１）１モルに対して、好ましくは０．２～１００モル、より好ましくは０．５～２０モル、さらに好ましくは０．８～５モルである。
【0056】
求核置換反応は、溶媒中、必要に応じて冷却又は加熱する等して実施される。
該求核置換反応に用いる溶媒としては、ジエチル＝エーテル、ジ－ｎ－ブチル＝エーテル、ｔ－ブチル＝メチル＝エーテル、シクロペンチル＝メチル＝エーテル、テトラヒドロフラン及び１，４－ジオキサン等のエーテル類；ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクメン等の炭化水素類；並びにＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルプロピオンアミド、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン（ＤＭＩ）、ジメチル＝スルホキシド（ＤＭＳＯ）及びヘキサメチルホスホリック＝トリアミド（ＨＭＰＡ）等の非プロトン性極性溶媒類が挙げられ、反応性の観点からエーテル類が好ましい。該溶媒として、該エーテル類を単独で用いてもよく、又は必要に応じて、該エーテル類と該エーテル類以外の上記溶媒から選択される１種類以上とを含む混合溶媒を用いてもよい。該溶媒は、市販のものを用いることができる。
該溶媒の使用量は、特に限定されないが、５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル求核試薬（２）１モルに対して、好ましくは１０～１，０００，０００ｇ、より好ましくは１００～１００，０００ｇ、さらに好ましくは１５０～１０，０００ｇである。
該求核置換反応に用いる溶媒としては、ジエチル＝エーテル、ジ－ｎ－ブチル＝エーテル、ｔ－ブチル＝メチル＝エーテル、シクロペンチル＝メチル＝エーテル、テトラヒドロフラン及び１，４－ジオキサン等のエーテル類；ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクメン等の炭化水素類；並びにＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルプロピオンアミド、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン（ＤＭＩ）、ジメチル＝スルホキシド（ＤＭＳＯ）及びヘキサメチルホスホリック＝トリアミド（ＨＭＰＡ）等の非プロトン性極性溶媒類が挙げられ、反応性の観点からエーテル類が好ましい。該溶媒として、該エーテル類を単独で用いてもよく、又は必要に応じて、該エーテル類と該エーテル類以外の上記溶媒から選択される１種類以上とを含む混合溶媒を用いてもよい。該溶媒は、市販のものを用いることができる。
該溶媒の使用量は、特に限定されないが、５位に保護された水酸基を有する３－メチルペンチル求核試薬（２）１モルに対して、好ましくは１０～１，０００，０００ｇ、より好ましくは１００～１００，０００ｇ、さらに好ましくは１５０～１０，０００ｇである。
【0057】
該求核置換反応における反応温度は、好ましくは－７８℃～溶媒の沸点温度、より好ましくは－７８～１００℃である。
該求核置換反応における反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）又は薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）を用いて、反応の進行を追跡して最適化するとよく、通常５分間～２４０時間が好ましい。
該求核置換反応における反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）又は薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）を用いて、反応の進行を追跡して最適化するとよく、通常５分間～２４０時間が好ましい。
【0058】
該求核置換反応において得られた１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）が十分な純度を有している場合には、粗生成物のまま次の工程に用いてもよく、又は蒸留若しくは各種クロマトグラフィー等の通常の有機合成における精製方法から適宜選択して精製してもよく、工業的経済性の観点から、特に蒸留が好ましい。
【0059】
［２］工程Ｃ
以下に、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）を得る工程Ｃについて説明する。６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）は、下記の化学反応式に示されている通り、工程Ｂで得られた１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）の脱保護反応により得られる。
以下に、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）を得る工程Ｃについて説明する。６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）は、下記の化学反応式に示されている通り、工程Ｂで得られた１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）の脱保護反応により得られる。
【化30】
【0060】
脱保護反応では、下記式（４’）で示される、１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）におけるイソプロペニル基の二重結合が４置換側へ移動した異性体（以下、「異性体（４’）」ともいう。）が副生しうる。そこで、後述する脱保護反応の条件の中で、異性体（４’）の副生を抑え、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）が良い収率で得られる最適な条件を選べばよい。最適な条件としては、例えば、１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）のＲが１－エトキシエチル基であること、さらに酸を用いた脱保護反応において、酸として酢酸を使用し、さらに該酸とともに水を使用すること、さらに反応温度を１２０℃以下で行うことが挙げられる。
【化31】
【0061】
６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）は、下記式（４ａ）で表される（３Ｒ，６Ｒ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール、下記式（４ｂ）で表される（３Ｒ，６Ｓ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール、下記式（４ｃ）で表される（３Ｓ，６Ｒ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール及び下記式（４ｄ）で表される（３Ｓ，６Ｓ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノールとして存在しうる。これらの異性体は、単独であってもよく、又は混合物であってもよいが、Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ ｒｅｄ ｓｃａｌｅの雌が有する天然の性フェロモンと同じ骨格をもつ（３Ｓ，６Ｒ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４ｃ）が含まれていることが好ましい。
【化32】
【0062】
異性体（４’）は、下記式（４’ａ）で表される（Ｒ）－異性体（４’）、下記式（４’ｂ）で表される（Ｓ）－異性体（４’）、又はそれらの両方を包含する。
【化33】
【0063】
脱保護反応は、１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）における保護基の種類により、適切な条件を選択すればよい。例えば、保護基がメトキシメチル基のようなオキシアルキル基の場合は、酸を用いた加溶媒分解等による脱保護反応が適用できる。また、例えば、保護基がｔ－ブチルジメチルシリル基のようなシリル基の場合は、酸を用いた加溶媒分解等の脱保護反応に加え、フッ化物イオンを用いた脱保護反応も適用できる。
【0064】
酸を用いた脱保護反応の場合、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）は、１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）に、酸、及び必要に応じて、水又は溶媒を加えて、冷却又は加熱することにより合成できる。
脱保護反応に用いる酸としては、例えば、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、硝酸及びリン酸等の無機酸類又はこれらの塩類；ギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸（ｐ－ＴｓＯＨ）及びナフタレンスルホン酸等の有機酸類又はこれらの塩類；テトラフルオロホウ酸リチウム、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、三塩化アルミニウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛、四塩化錫、四臭化錫、二塩化錫、四塩化チタン、四臭化チタン及びトリメチルシリル＝ヨージド等のルイス酸類；アルミナ、シリカゲル及びチタニア等の酸化物；並びに、モンモリロナイト等の鉱物を挙げることができる。
脱保護反応に用いる酸として、経済性、反応性、及び／又は異性体（４’）の副生抑制という観点から、酢酸を好ましい例として挙げることができる。
該酸は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、該酸は、市販されているものを用いることができる。
該酸の使用量は、経済性の観点から少量が好ましく、実用上十分な反応速度が得られれば任意に設定できるが、１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）１モルに対して、好ましくは０．００００１～１０，０００モル、より好ましくは０．０００１～１，０００モル、さらに好ましくは０．００１～１００モルである。
脱保護反応に用いる酸としては、例えば、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、硝酸及びリン酸等の無機酸類又はこれらの塩類；ギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸（ｐ－ＴｓＯＨ）及びナフタレンスルホン酸等の有機酸類又はこれらの塩類；テトラフルオロホウ酸リチウム、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、三塩化アルミニウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛、四塩化錫、四臭化錫、二塩化錫、四塩化チタン、四臭化チタン及びトリメチルシリル＝ヨージド等のルイス酸類；アルミナ、シリカゲル及びチタニア等の酸化物；並びに、モンモリロナイト等の鉱物を挙げることができる。
脱保護反応に用いる酸として、経済性、反応性、及び／又は異性体（４’）の副生抑制という観点から、酢酸を好ましい例として挙げることができる。
該酸は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、該酸は、市販されているものを用いることができる。
該酸の使用量は、経済性の観点から少量が好ましく、実用上十分な反応速度が得られれば任意に設定できるが、１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）１モルに対して、好ましくは０．００００１～１０，０００モル、より好ましくは０．０００１～１，０００モル、さらに好ましくは０．００１～１００モルである。
【0065】
該酸を用いた脱保護反応で水をさらに用いる場合、水の量は１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）１モルに対して、好ましくは１～１０，０００モル、より好ましくは１～１，０００モル、さらに好ましくは１～５００モルである。
【0066】
酸を用いた脱保護反応における溶媒としては、例えば、ジエチル＝エーテル、ジブチル＝エーテル、テトラヒドロフラン及び１，４－ジオキサン等のエーテル類；ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクメン等の炭化水素類；塩化メチレン、クロロホルム及びトリクロロエチレン等の塩素系溶剤類；アセトン、メチル＝エチル＝ケトン等のケトン類；Ｎ，Ｎ-ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン（ＤＭＩ）、ジメチル＝スルホキシド（ＤＭＳＯ）及びヘキサメチルホスホリック＝トリアミド（ＨＭＰＡ）等の非プロトン性極性溶媒類；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類；酢酸エチル及び酢酸ｎ－ブチル等のエステル類；並びに、メタノール、エタノール及びｔ－ブチル＝アルコール等のアルコール類が挙げられる。
該溶媒は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
脱保護における溶媒として水又はアルコール類を用いた場合、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）及び／又は異性体（４’）の二重結合部分にアルコールが付加した化合物が副生しうる。この副反応は、使用する酸の種類及び／又は反応温度等から、適切な条件を選ぶことによって抑えることができる。適切な条件としては、例えば、使用する酸として酢酸を用いること、及び／又は反応温度を１２０℃以下とすることを挙げることができる。
酸を用いた脱保護反応に使用する溶媒の量は、１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）１モルに対して、好ましくは１０ｇ～１０，０００ｇである。
該溶媒は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
脱保護における溶媒として水又はアルコール類を用いた場合、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）及び／又は異性体（４’）の二重結合部分にアルコールが付加した化合物が副生しうる。この副反応は、使用する酸の種類及び／又は反応温度等から、適切な条件を選ぶことによって抑えることができる。適切な条件としては、例えば、使用する酸として酢酸を用いること、及び／又は反応温度を１２０℃以下とすることを挙げることができる。
酸を用いた脱保護反応に使用する溶媒の量は、１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）１モルに対して、好ましくは１０ｇ～１０，０００ｇである。
【0067】
酸を用いた脱保護反応の反応温度は、反応条件に拠るが、好ましくは－７８～１６０℃、より好ましくは－５０～１４０℃、さらに好ましくは－３０～１２０℃である。
酸を用いた脱保護反応の反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）又は薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）を用いて、反応を追跡して反応を完結させることが収率の観点から望ましく、通常０．５～２４時間程度である。
酸を用いた脱保護反応の反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）又は薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）を用いて、反応を追跡して反応を完結させることが収率の観点から望ましく、通常０．５～２４時間程度である。
【0068】
保護基がシリル基であり、該保護基をフッ化物イオンにより脱保護反応を行う場合、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）は、１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）に、フッ化物イオン源となる試薬と、必要に応じて溶媒とを加えて、冷却又は加熱することにより合成できる。また、酸による脱保護反応で述べた酸と組み合わせて脱保護反応を行うこともできる。
【0069】
フッ化物イオン源となる試薬としては、フッ化水素酸等の無機酸類；ピリジン・ｎＨＦ、トリエチルアミン・ｎＨＦ等のアミン錯体類；フッ化セシウム、フッ化カリウム、ホウフッ化リチウム（ＬｉＢＦ４）及びフッ化アンモニウム等の無機塩類；フッ化テトラブチルアンモニウム（ＴＢＡＦ）等の有機塩類を挙げることができる。
該フッ化物イオン源となる試薬は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、該フッ化物イオン源となる試薬は、市販されているものを用いることができる。
フッ化物イオンによる脱保護反応における試薬の使用量は、１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）１モルに対して、好ましくは０．１～５００モル、より好ましくは０．１～５０モルの範囲である。
該フッ化物イオン源となる試薬は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、該フッ化物イオン源となる試薬は、市販されているものを用いることができる。
フッ化物イオンによる脱保護反応における試薬の使用量は、１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）１モルに対して、好ましくは０．１～５００モル、より好ましくは０．１～５０モルの範囲である。
【0070】
フッ化物イオンによる脱保護反応における溶媒、溶媒の使用量、反応時間及び反応温度としては、１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）の酸による脱保護反応で述べた溶媒、溶媒の使用量、反応時間及び反応温度と同じである。
【0071】
脱保護反応により、アルコール化合物が副生しうる。例えば、１－エトキシエトキシ基を脱保護する場合は、エタノールがアルコール化合物として副生する。また、アルコール化合物が副生する場合には、該副生したアルコール化合物を、留出等の方法によって、反応系外に除去しながら脱保護反応を行ってもよい。
【0072】
該脱保護反応により得られた６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）が十分な純度を有している場合には、粗生成物のまま次の工程に用いてもよく、又は蒸留若しくは各種クロマトグラフィー等の通常の有機合成における精製方法から適宜選択して精製してもよく、工業的経済性の観点から、特に蒸留が好ましい。
【0073】
［３］工程Ｄ
以下に、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート（５）を得る工程Ｄについて説明する。６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート（５）は、下記の化学反応式に示されている通り、工程Ｃで得られた６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）をアセチル化することにより得られる。
以下に、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート（５）を得る工程Ｄについて説明する。６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート（５）は、下記の化学反応式に示されている通り、工程Ｃで得られた６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）をアセチル化することにより得られる。
【化34】
【0074】
６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート（５）は、下記式（５ａ）で表される（３Ｒ，６Ｒ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート、下記式（５ｂ）で表される（３Ｒ，６Ｓ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート、下記式（５ｃ）で表される（３Ｓ，６Ｒ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート、及び下記式（５ｄ）で表される（３Ｓ，６Ｓ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテートとして存在しうる。これらの異性体は、単独であってもよく、又は混合物であってもよいが、Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ ｒｅｄ ｓｃａｌｅの雌が有する天然の性フェロモンと同じ骨格をもつ（３Ｓ，６Ｒ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート（５ｃ）が含まれていることが好ましい。
【化35】
【0075】
アセチル化には、公知のアセテートの製造方法、例えば、（ｉ）アセチル化剤との反応、（ｉｉ）酢酸との脱水反応、（ｉｉｉ）酢酸エステルとのエステル交換反応、（ｉｖ）６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）をアルキル化剤に変換し、その後に酢酸等によりアセトキシ化する反応等を適用できる。
【0076】
（ｉ）アセチル化剤との反応
アセチル化剤との反応では、単独又は２種類以上の混合溶媒中、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）を、アセチル化剤、そして塩基の順に或いはその逆の順に若しくはアセチル化剤及び塩基と同時に反応させる方法、又は６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）とアセチル化剤とを、触媒の存在下で反応させる方法が適用できる。
アセチル化剤としては、酢酸クロリド、酢酸ブロミド及び無水酢酸等が挙げられる。
アセチル化剤の使用量は、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）１モルに対して、１モル～５００モルが好ましく、経済性の観点から１モル～５０モル、より好ましくは１～５モルの範囲である。
アセチル化剤との反応では、単独又は２種類以上の混合溶媒中、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）を、アセチル化剤、そして塩基の順に或いはその逆の順に若しくはアセチル化剤及び塩基と同時に反応させる方法、又は６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）とアセチル化剤とを、触媒の存在下で反応させる方法が適用できる。
アセチル化剤としては、酢酸クロリド、酢酸ブロミド及び無水酢酸等が挙げられる。
