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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-12-17
(45)【発行日】2024-12-25
(54)【発明の名称】防眩層付基材及び画像表示装置並びに防眩層付基材の製造方法
(51)【国際特許分類】
G02B 5/02 20060101AFI20241218BHJP
B32B 27/00 20060101ALI20241218BHJP
G02B 1/111 20150101ALI20241218BHJP
【ＦＩ】
G02B5/02 C
B32B27/00 101
G02B1/111
【請求項の数】
16
(21)【出願番号】P 2021556125
(86)(22)【出願日】2020-11-11
(86)【国際出願番号】 JP2020042081
(87)【国際公開番号】W WO2021095770
(87)【国際公開日】2021-05-20
【審査請求日】2023-11-06
(31)【優先権主張番号】P 2019207410
(32)【優先日】2019-11-15
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(73)【特許権者】
【識別番号】000003986
【氏名又は名称】日産化学株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100101236
【弁理士】
【氏名又は名称】栗原 浩之
(74)【代理人】
【識別番号】100166914
【弁理士】
【氏名又は名称】山▲崎▼ 雄一郎
(72)【発明者】
【氏名】江口 和輝
(72)【発明者】
【氏名】保坂 和義
【審査官】小西 隆
(56)【参考文献】
【文献】国際公開第２００９／０２５２８９（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開２００５－１６２７９５（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００８－０２０８６４（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２０１８／０７０４２６（ＷＯ，Ａ１）
【文献】国際公開第２００９／０７５２０１（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開２００２－１３１５０７（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００１－３４３５０５（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２０１９／１１６２０４（ＷＯ，Ａ１）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｇ０２Ｂ ５／００ － ５／１３６
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
基材と、前記基材上に直接又は他の層を介して形成され、表面に凹凸構造を有する防眩層とを有し、前記防眩層は、含フッ素有機基を有するポリシロキサンを含有する防眩性被膜形成用組成物の硬化物から形成され、前記ポリシロキサンが、下記式（１）で表されるアルコキシシラン化合物を含有するアルコキシシラン成分を重縮合して得られ、
前記防眩層の平坦な被膜の上に凸部が間欠的に形成されている表面の凹凸構造において、前記凸部の占有割合である凸部表面被覆率が５％～７０％であることを特徴とする、防眩層付基材。
Ｒ １１ Ｓｉ（ＯＲ １２ ） ３ （１）
（Ｒ １１ は、フッ素原子で置換された有機基を表し、Ｒ １２ は炭素数１～５の炭化水素基を表す。）
【請求項2】
前記ポリシロキサンが、更に下記式（２）で表されるアルコキシシラン化合物及び下記式（３）で表されるアルコキシシラン化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種を含有するアルコキシシラン成分を重縮合して得られる、請求項１に記載の防眩層付基材。Ｓｉ（ＯＲ２）４ （２）
Ｒ３１ ｎＳｉ（ＯＲ３２）４－ｎ （３）
（式中、Ｒ２は炭化水素基を表す。Ｒ３１はフッ素原子で置換されていない有機基又は水素原子を表し、Ｒ３２は炭素数１～５の炭化水素基を表し、ｎは１～３の整数である。）
【請求項3】
前記フッ素原子で置換されてない有機基が、炭素数１～１８のアルキル基、炭素数２～１８のアルケニル基、シクロアルキル基、（メタ）アクリロイルオキシ基含有アルキル基、ヒドロキシ基含有アルキル基、ウレイド基含有アルキル基、アミノ基含有アルキル基、エポキシ基含有アルキル基、メルカプト基含有アルキル基、イソシアネート基含有アルキル基又はアリール基から選ばれる、請求項１又は２に記載の防眩層付基材。
