特許7605129セリウム化合物除去用洗浄液、洗浄方法及び半導体ウェハの製造方法

発明の名称　セリウム化合物除去用洗浄液、洗浄方法及び半導体ウェハの製造方法

出願人　三菱レイヨン株式会社　（識別番号 6035）

　　　　特許公開件数ランキング 58 位（157件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 40 位（182件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-7605129

公報発行日　2024年12月24

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7605129

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