アセチル化剤の使用量は、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）１モルに対して、１モル～５００モルが好ましく、経済性の観点から１モル～５０モル、より好ましくは１～５モルの範囲である。
【0077】
アセチル化剤との反応に用いる塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノピリジン及びＮ，Ｎ－ジメチルアニリン等のアミン類；ｎ－ブチルリチウム、メチルリチウム及びフェニルリチウム等の有機リチウム化合物；水酸化ナトリウム及び水酸化カリウム等の金属水酸化物；並びに、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム及び炭酸水素ナトリウム等の金属炭酸塩が挙げられる。
該塩基の使用量は、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）１モルに対して、１～５００モルが好ましい。
該塩基の使用量は、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）１モルに対して、１～５００モルが好ましい。
【0078】
アセチル化剤として無水酢酸を用いる場合の触媒としては、塩酸、臭化水素酸、硝酸及び硫酸等の無機酸類；トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸及びｐ－トルエンスルホン酸等の有機酸類；三塩化アルミニウム、アルミニウム＝エトキシド、アルミニウム＝イソプロポキシド、酸化アルミニウム、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、ヨウ化マグネシウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛、四塩化錫、四臭化錫、二塩化ジブチル錫、ジブチル錫＝ジメトキシド、ジブチル錫＝オキシド、四塩化チタン、四臭化チタン、チタン（ＩＶ）＝メトキシド、チタン（ＩＶ）＝エトキシド、チタン（ＩＶ）＝イソプロポキシド及び酸化チタン（ＩＶ）等のルイス酸類；並びに、酢酸ナトリウム及び酢酸カリウム等の酢酸金属塩類が挙げられる。
アセチル化剤との反応における触媒の使用量は、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）１モルに対して、０．０００１～１００モルが好ましい。
アセチル化剤との反応における触媒の使用量は、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）１モルに対して、０．０００１～１００モルが好ましい。
【0079】
アセチル化剤との反応における溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒類；ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン及びトルエン等の炭化水素系溶媒類；ジエチル＝エーテル、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン及びエチレン＝グリコール＝ジメチル＝エーテル等のエーテル系溶媒類；アセトニトリル等のニトリル系溶媒；アセトン、メチル＝エチル＝ケトン及びジイソブチル＝ケトン等のケトン系溶媒類；酢酸エチル及び酢酸ブチル等のエステル系溶媒類；並びに、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、ジメチル＝スルホキシド及びヘキサメチルホスホリック＝トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類が挙げられる。
該溶媒は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。アセチル化剤によっては、溶媒を使用せずに反応することができる。また、該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
該溶媒の使用量は、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）１モルに対して、０～２０００ｇが好ましく、経済性の観点から０～５００ｇがより好ましい。
該溶媒は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。アセチル化剤によっては、溶媒を使用せずに反応することができる。また、該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
該溶媒の使用量は、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）１モルに対して、０～２０００ｇが好ましく、経済性の観点から０～５００ｇがより好ましい。
【0080】
アセチル化剤との反応における反応温度は、反応性及び収率の点から、－５０℃～溶媒の沸点温度が好ましく、－３０～８０℃がより好ましい。
アセチル化剤との反応における反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）又は薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）を用いて反応の進行を追跡して最適化するとよく、通常５分間～２４０時間が好ましい。
アセチル化剤との反応における反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）又は薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）を用いて反応の進行を追跡して最適化するとよく、通常５分間～２４０時間が好ましい。
【0081】
（ｉｉ）酢酸との脱水反応
６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）と酢酸との脱水反応は、一般に酸又はルイス酸触媒の存在下で行うことができる。
脱水反応における触媒としては、塩酸、臭化水素酸、硝酸及び硫酸等の無機酸類；トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸及びｐ－トルエンスルホン酸等の有機酸類；三塩化アルミニウム、アルミニウム＝エトキシド、アルミニウム＝イソプロポキシド、酸化アルミニウム、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、ヨウ化マグネシウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛、四塩化錫、四臭化錫、二塩化ジブチル錫、ジブチル錫＝ジメトキシド、ジブチル錫＝オキシド、四塩化チタン、四臭化チタン、チタン（ＩＶ）＝メトキシド、チタン（ＩＶ）＝エトキシド、チタン（ＩＶ）＝イソプロポキシド及び酸化チタン（ＩＶ）等のルイス酸類が挙げられる。
該酸は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、該酸は、市販されているものを用いることができる。
脱水反応における触媒の使用量は、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）１モルに対して、０．００１～１モルが好ましく、経済性及び反応性の観点から０．０１モル～０．１モルがより好ましい。
６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）と酢酸との脱水反応は、一般に酸又はルイス酸触媒の存在下で行うことができる。
脱水反応における触媒としては、塩酸、臭化水素酸、硝酸及び硫酸等の無機酸類；トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸及びｐ－トルエンスルホン酸等の有機酸類；三塩化アルミニウム、アルミニウム＝エトキシド、アルミニウム＝イソプロポキシド、酸化アルミニウム、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、ヨウ化マグネシウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛、四塩化錫、四臭化錫、二塩化ジブチル錫、ジブチル錫＝ジメトキシド、ジブチル錫＝オキシド、四塩化チタン、四臭化チタン、チタン（ＩＶ）＝メトキシド、チタン（ＩＶ）＝エトキシド、チタン（ＩＶ）＝イソプロポキシド及び酸化チタン（ＩＶ）等のルイス酸類が挙げられる。
該酸は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、該酸は、市販されているものを用いることができる。
脱水反応における触媒の使用量は、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）１モルに対して、０．００１～１モルが好ましく、経済性及び反応性の観点から０．０１モル～０．１モルがより好ましい。
【0082】
酢酸との脱水反応は、反応により副生する水を除去しながら行うことができる。例えば、常圧若しくは減圧下で、使用する反応溶媒と水とを共沸して留去する方法、又は反応系内へ無水硫酸マグネシウム、モレキュラーシーブ、ジシクロヘキシルカルボジイミド等の脱水剤を添加する方法等が挙げられる。
【0083】
脱水反応における溶媒としては、塩化メチレン及びクロロホルム等のハロゲン系溶媒類；ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン及びトルエン等の炭化水素系溶媒類；ジエチル＝エーテル、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン及びエチレン＝グリコール＝ジメチル＝エーテル等のエーテル系溶媒類；アセトニトリル等のニトリル系溶媒；アセトン、メチル＝エチル＝ケトン及びジイソブチル＝ケトン等のケトン系溶媒類；並びに、酢酸エチル及び酢酸ブチル等のエステル系溶媒類が挙げられる。
該溶媒は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、脱水反応の反応条件によっては、溶媒を使用せずに脱水反応をすることもできる。該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
脱水反応における溶媒の使用量は、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）１モルに対して、０～２０００ｇが好ましく、経済性の観点から０～５００ｇがより好ましい。
該溶媒は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、脱水反応の反応条件によっては、溶媒を使用せずに脱水反応をすることもできる。該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
脱水反応における溶媒の使用量は、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）１モルに対して、０～２０００ｇが好ましく、経済性の観点から０～５００ｇがより好ましい。
【0084】
脱水反応における反応温度は、用いる触媒の種類により適切な反応温度を選択できるが、一般的には、－５０～２００℃が好ましく、反応性及び収率の観点から－２０～１００℃がより好ましい。また、反応により副生する水を溶媒と共沸して留去する場合、常圧又は減圧下で、溶媒と水との共沸点以上の反応温度にて、実施することが好ましい。
脱水反応における反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）又は薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）を用いて反応の進行を追跡して最適化するとよく、通常５分間～２４０時間が好ましい。
脱水反応における反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）又は薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）を用いて反応の進行を追跡して最適化するとよく、通常５分間～２４０時間が好ましい。
【0085】
（ｉｉｉ）酢酸エステルとのエステル交換反応
エステル交換反応は、一般的に触媒の存在下で行い、反応中に酢酸エステルより副生するアルコールを常圧又は減圧下で除去して、反応を促進することができる。
エステル交換反応における酢酸エステルは、例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル及び酢酸フェニル等の酢酸エステルを使用することができる。これら酢酸エステルのうち、経済性、反応性、及び酢酸エステルより副生するアルコール除去の容易さの観点から、酢酸メチル及び酢酸エチルが好ましい。
エステル交換反応における酢酸エステルの使用量は、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）１モルに対して、１～５０モルが好ましく、１～５モルがより好ましい。
エステル交換反応は、一般的に触媒の存在下で行い、反応中に酢酸エステルより副生するアルコールを常圧又は減圧下で除去して、反応を促進することができる。
エステル交換反応における酢酸エステルは、例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル及び酢酸フェニル等の酢酸エステルを使用することができる。これら酢酸エステルのうち、経済性、反応性、及び酢酸エステルより副生するアルコール除去の容易さの観点から、酢酸メチル及び酢酸エチルが好ましい。
エステル交換反応における酢酸エステルの使用量は、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）１モルに対して、１～５０モルが好ましく、１～５モルがより好ましい。
【0086】
エステル交換反応における触媒としては、塩酸、臭化水素酸、硫酸及び硝酸等の無機酸類；シュウ酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸及びｐ－トルエンスルホン酸等の有機酸類；ナトリウム＝メトキシド、ナトリウム＝エトキシド、カリウム＝ｔ－ブトキシド及び４－ジメチルアミノピリジン等の塩基類；青酸ナトリウム、青酸カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸カルシウム、酢酸錫、酢酸アルミニウム、アセト酢酸アルミニウム及びアルミナ等の塩類；並びに、三塩化アルミニウム、アルミニウム＝エトキシド、アルミニウム＝イソプロポキシド、酸化アルミニウム、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、ヨウ化マグネシウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛、四塩化錫、四臭化錫、二塩化ジブチル錫、ジブチル錫＝ジメトキシド、ジブチル錫＝オキシド、四塩化チタン、四臭化チタン、チタン（ＩＶ）メトキシド、チタン（ＩＶ）＝エトキシド、チタン（ＩＶ）＝イソプロポキシド及び酸化チタン（ＩＶ）等のルイス酸類を挙げることができる。
該触媒は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、該触媒は、市販のものを用いることができる。
エステル交換反応における触媒の使用量は、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）１モルに対して、０．００１モル～１モルが好ましく、さらに好ましくは０．０１～０．０５モルである。
該触媒は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、該触媒は、市販のものを用いることができる。
エステル交換反応における触媒の使用量は、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）１モルに対して、０．００１モル～１モルが好ましく、さらに好ましくは０．０１～０．０５モルである。
【0087】
エステル交換反応における溶媒は、塩化メチレン及びクロロホルム等のハロゲン系溶媒類；ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン及びトルエン等の炭化水素系溶媒類；ジエチル＝エーテル、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン及びエチレン＝グリコール＝ジメチル＝エーテル等のエーテル系溶媒類；アセトニトリル等のニトリル系溶媒；アセトン、メチル＝エチル＝ケトン及びジイソブチル＝ケトン等のケトン系溶媒類；酢酸エチル及び酢酸ブチル等のエステル系溶媒類が挙げられる。
該溶媒は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、エステル交換反応の反応条件によっては、溶媒を用いずに、該エステル交換反応により副生したアルコール化合物、酢酸エステル及び触媒のみで実施することもできる。該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
エステル交換反応における溶媒の使用量は、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）１モルに対して、０～２０００ｇが好ましく、経済性の観点から０～５００ｇがより好ましい。
該溶媒は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、エステル交換反応の反応条件によっては、溶媒を用いずに、該エステル交換反応により副生したアルコール化合物、酢酸エステル及び触媒のみで実施することもできる。該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
エステル交換反応における溶媒の使用量は、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）１モルに対して、０～２０００ｇが好ましく、経済性の観点から０～５００ｇがより好ましい。
【0088】
エステル交換反応における反応温度は、酢酸エステル及び触媒の種類により適宜選択することができる。一般的には、該反応温度は、０℃～２００℃が好ましく、５０℃～１６０℃がより好ましい。反応中に酢酸エステルより副生するアルコールを除去し反応を促進する場合、常圧又は減圧下において除去するアルコールの沸点以上の反応温度にて、実施することが好ましい。
エステル交換反応における反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）又は薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）を用いて反応の進行を追跡して最適化するとよく、通常５分間～２４０時間が好ましい。
エステル交換反応における反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）又は薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）を用いて反応の進行を追跡して最適化するとよく、通常５分間～２４０時間が好ましい。
【0089】
（ｉｖ）６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）をアルキル化剤に変換し、その後に酢酸等によりアセトキシ化する反応
６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）をアルキル化剤に変換し、その後に酢酸等によりアセトキシ化する反応は、一般的に、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）を対応するアルキル化剤、例えば塩化物、臭化物及びヨウ化物等のハロゲン化物；メタンスルホン酸エステル、ベンゼンスルホン酸エステル及びｐ－トルエンスルホン酸エステル等のスルホン酸エステル等のアルキル化剤に変換後、得られたアルキル化剤を、塩基の存在下で酢酸と反応させて行うことができる。また、塩基を用いずに、酢酸の代わりに入手可能な酢酸ナトリウム及び酢酸カリウム等の酢酸金属塩を使用してもよい。
６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）をアルキル化剤に変換する工程と、酢酸等によりアセトキシ化する工程は、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）をアルキル化剤に変換する工程の後、そのまま一段階の工程でアセトキシ化する工程を行ってもよい。また、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）をアルキル化剤に変換する反応を停止後、有機層の洗浄、溶媒除去、そして必要に応じて、アルキル化剤の精製を経て、酢酸等によりアセトキシ化する工程等を行ってもよい。
６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）をアルキル化剤に変換し、その後に酢酸等によりアセトキシ化する反応は、一般的に、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）を対応するアルキル化剤、例えば塩化物、臭化物及びヨウ化物等のハロゲン化物；メタンスルホン酸エステル、ベンゼンスルホン酸エステル及びｐ－トルエンスルホン酸エステル等のスルホン酸エステル等のアルキル化剤に変換後、得られたアルキル化剤を、塩基の存在下で酢酸と反応させて行うことができる。また、塩基を用いずに、酢酸の代わりに入手可能な酢酸ナトリウム及び酢酸カリウム等の酢酸金属塩を使用してもよい。
６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）をアルキル化剤に変換する工程と、酢酸等によりアセトキシ化する工程は、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）をアルキル化剤に変換する工程の後、そのまま一段階の工程でアセトキシ化する工程を行ってもよい。また、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）をアルキル化剤に変換する反応を停止後、有機層の洗浄、溶媒除去、そして必要に応じて、アルキル化剤の精製を経て、酢酸等によりアセトキシ化する工程等を行ってもよい。
【0090】
６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）を対応するアルキル化剤に変換する反応は、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）を、ハロゲン化剤を用いて塩化物、臭化物又はヨウ化物に変換する反応、又はアルコール化合物をスルホニル化剤を用いてスルホン酸エステルに変換する反応等が挙げられる。
ハロゲン化剤としては、塩酸、三塩化リン、塩化チオニル、四塩化炭素、メタンスルホニル＝クロリド及びｐ－トルエンスルホニル＝クロリド等の塩素化剤；臭化水素酸、三臭化リン、臭化チオニル及び四臭化炭素等の臭素化剤；並びに、ヨウ化水素酸、ヨウ化カリウム及び三ヨウ化リン等のヨウ素化剤が挙げられる。
スルホニル化剤としては、メタンスルホニル＝クロリド、ベンゼンスルホニル＝クロリド及びｐ－トルエンスルホニル＝クロリド等が挙げられる。