【請求項4】
前記式（２）で表されるアルコキシシラン化合物が、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、又はテトラブトキシシランである、請求項２又は３に記載の防眩層付基材。
【請求項5】
前記式（３）で表されるアルコキシシラン化合物が、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、ペンチルトリメトキシシラン、ペンチルトリエトキシシラン、ヘプチルトリメトキシシラン、ヘプチルトリエトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、ドデシルトリエトキシシラン、ヘキサデシルトリメトキシシラン、ヘキサデシルトリエトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３－イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、３－イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ－メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３－アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３－アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、γ－メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ－メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、γ－ウレイドプロピルトリメトキシシラン又はγ－ウレイドプロピルトリエトキシシランである、請求項２～４のいずれか一項に記載の防眩層付基材。
【請求項6】
前記含フッ素有機基を有するポリシロキサンが、下記式（Ｆ）で表される有機基を含有するポリシロキサンをさらに含む、請求項１～５のいずれか一項に記載の防眩層付基材。ＣＦ３（ＣＦ２）ｋＣＨ２ＣＨ２－＊ （Ｆ）
（式中、ｋは０～１２の整数である。＊は結合位置を表す。）
【請求項7】
前記防眩性被膜形成用組成物が、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート及びメチルイソブチルケトンから選ばれる少なくとも１種を含有する、請求項１～６のいずれか一項に記載の防眩層付基材。
【請求項8】
前記防眩性被膜形成用組成物が、メタノール、エタノール、２－プロパノール、２－ブタノール及び２－メチル－１－プロパノールから選ばれる少なくとも１種を含有する、請求項１～７のいずれか一項に記載の防眩層付基材。
【請求項9】
前記凹凸構造の前記凸部の高さが５０ｎｍ～２，０００ｎｍである、請求項１～８のいずれか一項に記載の防眩層付基材。
【請求項10】
前記防眩層のＨＡＺＥが０．３％～４０％である、請求項１～９のいずれか一項に記載の防眩層付基材。
【請求項11】
前記防眩層の屈折率が１．３～１．４９の範囲である、請求項１～１０のいずれか一項に記載の防眩層付基材。
【請求項12】
前記防眩層が、高屈折率層上に形成されたものであり、該高屈折率層の屈折率は前記防眩層の屈折率よりも高いものであることを特徴とする、請求項１～１１のいずれか一項に記載の防眩層付基材。
【請求項13】
前記高屈折率層の屈折率が、１．５～２．１の範囲である、請求項１２に記載の防眩層付基材。
【請求項14】
前記防眩層上に形成された機能性層とをさらに具備することを特徴とする、請求項１～１３のいずれか一項に記載の防眩層付基材。
【請求項15】
請求項１～１３のいずれか一項に記載の防眩層付基材を備えることを特徴とする画像表示装置。
【請求項16】
請求項１～１４のいずれか一項に記載の防眩性被膜形成用組成物を防眩性被膜形成用塗布液とし、前記防眩性被膜形成用塗布液を基材上に塗布して防眩層を形成して、防眩層付基板を得る工程を含む、防眩層付基材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、防眩性（アンチグレア機能）に優れるとともに、ギラツキ（スパークリング）が発生せずに、良好な視認性を与える防眩層付基材及びこれを具備する画像表示装置並びに防眩層付基材の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
