特許 7604037 射出金型

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-12-13

(45)【発行日】2024-12-23

(54)【発明の名称】射出金型

(51)【国際特許分類】

   B29C 45/37 20060101AFI20241216BHJP

   B29C 45/17 20060101ALN20241216BHJP

【ＦＩ】

B29C45/37

B29C45/17

【請求項の数】 5

(21)【出願番号】P 2023509441

(86)(22)【出願日】2022-03-07

(65)【公表番号】

(43)【公表日】2023-09-05

(86)【国際出願番号】 KR2022003204

(87)【国際公開番号】W WO2022191549

(87)【国際公開日】2022-09-15

【審査請求日】2023-02-08

(31)【優先権主張番号】10-2021-0031021

(32)【優先日】2021-03-09

(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR

(73)【特許権者】

【識別番号】500239823

【氏名又は名称】エルジー・ケム・リミテッド

(74)【代理人】

【識別番号】100110364

【弁理士】

【氏名又は名称】実広 信哉

(74)【代理人】

【識別番号】100122161

【弁理士】

【氏名又は名称】渡部 崇

(72)【発明者】

【氏名】ドン・チュル・シム

(72)【発明者】

【氏名】ジュン・チュル・シン

(72)【発明者】

【氏名】ビョン・ジュン・ジョン

(72)【発明者】

【氏名】ウォル・ヨン・キム

(72)【発明者】

【氏名】ジュン・ヒョン・パク

(72)【発明者】

【氏名】ジェ・ヒョン・シン

【審査官】田村 佳孝

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１０－２０８３１８（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００６－１４２５２１（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００４－２５５６１７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１２－０５６２７４（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００５－１４５０４８（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００７－２８３７１４（ＪＰ，Ａ）

【文献】国際公開第２００９／０８４６１５（ＷＯ，Ａ１）

【文献】国際公開第２００９／１２２８６２（ＷＯ，Ａ１）

【文献】特開２０１９－００６０６７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００６－１９６３６９（ＪＰ，Ａ）

【文献】国際公開第２００７／０７７７３７（ＷＯ，Ａ１）

【文献】特開２００３－１５９７３５（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｂ２９Ｃ ４５／３７

Ｂ２９Ｃ ４５／１７

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

射出成形を介して射出品を製造する射出金型であって、
前記射出品の前方に位置して前記射出品の前面にパターンを形成させる転写金型、及び
前記射出品の後方に位置する背面金型を含み、
前記射出品の背面と向かいあう前記背面金型の背面部は、エンボス（ｅｍｂｏｓｓ）パターンが形成され、
前記背面金型は分割された形態で備えられ、
前記射出品の前面と向かいあう前記転写金型の前面部にエンボスパターンが形成され、前記背面金型の背面部に形成されたエンボスパターンの粗さは、前記転写金型の前面部に形成されたエンボスパターンの粗さと同一に形成され、この際、前記背面金型の背面部及び前記転写金型の前面部に形成されたエンボスパターンの粗さ（Ｒａ）は、５．８～３０μｍで形成されるか、もしくは、
前記背面金型の背面部のエンボスパターンの粗さは、前記転写金型の前面部のエンボスパターンの粗さより大きく形成され、この際、前記背面金型の背面部のエンボスパターンの粗さ（Ｒａ）は、前記転写金型の前面部エンボスパターンの粗さ（Ｒａ）より５～１５μｍ大きく形成される、射出金型。

【請求項2】

前記背面金型は
第１分割金型、及び平面図上で前記第１分割金型の中央部または端に位置する第２分割金型を含む、請求項１に記載の射出金型。

【請求項3】

前記射出品と向かいあう前記第１分割金型及び前記第２分割金型の背面部に、それぞれ前記エンボス（ｅｍｂｏｓｓ）パターンが形成される、請求項２に記載の射出金型。

【請求項4】

前記背面金型の背面部は、表面に粗さが形成されるように化学腐食処理された、請求項１～３のいずれか一項に記載の射出金型。

【請求項5】

請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の射出金型を使用する、射出品の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

［関連出願の相互参照］
本出願は、２０２１年０３月０９日付の韓国特許出願第１０－２０２１－００３１０２１号に基づいた優先権の利益を主張し、該韓国特許出願の文献に開示された全ての内容は本明細書の一部として含まれる。