６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）をアルキル化剤に変換する反応における、ハロゲン化剤又はスルホニル化剤の使用量は、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）１モルに対して、１～５０モルが好ましく、経済性の観点から１～１０モルがより好ましい。
ハロゲン化剤としては、塩酸、三塩化リン、塩化チオニル、四塩化炭素、メタンスルホニル＝クロリド及びｐ－トルエンスルホニル＝クロリド等の塩素化剤；臭化水素酸、三臭化リン、臭化チオニル及び四臭化炭素等の臭素化剤；並びに、ヨウ化水素酸、ヨウ化カリウム及び三ヨウ化リン等のヨウ素化剤が挙げられる。
スルホニル化剤としては、メタンスルホニル＝クロリド、ベンゼンスルホニル＝クロリド及びｐ－トルエンスルホニル＝クロリド等が挙げられる。
６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）をアルキル化剤に変換する反応における、ハロゲン化剤又はスルホニル化剤の使用量は、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）１モルに対して、１～５０モルが好ましく、経済性の観点から１～１０モルがより好ましい。
【0091】
６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）をアルキル化剤に変換する反応における溶媒は、塩化メチレン及びクロロホルム等のハロゲン系溶媒類；ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン及びトルエン等の炭化水素系溶媒類；ジエチル＝エーテル、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン及びエチレン＝グリコール＝ジメチル＝エーテル等のエーテル系溶媒類；アセトニトリル等のニトリル系溶媒；アセトン、メチル＝エチル＝ケトン及びジイソブチル＝ケトン等のケトン系溶媒類；酢酸エチル及び酢酸ブチル等のエステル系溶媒類；並びに、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、ジメチル＝スルホキシド及びヘキサメチルホスホリック＝トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類が挙げられる。
該溶媒は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、溶媒を使用せずに反応することもできる。該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）をアルキル化剤に変換する反応における溶媒の使用量は、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）１モルに対して、０～２０００ｇが好ましく、経済性の観点から０～５００ｇがより好ましい。
該溶媒は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、溶媒を使用せずに反応することもできる。該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）をアルキル化剤に変換する反応における溶媒の使用量は、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）１モルに対して、０～２０００ｇが好ましく、経済性の観点から０～５００ｇがより好ましい。
【0092】
６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）をアルキル化剤に変換する反応における反応温度は、反応性及び収率の点から－３０～２５０℃が好ましく、反応性及び収率の観点から、０～１８０℃がより好ましい。
【0093】
得られたアルキル化剤のアセトキシ化反応における酢酸又は酢酸金属塩の使用量は、アルキル化剤１モルに対して、１モル～５０モルが好ましく、経済性の観点から１～１０モルがより好ましい。
得られたアルキル化剤のアセトキシ化反応における塩基は、トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノピリジン及びジメチルアニリン等のアミン類；ｎ－ブチルリチウム、メチルリチウム及びフェニルリチウム等の有機リチウム化合物；水酸化ナトリウム及び水酸化カリウム等の金属水酸化物；炭酸カリウム、炭酸ナトリウム及び炭酸水素ナトリウム等の金属炭酸塩；並びに、水素化ナトリウム及び水素化カリウム等の金属水素化物等が挙げられる。
得られたアルキル化剤のアセトキシ化反応における塩基の使用量は、アルキル化剤１モルに対して、１～５０モルが好ましく、経済性の観点から１～１０モルがより好ましい。
得られたアルキル化剤のアセトキシ化反応における塩基は、トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノピリジン及びジメチルアニリン等のアミン類；ｎ－ブチルリチウム、メチルリチウム及びフェニルリチウム等の有機リチウム化合物；水酸化ナトリウム及び水酸化カリウム等の金属水酸化物；炭酸カリウム、炭酸ナトリウム及び炭酸水素ナトリウム等の金属炭酸塩；並びに、水素化ナトリウム及び水素化カリウム等の金属水素化物等が挙げられる。
得られたアルキル化剤のアセトキシ化反応における塩基の使用量は、アルキル化剤１モルに対して、１～５０モルが好ましく、経済性の観点から１～１０モルがより好ましい。
【0094】
得られたアルキル化剤のアセトキシ化反応における溶媒は、塩化メチレン及びクロロホルム等のハロゲン系溶媒類；ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン及びトルエン等の炭化水素系溶媒類；ジエチル＝エーテル、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン及びエチレン＝グリコール＝ジメチル＝エーテル等のエーテル系溶媒類；アセトニトリル等のニトリル系溶媒；アセトン、メチル＝エチル＝ケトン及びジイソブチル＝ケトン等のケトン系溶媒類；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒類；並びに、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、ジメチル＝スルホキシド及びヘキサメチルホスホリック＝トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類が挙げられる。
該溶媒は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、アルキル化剤の種類によっては、溶媒を使用せずに反応することもできる。
得られたアルキル化剤のアセトキシ化反応における溶媒の使用量は、アルキル化剤１モルに対して、０～２０００ｇが好ましく、経済性の観点から０～５００．０ｇがより好ましい。
該溶媒は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、アルキル化剤の種類によっては、溶媒を使用せずに反応することもできる。
得られたアルキル化剤のアセトキシ化反応における溶媒の使用量は、アルキル化剤１モルに対して、０～２０００ｇが好ましく、経済性の観点から０～５００．０ｇがより好ましい。
【0095】
得られたアルキル化剤のアセトキシ化反応における反応温度は、反応性及び収率の観点から、－３０～２５０℃が好ましく、反応性及び収率の観点から、２５～１８０℃がより好ましい。
【0096】
該アセトキシ化における反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）又は薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）を用いて、反応の進行を追跡して最適化するとよく、通常５分間～２４０時間が好ましい。
【0097】
該アセトキシ化において得られた６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート（５）の精製については、蒸留又は各種クロマトグラフィー等の通常の有機合成における精製方法から適宜選択して精製してもよく、工業的経済性の観点から、特に蒸留が好ましい。
【0098】
［４］工程Ａ
以下に、２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物（１）を得る工程Ａについて説明する。２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物（１）は、下記の化学反応式に示されている通り、上述の２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）の水酸基を変換することにより得られる。
以下に、２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物（１）を得る工程Ａについて説明する。２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物（１）は、下記の化学反応式に示されている通り、上述の２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）の水酸基を変換することにより得られる。
【化36】
【0099】
２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）は、下記式（６ａ）で表される（Ｚ）－２－メチル－２，６－ヘプタジエノール、及び下記式（６ｂ）で表される（Ｅ）－２－メチル－２，６－ヘプタジエノールとして存在しうる。これらの異性体は、単独であってもよく、又は混合物であってもよい。
【化37】
【0100】
２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）の製造方法は特に限定されないが、例えば、２－メチル－２，６－ヘプタジエン酸エステル化合物と還元剤との還元反応により得ることができる。
【0101】
脱離基Ｘがアシルオキシ基である場合には、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）の水酸基の変換反応として、エステル化反応を行う。エステル化反応としては、公知のエステルの製造方法、例えば、（ｉ）アシル化剤との反応、（ｉｉ）カルボン酸との反応、（ｉｉｉ）エステル交換反応、（ｉｖ）２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）の水酸基を脱離基に変換し、その後にカルボン酸と反応させる方法等を適用できる。
【0102】
（ｉ）アシル化剤との反応
アシル化剤との反応では、単独又は２種類以上の混合溶媒中、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）を、アシル化剤、そして塩基の順に或いはその逆の順に、又はアシル化剤及び塩基と同時に反応させる方法が適用できる。
アシル化剤としては、塩化アシル及び臭化アシル等のハロゲン化アシル；カルボン酸無水物、カルボン酸トリフルオロ酢酸混合酸無水物、カルボン酸メタンスルホン酸混合酸無水物、カルボン酸トリフルオロメタンスルホン酸混合酸無水物、カルボン酸ベンゼンスルホン酸混合酸無水物及びカルボン酸ｐ－トルエンスルホン酸混合酸無水物等のカルボン酸混合酸無水物；並びに、カルボン酸ｐ－ニトロフェニル等が挙げられる。
塩化アシルの具体例としては、アセチル＝クロリド、プロピオニル＝クロリド、クロトノイル＝クロリド及びベンゾイル＝クロリド等が挙げられる。カルボン酸無水物としては、無水酢酸及び無水プロピオン酸等が挙げられる。
アシル化剤の使用量は、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）１モルに対して、好ましくは１～５００モル、より好ましくは１～５０モル、さらに好ましくは１～５モルの範囲である。
アシル化剤との反応では、単独又は２種類以上の混合溶媒中、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）を、アシル化剤、そして塩基の順に或いはその逆の順に、又はアシル化剤及び塩基と同時に反応させる方法が適用できる。
アシル化剤としては、塩化アシル及び臭化アシル等のハロゲン化アシル；カルボン酸無水物、カルボン酸トリフルオロ酢酸混合酸無水物、カルボン酸メタンスルホン酸混合酸無水物、カルボン酸トリフルオロメタンスルホン酸混合酸無水物、カルボン酸ベンゼンスルホン酸混合酸無水物及びカルボン酸ｐ－トルエンスルホン酸混合酸無水物等のカルボン酸混合酸無水物；並びに、カルボン酸ｐ－ニトロフェニル等が挙げられる。
塩化アシルの具体例としては、アセチル＝クロリド、プロピオニル＝クロリド、クロトノイル＝クロリド及びベンゾイル＝クロリド等が挙げられる。カルボン酸無水物としては、無水酢酸及び無水プロピオン酸等が挙げられる。
アシル化剤の使用量は、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）１モルに対して、好ましくは１～５００モル、より好ましくは１～５０モル、さらに好ましくは１～５モルの範囲である。
【0103】
アシル化剤との反応に用いる塩基としては、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ－ジエチルアニリン、ピリジン、２－エチルピリジン及び４－ジメチルアミノピリジン等が挙げられる。
該塩基の使用量は、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）１モルに対して、１～５００モルである。
該塩基の使用量は、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）１モルに対して、１～５００モルである。
【0104】
アシル化剤との反応に用いる溶媒としては、上記塩基を溶媒として用いてもよいし、塩化メチレン、クロロホルム及びトリクロロエチレン等の塩素系溶剤類；へキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクメン等の炭化水素類；ジエチル＝エーテル、ジブチル＝エーテル、ジエチレングリコール＝ジエチル＝エーテル、ジエチレングリコール＝ジメチル＝エーテル、テトラヒドロフラン及び１，４－ジオキサン等のエーテル類；アセトニトリル等のニトリル類；アセトン及び２－ブタノン等のケトン類；酢酸エチル及び酢酸ｎ－ブチル等のエステル類；並びに、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチル＝スルホキシド及びヘキサメチルホスホリック＝トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類が挙げられる。
該溶媒は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
該溶媒の使用量は、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）１モルに対して、好ましくは１０～１，０００，０００ｇである。
該溶媒は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
該溶媒の使用量は、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）１モルに対して、好ましくは１０～１，０００，０００ｇである。
【0105】
カルボン酸無水物、カルボン酸混合酸無水物及びカルボン酸ｐ－ニトロフェニル等のアシル化剤を用いる反応では、塩基の代わりに酸触媒下にて反応を行うこともできる。
酸触媒としては、塩酸、臭化水素酸、硫酸及び硝酸等の無機酸類；シュウ酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸及びｐ－トルエンスルホン酸等の有機酸類；三塩化アルミニウム、アルミニウム＝エトキシド、アルミニウム＝イソプロポキシド、酸化アルミニウム、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、ヨウ化マグネシウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛、四塩化錫、四臭化錫、二塩化ジブチル錫、ジブチル錫＝ジメトキシド、ジブチル錫＝オキシド、四塩化チタン、四臭化チタン、チタン（ＩＶ）＝メトキシド、チタン（ＩＶ）＝エトキシド、チタン（ＩＶ）＝イソプロポキシド及び酸化チタン（ＩＶ）等のルイス酸（Ｌｅｗｉｓ ａｃｉｄ）類等が挙げられる。
該酸触媒は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、該酸触媒は、市販のものを用いることができる。
カルボン酸無水物、カルボン酸混合酸無水物及びカルボン酸ｐ－ニトロフェニル等のアシル化剤との反応に用いる酸触媒の使用量は、０．０００１～１００モルが好ましい。
酸触媒としては、塩酸、臭化水素酸、硫酸及び硝酸等の無機酸類；シュウ酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸及びｐ－トルエンスルホン酸等の有機酸類；三塩化アルミニウム、アルミニウム＝エトキシド、アルミニウム＝イソプロポキシド、酸化アルミニウム、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、ヨウ化マグネシウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛、四塩化錫、四臭化錫、二塩化ジブチル錫、ジブチル錫＝ジメトキシド、ジブチル錫＝オキシド、四塩化チタン、四臭化チタン、チタン（ＩＶ）＝メトキシド、チタン（ＩＶ）＝エトキシド、チタン（ＩＶ）＝イソプロポキシド及び酸化チタン（ＩＶ）等のルイス酸（Ｌｅｗｉｓ ａｃｉｄ）類等が挙げられる。
該酸触媒は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、該酸触媒は、市販のものを用いることができる。
カルボン酸無水物、カルボン酸混合酸無水物及びカルボン酸ｐ－ニトロフェニル等のアシル化剤との反応に用いる酸触媒の使用量は、０．０００１～１００モルが好ましい。
【0106】
アシル化剤との反応における反応温度は、用いるアシル化剤の種類及び／又は反応条件により適切な反応温度を選択できるが、一般的には、－５０℃～溶媒の沸点温度が好ましく、－２０℃～室温（５℃～３５℃、以下同じ）がより好ましい。
アシル化剤との反応における反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）又は薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）を用いて反応の進行を追跡して最適化するとよく、通常５分間～２４０時間が好ましい。
アシル化剤との反応における反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）又は薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）を用いて反応の進行を追跡して最適化するとよく、通常５分間～２４０時間が好ましい。
【0107】
（ｉｉ）カルボン酸との反応
カルボン酸との反応は、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）とカルボン酸との脱水反応であり、酸触媒存在下にて行うのが一般的である。
カルボン酸との反応は、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）とカルボン酸との脱水反応であり、酸触媒存在下にて行うのが一般的である。
【0108】
２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）とカルボン酸との反応におけるカルボン酸の具体例としては、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸及びカプロン酸等の直鎖状の飽和カルボン酸；イソ酪酸、イソ吉草酸、４－メチルペンタン酸、２－メチルブタン酸及びピバル酸等の分岐状の飽和カルボン酸；アクリル酸、クロトン酸及び３－ブテン酸等の直鎖状の不飽和カルボン酸；メタクリル酸、セネシオ酸、チグリン酸、アンゲリカ酸、３－メチル－４－ペンテン酸及び４－メチル－４－ペンテン酸等の分岐状の不飽和カルボン酸；並びに、安息香酸等の芳香族カルボン酸等が挙げられる。
カルボン酸の使用量は、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）１モルに対して、好ましくは１～５００モル、より好ましくは１～５０モル、さらに好ましくは１～５モルである。
カルボン酸の使用量は、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）１モルに対して、好ましくは１～５００モル、より好ましくは１～５０モル、さらに好ましくは１～５モルである。
【0109】
２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）とカルボン酸との反応を用いる場合に、酸触媒を用いてもよい。該酸触媒としては、上述のアシル化剤との反応で用いる酸触媒と同じである。
該酸触媒の使用量は、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）１モルに対して、好ましくは０．０００１～１００モル、より好ましくは０．００１～１モル、さらに好ましくは０．０１～０．０５モルである。
該酸触媒の使用量は、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）１モルに対して、好ましくは０．０００１～１００モル、より好ましくは０．００１～１モル、さらに好ましくは０．０１～０．０５モルである。
【0110】
２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）とカルボン酸との反応に用いる溶媒及びその使用量は、上記アシル化剤との反応に用いる溶媒及びその使用量と同じである。
２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）とカルボン酸との反応温度は、反応条件により適切な反応温度を選択できるが、一般的には、－５０℃～溶媒の沸点温度が好ましく、室温～溶媒の沸点温度がさらに好ましい。
また、へキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクメン等の炭化水素類を含む溶媒を用いて、生じる水を共沸により反応系外に除去しながら反応を進行させてもよい。この場合、常圧で溶媒の沸点で還流しながら水を留去してもよいし、又は、減圧下、沸点より低い温度にて水の留去を行ってもよい。
カルボン酸との反応における反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）又は薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）を用いて反応の進行を追跡して最適化するとよく、通常５分間～２４０時間が好ましい。