テレビ、パーソナルコンピュータ、スマートフォン等の各種デバイスが具備する画像表示装置（液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイ等）は、室内照明（蛍光灯等）、太陽光等の外光が表示面に映り込むと、反射像によって画像の視認性が低下することがある。
【0003】
外光の映り込みを抑制する方法として、画像表示装置の表示面に防眩処理（アンチグレア処理）を施す方法がある。防眩処理の方法としては、ガラス等の透明基材の表面をフッ酸等の薬剤によりエッチングする処理（特許文献１参照）、表面に凹凸のある有機系の防眩層を形成する処理（特許文献２参照）等が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【文献】特許第５８３９１３４号公報
【文献】国際公開２０１８／０７０４２６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかし、ガラス基板表面を薬剤でエッチングする処理においては、薬剤の危険性が問題となり、表面に有機系の防眩層を形成する処理においては、ガラス基板への塗布性や、膜上に更なる機能性層を形成させる際の塗布性、密着性に問題が生じる。
【0006】
また、最近の画像表示装置の高精細化に伴って、防眩層を表示面側に配置すると、表面にランダムな光の強弱が現れるギラツキ現象が発生しやすいという問題もあった。
【0007】
以上の点から、本発明は、防眩性（アンチグレア機能）に優れるとともに、ギラツキが発生せずに、良好な視認性を与える防眩層付基材及びこれを具備する画像表示装置の提供を目的とする。更には、機能性層を形成する際の塗布性と密着性に優れた防眩層付基材及びこれを具備する画像表示装置並びに防眩層付基材の製造方法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
発明者らは、下記構成により上記課題を達成できることを見出し、本発明を完成させた。
かかる本発明は、
１．基材と、前記基材上に直接又は他の層を介して形成され、表面に凹凸構造を有する防眩層とを有し、前記防眩層は、含フッ素有機基を有するポリシロキサンを含有する防眩性被膜形成用組成物の硬化物から形成され、凸部表面被覆率が５％～７０％であることを特徴とする、防眩層付基材、
２．前記凹凸構造の凸部の高さが５０ｎｍ～２，０００ｎｍである、１に記載の防眩層付基材、
３．前記防眩層のＨＡＺＥが０．３％～４０％である、１又は２に記載の防眩層付基材、
４．前記防眩層の屈折率が１．３～１．４９の範囲である、１～３のいずれかに記載の防眩層付基材、
５．前記防眩層が、高屈折率層上に形成されたものであり、該高屈折率層の屈折率は前記防眩層の屈折率よりも高いものであることを特徴とする、１～４のいずれかに記載の防眩層付基材、
６．前記高屈折率層の屈折率が、１．５～２．１の範囲である、５に記載の防眩層付基材、
７．前記防眩層上に形成された機能性層とをさらに具備することを特徴とする、１～６のいずれかに記載の防眩層付基材、
８．１～７のいずれかに記載の防眩層付基材を備えることを特徴とする画像表示装置、
９．含フッ素有機基を有するポリシロキサンを含有する防眩性被膜形成用塗布液を、基材上に塗布して防眩層を形成する工程を含む、防眩層付基材の製造方法、
にある。
かかる本発明は、
１．基材と、前記基材上に直接又は他の層を介して形成され、表面に凹凸構造を有する防眩層とを有し、前記防眩層は、含フッ素有機基を有するポリシロキサンを含有する防眩性被膜形成用組成物の硬化物から形成され、凸部表面被覆率が５％～７０％であることを特徴とする、防眩層付基材、
２．前記凹凸構造の凸部の高さが５０ｎｍ～２，０００ｎｍである、１に記載の防眩層付基材、
３．前記防眩層のＨＡＺＥが０．３％～４０％である、１又は２に記載の防眩層付基材、
４．前記防眩層の屈折率が１．３～１．４９の範囲である、１～３のいずれかに記載の防眩層付基材、
５．前記防眩層が、高屈折率層上に形成されたものであり、該高屈折率層の屈折率は前記防眩層の屈折率よりも高いものであることを特徴とする、１～４のいずれかに記載の防眩層付基材、
６．前記高屈折率層の屈折率が、１．５～２．１の範囲である、５に記載の防眩層付基材、
７．前記防眩層上に形成された機能性層とをさらに具備することを特徴とする、１～６のいずれかに記載の防眩層付基材、
８．１～７のいずれかに記載の防眩層付基材を備えることを特徴とする画像表示装置、
９．含フッ素有機基を有するポリシロキサンを含有する防眩性被膜形成用塗布液を、基材上に塗布して防眩層を形成する工程を含む、防眩層付基材の製造方法、
にある。
【発明の効果】
【0009】