【0002】

本発明は、射出金型に関する。

【背景技術】

【0003】

射出成形は、熱を加えて溶かした射出材料を射出金型内に入れて射出品を成形する方法である。

【0004】

自動車及び電子製品の部品の多くが射出成形で製造されており、射出金型に刻印されたパターンを用いて多様な外観のデザインの部品を提供している。外観部品に要求されるデザインは、光沢面（鏡面）となり得るが、質感のような審美的な機能の付与や、スクラッチ、耐汚染性等の表面特性の付与のために、マイクロエンボスパターンの採択がますます多くなっている。しかし、金型の構造によって射出成形間のマイクロエンボスパターンの転写が均一になされない現象があり、これによる光沢むらが発生して成形品の外観面にむらが生じる現象がしばしば発生するようになる。通常のエンボスパターンが刻印された射出成形品は、塗装／めっきのような後工程がない形態で大部分が適用され、後工程による隠蔽が不可能であるため、表面がむらになる審美的な問題は深刻な問題として至急に解決しなければならない課題である。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【文献】韓国登録特許第１０－２１８９８２０号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

本発明の一つの観点は、射出品に均一な転写が具現可能な射出金型を提供するためのものである。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本発明の実施例による射出金型は、射出成形を介して射出品を製造する射出金型であって、前記射出品の前方に位置して前記射出品の前面にパターンを形成させる転写金型、及び前記射出品の後方に位置する背面金型を含み、前記射出品の背面と向かいあう前記背面金型の背面部は、エンボス（ｅｍｂｏｓｓ）パターンが形成されることができる。

【0008】

また、本発明の実施例による射出品は、本発明の実施例による射出金型で製造されることができる。

【発明の効果】

【0009】

本発明によれば、射出品の前面に転写金型を介してパターンを形成させるとき、射出品の背面と向かいあう背面金型の背面部にエンボスパターンが形成され、均一な転写が可能で、射出品の外観不良を防ぐことができるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

【0010】

【図1】本発明の実施例による射出金型を示した断面図である。

【図2】図１でＡ領域を拡大して示した断面図である。

【図3】本発明の実施例による射出金型で背面金型の一例を示した平面図である。

【図4】本発明の実施例による射出金型で背面金型の他の例を示した平面図である。

【発明を実施するための形態】

【0011】

本発明の目的、特定の長所及び新規の特徴は、添付された図面と関連する以下の詳細な説明と、好ましい実施例からさらに明白になるものである。本明細書で各図面の構成要素に参照番号を付加するにおいて、同一の構成要素に限ってはたとえ他の図面上に表示されていても可能な限り同一の番号をもつようにしていることに留意しなければならない。また、本発明は、様々に相違する形態で具現されることができ、ここで説明する実施例に限定されない。そして、本発明を説明するにおいて、本発明の要旨を不要に不明瞭にし得る関連の公知技術についての詳細な説明は省略する。
実施例による射出金型

【0012】

図１は本発明の実施例による射出金型を示した断面図で、図２は図１でＡ領域を拡大して示した断面図、図３は本発明の実施例による射出金型で背面金型の一例を示した平面図、図４は本発明の実施例による射出金型で背面金型の他の例を示した平面図である。

【0013】

図１～図４を参考にすると、本発明の実施例による射出金型１０は、射出成形を介して射出品を製造する射出金型であって、射出品Ｍの前面にパターンを形成させる転写金型１００、及び、射出品Ｍの後方に位置する背面金型２００を含み、射出品Ｍの背面と向かいあう背面金型２００の背面部２１１、２２１はエンボス（ｅｍｂｏｓｓ）パターンが形成される。

【0014】

より詳しくは、転写金型１００は、射出品Ｍの前方に位置して射出品Ｍの前面にパターンを形成させることができる。ここで、射出品Ｍの前面は、射出品Ｍの前側の面を意味するもので、図１を参考するとき、射出品Ｍの上側面であり得る。

【0015】

また、射出品Ｍの前面と向かいあう転写金型１００の前面部１１１にパターンが形成されて射出品にパターンを転写することができる。ここで、転写金型１００の前面部１１１にエンボスパターン（Ｅｍｂｏｓｓ Ｐａｔｔｅｒｎ）が形成されることができる。このとき、転写金型１００の前面部１１１に表面に粗さが形成されるように化学腐食処理されることができる。

【0016】

背面金型２００は、射出品Ｍの後方に位置して射出品Ｍの背面を支持することができる。ここで、射出品Ｍの背面は、射出品Ｍの後側の面を意味するもので、図１を参考にするとき、射出品Ｍの下側面であり得る。このとき、例えば背面金型２００は、射出品Ｍの下部に位置することができる。