２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）とカルボン酸との反応温度は、反応条件により適切な反応温度を選択できるが、一般的には、－５０℃～溶媒の沸点温度が好ましく、室温～溶媒の沸点温度がさらに好ましい。
また、へキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクメン等の炭化水素類を含む溶媒を用いて、生じる水を共沸により反応系外に除去しながら反応を進行させてもよい。この場合、常圧で溶媒の沸点で還流しながら水を留去してもよいし、又は、減圧下、沸点より低い温度にて水の留去を行ってもよい。
カルボン酸との反応における反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）又は薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）を用いて反応の進行を追跡して最適化するとよく、通常５分間～２４０時間が好ましい。
【0111】
（ｉｉｉ）エステル交換反応
エステル交換反応は、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）とカルボン酸アルキルとを触媒の存在下で反応させ、生じたアルコールを除去することにより実施する。
カルボン酸アルキルとしては、カルボン酸の一級アルキルエステルが好ましく、価格及び／又は反応の進行のし易さ等の観点から、カルボン酸メチル、カルボン酸エチル及びカルボン酸ｎ－プロピルがより好ましい。
カルボン酸としては、カルボン酸と反応させるエステル化反応におけるカルボン酸と同じ化合物が挙げられる。
カルボン酸アルキルの使用量は、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）１モルに対して、好ましくは１～５００モル、より好ましくは１～５０モル、さらに好ましくは１～５モルである。
エステル交換反応は、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）とカルボン酸アルキルとを触媒の存在下で反応させ、生じたアルコールを除去することにより実施する。
カルボン酸アルキルとしては、カルボン酸の一級アルキルエステルが好ましく、価格及び／又は反応の進行のし易さ等の観点から、カルボン酸メチル、カルボン酸エチル及びカルボン酸ｎ－プロピルがより好ましい。
カルボン酸としては、カルボン酸と反応させるエステル化反応におけるカルボン酸と同じ化合物が挙げられる。
カルボン酸アルキルの使用量は、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）１モルに対して、好ましくは１～５００モル、より好ましくは１～５０モル、さらに好ましくは１～５モルである。
【0112】
エステル交換反応に用いる触媒としては、塩酸、臭化水素酸、硫酸及び硝酸等の無機酸類、シュウ酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸及びｐ－トルエンスルホン酸等の有機酸類；ナトリウム＝メトキシド、ナトリウム＝エトキシド、カリウム＝ｔ－ブトキシド及び４－ジメチルアミノピリジン等の塩基類；青酸ナトリウム、青酸カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸カルシウム、酢酸錫、酢酸アルミニウム、アセト酢酸アルミニウム及びアルミナ等の塩類；三塩化アルミニウム、アルミニウム＝エトキシド、アルミニウム＝イソプロポキシド、酸化アルミニウム、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、ヨウ化マグネシウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛、四塩化錫、四臭化錫、二塩化ジブチル錫、ジブチル錫＝ジメトキシド、ジブチル錫＝オキシド、四塩化チタン、四臭化チタン、チタン（ＩＶ）メトキシド、チタン（ＩＶ）＝エトキシド、チタン（ＩＶ）＝イソプロポキシド及び酸化チタン（ＩＶ）等のルイス酸（Ｌｅｗｉｓ ａｃｉｄ）類を挙げることができる。
該触媒は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、該触媒は、市販のものを用いることができる。
該触媒の使用量は、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）１モルに対して、好ましくは０．０００１～１００モル、より好ましくは０．００１～１モル、さらに好ましくは０．０１～０．０５モルである。
該触媒は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、該触媒は、市販のものを用いることができる。
該触媒の使用量は、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）１モルに対して、好ましくは０．０００１～１００モル、より好ましくは０．００１～１モル、さらに好ましくは０．０１～０．０５モルである。
【0113】
エステル交換反応は、反応試薬であるカルボン酸アルキル自身を溶媒として用いて、無溶媒で行ってもよく、又は溶媒を補助的に用いてもよい。無溶媒の場合には、余計な濃縮及び媒回収等の操作を必要としないことから、無溶媒で行うことが好ましい。
エステル交換反応に用いる溶媒としては、へキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクメン等の炭化水素類；並びに、ジエチル＝エーテル、ジブチル＝エーテル、ジエチレン＝グリコール＝ジエチル＝エーテル、ジエチレン＝グリコール＝ジメチル＝エーテル、テトラヒドロフラン及び１，４－ジオキサン等のエーテル類が挙げられる。
該溶媒は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販のものを用いることができる。
該溶媒の使用量は、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）１モルに対して、好ましくは１０～１，０００，０００ｇである。
エステル交換反応に用いる溶媒としては、へキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクメン等の炭化水素類；並びに、ジエチル＝エーテル、ジブチル＝エーテル、ジエチレン＝グリコール＝ジエチル＝エーテル、ジエチレン＝グリコール＝ジメチル＝エーテル、テトラヒドロフラン及び１，４－ジオキサン等のエーテル類が挙げられる。
該溶媒は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販のものを用いることができる。
該溶媒の使用量は、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）１モルに対して、好ましくは１０～１，０００，０００ｇである。
【0114】
エステル交換反応における反応温度は、用いるカルボン酸アルキルの種類及び／又は反応条件により適切な反応温度を選択でき、通常、加熱下にて行われる。反応の進行のし易さ等の観点から、エステル交換反応により生じた低沸点の炭素数１～３の低級アルコール、即ち、メタノール、エタノール、１－プロパノール等の沸点付近で反応を行い、生じた低級アルコールを留去しながら行うことが好ましい。減圧下にて、沸点より低い温度にてアルコールの留去を行ってもよい。
エステル交換反応における反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）又は薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）を用いて、反応の進行を追跡して最適化するとよく、通常５分間～２４０時間が好ましい。
エステル交換反応における反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）又は薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）を用いて、反応の進行を追跡して最適化するとよく、通常５分間～２４０時間が好ましい。
【0115】
（ｉｖ）２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）の水酸基を脱離基に変換し、その後にカルボン酸と反応させる方法
２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）の水酸基を脱離基に変換し、その後にカルボン酸と反応させる方法では、例えば、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）の水酸基を、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等のハロゲン原子、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート等のアルカンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホネート及びｐ－トルエンスルホネート等のアレーンスルホニルオキシ等の脱離基に変換し、そして、溶媒中、塩基の存在下にて、これらとカルボン酸とを反応させる。また、塩基を用いずに、カルボン酸の代わりに入手可能なカルボン酸ナトリウム及びカルボン酸カリウム等のカルボン酸金属塩を使用してもよい。
カルボン酸は、上記カルボン酸との反応におけるカルボン酸と同様の化合物が挙げられる。
カルボン酸の使用量は、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）１モルに対して、好ましくは１～５００モル、より好ましくは１～５０モル、さらに好ましくは１～５モルである。
上述の塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノピリジン及びジメチルアニリン等のアミン類；ｎ－ブチルリチウム、メチルリチウム及びフェニルリチウム等の有機リチウム化合物；水酸化ナトリウム及び水酸化カリウム等の金属水酸化物；炭酸カリウム、炭酸ナトリウム及び炭酸水素ナトリウム等の金属炭酸塩；並びに、水素化ナトリウム及び水素化カリウム等の金属水素化物等が挙げられる。
該塩基の使用量は、アルキル化剤１モルに対して、１～５０モルが好ましく、経済性の観点から１～１０モルがより好ましい。
２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）の水酸基を脱離基に変換し、その後にカルボン酸と反応させる方法では、例えば、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）の水酸基を、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等のハロゲン原子、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネート等のアルカンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホネート及びｐ－トルエンスルホネート等のアレーンスルホニルオキシ等の脱離基に変換し、そして、溶媒中、塩基の存在下にて、これらとカルボン酸とを反応させる。また、塩基を用いずに、カルボン酸の代わりに入手可能なカルボン酸ナトリウム及びカルボン酸カリウム等のカルボン酸金属塩を使用してもよい。
カルボン酸は、上記カルボン酸との反応におけるカルボン酸と同様の化合物が挙げられる。
カルボン酸の使用量は、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）１モルに対して、好ましくは１～５００モル、より好ましくは１～５０モル、さらに好ましくは１～５モルである。
上述の塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノピリジン及びジメチルアニリン等のアミン類；ｎ－ブチルリチウム、メチルリチウム及びフェニルリチウム等の有機リチウム化合物；水酸化ナトリウム及び水酸化カリウム等の金属水酸化物；炭酸カリウム、炭酸ナトリウム及び炭酸水素ナトリウム等の金属炭酸塩；並びに、水素化ナトリウム及び水素化カリウム等の金属水素化物等が挙げられる。
該塩基の使用量は、アルキル化剤１モルに対して、１～５０モルが好ましく、経済性の観点から１～１０モルがより好ましい。
【0116】
２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）の水酸基を脱離基に変換し、その後に、カルボン酸と反応させる方法に用いられる溶媒、溶媒の使用量、反応時間及び反応温度としては、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）とアシル化剤との反応で述べた溶媒、溶媒の使用量、反応時間及び反応温度と同じである。
【0117】
カルボン酸を溶媒中、塩基の存在下で反応させる代わりに、カルボン酸ナトリウム、カルボン酸リチウム、カルボン酸カリウム及びカルボン酸アンモニウム等のカルボン酸塩を用いてもよい。カルボン酸塩の使用量は、カルボン酸と反応させるエステル化反応におけるカルボン酸の使用量と同じである。
【0118】
脱離基Ｘがアルカンスルホニルオキシ基である場合には、アルカンスルホニル化剤を用いて、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）の水酸基の変換反応を行う。アルカンスルホニル化剤との反応では、単独又は２種類以上の混合溶媒中、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）を、アルカンスルホニル化剤、そして塩基の順に或いはその逆の順に又はアルカンスルホニル化剤及び塩基と同時に反応させる方法が適用できる。
アルカンスルホニル化剤としては、メタンスルホン酸無水物、エタンスルホン酸無水物及びトリフルオロメタンスルホン酸無水物等の置換基を有していてもよいアルカンスルホン酸無水物；並びにメタンスルホニル＝クロリド、エタンスルホニル＝クロリド及びトリフルオロメタンスルホニル＝クロリド等の置換基を有していてもよいアルカンスルホン酸ハロゲン化物等が挙げられる。
アルカンスルホニル化剤の使用量は、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）１モルに対して、好ましくは１～５００モル、より好ましくは１～５０モル、さらに好ましくは１～５モルの範囲である。
アルカンスルホニル化剤としては、メタンスルホン酸無水物、エタンスルホン酸無水物及びトリフルオロメタンスルホン酸無水物等の置換基を有していてもよいアルカンスルホン酸無水物；並びにメタンスルホニル＝クロリド、エタンスルホニル＝クロリド及びトリフルオロメタンスルホニル＝クロリド等の置換基を有していてもよいアルカンスルホン酸ハロゲン化物等が挙げられる。
アルカンスルホニル化剤の使用量は、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）１モルに対して、好ましくは１～５００モル、より好ましくは１～５０モル、さらに好ましくは１～５モルの範囲である。
【0119】
アルカンスルホニル化剤との反応に用いる塩基としては、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリ－ｎ－プロピルアミン、トリ－ｎ－ブチルアミン、ジアザビシクロノネン（ＤＢＮ）、ジアザビシクロウンデセン（ＤＢＵ）、Ｎ－メチルモルホリン及びＮ，Ｎ－ジメチルアニリン等のアミン類；ピリジン、メチルエチルピリジン、ルチジン及びＮ，Ｎ－ジメチル－４－アミノピリジン等のピリジン類；イミダゾール及びピラゾール類等の有機塩基類；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム及び水酸化バリウム等のアルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム及び炭酸バリウム等のアルカリ金属又はアルカリ土類金属の炭酸塩；ナトリウム＝エトキシド等の金属アルコキシド；ナトリウム＝アミド及びリチウム＝アミド等のアルカリ金属アミド；並びに、水素化ナトリウム及び水素化リチウム等の水素化アルカリ金属等の無機塩基類等が挙げられ、好ましい例としては、ピリジン及びトリエチルアミンを挙げることができる。
塩基の使用量は、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）１モルに対して、好ましくは１～５００モルである。
塩基の使用量は、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）１モルに対して、好ましくは１～５００モルである。
【0120】
アルカンスルホニル化剤との反応に用いる溶媒としては、上記塩基を溶媒として用いてもよいし、塩化メチレン、クロロホルム及びトリクロロエチレン等の塩素系溶剤類；へキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクメン等の炭化水素類；ジエチル＝エーテル、ジブチル＝エーテル、ジエチレングリコール＝ジエチル＝エーテル、ジエチレングリコール＝ジメチル＝エーテル、テトラヒドロフラン及び１，４－ジオキサン等のエーテル類；アセトニトリル等のニトリル類；アセトン及び２－ブタノン等のケトン類；酢酸エチル及び酢酸ｎ－ブチル等のエステル類；並びに、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチル＝スルホキシド及びヘキサメチルホスホリック＝トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類が挙げられる。
該溶媒は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
該溶媒の使用量は、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）１モルに対して、好ましくは１０～１，０００，０００ｇである。
該溶媒は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
該溶媒の使用量は、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）１モルに対して、好ましくは１０～１，０００，０００ｇである。
【0121】
アルカンスルホニル化剤との反応における反応温度は、用いるアルカンスルホニル化剤の種類及び／又は反応条件により適切な反応温度を選択できるが、一般的には、－５０℃～溶媒の沸点温度が好ましく、－２０℃～室温（５℃～３５℃）がより好ましい。
アルカンスルホニル化剤との反応における反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）又は薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）を用いて反応の進行を追跡して最適化するとよく、通常５分間～２４０時間が好ましい。
アルカンスルホニル化剤との反応における反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）又は薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）を用いて反応の進行を追跡して最適化するとよく、通常５分間～２４０時間が好ましい。
【0122】
脱離基Ｘがアレーンスルホニルオキシ基である場合には、アレーンスルホニル化剤を用いて、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）の水酸基の変換反応を行う。アレーンスルホニル化剤との反応では、単独又は２種類以上の混合溶媒中、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）を、アレーンスルホニル化剤、そして塩基の順に或いはその逆の順に又はアレーンスルホニル化剤及び塩基と同時に反応させる方法が適用できる。
アレーンスルホニル化剤としては、ベンゼンスルホン酸無水物及びｐ－トルエンスルホン酸無水物等のアレーンスルホン酸無水物；並びに、ベンゼンスルホニル＝クロリド及びｐ－トルエンスルホニル＝クロリド等のアレーンスルホン酸ハロゲン化物等が挙げられる。
アレーンスルホニル化剤の使用量は、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）１モルに対して、好ましくは１～５００モル、より好ましくは１～５０モル、さらに好ましくは１～５モルの範囲である。
アレーンスルホニル化剤としては、ベンゼンスルホン酸無水物及びｐ－トルエンスルホン酸無水物等のアレーンスルホン酸無水物；並びに、ベンゼンスルホニル＝クロリド及びｐ－トルエンスルホニル＝クロリド等のアレーンスルホン酸ハロゲン化物等が挙げられる。
アレーンスルホニル化剤の使用量は、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）１モルに対して、好ましくは１～５００モル、より好ましくは１～５０モル、さらに好ましくは１～５モルの範囲である。
【0123】
アレーンスルホニル化剤との反応に用いる塩基、塩基の使用量、溶媒、溶媒の使用量、反応時間及び反応温度としては、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）とアルカンスルホニル化剤との反応で述べた塩基、塩基の使用量、溶媒、溶媒の使用量、反応時間及び反応温度と同じである。
【0124】
脱離基Ｘがハロゲン原子である場合には、ハロゲン化剤を用いて、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）の水酸基の変換反応を行う。ハロゲン化剤との反応では、単独又は２種類以上の混合溶媒中、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）を、ハロゲン化剤、そして塩基の順に或いはその逆の順に又はハロゲン化剤及び塩基を同時に反応させる。
ハロゲン化剤としては、塩化チオニル及び臭化チオニル等のハロゲン化チオニル；三塩化リン、三臭化リン、五塩化リン及び五臭化リン等のハロゲン化リン化合物；オキシ塩化リン及びオキシ臭化リン等のオキシハロゲン化リン化合物；並びに、ジクロロトリフェニルホスホラン及びジブロモトリフェニルホスホラン等の芳香族ハロゲン化リン化合物等が挙げられる。
また、上記ハロゲン化剤の代わりに、メタンスルホニル＝クロリド、エタンスルホニル＝クロリド及びトリフルオロメタンスルホニル＝クロリド等のスルホン酸ハロゲン化物を用いた場合、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）の水酸基はスルホニル化されるが、その後、必要に応じて加熱することにより、スルホニルオキシ基を、スルホン酸ハロゲン化物に対応するハロゲン原子に変換することができる。
また、上記のスルホン酸ハロゲン化物以外のスルホニル化剤により水酸基をスルホニル化した場合、又は上記のハロゲン化剤により水酸基をハロゲン化した場合においても、その後に、金属ハロゲン化物又は四級オニウム塩等のハロゲン化剤を加えて、対応するハロゲン化物に変換することができる。
金属ハロゲン化物としては、臭化リチウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム及びヨウ化カリウム等が挙げられる。