本発明によれば、防眩性（アンチグレア機能）に優れるとともに、ギラツキ（スパークリング）が発生せずに、良好な視認性を与える防眩層付基材及びこれを具備する画像表示装置を提供することができる。また、機能性層を形成する際の塗布性と密着性に優れた防眩層付基材及びこれを具備する画像表示装置並びに防眩層付基材の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【0010】
以下、本発明をより詳細に説明する。
【0011】
＜防眩性被膜層形成用組成物＞
本発明に用いる防眩性形成用組成物は、含フッ素有機基を有するポリシロキサン（以下、成分（Ａ）ともいう）を少なくとも具備し、さらにこれを溶解する溶媒を具備する。
本発明に用いる防眩性形成用組成物は、含フッ素有機基を有するポリシロキサン（以下、成分（Ａ）ともいう）を少なくとも具備し、さらにこれを溶解する溶媒を具備する。
【0012】
＜成分（Ａ）＞
成分（Ａ）は、フッ素原子で置換された有機基を側鎖に持つポリシロキサンである。このようなフッ素原子で置換された有機基は、脂肪族基や芳香族基の水素原子の一部又は全部をフッ素原子で置換した有機基である。上記フッ素原子で置換された有機基は、中でも、水素原子の一部若しくは全部がフッ素原子で置換されたアルキル基や水素原子の一部若しくは全部がフッ素原子で置換されたエーテル結合を含むアルキル基、水素原子の一部若しくは全部がフッ素原子で置換されたフェニル基を含む有機基などが好ましい。上記フッ素原子で置換された有機基が有するフッ素原子の数も特に限定されない。上記フッ素原子で置換された有機基の好ましい炭素数は、１～２０、より好ましくは３～１５、特に好ましくは３～８である。これらの具体例を挙げると、トリフルオロプロピル基、トリデカフルオロオクチル基、ヘプタデカフルオロデシル基、ペンタフルオロフェニルプロピル基が挙げられる。
成分（Ａ）は、フッ素原子で置換された有機基を側鎖に持つポリシロキサンである。このようなフッ素原子で置換された有機基は、脂肪族基や芳香族基の水素原子の一部又は全部をフッ素原子で置換した有機基である。上記フッ素原子で置換された有機基は、中でも、水素原子の一部若しくは全部がフッ素原子で置換されたアルキル基や水素原子の一部若しくは全部がフッ素原子で置換されたエーテル結合を含むアルキル基、水素原子の一部若しくは全部がフッ素原子で置換されたフェニル基を含む有機基などが好ましい。上記フッ素原子で置換された有機基が有するフッ素原子の数も特に限定されない。上記フッ素原子で置換された有機基の好ましい炭素数は、１～２０、より好ましくは３～１５、特に好ましくは３～８である。これらの具体例を挙げると、トリフルオロプロピル基、トリデカフルオロオクチル基、ヘプタデカフルオロデシル基、ペンタフルオロフェニルプロピル基が挙げられる。
【0013】
これらの中でも、透明性の高い被膜を得易い観点で、パーフルオロアルキル基を有する有機基が好ましく、更に好ましくは、下記式（Ｆ）で表される有機基である。
ＣＦ３（ＣＦ２）ｋＣＨ２ＣＨ２－＊ （Ｆ）
（式中、ｋは０～１２の整数である。＊は結合位置を表す。）
上記式（Ｆ）で表される有機基の具体例として、トリフルオロプロピル基、トリデカフルオロオクチル基、ヘプタデカフルオロデシル基が挙げられる。
ＣＦ３（ＣＦ２）ｋＣＨ２ＣＨ２－＊ （Ｆ）
（式中、ｋは０～１２の整数である。＊は結合位置を表す。）
上記式（Ｆ）で表される有機基の具体例として、トリフルオロプロピル基、トリデカフルオロオクチル基、ヘプタデカフルオロデシル基が挙げられる。
【0014】
本発明においては、上記の如き側鎖を有するポリシロキサンを複数種併用してもよい。
【0015】
上述したフッ素原子で置換された有機基を側鎖に持つポリシロキサンを得る方法は特に限定されない。一般的には、上記した有機基を側鎖に持つアルコキシシラン化合物を重縮合して得られる。
【0016】
中でも、式（１）で表されるアルコキシシラン化合物を含有するアルコキシシラン成分を重縮合して得られるポリシロキサンが好ましい。
Ｒ１１Ｓｉ（ＯＲ１２）３ （１）
Ｒ１１Ｓｉ（ＯＲ１２）３ （１）
【0017】
ここで、式（１）のＲ１１は、上記したフッ素原子で置換された有機基を表すが、この有機基が有するフッ素原子の数は特に限定されない。
【0018】
また、式（１）のＲ１２は炭素数１～５の炭化水素基を表し、好ましくは、炭素数１～５の飽和炭化水素基であり、より好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、又はブチル基である。
【0019】
このような式（１）で表されるアルコキシシランの中でも、Ｒ１１がパーフルオロアルキル基であるアルコキシシランが好ましく、Ｒ１１が上記式（Ｆ）で表される有機基であるアルコシシランがより好ましい。
【0020】