【0017】

このとき、射出品Ｍの背面と向かいあう背面金型２００の背面部２１１、２２１は、エンボス（ｅｍｂｏｓｓ）パターンが形成されることができる。

【0018】

また、背面金型２００は、分割された形態で備えられることができる。ここで、図３を参考にすると、背面金型２００は、一例で第１分割金型２１０、及び、平面図上で第１分割金型２１０の中央部に位置する第２分割金型２２０を含むことができる。

【0019】

一方、図４を参考にすると、背面金型２００’は、他の例で第１分割金型２１０、及び、平面図上で第１分割金型２１０の端に位置する第２分割金型２２０’を含むことができる。すなわち、第２分割金型２２０、２２０’は、第１分割金型２１０の中央部または端に位置することができる（参考図３、図４）。このとき、第１分割金型２１０の端とは、第１分割金型２１０で射出品Ｍが形成される部分の端であり得る。

【0020】

これによって、射出後に第１分割金型２１０に対して第２分割金型２２０が上部に移動して射出品Ｍを背面金型２００から分離することが容易にできる。

【0021】

図３を参考にすると、第２分割金型２２０は断面が、一例で四角形に形成されることができる。このとき、第１分割金型２１０は、第２分割金型２２０が結合されるように、第２分割金型２２０に対応する結合ホールが形成されることができる。

【0022】

一方、図４を参考にすると、第２分割金型２２０’は、他の例で断面が円形に形成されることができる。このとき、第２分割金型２２０’の背面部２２１’は、平面図上で円形に形成されることができる。

【0023】

射出品Ｍの背面と向かいあう第１分割金型２１０及び第２分割金型２２０の背面部２１１、２２１に、それぞれエンボス（ｅｍｂｏｓｓ）パターンが形成されることができる。

【0024】

そして、背面金型２００の背面部２１１、２２１は、表面に粗さが形成されるように化学腐食処理されることができる。

【0025】

一方、第１例で、背面金型２００の背面部２１１、２２１に形成されたエンボスパターンの粗さは、転写金型１００の前面部１１１に形成されたエンボスパターンの粗さと同一に形成されることができる。ここで、背面部２１１、２２１、及び前面部１１１に形成されたエンボスパターンの粗さＲａは、例えば５０μｍ以下で形成されることができる。このとき、具体的に、例えば背面部２１１、２２１及び前面部１１１に形成されたエンボスパターンの粗さＲａは、５．８～３０μｍで形成されることができる。このとき、エンボスパターンの粗さＲａが、下限値である５．８μｍ以上で形成されて、金型が分割された部分での射出品Ｍの異質感が著しく減少するか、発生しないこともある。そして、より具体的には、例えば背面部２１１、２２１及び前面部１１１に形成されたエンボスパターンの粗さＲａは、１０μｍで形成されることができる。

【0026】

また、第２例で、背面部２１１、２２１のエンボスパターンの粗さは、前面部１１１のエンボスパターンの粗さより大きく形成されることができる。一方、例えば背面部２１１、２２１のエンボスパターンの粗さＲａは、前面部１１１のエンボスパターンの粗さＲａより５～１５μｍ大きく形成されることができる。このとき、具体的には、例えば背面部２１１、２２１のエンボスパターンの粗さＲａは、前面部１１１エンボスパターンの粗さＲａより１０μｍ大きく形成されることができる。

【0027】

したがって、前記のように構成された本発明の実施例による射出金型１０は、射出品Ｍの背面と向かいあう背面金型２００の背面部２１１、２２１にエンボス（ｅｍｂｏｓｓ）パターンを形成して、射出時に射出品に均一な転写が可能な効果がある。

【0028】

特に、分割構造の背面金型２００において、背面部２１１、２２１にエンボスパターンが形成され、射出時に熱交換が早まることにより、分割された金型部分に対応する射出品Ｍに異質感が発生しないように均一な転写が可能である。

【0029】

＜製造例１＞
射出品の前方に位置し、射出品の前面にパターンを形成させる転写金型、及び射出品の後方に位置する背面金型を含む射出金型を製造した。また、背面金型は、第１分割金型及び平面図上で第１分割金型の中央部に位置する第２分割金型を含む第２分割金型に分割された形態で形成させた。

【0030】

ここで、射出品の背面と向かいあう背面金型の背面部、及び射出品の前面と向かいあう転写金型の前面部に、同一の粗さを有するエンボス（ｅｍｂｏｓｓ）パターンを形成させた。このとき、背面金型で第１分割金型及び第２分割金型は、同一の粗さを有するエンボスパターンで形成させた。