四級オニウム塩としては、例えば、テトラエチルアンモニウム＝ブロミド、テトラブチルアンモニウム＝ブロミド、テトラブチルホスホニウム＝ブロミド、テトラエチルアンモニウム＝ヨージド、テトラブチルアンモニウム＝ヨージド、テトラブチルホスホニウム＝ヨージド等が挙げられる。
ハロゲン化剤の使用量は、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）１モルに対して、好ましくは１～５００モル、より好ましくは１～５０モル、さらに好ましくは１～５モルの範囲である。
ハロゲン化剤としては、塩化チオニル及び臭化チオニル等のハロゲン化チオニル；三塩化リン、三臭化リン、五塩化リン及び五臭化リン等のハロゲン化リン化合物；オキシ塩化リン及びオキシ臭化リン等のオキシハロゲン化リン化合物；並びに、ジクロロトリフェニルホスホラン及びジブロモトリフェニルホスホラン等の芳香族ハロゲン化リン化合物等が挙げられる。
また、上記ハロゲン化剤の代わりに、メタンスルホニル＝クロリド、エタンスルホニル＝クロリド及びトリフルオロメタンスルホニル＝クロリド等のスルホン酸ハロゲン化物を用いた場合、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）の水酸基はスルホニル化されるが、その後、必要に応じて加熱することにより、スルホニルオキシ基を、スルホン酸ハロゲン化物に対応するハロゲン原子に変換することができる。
また、上記のスルホン酸ハロゲン化物以外のスルホニル化剤により水酸基をスルホニル化した場合、又は上記のハロゲン化剤により水酸基をハロゲン化した場合においても、その後に、金属ハロゲン化物又は四級オニウム塩等のハロゲン化剤を加えて、対応するハロゲン化物に変換することができる。
金属ハロゲン化物としては、臭化リチウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム及びヨウ化カリウム等が挙げられる。
四級オニウム塩としては、例えば、テトラエチルアンモニウム＝ブロミド、テトラブチルアンモニウム＝ブロミド、テトラブチルホスホニウム＝ブロミド、テトラエチルアンモニウム＝ヨージド、テトラブチルアンモニウム＝ヨージド、テトラブチルホスホニウム＝ヨージド等が挙げられる。
ハロゲン化剤の使用量は、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）１モルに対して、好ましくは１～５００モル、より好ましくは１～５０モル、さらに好ましくは１～５モルの範囲である。
【0125】
ハロゲン化剤との反応に用いる塩基、塩基の使用量、溶媒、溶媒の使用量、反応時間及び反応温度としては、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）とアルカンスルホニル化剤との反応で述べた塩基、塩基の使用量、溶媒、溶媒の使用量、反応時間及び反応温度と同じである。
【0126】
水酸基の変換反応において得られた、１位に脱離基Ｘを有する２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物（１）が十分な純度を有している場合には、粗生成物のまま次の工程に用いてもよく、又は蒸留若しくは各種クロマトグラフィー等の通常の有機合成における精製方法から適宜選択して精製してもよく、工業的経済性の観点から、特に蒸留が好ましい。
【0127】
本発明の１つの実施の形態としての上記工程Ａ～Ｄでは、該工程Ｃにおいて、１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）を脱保護反応に付すことにより、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）を得、次に工程Ｄで、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）をアセチル化して、目的化合物である６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート（５）を得ることができる。本発明者らは、上記の化学反応式に示される上記工程Ｃ及び工程Ｄの代わりに、脱保護反応条件下でアセチル化剤を用いることにより、上記工程Ｄを経ること無しに、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート（５）を得ることができることをさらに見出した。すなわち、脱保護反応条件下でアセチル化剤を用いることにより、該脱保護反応に引き続き、アセチル化反応が生じると考えられることから、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート（５）が１工程で得られることができる。該脱保護反応に引き続き、アセチル化反応が生じるかどうかは、例えば、１位に保護された水酸基を有する６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン化合物（３）の保護基の種類に依存する。該保護基としては、例えば酸による脱保護が可能なものであり、具体的には１－エトキシエチル基等のオキシアルキル基が挙げられる。例えば、塩酸、臭化水素酸、硝酸及び硫酸等の無機酸類；トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸及びｐ－トルエンスルホン酸等の有機酸類；三塩化アルミニウム、アルミニウム＝エトキシド、アルミニウム＝イソプロポキシド、酸化アルミニウム、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、ヨウ化マグネシウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛、四塩化錫、四臭化錫、二塩化ジブチル錫、ジブチル錫＝ジメトキシド、ジブチル錫＝オキシド、四塩化チタン、四臭化チタン、チタン（ＩＶ）＝メトキシド、チタン（ＩＶ）＝エトキシド、チタン（ＩＶ）＝イソプロポキシド及び酸化チタン（ＩＶ）等のルイス酸類；並びに、酢酸ナトリウム及び酢酸カリウム等の酢酸金属塩類等の酸触媒存在下にて、無水酢酸等のアセチル化剤を反応系に加えることにより、上記脱保護反応に引き続き、アセチル化反応を１工程で進行させることができる。好ましくは、ｐ－トルエンスルホン酸等の酸触媒存在下にて、無水酢酸等のアセチル化剤を反応系に加えることにより、上記脱保護反応に引き続き、アセチル化反応を１工程で進行させることができる（下記の実施例１９を参照）。
【0128】
以上のようにして、効率的かつ工業的な６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート（５）の製造方法、並びにその有用な中間体２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物（１’）及び２－メチル－２，６－ヘプタジエン化合物（１’’）が提供される。
【実施例】
【0129】
以下、実施例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
なお、以下において、「純度」は、特に明記しない限り、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）分析によって得られた面積百分率を示し、「生成比」は、ＧＣ分析によって得られた面積百分率の相対比を示す。また「収率」は、ＧＣ分析によって得られた面積百分率を基に算出した収率を示す。
化合物のスペクトル測定のためのサンプルは、場合により粗生成物を精製して得たものである。
各実施例において、反応のモニタリングや収率の算出は、次のＧＣ条件に従って行った。
ＧＣ条件:ＧＣ：島津製作所 キャピラリガスクロマトグラフ ＧＣ－２０１４，カラム：ＤＢ－５，０．２５μｍｘ０．２５ｍｍφｘ３０ｍ，キャリアーガス：Ｈｅ（１．５５ｍＬ／分）、検出器:ＦＩＤ，カラム温度：１００℃ １０℃／分昇温 ２３０℃。
各実施例において、反応のモニタリングを薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）により行った場合もある。ＴＬＣに示されているカッコ内の溶媒は、使用した溶出溶媒又は展開溶媒を示し、割合は体積比を表す。
収率は、原料及び生成物の純度（％ＧＣ）を考慮して、以下の式に従い計算した。
収率（％）＝｛[(反応によって得られた生成物の重量×％ＧＣ)/生成物の分子量]
÷[ (反応における出発原料の重量×％ＧＣ)/出発原料の分子量]｝×１００
なお、「粗収率」とは、精製せずに算出した収率をいう。
なお、以下において、「純度」は、特に明記しない限り、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）分析によって得られた面積百分率を示し、「生成比」は、ＧＣ分析によって得られた面積百分率の相対比を示す。また「収率」は、ＧＣ分析によって得られた面積百分率を基に算出した収率を示す。
化合物のスペクトル測定のためのサンプルは、場合により粗生成物を精製して得たものである。
各実施例において、反応のモニタリングや収率の算出は、次のＧＣ条件に従って行った。
ＧＣ条件:ＧＣ：島津製作所 キャピラリガスクロマトグラフ ＧＣ－２０１４，カラム：ＤＢ－５，０．２５μｍｘ０．２５ｍｍφｘ３０ｍ，キャリアーガス：Ｈｅ（１．５５ｍＬ／分）、検出器:ＦＩＤ，カラム温度：１００℃ １０℃／分昇温 ２３０℃。
各実施例において、反応のモニタリングを薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）により行った場合もある。ＴＬＣに示されているカッコ内の溶媒は、使用した溶出溶媒又は展開溶媒を示し、割合は体積比を表す。
収率は、原料及び生成物の純度（％ＧＣ）を考慮して、以下の式に従い計算した。
収率（％）＝｛[(反応によって得られた生成物の重量×％ＧＣ)/生成物の分子量]
÷[ (反応における出発原料の重量×％ＧＣ)/出発原料の分子量]｝×１００
なお、「粗収率」とは、精製せずに算出した収率をいう。
【0130】
実施例１
２－メチル－２，６－ヘプタジエニル＝アセテート（１’：Ｘ’＝ＯＡｃ）の製造
２－メチル－２，６－ヘプタジエニル＝アセテート（１’：Ｘ’＝ＯＡｃ）の製造
【化38】
【0131】
窒素雰囲気下、反応器に、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）（３．００ｇ：０．０２１モル）、ピリジン（５．８１ｇ：０．７３モル）、無水酢酸（Ａｃ２Ｏ）（３．５９ｇ：０．０２９モル）及びアセトニトリル（ＭｅＣＮ）（１０ｍｌ）を仕込み、室温下にて１４時間４０分間攪拌した。その後、純水（２０ｇ）及びヘキサン（２０ｇ）を添加し、３０分間攪拌し、その後、有機層を分離した。分離した有機層を、通常の洗浄、乾燥、そして濃縮により後処理操作をして、２－メチル－２，６－ヘプタジエニル＝アセテート（１’：Ｘ’＝ＯＡｃ）の粗生成物（３．６０ｇ）を得た。粗収率は９０．４５％であった。
【0132】
上記で得られた２－メチル－２，６－ヘプタジエニル＝アセテート（１’：Ｘ’＝ＯＡｃ）のスペクトルデータを以下に示す。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３０７８，２９７５，２９２２，１７４１，１６４１，１４４０，１３６７，１２３３，１０２３，９８４，９５７，９１３，６３４，６０７，５６０ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．７４（３Ｈ，ｓ－ｌｉｋｅ），２．０６（３Ｈ，ｓ），２．０７－２．１９（４Ｈ，ｍ），４．５７（２Ｈ，ｓ），４．９４－５．０３（２Ｈ，ｍ），５．３９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），５．７５－５．８３（１Ｈ，ｍ）ｐｐｍ。
１３Ｃ－ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２０．９０，２１．３７，２７．０９，３３．７５，６３．１２，１１３．８９，１２９．９８，１３０．１５，１３７．９３，１７１．０８ｐｐｍ。
ＧＣ－ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：２７，４３，５５，６７，７９，９３，１０８，１２６，１４０，１５３，１６８。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３０７８，２９７５，２９２２，１７４１，１６４１，１４４０，１３６７，１２３３，１０２３，９８４，９５７，９１３，６３４，６０７，５６０ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．７４（３Ｈ，ｓ－ｌｉｋｅ），２．０６（３Ｈ，ｓ），２．０７－２．１９（４Ｈ，ｍ），４．５７（２Ｈ，ｓ），４．９４－５．０３（２Ｈ，ｍ），５．３９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），５．７５－５．８３（１Ｈ，ｍ）ｐｐｍ。
１３Ｃ－ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２０．９０，２１．３７，２７．０９，３３．７５，６３．１２，１１３．８９，１２９．９８，１３０．１５，１３７．９３，１７１．０８ｐｐｍ。
ＧＣ－ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：２７，４３，５５，６７，７９，９３，１０８，１２６，１４０，１５３，１６８。
【0133】
実施例２
２－メチル－２，６－ヘプタジエニル＝イソブチレート（１’：Ｘ’＝ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ（ＣＨ３）２）の製造
２－メチル－２，６－ヘプタジエニル＝イソブチレート（１’：Ｘ’＝ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ（ＣＨ３）２）の製造
【化39】
【0134】
窒素雰囲気下、反応器に、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）（３．００ｇ：０．０１７モル）、ピリジン（６．６４ｇ：０．８４モル）、イソ酪酸無水物（５．３２ｇ：０．０３４モル）及びアセトニトリル（ＭｅＣＮ）（１０ｍｌ）を仕込み、室温下にて７時間攪拌した。その後、純水（２０ｇ）及びヘキサン（２０ｇ）を添加し、３０分間攪拌し、その後、有機層を分離した。分離した有機層を、通常の洗浄、乾燥、そして濃縮により後処理操作して、２－メチル－２，６－ヘプタジエニル＝イソブチレート（１’：Ｘ’＝ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ（ＣＨ３）２）の粗生成物（４．６２ｇ）を得た。粗収率は１００％であった。
【0135】
上記で得られた２－メチル－２，６－ヘプタジエニル＝イソブチレート（１’：Ｘ’＝ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ（ＣＨ３）２）のスペクトルデータを以下に示す。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３０７８，２９７５，２９３８，２８７９，１８１４，１７３６，１６４１，１４７１，１３８８，１３５４，１２５２，１１９０，１１５４，１１１７，１０６８，１０２１，９６５，９１３，７５６，６４２ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．１６（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．７３（３Ｈ，ｓ－ｌｉｋｅ），２．０６－２．２０（４Ｈ，ｍ），２．５１－２．５９（１Ｈ，ｍ），４．５７（２Ｈ，ｓ），４．９４－５．０３（２Ｈ，ｍ），５．３９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），５．７５－５．８３（１Ｈ，ｍ）ｐｐｍ。
１３Ｃ－ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１８．２４，１８．９７，２１．３０，２７．０９，３３．７９，３４．０２，６２．９６，１１４．８６，１２９．６６，１３０．４１，１３７．９８，１７７．１０ｐｐｍ。
ＧＣ－ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：２７，４３，５５，７１，８１，９３，１０８，１２６，１４２，１５５，１６８，１８１，１９６。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３０７８，２９７５，２９３８，２８７９，１８１４，１７３６，１６４１，１４７１，１３８８，１３５４，１２５２，１１９０，１１５４，１１１７，１０６８，１０２１，９６５，９１３，７５６，６４２ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．１６（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．７３（３Ｈ，ｓ－ｌｉｋｅ），２．０６－２．２０（４Ｈ，ｍ），２．５１－２．５９（１Ｈ，ｍ），４．５７（２Ｈ，ｓ），４．９４－５．０３（２Ｈ，ｍ），５．３９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），５．７５－５．８３（１Ｈ，ｍ）ｐｐｍ。
１３Ｃ－ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１８．２４，１８．９７，２１．３０，２７．０９，３３．７９，３４．０２，６２．９６，１１４．８６，１２９．６６，１３０．４１，１３７．９８，１７７．１０ｐｐｍ。
ＧＣ－ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：２７，４３，５５，７１，８１，９３，１０８，１２６，１４２，１５５，１６８，１８１，１９６。
【0136】
実施例３
２－メチル－２，６－ヘプタジエニル＝ブロミド（１：Ｘ＝Ｂｒ）の製造
２－メチル－２，６－ヘプタジエニル＝ブロミド（１：Ｘ＝Ｂｒ）の製造
【化40】
【0137】
窒素雰囲気下、反応器に、トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）（７．７３ｇ：０．０２９モル）及びアセトニトリル（ＭｅＣＮ）（１６．８ｇ）を仕込み、内温－５～５℃まで冷却した。次いで、内温を－５～５℃に保ったまま、該反応器に、臭素（Ｂｒ２）（４．５０ｇ：０．０２８モル）を１５分間かけて滴下し、内温－５～１０℃で３時間攪拌した。次いで、内温－５～１０℃に保ったまま、該反応器に２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）（３．００ｇ：０．０２１モル）とトリエチルアミン（Ｅｔ３Ｎ）（２．９７ｇ：０．０２９モル）との混合液を３０分間かけて滴下し、内温－５～１０℃にて１時間攪拌し、その後、室温下にて１４時間攪拌した。そして、該反応器に純水（２０ｇ）及びヘキサン（２０ｇ）を添加し、３０分間攪拌し、その後、有機層を分離した。分離した有機層を、通常の洗浄、乾燥、そして濃縮により後処理操作して、２－メチル－２，６－ヘプタジエニル＝ブロミド（１：Ｘ＝Ｂｒ）の粗生成物（３．３３ｇ）を得た。粗収率は７１．４３％であった。
【0138】
上記で得られた２－メチル－２，６－ヘプタジエニル＝ブロミド（１：Ｘ＝Ｂｒ）のスペクトルデータを以下に示す。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３０７８，３０２８，２９７５，２９１９，２８５６，２７３５，１８３０，１７３９，１６４１，１４３８，１３７９，１２０５，１１１９，１０６５，９９２，９１３，８４７，８１１，７６９，７２１，６９６，６３６，５４２ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．８４（３Ｈ，ｓ－ｌｉｋｅ），２．０７－２．１９（４Ｈ，ｍ），３．９８（２Ｈ，ｓ），４．９７－５．０３（２Ｈ，ｍ），５．３９（１Ｈ，ｔ－ｌｉｋｅ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），５．７５－５．８５（１Ｈ，ｍ）ｐｐｍ。
１３Ｃ－ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２１．８４，２７．３９，３２．２４，３３．２４，１１５．０６，１３０．７９，１３１．９２，１３７．８３ｐｐｍ。
ＧＣ－ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：２７，４１，５５，６７，７９，９３，１０９，１１９，１３３，１４７，１６２，１７５，１８８。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３０７８，３０２８，２９７５，２９１９，２８５６，２７３５，１８３０，１７３９，１６４１，１４３８，１３７９，１２０５，１１１９，１０６５，９９２，９１３，８４７，８１１，７６９，７２１，６９６，６３６，５４２ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．８４（３Ｈ，ｓ－ｌｉｋｅ），２．０７－２．１９（４Ｈ，ｍ），３．９８（２Ｈ，ｓ），４．９７－５．０３（２Ｈ，ｍ），５．３９（１Ｈ，ｔ－ｌｉｋｅ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），５．７５－５．８５（１Ｈ，ｍ）ｐｐｍ。
１３Ｃ－ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２１．８４，２７．３９，３２．２４，３３．２４，１１５．０６，１３０．７９，１３１．９２，１３７．８３ｐｐｍ。
ＧＣ－ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：２７，４１，５５，６７，７９，９３，１０９，１１９，１３３，１４７，１６２，１７５，１８８。
【0139】
実施例４
２－メチル－２，６－ヘプタジエニル＝クロリド（１：Ｘ＝Ｃｌ）の製造
２－メチル－２，６－ヘプタジエニル＝クロリド（１：Ｘ＝Ｃｌ）の製造
【化41】
【0140】
窒素雰囲気下、反応器に、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（６）（８．００ｇ：０．０５６モル）、ピリジン（７．９７ｇ：０．１０１モル）及びジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）（１０ｍｌ）を仕込み、内温－５～５℃まで冷却し、１５分間攪拌した。次いで、内温を－５～５℃に保ったまま、該反応器にメタンスルホニルクロリド（ＭｓＣｌ）（８．９８ｇ：０．０７８モル）を１０分間かけて滴下した。滴下終了後、内温－５～５℃にて１時間攪拌し、その後、室温下にて１２時間攪拌した。次いで、該反応器に純水（２０ｇ）及びヘキサン（２０ｇ）を添加し、３０分間攪拌し、その後、有機層を分離した。分離した有機層を、通常の洗浄、乾燥、そして濃縮により後処理操作して、２－メチル－２，６－ヘプタジエニルクロリド（１：Ｘ＝Ｃｌ）の粗生成物（４．３６ｇ）を得た。粗収率は４８．２１％であった。
【0141】