式（Ｆ）で表される有機基を有するアルコキシシランの具体例として、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン等が挙げられる。
【0021】
特に、透明性の高い被膜を得易い観点で、ｋが２～１２の整数の場合が好ましい。
【0022】
本発明においては、式（１）で表されるアルコキシシランのうちの少なくとも１種を用いればよいが、必要に応じて複数種を用いてもよい。
【0023】
また、上記フッ素原子で置換された有機基を側鎖に持つポリシロキサンは、上記式（１）で表されるアルコキシシラン化合物以外のアルコキシシラン化合物（以下、その他のアルコキシシラン化合物ともいう。）を含むアルコキシシラン成分を重縮合して得られるポリシロキサンであってもよい。その他のアルコキシシラン化合物の具体例としては、下記式（２）で表されるアルコキシシラン化合物及び下記式（３）で表されるアルコキシシラン化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種が挙げられるが、これらに限定されない。
Ｓｉ（ＯＲ２）４ （２）
Ｒ３１ ｎＳｉ（ＯＲ３２）４－ｎ （３）
（式中、Ｒ３１はフッ素原子で置換されていない有機基又は水素原子を表し、Ｒ３２は炭素数１～５の炭化水素基を表し、ｎは１～３の整数である。）
Ｓｉ（ＯＲ２）４ （２）
Ｒ３１ ｎＳｉ（ＯＲ３２）４－ｎ （３）
（式中、Ｒ３１はフッ素原子で置換されていない有機基又は水素原子を表し、Ｒ３２は炭素数１～５の炭化水素基を表し、ｎは１～３の整数である。）
【0024】
式（２）のＲ２は、炭化水素基を表すが、炭素数が少ない方が反応性は高いので、炭素数１～５の飽和炭化水素基が好ましく、より好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、又はブチル基である。
【0025】
このようなテトラアルコキシシランの具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等が挙げられ、市販品として容易に入手可能である。
【0026】
式（３）のＲ３２は、それぞれ独立して、炭素数１～５の炭化水素基を表す。Ｒ３２は同一でも、それぞれ異なっていてもよい。
【0027】
式（３）中のＲ３１は、炭素数１～２０の有機基が好ましく、より好ましくは炭素数１～１５の有機基である。Ｒ３１は同一でも、それぞれ異なっていてもよい。上記フッ素原子で置換されていない有機基の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ステアリル基（オクタデシル基）等の炭素数１～１８のアルキル基；ビニル基等の２～１８のアルケニル基；シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；３－（メタ）アクリルオキシプロピル基（γ－（メタ）アクリロキシプロピル基）等の（メタ）アクリルオキシ基含有アルキル基；３－ヒドロキシプロピル基等のヒドロキシル基含有アルキル基；γ－ウレイド（３－ウレイド）プロピル基のウレイド基含有アルキル基；γ－アミノ（３－アミノ）プロピル基、２－アミノエチルアミノメチル基、３－（Ｎ－スチリルメチル－２－アミノエチルアミノ）プロピル基等のアミノ基含有アルキル基；γ－グリシドキシ（３－グリシジルオキシ）プロピル基、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチル基等のエポキシ基含有アルキル基；γ－メルカプト（３－メルカプト）プロピル基等のメルカプト基含有アルキル基；３－イソシアネートプロピル基等のイソシアネート基含有アルキル基；フェニル基等のアリール基などが挙げられる。
これらの中でも、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘプチル基、オクチル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、フェニル基、ビニル基、γ－アミノプロピル基、γ－グリシドキシプロピル基、γ－メタクリロキシプロピル基がより好ましい。
これらの中でも、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘプチル基、オクチル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、フェニル基、ビニル基、γ－アミノプロピル基、γ－グリシドキシプロピル基、γ－メタクリロキシプロピル基がより好ましい。
【0028】