【0031】

そして、背面金型の背面部及び転写金型の前面部のエンボスパターンの粗さＲａは、全て１０μｍとなるように化学腐食処理した。

【0032】

また、背面金型及び転写金型はＨＰ４Ｍ材質で製作し、射出素材はＡＳＡ Ｒｅｓｉｎを使用した。

【0033】

＜製造例２＞
背面金型の背面部のエンボスパターンの粗さＲａは２０μｍとなるように化学腐食処理し、転写金型の前面部のエンボスパターンの粗さＲａは１０μｍとなるように化学腐食処理したことを除いて、実施例１と同一の方法で射出金型を製造した。

【0034】

＜比較例１＞
背面金型で第２分割金型の背面部は、表面粗さＲａが０．２μｍとなるようにラッピング処理され、第１分割金型の背面部は表面の粗さＲａが１．６μｍとなるように研削処理されたことを除いて、実施例１と同一の方法で射出金型を製造した。

【0035】

＜比較例２＞
背面金型で第２分割金型の背面部及び第１分割金型の背面部は、表面粗さＲａが１．６μｍとなるように研削処理されたことを除いて、実施例１と同一の方法で射出金型を製造した。

【0036】

＜比較例３＞
背面金型で第２分割金型の背面部は、表面粗さＲａが１０μｍとなるように化学腐食処理され、第１分割金型の背面部は表面の粗さＲａが１．６μｍとなるように研削処理されたことを除いて、実施例１と同一の方法で射出金型を製造した。

【0037】

＜比較例４＞
背面金型で第２分割金型の背面部は、表面粗さＲａが２０μｍとなるように化学腐食処理され、第１分割金型の背面部は表面の粗さＲａが１．６μｍとなるように研削処理されたことを除いて、実施例１と同一の方法で射出金型を製造した。

【0038】

＜比較例５＞
背面金型で第２分割金型の背面部は、表面粗さＲａが１．６μｍとなるように研削処理され、第１分割金型の背面部は表面の粗さＲａが０．２μｍとなるようにラッピング処理されたことを除いて、実施例１と同一の方法で射出金型を製造した。

【0039】

＜比較例６＞
背面金型で第２分割金型の背面部は、表面粗さＲａが１．６μｍとなるように研削処理され、第１分割金型の背面部は表面の粗さＲａが１０μｍとなるように化学腐食処理されたことを除いて、実施例１と同一の方法で射出金型を製造した。

【0040】

＜比較例７＞
背面金型で第２分割金型の背面部は、表面粗さＲａが１．６μｍとなるように研削処理され、第１分割金型の背面部は表面粗さＲａが２０μｍとなるように化学腐食処理されたことを除いて、実施例１と同一の方法で射出金型を製造した。

【0041】

＜実験例１＞
ＬｓエムトロンＬＧＥ－ΙΙ２２０Ｎ電動式成形機に適用して、同一成形条件下で製造例１、２、及び比較例１～７の外観評価見本を製作した。

【0042】

実験結果の測定は、全てマイクロエンボスパターニングされた上側面の外観面を意味する。成形品の外観変化特性の定量化のために、転写度をＧｌｏｓｓ－Ｍｅｔｅｒで評価して下記表１に示した。

【0043】

【表1】

【0044】

表１に現れたように、目視の外観評価結果と比較するとき、エンボスパターンの差に対する異質感はＧｌｏｓｓ Ｇａｐが０．３以上である場合に光沢部分の異質感として目視観測されることがわかった。すなわち、製造例１及び製造例２では光沢部分の異質感が発生しない一方、比較例１～７では光沢部分の異質感が発生したことがわかる。したがって、射出品と向かいあう背面金型の背面部に表面の粗さＲａが１０及び２０μｍとなるように化学腐食処理を介してエンボス（ｅｍｂｏｓｓ）パターンを形成させるとき、均一な転写が行われたことがわかる。

【0045】

以上、本発明を具体的な実施例を介して詳しく説明したが、これは本発明を具体的に説明するためのものであり、本発明はこれに限定されない。本発明の技術的思想内で当該分野の通常の知識を有する者によって多様な実施が可能であるといえるものである。

【0046】

また、発明の具体的な保護範囲は、添付の特許請求の範囲によって明確となるものである。

【符号の説明】

【0047】

１０：射出金型
１００：転写金型
１１１：前面部
２００：背面金型
２１０：第１分割金型
２２０：第２分割金型
２１１、２２１：背面部
Ｍ：射出品

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】