上記で得られた２－メチル－２，６－ヘプタジエニル＝クロリド（１：Ｘ＝Ｃｌ）のスペクトルデータを以下に示す。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３０７８，２９７５，２９３４，２９２１，２８５４，２７３５，１８３１，１７２８，１６４１，１４４３，１３８０，１２５７，１１１９，１０７７，９９２，９１３，８５０，８１５，７００，６４１ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．８３（３Ｈ，ｓ－ｌｉｋｅ），２．０７－２．２１（４Ｈ，ｍ），４．０６（２Ｈ，ｓ），４．９７－５．０３（２Ｈ，ｍ），５．３９（１Ｈ，ｔ－ｌｉｋｅ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），５．７５－５．８５（１Ｈ，ｍ）ｐｐｍ。
１３Ｃ－ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２１．８４，２７．２５，３２．２４，３３．５５，１１５．０４，１３０．３９，１３１．７１，１３７．８４ｐｐｍ。
ＧＣ－ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：２７，４１，５３，６７，７５，８７，９５，１０３，１１６，１２９，１４４。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３０７８，２９７５，２９３４，２９２１，２８５４，２７３５，１８３１，１７２８，１６４１，１４４３，１３８０，１２５７，１１１９，１０７７，９９２，９１３，８５０，８１５，７００，６４１ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．８３（３Ｈ，ｓ－ｌｉｋｅ），２．０７－２．２１（４Ｈ，ｍ），４．０６（２Ｈ，ｓ），４．９７－５．０３（２Ｈ，ｍ），５．３９（１Ｈ，ｔ－ｌｉｋｅ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），５．７５－５．８５（１Ｈ，ｍ）ｐｐｍ。
１３Ｃ－ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２１．８４，２７．２５，３２．２４，３３．５５，１１５．０４，１３０．３９，１３１．７１，１３７．８４ｐｐｍ。
ＧＣ－ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：２７，４１，５３，６７，７５，８７，９５，１０３，１１６，１２９，１４４。
【0142】
実施例５
３－メチル－５－（テトラヒドロピラン－２－イルオキシ）ペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝２－テトラヒドロピラニル基（ＴＨＰ））の調製、及びテトラヒドロ－２－（６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニルオキシ）－２Ｈ－ピラン（３：Ｒ＝ＴＨＰ）の製造
３－メチル－５－（テトラヒドロピラン－２－イルオキシ）ペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝２－テトラヒドロピラニル基（ＴＨＰ））の調製、及びテトラヒドロ－２－（６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニルオキシ）－２Ｈ－ピラン（３：Ｒ＝ＴＨＰ）の製造
【化42】
【0143】
窒素雰囲気下、反応器に、マグネシウム（０．１９ｇ：０．００７８モル）及びテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（０．７ｇ）を仕込み、６０℃まで昇温し、そして１５分間攪拌した。次いで、該反応器に、テトラヒドロ－２－（５－クロロ－３－メチルペンチルオキシ－２Ｈ－ピラン（１．７ｇ：０．００７モル）とテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（１．５ｇ）との混合溶液を３０分間かけて滴下した。滴下終了後、内温５０～６０℃にて３時間攪拌することにより、３－メチル－５－（テトラヒドロピラン－２－イルオキシ）ペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＴＨＰ）を調製した。そして、得られた３－メチル－５－（テトラヒドロピラン－２－イルオキシ）ペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＴＨＰ）を室温まで冷却した。
【0144】
窒素雰囲気下、別の反応器に、ヨウ化銅（1）（ＣｕＩ）（０．００２ｇ）、亜リン酸トリエチル（Ｐ（ＯＥｔ）３）（０．００３ｇ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（４ｍｌ）及び実施例３に従って得られた２－メチル－２，６－ヘプタジエニル＝ブロミド（１：Ｘ＝Ｂｒ）（０．８０ｇ：０．００４モル）を加えて攪拌し、－７８℃～－５０℃まで冷却した。次いで、該別の反応器に、上記で調製した３－メチル－５－（テトラヒドロピラン－２－イルオキシ）ペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＴＨＰ）の全量を－５０℃以下にて３０分間かけて滴下した。滴下終了後、３時間攪拌し、そして、該別の反応器に純水（１０ｇ）及び塩化アンモニウム（１ｇ）の水溶液を添加し、３０分間攪拌し、その後、有機層を分離した。分離した有機層を、通常の洗浄、乾燥、そして濃縮により後処理操作して、テトラヒドロ－２－（６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニルオキシ）－２Ｈ－ピラン（３：Ｒ＝ＴＨＰ）の粗生成物（１．２４ｇ：０．０４モル）を得た。粗収率は１０．００％であった。テトラヒドロ－２－（６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニルオキシ）－２Ｈ－ピラン（３：Ｒ＝ＴＨＰ）とテトラヒドロ－２－（３，７－ジメチル－７，１１－ドデカジエニルオキシ）－２Ｈ－ピランとの生成比は、７２：２８であった。
【0145】
上記で得られたテトラヒドロ－２－（６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニルオキシ）－２Ｈ－ピラン（３：Ｒ＝ＴＨＰ）の粗生成物のスペクトルデータを以下に示す。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３０７２，２９２８，２８７０，１６４２，１４５３，１４４１，１３７６，１３５３，１３２３，１２６０，１２０１，１１８４，１１３６，１１２２，１０７８，１０３５，９９１，９７０，９０８，８８８，８７０，８１５ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝０．８６－０．８９（３Ｈ，ｍ），１．００－１．０８（１Ｈ，ｍ），１．１６－２．１０（２０Ｈ，ｍ）、３．３４－３．４３（１Ｈ，ｍ），３．４７－３．５３（１Ｈ，ｍ），３．７２－３．８０（１Ｈ，ｍ），３．８３－３．８９（１Ｈ，ｍ），４．５５－４．５７（１Ｈ，ｍ），４．６３－４．６５（１Ｈ，ｍ），４．７２－４．７３（１Ｈ，ｍ），４．９０－５．０２（２Ｈ，ｍ），５．７５－５．８３（１Ｈ，ｍ）ｐｐｍ。
１３Ｃ－ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１７．６８，１７．７０，１７．７９，１９．４９，１９．６２，１９．６４，１９．７３，１９．８０，１９．９２，２５．４２，２５．４８，２９．８３，３０．０３，３０．１１，３０．５３，３０．５６，３０．６３，３０．６６，３０．７７，３１．６６，３２．５６，３２．７１，３４．７０，３４．７５，３４．７８，３４．８８，３６．３８，３６．４７，３６．８２，３６．８６，４６．９５，４７．００，４７．０７，４７．１０，６２．２８，６５．８２，６５．８６，６５．９８，９４．６１，９８．７３，９８．９１，１１１．６４，１１１．７３，１１４．１３，１３９．０８，１４７．２０，１４７．３２ｐｐｍ。
ＧＣ－ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：２７，４１，５５，６９，８５，１０９，１２３，１４９，１６３，１８２，１９６，２１０，２２４，２４０，２６１，２７６，２９４。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３０７２，２９２８，２８７０，１６４２，１４５３，１４４１，１３７６，１３５３，１３２３，１２６０，１２０１，１１８４，１１３６，１１２２，１０７８，１０３５，９９１，９７０，９０８，８８８，８７０，８１５ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝０．８６－０．８９（３Ｈ，ｍ），１．００－１．０８（１Ｈ，ｍ），１．１６－２．１０（２０Ｈ，ｍ）、３．３４－３．４３（１Ｈ，ｍ），３．４７－３．５３（１Ｈ，ｍ），３．７２－３．８０（１Ｈ，ｍ），３．８３－３．８９（１Ｈ，ｍ），４．５５－４．５７（１Ｈ，ｍ），４．６３－４．６５（１Ｈ，ｍ），４．７２－４．７３（１Ｈ，ｍ），４．９０－５．０２（２Ｈ，ｍ），５．７５－５．８３（１Ｈ，ｍ）ｐｐｍ。
１３Ｃ－ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１７．６８，１７．７０，１７．７９，１９．４９，１９．６２，１９．６４，１９．７３，１９．８０，１９．９２，２５．４２，２５．４８，２９．８３，３０．０３，３０．１１，３０．５３，３０．５６，３０．６３，３０．６６，３０．７７，３１．６６，３２．５６，３２．７１，３４．７０，３４．７５，３４．７８，３４．８８，３６．３８，３６．４７，３６．８２，３６．８６，４６．９５，４７．００，４７．０７，４７．１０，６２．２８，６５．８２，６５．８６，６５．９８，９４．６１，９８．７３，９８．９１，１１１．６４，１１１．７３，１１４．１３，１３９．０８，１４７．２０，１４７．３２ｐｐｍ。
ＧＣ－ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：２７，４１，５５，６９，８５，１０９，１２３，１４９，１６３，１８２，１９６，２１０，２２４，２４０，２６１，２７６，２９４。
【0146】
実施例６
３－メチル－５－（テトラヒドロピラン－２－イルオキシ）ペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＴＨＰ）の調製、及びテトラヒドロ－２－（６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニルオキシ）－２Ｈ－ピラン（３：Ｒ＝ＴＨＰ）の製造
３－メチル－５－（テトラヒドロピラン－２－イルオキシ）ペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＴＨＰ）の調製、及びテトラヒドロ－２－（６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニルオキシ）－２Ｈ－ピラン（３：Ｒ＝ＴＨＰ）の製造
【化43】
【0147】
窒素雰囲気下、反応器に、マグネシウム（０．２６ｇ：０．０１１モル）及びテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（１ｇ）を仕込み、６０℃まで昇温し、そして１０分間攪拌した。次いで、該反応器に、テトラヒドロ－２－（５－クロロ－３－メチルペンチルオキシ－２Ｈ－ピラン（２．２１ｇ：０．０１モル）とテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（２ｇ）との混合溶液を１０分間かけて滴下した。滴下終了後、内温５０～６０℃にて３時間攪拌することにより、３－メチル－５－（テトラヒドロピラン－２－イルオキシ）ペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＴＨＰ）を調製した。そして、得られた３－メチル－５－（テトラヒドロピラン－２－イルオキシ）ペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＴＨＰ）を－５～０℃まで冷却した。
【0148】
上記反応器に、シアン化銅（Ｉ）（ＣｕＣＮ）（０．９０ｇ）、臭化リチウム（ＬｉＢｒ）（１．７４ｇ）及びテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（１０ｍｌ）の混合溶液を１０分間かけて滴下し、その後、内温－７８～－５０℃まで冷却した。次いで、該反応器に、実施例４に従って得られた２－メチル－２，６－ヘプタジエニル＝クロリド（１：Ｘ＝Ｃｌ）（０．５０ｇ：０．００２モル）とＴＨＦ（１０ｍｌ）との混合溶液を２０分間かけて滴下した。滴下終了後、－７８℃～－５０℃にて１時間攪拌した。そして、該反応器に、純水（２０ｇ）及び塩化アンモニウム（２ｇ）の混合物を添加し、３０分間攪拌し、その後、有機層を分離した。分離した有機層を、通常の洗浄、乾燥、そして濃縮により後処理操作して、テトラヒドロ－２－（６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニルオキシ）－２Ｈ－ピラン（３：Ｒ＝ＴＨＰ）の粗生成物（１．８６ｇ：０．００３モル）を得た。粗収率は１００％であった。テトラヒドロ－２－（６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニルオキシ）－２Ｈ－ピラン（３：Ｒ＝ＴＨＰ）とテトラヒドロ－２－（３，７－ジメチル－７，１１－ドデカジエニルオキシ）－２Ｈ－ピランとの生成比は、９９：１であった。
【0149】
該得られたテトラヒドロ－２－（６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニルオキシ）－２Ｈ－ピラン（３：Ｒ＝ＴＨＰ）のスペクトルデータは、実施例５で得られたスペクトルデータと同じであった。
【0150】
実施例７
３－メチル－５－（テトラヒドロピラン－２－イルオキシ）ペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＴＨＰ）の調製、及びテトラヒドロ－２－（６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニルオキシ）－２Ｈ－ピラン（３：Ｒ＝ＴＨＰ）の製造
３－メチル－５－（テトラヒドロピラン－２－イルオキシ）ペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＴＨＰ）の調製、及びテトラヒドロ－２－（６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニルオキシ）－２Ｈ－ピラン（３：Ｒ＝ＴＨＰ）の製造
【化44】
【0151】
窒素雰囲気下、反応器に、マグネシウム（０．２６ｇ：０．０１モル）及びテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（１ｇ）を仕込み、６０℃まで昇温し、そして１５分間攪拌した。次いで、該反応器に、テトラヒドロ－２－（５－クロロ－３－メチルペンチルオキシ－２Ｈ－ピラン（２．２１ｇ：０．０１モル）とテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（２ｇ）との混合溶液を３０分間かけて滴下した。滴下終了後、内温５０～６０℃にて３時間攪拌することにより、３－メチル－５－（テトラヒドロピラン－２－イルオキシ）ペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＴＨＰ）を調製した。そして、得られた３－メチル－５－（テトラヒドロピラン－２－イルオキシ）ペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＴＨＰ）を室温まで冷却した。
【0152】
窒素雰囲気下、別の反応器に、臭化銅（Ｉ）（ＣｕＢｒ）（１．２９ｇ）、臭化リチウム（ＬｉＢｒ）（１．５６ｇ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（１０ｍｌ）及び実施例４に従って得られた２－メチル－２，６－ヘプタジエニル＝クロリド（１：Ｘ＝Ｃｌ）（０．５０ｇ：０．００３モル）を加えて攪拌し、－７８℃～－５０℃まで冷却した。次いで、該別の反応器に、上記で調製した３－メチル－５－（テトラヒドロピラン－２－イルオキシ）ペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＴＨＰ）の全量を－５０℃以下にて５０分間かけて滴下した。滴下終了後、３時間攪拌し、そして、該別の反応器に、純水（２０ｇ）と塩化アンモニウム（２ｇ）との混合物を添加し、３０分間さらに攪拌し、その後、有機層を分離した。分離した有機層を、通常の洗浄、乾燥、そして濃縮により後処理操作して、テトラヒドロ－２－（６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニルオキシ）－２Ｈ－ピラン（３：Ｒ＝ＴＨＰ）の粗生成物（２．１３ｇ：０．００４モル）を得た。粗収率は１００％であった。テトラヒドロ－２－（６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニルオキシ）－２Ｈ－ピラン（３：Ｒ＝ＴＨＰ）とテトラヒドロ－２－（３，７－ジメチル－７，１１－ドデカジエニルオキシ）－２Ｈ－ピランとの生成比は、９９：１であった。
【0153】
該得られたテトラヒドロ－２－（６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニルオキシ）－２Ｈ－ピラン（３：Ｒ＝ＴＨＰ）のスペクトルデータは、実施例５で得られたスペクトルデータと同じであった。
【0154】
実施例８
３－メチル－５－（テトラヒドロピラン－２－イルオキシ）ペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＴＨＰ）の調製、及び、テトラヒドロ－２－（６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニルオキシ）－２Ｈ－ピラン（３：Ｒ＝ＴＨＰ）の製造
３－メチル－５－（テトラヒドロピラン－２－イルオキシ）ペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＴＨＰ）の調製、及び、テトラヒドロ－２－（６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニルオキシ）－２Ｈ－ピラン（３：Ｒ＝ＴＨＰ）の製造
【化45】
【0155】
窒素雰囲気下、反応器に、マグネシウム（０．２６ｇ：０．０１モル）及びテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（１ｇ）を仕込み、６０℃まで昇温し、そして１０分間攪拌した。次いで、該反応器に、テトラヒドロ－２－（５－クロロ－３－メチルペンチルオキシ－２Ｈ－ピラン（２．２１ｇ：０．０１モル）とテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（２ｇ）との混合溶液を５分間かけて滴下した。滴下終了後、内温５０～６０℃にて３時間攪拌することにより、３－メチル－５－（テトラヒドロピラン－２－イルオキシ）ペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＴＨＰ）を調製した。そして、得られた３－メチル－５－（テトラヒドロピラン－２－イルオキシ）ペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＴＨＰ）を室温まで冷却した。
【0156】
窒素雰囲気下、別の反応器に、チタンテトライソプロポキシド（Ｔｉ（ＯｉＰｒ）４）（２．８９ｇ）及びテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（１０ｍｌ）を加えて、－１０～－５℃に冷却した。次いで、上記で調製した３－メチル－５－（テトラヒドロピラン－２－イルオキシ）ペンチルマグネシウム＝クロリド（２）の全量を－５℃以下にて１５分間かけて滴下した。滴下終了後、該別の反応器に、ヨウ化銅（Ｉ）（ＣｕＩ）（０．１０ｇ）、臭化リチウム（ＬｉＢｒ）（０．０９ｇ）及びＴＨＦ（１０ｍｌ）の混合溶液を－５℃以下にて２分間かけて滴下した。滴下終了後、実施例４に従って得られた２－メチル－２，６－ヘプタジエニル＝クロリド（１：Ｘ＝Ｃｌ）（１．４５ｇ：０．００９モル）を－５℃以下にて２０分間かけて滴下した。滴下終了後、－１０～－５℃にて２時間攪拌し、その後、室温下にて２４時間さらに攪拌した。そして、該別の反応器に、純水（２０ｇ）、塩化アンモニウム（２ｇ）の水溶液を添加し、３０分間攪拌し、その後、有機層を分離した。分離した有機層を、通常の洗浄、乾燥、そして濃縮により後処理操作して、テトラヒドロ－２－（６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニルオキシ）－２Ｈ－ピラン（３：Ｒ＝ＴＨＰ）の粗生成物（２．１３ｇ：０．００４モル）を得た。粗収率は５０．０％であった。テトラヒドロ－２－（６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニルオキシ）－２Ｈ－ピラン（３：Ｒ＝ＴＨＰ）とテトラヒドロ－２－（３，７－ジメチル－７，１１－ドデカジエニルオキシ）－２Ｈ－ピランとの生成比は、９４：６であった。
【0157】
該得られたテトラヒドロ－２－（６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニルオキシ）－２Ｈ－ピラン（３：Ｒ＝ＴＨＰ）のスペクトルデータは、実施例５で得られたスペクトルデータと同じであった。
【0158】
実施例９
３－メチル－５－（テトラヒドロピラン－２－イルオキシ）ペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＴＨＰ）の調製、及びテトラヒドロ－２－（６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニルオキシ）－２Ｈ－ピラン（３：Ｒ＝ＴＨＰ）の製造
３－メチル－５－（テトラヒドロピラン－２－イルオキシ）ペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＴＨＰ）の調製、及びテトラヒドロ－２－（６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニルオキシ）－２Ｈ－ピラン（３：Ｒ＝ＴＨＰ）の製造
【化46】
【0159】
窒素雰囲気下、反応器に、マグネシウム（０．０８７ｇ：０．００３５モル）及びテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（０．３ｇ）を仕込み、６０℃まで昇温し、そして５分間攪拌した。次いで、該反応器に、テトラヒドロ－２－（５－クロロ－３－メチルペンチルオキシ－２Ｈ－ピラン（０．７４ｇ：０．００３モル）とテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（０．７ｇ）との混合溶液を１５分間かけて滴下した。滴下終了後、内温５０～６０℃にて３時間攪拌することにより、３－メチル－５－（テトラヒドロピラン－２－イルオキシ）ペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＴＨＰ）を調製した。そして、得られた３－メチル－５－（テトラヒドロピラン－２－イルオキシ）ペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＴＨＰ）を－５～５℃まで冷却した。
【0160】
上記反応器に、塩化亜鉛（ＺｎＣｌ２）（０．０８ｇ）、塩化銅（ＩＩ）（ＣｕＣｌ２）（０．０８ｇ）及び塩化リチウム（ＬｉＣｌ）（０．０５ｇ）を添加し、その後、実施例４に従って得られた２－メチル－２，６－ヘプタジエニル＝クロリド（１：Ｘ＝Ｃｌ）（０．５０ｇ：０．００３モル）とＴＨＦ（１０ｍｌ）との混合溶液を１０分間かけて滴下した。滴下終了後、－５～５℃にて５時間攪拌し、そして、該反応器に、純水（２０ｇ）及び塩化アンモニウム（２ｇ）の水溶液を添加し、３０分間攪拌し、その後、有機層を分離した。分離した有機層を、通常の洗浄、乾燥、そして濃縮により後処理操作して、テトラヒドロ－２－（６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニルオキシ）－２Ｈ－ピラン（３：Ｒ＝ＴＨＰ）の粗生成物（１．８６ｇ：０．００３モル）を得た。粗収率は５０．０％であった。テトラヒドロ－２－（６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニルオキシ）－２Ｈ－ピラン（３：Ｒ＝ＴＨＰ）とテトラヒドロ－２－（３，７－ジメチル－７，１１－ドデカジエニルオキシ）－２Ｈ－ピランとの生成比は、７８：２２であった。
【0161】
該得られたテトラヒドロ－２－（６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニルオキシ）－２Ｈ－ピラン（３：Ｒ＝ＴＨＰ）のスペクトルデータは、実施例５で得られたスペクトルデータと同じであった。
【0162】
実施例１０
５－（１－エトキシエトキシ）－３－メチルペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝エトキシエチル基（ＥＥ））の調製、及びテトラヒドロ－２－（６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニルオキシ）－２Ｈ－ピラン（３：Ｒ＝ＥＥ）の製造
５－（１－エトキシエトキシ）－３－メチルペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝エトキシエチル基（ＥＥ））の調製、及びテトラヒドロ－２－（６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニルオキシ）－２Ｈ－ピラン（３：Ｒ＝ＥＥ）の製造
【化47】
【0163】
窒素雰囲気下、反応器に、マグネシウム（３１．８４ｇ：１．３１モル）及びテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（１２６ｇ）を仕込み、６０℃まで昇温し、そして４０分間攪拌した。次いで、該反応器に、５－クロロ－１－（１－エトキシエトキシ）－３－メチルペンタン（２６２．８３ｇ：１．２６モル）とテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（２５２ｇ）との混合溶液を５時間かけて滴下した。滴下終了後、内温６０～７０℃にて３時間攪拌することにより、５－（１－エトキシエトキシ）－３－メチルペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＥＥ）を調製した。そして、得られた５－（１－エトキシエトキシ）－３－メチルペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＥＥ）を室温まで冷却した。
【0164】
窒素雰囲気下、別の反応器に、臭化銅（Ｉ）（ＣｕＢｒ）（７２．３０ｇ）、塩化リチウム（ＬｉＣｌ）（４２．７３ｇ）及びテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（７５６ｇ）を加え、室温下にて１５分攪拌し、その後、０～１０℃へ冷却した。次いで、該別の反応器に、実施例１に従って得られた２－メチル－２，６－ヘプタジエニル＝アセテート（１’：Ｘ’＝ＯＡｃ）（１４４．３２ｇ：０．８４モル）を加えて攪拌し、－５℃～５℃まで冷却した。次いで、該別の反応器に、上記で得られた５－（１－エトキシエトキシ）－３－メチルペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＥＥ）の全量を－５℃～５℃で１１時間と３５分間かけて滴下した。滴下終了後、１０～１５℃にて２時間攪拌し、その後、室温下にて１２時間さらに攪拌した。そして、該別の反応器に純水（６３０ｇ）、塩化アンモニウム（６３ｇ）及び２０重量％の塩化水素水溶液（１２６ｇ）の混合物を添加し、その後、ｎ－ヘキサン（５００ｍｌ）を加えて３０分間攪拌し、そして、有機層を分離した。分離した有機層を、通常の洗浄、乾燥、そして濃縮により後処理操作して、１－（１－エトキシエトキシ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン（３：Ｒ＝ＥＥ）の粗生成物（３２０．２１ｇ：０．６２３モル）を得た。粗収率は７４．１７％であった。１－（１－エトキシエトキシ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン（３：Ｒ＝ＥＥ）と１－（１－エトキシエトキシ）－３，７－ジメチル－７，１１－ドデカジエン（３’：Ｒ＝ＥＥ）との生成比は、９６：４であった。
【0165】
上記で得られた１－（１－エトキシエトキシ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン（３：Ｒ＝ＥＥ）のスペクトルデータを以下に示す。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３０７４，２９７５，２９２８，２８７２，１６４３，１４５３，１３７７，１３３９，１１３４，１１０１，１０８７，１０６２，９９２，９３２，９０９，８８９，８４５，６４０，５５４ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝０．８６－０．８８（３Ｈ，ｍ），０．９８－１．０８（１Ｈ，ｍ），１．１６－１．６９（１７Ｈ，ｍ），１．８９－２．０７（３Ｈ，ｍ）、３．３８－３．５０（２Ｈ，ｍ），３．５１－３．７３（２Ｈ，ｍ），４．６４－４．６９（２Ｈ，ｍ），４．７２－４．７４（１Ｈ，ｍ），４．９０－５．００（２Ｈ，ｍ），５．７５－５．８３（１Ｈ，ｍ）ｐｐｍ。
１３Ｃ－ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１５．３０，１７．６９，１７．８０，１９．４７，１９．５２，１９．７６，１９．８０，１９．８５，２９．７５，２９．８０，２９．９４，２９．９７，３０．５２，３０．６５，３１．６６，３２．５８，３２．７３，３４．６８，３４．７３，３４．８１，３４．８６，３６．６２，３６．８６，３６．９８，３７．００，４６．９９，４７．０２，４７．１１，４７．１３，６０．５８，６０．５９，６３．４０，９９．４６，９９．５０，９９．５２，１１１．６５，１１１．７４，１１４．１５，１３９．０６，１４７．１９，１４７．３１ｐｐｍ。
ＧＣ－ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：２９，４５，５９，７３，９５，１０９，１２３，１４９，１６３，１７７，１９４，２０８，２３７，２６７，２８２。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３０７４，２９７５，２９２８，２８７２，１６４３，１４５３，１３７７，１３３９，１１３４，１１０１，１０８７，１０６２，９９２，９３２，９０９，８８９，８４５，６４０，５５４ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝０．８６－０．８８（３Ｈ，ｍ），０．９８－１．０８（１Ｈ，ｍ），１．１６－１．６９（１７Ｈ，ｍ），１．８９－２．０７（３Ｈ，ｍ）、３．３８－３．５０（２Ｈ，ｍ），３．５１－３．７３（２Ｈ，ｍ），４．６４－４．６９（２Ｈ，ｍ），４．７２－４．７４（１Ｈ，ｍ），４．９０－５．００（２Ｈ，ｍ），５．７５－５．８３（１Ｈ，ｍ）ｐｐｍ。
１３Ｃ－ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１５．３０，１７．６９，１７．８０，１９．４７，１９．５２，１９．７６，１９．８０，１９．８５，２９．７５，２９．８０，２９．９４，２９．９７，３０．５２，３０．６５，３１．６６，３２．５８，３２．７３，３４．６８，３４．７３，３４．８１，３４．８６，３６．６２，３６．８６，３６．９８，３７．００，４６．９９，４７．０２，４７．１１，４７．１３，６０．５８，６０．５９，６３．４０，９９．４６，９９．５０，９９．５２，１１１．６５，１１１．７４，１１４．１５，１３９．０６，１４７．１９，１４７．３１ｐｐｍ。
ＧＣ－ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：２９，４５，５９，７３，９５，１０９，１２３，１４９，１６３，１７７，１９４，２０８，２３７，２６７，２８２。
【0166】
実施例１１
５－（１－エトキシエトキシ）－３－メチルペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＥＥ）の調製、及びテトラヒドロ－２－（６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニルオキシ）－２Ｈ－ピラン（３：Ｒ＝ＥＥ）の製造
５－（１－エトキシエトキシ）－３－メチルペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＥＥ）の調製、及びテトラヒドロ－２－（６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニルオキシ）－２Ｈ－ピラン（３：Ｒ＝ＥＥ）の製造
【化48】
【0167】
窒素雰囲気下、反応器に、マグネシウム（３．４９ｇ：０．１４モル）及びテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（１３．８ｇ）を仕込み、６０℃まで昇温し、そして１５分間攪拌した。次いで、該反応器に、５－クロロ－１－（１－エトキシエトキシ）－３－メチルペンタン（３０．８２ｇ：０．１４モル）とテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（２７．６ｇ）との混合溶液を１００分間かけて滴下した。滴下終了後、内温６０～７０℃にて６時間攪拌することにより、５－（１－エトキシエトキシ）－３－メチルペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＥＥ）を調製した。そして、得られた５－（１－エトキシエトキシ）－３－メチルペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＥＥ）を室温まで冷却した。
【0168】
窒素雰囲気下、別の反応器に、臭化銅（Ｉ）（ＣｕＢｒ）（７．９２ｇ）、塩化リチウム（ＬｉＣｌ）（４．６８ｇ）及びテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（８２．８０ｇ）を加え、室温下にて１００分間攪拌し、その後、１０℃～１５℃へ冷却した。次いで、該別の反応器に、実施例２に従って得られた２－メチル－２，６－ヘプタジエニル＝イソブチレート（１：Ｘ＝イソブチリルオキシ）（２０．００ｇ：０．０９モル）を加えて攪拌した。次いで、該別の反応器に、上記で得られた５－（１－エトキシエトキシ）－３－メチルペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＥＥ）の全量を１０℃～１５℃で４時間かけて滴下した。滴下終了後、１０～１５℃にて１８時間攪拌した。そして、該別の反応器に、純水（４１ｇ）、塩化アンモニウム（４．１ｇ）及び２０重量％の塩化水素水溶液（１３．８ｇ）の混合物を添加した。引き続き、ｎ－ヘキサン（１３８ｇ）を加えて、３０分間攪拌し、その後、有機層を分離した。分離した有機層を、通常の洗浄、乾燥、そして濃縮により後処理操作して、１－（１－エトキシエトキシ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン（３）の粗生成物（３６．０４ｇ）を得た。粗収率は５４．４４％であった。１－（１－エトキシエトキシ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＥＥ）と１－（１－エトキシエトキシ）－３，７－ジメチル－７，１１－ドデカジエンとの生成比は、６５：３５であった。
【0169】
実施例１２
２－メチル－２，６－ヘプタジエニル＝メタンスルホネート（１’’：Ｘ’’＝ＯＭｓ）の製造、及び、５－（１－エトキシエトキシ）－３－メチルペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＥＥ）の調製、及び、テトラヒドロ－２－（６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニルオキシ）－２Ｈ－ピラン（３：Ｒ＝ＥＥ）の製造
２－メチル－２，６－ヘプタジエニル＝メタンスルホネート（１’’：Ｘ’’＝ＯＭｓ）の製造、及び、５－（１－エトキシエトキシ）－３－メチルペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＥＥ）の調製、及び、テトラヒドロ－２－（６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニルオキシ）－２Ｈ－ピラン（３：Ｒ＝ＥＥ）の製造
【化49】
【0170】
窒素雰囲気下、反応器に、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（１０．００ｇ：０．０７４モル）、トリエチルアミン（１１．２３ｇ：０．１１１モル）及びトルエン（６５ｇ）を仕込み、内温－５～５℃まで冷却し、２０分間攪拌した。次いで、内温を－５～５℃に保ったまま、該反応器に、メタンスルホニル＝クロリド（ＭｓＣｌ）（１２．７１ｇ：０．１１１モル）とトルエン（８０ｇ）との混合溶液を９０分間かけて滴下した。滴下終了後、内温－５～５℃にて８時間攪拌した。次いで、該反応器に、純水（１３０ｇ）を添加し、３０分間攪拌し、その後、有機層を分離した。分離した有機層を、通常の洗浄、乾燥、そしてろ過により後処理操作して、２－メチル－２，６－ヘプタジエニル＝メタンスルホネート（１’’：Ｘ’’＝ＯＭｓ）の粗生成物のトルエン溶液（１９０．９７ｇ）を得た。
【0171】
上記で得られた２－メチル－２，６－ヘプタジエニル＝メタンスルホネート（１’’：Ｘ’’＝ＯＭｓ）の粗生成物の薄層クロマトグラフィーのＲｆ値及びスペクトルデータを以下に示す。
薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）：Ｒｆ＝０．１９（ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．８３（３Ｈ，ｓ－ｌｉｋｅ），２．１１－２．２５（４Ｈ，ｍ），３．００（３Ｈ，ｓ），４．７５（２Ｈ，ｓ），４．９８－５．０９（２Ｈ，ｍ），５．５４（１Ｈ，ｔ－ｌｉｋｅ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），５．７５－５．８４（１Ｈ，ｍ）ｐｐｍ。
ＧＣ－ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：２７，４１，５５，６７，７９，９３，１０８，１２１，１３５，１５０，１６３，１７６，２０４。
薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）：Ｒｆ＝０．１９（ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．８３（３Ｈ，ｓ－ｌｉｋｅ），２．１１－２．２５（４Ｈ，ｍ），３．００（３Ｈ，ｓ），４．７５（２Ｈ，ｓ），４．９８－５．０９（２Ｈ，ｍ），５．５４（１Ｈ，ｔ－ｌｉｋｅ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），５．７５－５．８４（１Ｈ，ｍ）ｐｐｍ。
ＧＣ－ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：２７，４１，５５，６７，７９，９３，１０８，１２１，１３５，１５０，１６３，１７６，２０４。
【0172】
窒素雰囲気下、反応器に、マグネシウム（２．９６ｇ：０．１２モル）及びテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（１１．７ｇ）を仕込み、６０℃まで昇温し、そして１０分間攪拌した。次いで、該反応器に５－クロロ－１－（１－エトキシエトキシ）－３－メチルペンタン（２６．１３ｇ：０．１２モル）とテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（２３．４ｇ）との混合溶液を１１５分間かけて滴下した。滴下終了後、内温６０～７０℃にて２時間攪拌することにより、５－（１－エトキシエトキシ）－３－メチルペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＥＥ）を調製した。そして、得られた５－（１－エトキシエトキシ）－３－メチルペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＥＥ）を室温まで冷却した。
【0173】
窒素雰囲気下、別の反応器に、臭化銅（Ｉ）（ＣｕＢｒ）（５．５９ｇ）、塩化リチウム（ＬｉＣｌ）（３．３１ｇ）及びテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（３５．１０ｇ）を加え、室温下にて９０分間攪拌し、その後、１０℃～１５℃へ冷却した。次いで、該別の反応器に、上記で得られた２－メチル－２，６－ヘプタジエニル＝メタンスルホネート（１：Ｘ＝ＯＭｓ）の粗生成物のトルエン溶液（１００．００ｇ）を加えて攪拌した。次いで、該別の反応器に、上記で得られた５－（１－エトキシエトキシ）－３－メチルペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＥＥ）の全量を－５℃～５℃で３時間かけて滴下した。滴下終了後、１０～１５℃にて１４時間攪拌した。そして、該別の反応器に純水（１００ｇ）、塩化アンモニウム（４ｇ）及び２０重量％の塩化水素水溶液（４ｇ）の混合物を添加した。引き続き、ｎ－ヘキサン（１００ｇ）を加えて３０分間攪拌し、その後、有機層を分離した。分離した有機層を、通常の洗浄、乾燥、そして濃縮により後処理操作を行い、１－（１－エトキシエトキシ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン（３：Ｒ＝ＥＥ）の粗生成物（２１．５５ｇ）を得た。２－メチル－２，６－ヘプタジエノールからの粗収率は３０．７７％であった。１－（１－エトキシエトキシ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン（３：Ｒ＝ＥＥ）と１－（１－エトキシエトキシ）－３，７－ジメチル－７，１１－ドデカジエンとの生成比は、６３：３７であった。
【0174】
実施例１３
２－メチル－２，６－ヘプタジエニル＝ｐ－トルエンスルホネート（１’’：Ｘ’’＝ｐ－トルエンスルホニルオキシ基（ＯＴｓ））の製造、及び、５－（１－エトキシエトキシ）－３－メチルペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＥＥ）の調製、及び、テトラヒドロ－２－（６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニルオキシ）－２Ｈ－ピラン（３：Ｒ＝ＥＥ）の製造
２－メチル－２，６－ヘプタジエニル＝ｐ－トルエンスルホネート（１’’：Ｘ’’＝ｐ－トルエンスルホニルオキシ基（ＯＴｓ））の製造、及び、５－（１－エトキシエトキシ）－３－メチルペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＥＥ）の調製、及び、テトラヒドロ－２－（６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニルオキシ）－２Ｈ－ピラン（３：Ｒ＝ＥＥ）の製造
【化50】
【0175】
窒素雰囲気下、反応器に、２－メチル－２，６－ヘプタジエノール（１０．００ｇ：０．０７４モル）、トリエチルアミン（１１．２３ｇ：０．１１１モル）及びトルエン（６５ｇ）を仕込み、内温－５～５℃まで冷却し、５０分間攪拌した。次いで、内温を－５～５℃に保ったまま、該反応器に、ｐ－トルエンスルホニル＝クロリド（ＴｓＣｌ）（２１．１６ｇ：０．１１１モル）とトルエン（８０ｇ）の混合溶液を９０分間かけて滴下した。滴下終了後、内温－５～５℃にて７時間攪拌した。次いで、該反応器に、純水（１３０ｇ）を添加し、３０分間攪拌し、その後、有機層を分離した。分離した有機層を、通常の洗浄、乾燥、そしてろ過により後処理操作を行い、２－メチル－２，６－ヘプタジエニル＝ｐ－トルエンスルホネート（１’’：Ｘ’’＝ＯＴｓ）の粗生成物のトルエン溶液（１８５．６９ｇ）を得た。
【0176】
上記で得られた２－メチル－２，６－ヘプタジエニル＝ｐ－トルエンスルホネート（１’’：Ｘ’’＝ＯＴｓ）の粗生成物の薄層クロマトグラフィーのＲｆ値及びスペクトルデータを以下に示す。
薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）：Ｒｆ＝０．２１（ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．７０（３Ｈ，ｓ－ｌｉｋｅ），２．００－２．０８（４Ｈ，ｍ），２．４６（３Ｈ，ｓ），４．５５（２Ｈ，ｓ），４．９６－５．０１（２Ｈ，ｍ），５．４１－５．４４（１Ｈ，ｍ），５．６９－５．７８（１Ｈ，ｍ），７．３５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．８２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）ｐｐｍ。
薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）：Ｒｆ＝０．２１（ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．７０（３Ｈ，ｓ－ｌｉｋｅ），２．００－２．０８（４Ｈ，ｍ），２．４６（３Ｈ，ｓ），４．５５（２Ｈ，ｓ），４．９６－５．０１（２Ｈ，ｍ），５．４１－５．４４（１Ｈ，ｍ），５．６９－５．７８（１Ｈ，ｍ），７．３５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．８２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）ｐｐｍ。
【0177】
窒素雰囲気下、反応器に、マグネシウム（３．０３ｇ：０．１２モル）及びテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（１２．０ｇ）を仕込み、６０℃まで昇温し、そして１０分間攪拌した。次いで、該反応器に５－クロロ－１－（１－エトキシエトキシ）－３－メチルペンタン（２６．８０ｇ：０．１２モル）とテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（２４．０ｇ）との混合溶液を１２０分間かけて滴下した。滴下終了後、内温６０～７０℃にて２時間攪拌することにより、５－（１－エトキシエトキシ）－３－メチルペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＥＥ）を調製した。そして、得られた５－（１－エトキシエトキシ）－３－メチルペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＥＥ）を室温まで冷却した。
【0178】
窒素雰囲気下、別の反応器に、臭化銅（Ｉ）（ＣｕＢｒ）（５．７４ｇ）、塩化リチウム（ＬｉＣｌ）（３．３９ｇ）及びテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（３６．００ｇ）を加え、室温下にて１２０分間攪拌し、その後、１０℃～１５℃へ冷却した。次いで、該別の反応器に、上記で得られた２－メチル－２，６－ヘプタジエニル＝ｐ－トルエンスルホネート（１’’：Ｘ’’＝ＯＴｓ）の粗生成物のトルエン溶液（１００．００ｇ）を加えて攪拌した。次いで、該別の反応器に、上記で得られた５－（１－エトキシエトキシ）－３－メチルペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＥＥ）の全量を－５℃～５℃で３時間かけて滴下した。滴下終了後、１０～１５℃にて１４時間攪拌した。そして、該別の反応器に純水（１００ｇ）、塩化アンモニウム（４ｇ）及び２０重量％の塩化水素水溶液（４ｇ）の混合物を添加し、その後、ｎ－ヘキサン（１００ｇ）を加えて３０分間攪拌し、そして、有機層を分離した。分離した有機層を、通常の洗浄、乾燥、そして濃縮により後処理操作して、１－（１－エトキシエトキシ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン（３：Ｒ＝ＥＥ）の粗生成物（２５．５５ｇ）を得た。２－メチル－２，６－ヘプタジエノールからの粗収率は４３．３０％であった。１－（１－エトキシエトキシ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン（３：Ｒ＝ＥＥ）と１－（１－エトキシエトキシ）－３，７－ジメチル－７，１１－ドデカジエンとの生成比は、５９：４１であった。
【0179】
該得られた１－（１－エトキシエトキシ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン（３：Ｒ＝ＥＥ）のスペクトルデータは、実施例１０で得られたスペクトルデータと同じであった。
【0180】
実施例１４
５－（ｔ－ブチルジメチルシリルオキシ）－３－メチルペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル（ＴＢＳ））の調製、及び、１－（ｔ－ブチルジメチルシリルオキシ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン（３：Ｒ＝ＴＢＳ）の製造
５－（ｔ－ブチルジメチルシリルオキシ）－３－メチルペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル（ＴＢＳ））の調製、及び、１－（ｔ－ブチルジメチルシリルオキシ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン（３：Ｒ＝ＴＢＳ）の製造
【化51】
【0181】
窒素雰囲気下、反応器に、マグネシウム（１．０７ｇ：０．０４４モル）及びテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（４．２ｇ）を仕込み、６０℃まで昇温し、そして５０分間攪拌した。次いで、該反応器に、５－クロロ－１－（ｔ－ブチルジメチルシリルオキシ）－３－メチルペンタン（１０．８０ｇ：０．０４２モル）とテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（８．４ｇ）との混合溶液を４０分間かけて滴下した。滴下終了後、内温６０～７０℃にて４時間攪拌することにより、５－（ｔ－ブチルジメチルシリルオキシ）－３－メチルペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＴＢＳ）を調製した。そして、得られた５－（ｔ－ブチルジメチルシリルオキシ）－３－メチルペンチルマグネシウム＝クロリド（２：Ｍ＝ＭｇＺ１，Ｚ１＝Ｃｌ，Ｒ＝ＴＢＳ）を室温まで冷却した。
【0182】
窒素雰囲気下、別の反応器に、臭化銅（Ｉ）（ＣｕＢｒ）（２．３２ｇ）、塩化リチウム（ＬｉＣｌ）（１．３７ｇ）及びテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（２４．４ｇ）を加え、室温下にて１０分間攪拌し、その後、０～１０℃へ冷却した。次いで、該別の反応器に、２－メチル－２，６－ヘプタジエニル＝アセテート（１’：Ｘ’＝ＯＡｃ）（４．６６ｇ：０．０２７モル）を加えて攪拌し、０℃～５℃まで冷却した。次いで、該別の反応器に、上記で得られた５－（ｔ－ブチルジメチルシリルオキシ）－３－メチルペンチルマグネシウム＝クロリド（２）の全量を－５℃～５℃で３時間かけて滴下した。滴下終了後、１０～１５℃にて１５時間攪拌した。そして、該別の反応器に、純水（１３．５ｇ）、塩化アンモニウム（１．３５ｇ）及び２０重量％の塩化水素水溶液（４．５９ｇ）の混合物を添加し、その後、トルエン（１０ｇ）を加えて３０分間攪拌し、そして、有機層を分離した。分離した有機層を、通常の洗浄、乾燥、そして濃縮により後処理操作して、１－（ｔ－ブチルジメチルシリルオキシ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン（３：Ｒ＝ＴＢＳ）の粗生成物（１１．８９ｇ）を得た。粗収率は５５．５６％であった。１－（ｔ－ブチルジメチルシリルオキシ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン（３：Ｒ＝ＴＢＳ）と１－（ｔ－ブチルジメチルシリルオキシ）－３，７－ジメチル－７，１１－ドデカジエンとの生成比は、７５：２５であった。
【0183】
上記で得られた１－（ｔ－ブチルジメチルシリルオキシ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン（３：Ｒ＝ＴＢＳ）のスペクトルデータを以下に示す。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３０７４，２９５５，２９２８，２８５７，１６４３，１４７２，１４６２，１３７６，１３６１，１２５５，１０９７，１００５，９９２，９３９，９０９，８９０，８３６，８１１，７７５，７３１，６６２ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝０．０５（６Ｈ，ｓ），０．８４－０．８７（３Ｈ，ｍ），０．８９（９Ｈ，ｓ），０．９８－１．０９（１Ｈ，ｍ），１．１５－１．１．４３（６Ｈ，ｍ），１．４６－１．６１（５Ｈ，ｍ），１．８８－２．０４（３Ｈ，ｍ），３．５８－３．６８（２Ｈ，ｍ），４．６６（１Ｈ，ｓ－ｌｉｋｅ），４．７３－４．７５（１Ｈ，ｍ），４．９１－５．０１（２Ｈ，ｍ），５．７６－５．８４（１Ｈ，ｍ）ｐｐｍ。
１３Ｃ－ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝－５．２９，１７．７２，１７．８１，１８．３３，１９．５８，１９．８９，２５．９７，２９．４２，２９．５４，３０．６１，３０．６９，３１．７０，３２．６１，３２．７５，３４．７８，３４．８６，３９．７２，４０．１２，４７．０２，４７．１１，６１．４５，６１．４７，１１１．６５，１１１．７３，１１４．１４，１３９．１１，１４７．２５，１４７．３６ｐｐｍ。
ＧＣ－ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：２９，５５，７５，９５，１１３，１２９，１５７，１７３，１９１，２１３，２３３，２４９，２６７。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３０７４，２９５５，２９２８，２８５７，１６４３，１４７２，１４６２，１３７６，１３６１，１２５５，１０９７，１００５，９９２，９３９，９０９，８９０，８３６，８１１，７７５，７３１，６６２ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝０．０５（６Ｈ，ｓ），０．８４－０．８７（３Ｈ，ｍ），０．８９（９Ｈ，ｓ），０．９８－１．０９（１Ｈ，ｍ），１．１５－１．１．４３（６Ｈ，ｍ），１．４６－１．６１（５Ｈ，ｍ），１．８８－２．０４（３Ｈ，ｍ），３．５８－３．６８（２Ｈ，ｍ），４．６６（１Ｈ，ｓ－ｌｉｋｅ），４．７３－４．７５（１Ｈ，ｍ），４．９１－５．０１（２Ｈ，ｍ），５．７６－５．８４（１Ｈ，ｍ）ｐｐｍ。
１３Ｃ－ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝－５．２９，１７．７２，１７．８１，１８．３３，１９．５８，１９．８９，２５．９７，２９．４２，２９．５４，３０．６１，３０．６９，３１．７０，３２．６１，３２．７５，３４．７８，３４．８６，３９．７２，４０．１２，４７．０２，４７．１１，６１．４５，６１．４７，１１１．６５，１１１．７３，１１４．１４，１３９．１１，１４７．２５，１４７．３６ｐｐｍ。
ＧＣ－ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：２９，５５，７５，９５，１１３，１２９，１５７，１７３，１９１，２１３，２３３，２４９，２６７。
【0184】
実施例１５
６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）の製造
６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）の製造
【化52】
【0185】
窒素雰囲気下、反応器に、実施例７に従って得られたテトラヒドロ－２－（６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニルオキシ）－２Ｈ－ピラン（３：Ｒ＝ＴＨＰ）（２７．４７ｇ：０．６９モル）、ｐ－トルエンスルホン酸（５．３６ｇ）及びメタノール（９３ｇ）を仕込み、内温５０～６０℃で４時間攪拌した。撹拌終了後、濃縮により溶媒を回収し、その後、該反応器に、メタノール（９３ｇ）を仕込み、室温にて１２時間攪拌した。その後、内温５０～６０℃にて２時間攪拌し、濃縮により溶媒を回収した。引き続き、該反応器に、純水（１５０ｇ）及びｎ－ヘキサン（１００ｇ）を添加し、３０分間攪拌し、その後、有機層を分離した。分離した有機層を、通常の洗浄、乾燥、そして濃縮により後処理操作して、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）の粗生成物（１８．４６ｇ）を得た。粗収率は７２．４６％であった。
【0186】
上記で得られた６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）のスペクトルデータを以下に示す。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３３３２，３０７４，２９２８，２８７１，１６４２，１４５２，１３７６，１０５８，９９４，９０９，８８９，６４１ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝０．８７－０．９０（３Ｈ，ｍ），１．００－１．０９（１Ｈ，ｍ），１．１７－１．６９（１２Ｈ，ｍ），１．８７－２．０８（３Ｈ，ｍ）、３．６０－３．７０（２Ｈ，ｍ），４．６６（１Ｈ，ｓ－ｌｉｋｅ），４．７４（１Ｈ，ｓ－ｌｉｋｅ），４．９０－５．０２（２Ｈ，ｍ），５．７５－５．８４（１Ｈ，ｍ）ｐｐｍ。
１３Ｃ－ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１７．６３，１７．７９，１８．５２，１９．７７，２９．２９，２９．６１，３０．４６，３０．６４，３０．６５，３２．５６，３２．７４，３４．６２，３４．８８，３９．６３，４０．０４，４６．９１，４７．１０，６１．１１，６１．１４，１１１．７０，１１１．８１，１１４．１７，１３９．０４，１３９．０６，１４７．２１，１４７．２８ｐｐｍ。
ＧＣ－ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：２９，４１，５５，６９，８１，９５，１０９，１２３，１３５，１４９，１６７，１８２，１９５，２１０。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３３３２，３０７４，２９２８，２８７１，１６４２，１４５２，１３７６，１０５８，９９４，９０９，８８９，６４１ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝０．８７－０．９０（３Ｈ，ｍ），１．００－１．０９（１Ｈ，ｍ），１．１７－１．６９（１２Ｈ，ｍ），１．８７－２．０８（３Ｈ，ｍ）、３．６０－３．７０（２Ｈ，ｍ），４．６６（１Ｈ，ｓ－ｌｉｋｅ），４．７４（１Ｈ，ｓ－ｌｉｋｅ），４．９０－５．０２（２Ｈ，ｍ），５．７５－５．８４（１Ｈ，ｍ）ｐｐｍ。
１３Ｃ－ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１７．６３，１７．７９，１８．５２，１９．７７，２９．２９，２９．６１，３０．４６，３０．６４，３０．６５，３２．５６，３２．７４，３４．６２，３４．８８，３９．６３，４０．０４，４６．９１，４７．１０，６１．１１，６１．１４，１１１．７０，１１１．８１，１１４．１７，１３９．０４，１３９．０６，１４７．２１，１４７．２８ｐｐｍ。
ＧＣ－ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：２９，４１，５５，６９，８１，９５，１０９，１２３，１３５，１４９，１６７，１８２，１９５，２１０。
【0187】
実施例１６
６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）の製造
６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）の製造
【化53】
【0188】
窒素雰囲気下、反応器に、１－（１－エトキシエトキシ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン（３：Ｒ＝ＥＥ）（２７３．７９ｇ：０．５９モル）、酢酸（３５．５２ｇ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（２５０ｇ）及び純水（２６６．４ｇ）を仕込み、内温７０～８０℃にて７時間攪拌した。その後、該反応器を室温まで冷却し、純水（５００ｇ）及びトルエン（２００ｇ）を添加し、３０分間攪拌し、その後、有機層を分離した。分離した有機層を、通常の洗浄、乾燥、そして濃縮により後処理操作を行い、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）の粗生成物（２１６．３３ｇ）を得た。粗収率は１００％であった。
【0189】
該得られた６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）のスペクトルデータは、実施例１５で得られたスペクトルデータと同じであった。
【0190】
実施例１７
６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）の製造
６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）の製造
【化54】
【0191】
窒素雰囲気下、反応器に、実施例１４に従って得られた１－（ｔ－ブチルジメチルシリルオキシ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン（３：Ｒ＝ＴＢＳ）（２．００ｇ：０．００３モル）及びテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（３０ｇ）を仕込み、室温にて５分間攪拌した。その後、該反応器にテトラブチルアンモニウムフルオリドのＴＨＦ溶液（５．４ｍＬ：０．００５モル）を１０分間かけて滴下した。滴下終了後、室温下で５時間攪拌し、その後、反応器に純水（３０ｇ）、食塩（３ｇ）及びｎ－ヘキサン（３０ｇ）を添加し、３０分間さらに攪拌し、そして、有機層を分離した。分離した有機層を、通常の洗浄、乾燥、そして濃縮により後処理を行い、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）の粗生成物（１．９９ｇ）を得た。粗収率は１００％であった。
【0192】
該得られた６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）のスペクトルデータは、実施例１５で得られたスペクトルデータと同じであった。
【0193】
実施例１８
６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート（５）の製造
６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート（５）の製造
【化55】
【0194】
窒素雰囲気下、反応器に、実施例１６に従って得られた６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセノール（４）（２１５．３３ｇ：０．７７モル）、ピリジン（２１３．４５ｇ）、無水酢酸（１３１．７８ｇ）及びアセトニトリル（２２０ｇ）を仕込み、室温下にて４時間と４５分間攪拌した。その後、反応器に、純水（６００ｇ）及びｎ－ヘキサン（３００ｇ）を添加し、３０分間攪拌し、その後、有機層を分離した。分離した有機層を、通常の洗浄、乾燥、そして濃縮により後処理操作を行い、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート（５）の粗生成物（２４５．３１ｇ）を得た。この粗生成物を減圧蒸留することにより、目的化合物である６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート（５）（１４２．３２ｇ：０．５５モル）を得た。初留フラクションを含めた全フラクションより算出した収率は８３．２７％であった。
【0195】
上記で得られた６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート（５）のスペクトルデータを以下に示す。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３０７３，２９２８，２８７１，１７４２，１６４２，１４５４，１３６７，１２３９，１０３７，９９５，９０９，８８９，６３６，６０６ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝０．８７－０．９０（３Ｈ，ｍ），１．０１－１．０９（１Ｈ，ｍ），１．１８－１．５４（７Ｈ，ｍ），１．５６－１．５８（３Ｈ，ｍ），１．５９－１．６８（１Ｈ，ｍ），１．８９－２．０１（３Ｈ，ｍ）、２．０２（３Ｈ，ｓ），４．０１－４．１２（２Ｈ，ｍ），４．６５（１Ｈ，ｓ－ｌｉｋｅ），４．７４（１Ｈ，ｓ－ｌｉｋｅ），４．９１－５．０１（２Ｈ，ｍ），５．７４－５．８３（１Ｈ，ｍ）ｐｐｍ。
１３Ｃ－ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１７．６３，１７．７７，１９．３２，１９．６３，２０．９９，２９．６８，２９．９６，３０．４３，３０．５６，３１．６２，３１．６５，３２．５６，３２．７２，３４．４９，３４．６４，３５．１９，３５．６４，４６．８９，４７．０４，６２．９８，６３．０２，１１１．７７，１１１．８６，１１４．１９，１３８．９９，１４７．０３，１４７．１５，１７１．１６ｐｐｍ。
ＧＣ－ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：２９，４３，５５，６７，８１，９５，１０９，１２３，１３５，１４９，１６３、１７７，１９２，２０９，２２３，２３７，２５２。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３０７３，２９２８，２８７１，１７４２，１６４２，１４５４，１３６７，１２３９，１０３７，９９５，９０９，８８９，６３６，６０６ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝０．８７－０．９０（３Ｈ，ｍ），１．０１－１．０９（１Ｈ，ｍ），１．１８－１．５４（７Ｈ，ｍ），１．５６－１．５８（３Ｈ，ｍ），１．５９－１．６８（１Ｈ，ｍ），１．８９－２．０１（３Ｈ，ｍ）、２．０２（３Ｈ，ｓ），４．０１－４．１２（２Ｈ，ｍ），４．６５（１Ｈ，ｓ－ｌｉｋｅ），４．７４（１Ｈ，ｓ－ｌｉｋｅ），４．９１－５．０１（２Ｈ，ｍ），５．７４－５．８３（１Ｈ，ｍ）ｐｐｍ。
１３Ｃ－ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１７．６３，１７．７７，１９．３２，１９．６３，２０．９９，２９．６８，２９．９６，３０．４３，３０．５６，３１．６２，３１．６５，３２．５６，３２．７２，３４．４９，３４．６４，３５．１９，３５．６４，４６．８９，４７．０４，６２．９８，６３．０２，１１１．７７，１１１．８６，１１４．１９，１３８．９９，１４７．０３，１４７．１５，１７１．１６ｐｐｍ。
ＧＣ－ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：２９，４３，５５，６７，８１，９５，１０９，１２３，１３５，１４９，１６３、１７７，１９２，２０９，２２３，２３７，２５２。
【0196】
実施例１９
６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート（５）の製造
６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート（５）の製造
【化56】
【0197】
窒素雰囲気下、反応器に無水酢酸（２４．５０ｇ）、ｐ－トルエンスルホン酸（０．０５ｇ）を仕込み、室温下にて５分間攪拌した。その後、反応器に、実施例１０に従って得られた１－（１－エトキシエトキシ）－６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセン（３：Ｒ＝ＥＥ）（１０．００ｇ：０．０２３モル）を１分間で滴下し、内温９０℃にて６時間攪拌した。その後、反応器に、純水（１０ｇ）及びｎ－ヘキサン（５０ｇ）を添加し、３０分間攪拌した。撹拌終了後、有機層を分離した。分離した有機層を、通常の洗浄、乾燥、そして濃縮により後処理操作を行い、６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート（５）の粗生成物（９．５０ｇ）を得た。粗収率は１００％であった。
【0198】
該得られた６－イソプロペニル－３－メチル－９－デセニル＝アセテート（５）のスペクトルデータは、実施例１８で得られたスペクトルデータと同じであった。