このような、式（３）で表されるアルコキシシランの具体例として、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、ペンチルトリメトキシシラン、ペンチルトリエトキシシラン、ヘプチルトリメトキシシラン、ヘプチルトリエトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、ドデシルトリエトキシシラン、ヘキサデシルトリメトキシシラン、ヘキサデシルトリエトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３－イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、３－イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ－メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ－ウレイドプロピルトリメトキシシラン、γ－ウレイドプロピルトリエトキシシラン等のトリアルコキシシラン及びジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン等のジアルコキシシランが挙げられるが、これに限定されない。
【0029】
式（１）で表されるアルコキシシラン化合物の合計使用量は、被膜が得られやすい観点から、成分（Ａ）を得るために用いるアルコキシシラン化合物の合計１００モル％に対して、３モル％以上が好ましく、５モル％以上がより好ましい。また、ゲルや異物の生成を抑制する観点から、４０モル％以下が好ましく、３０モル％以下がより好ましい。
【0030】
その他のアルコキシシラン化合物の使用量は、成分（Ａ）を得るために用いる全アルコキシシラン化合物の合計１００モル％に対して、上限は９７モル％以下が好ましく、９５モル％以下がより好ましい。下限は６０モル％以上が好ましく、７０モル％以上がより好ましい。
【0031】
（ポリシロキサンの合成）
本発明に用いるポリシロキサンを縮合する方法は特に限定されないが、例えば、アルコキシシランをアルコールやグリコールなどの溶媒中で加水分解・縮合する方法が挙げられる。その際、加水分解・縮合反応は、部分加水分解及び完全加水分解のいずれであってもよい。完全加水分解の場合は、理論上、アルコキシシラン中の全アルコキシ基の０．５倍モルの水を加えればよいが、通常は０．５倍モルより過剰量の水を加える。
本発明に用いるポリシロキサンを縮合する方法は特に限定されないが、例えば、アルコキシシランをアルコールやグリコールなどの溶媒中で加水分解・縮合する方法が挙げられる。その際、加水分解・縮合反応は、部分加水分解及び完全加水分解のいずれであってもよい。完全加水分解の場合は、理論上、アルコキシシラン中の全アルコキシ基の０．５倍モルの水を加えればよいが、通常は０．５倍モルより過剰量の水を加える。
【0032】
本発明においては、上記反応に用いる水の量は、所望により適宜選択することができるが、通常、アルコキシシラン中の全アルコキシ基の０．１～７倍モル、好ましくは０．１～５倍モルである。
【0033】
また、通常、加水分解・縮合反応を促進する目的で、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、蟻酸、蓚酸、マレイン酸などの酸； アンモニア、メチルアミン、エチルアミン、エタノールアミン、トリエチルアミンなどのアルカリ；塩酸、硫酸、又は硝酸などの金属塩を触媒として用いてもよい。この場合、反応に用いる触媒の量は、アルコキシシラン中の全アルコキシ基の０．００１～０．１倍モル程度が好ましく、０．０１～０．０６倍モルがより好ましい。さらに、アルコキシシランが溶解した溶液を加熱することで、加水分解・縮合反応を促進させることも一般的である。その際、加熱温度及び加熱時間は所望により適宜選択でき、好ましくは反応系を５０℃～１８０℃にして液の蒸発、揮散等が起こらないように、密閉容器中又は還流下で数十分から数十時間行われる。例えば、５０℃で２４時間加熱・撹拌したり、還流下で２～１０時間加熱・撹拌するなどの方法が挙げられる。
【0034】
また、別法として、例えば、アルコキシシラン、溶媒及び蓚酸の混合物を加熱する方法が挙げられる。具体的には、あらかじめアルコールに蓚酸を加えて蓚酸のアルコール溶液とした後、当該溶液とアルコキシシランを混合し、加熱する方法である。その際、蓚酸の量は、アルコキシシランが有する全アルコキシ基の１モルに対して０．２～２モルとすることが一般的であり、好ましくは０．５～２モルである。この方法における加熱は、液温５０℃～１８０℃で行うことができ、好ましくは、液の蒸発、揮散等が起こらないように、例えば、密閉容器中又は還流下で数十分～数十時間行われる。
【0035】
上記のそれぞれの方法において、複数のアルコキシシランを用いる場合は、複数のアルコキシシランをあらかじめ混合して用いてもよいし、複数のアルコキシシランを順次加えてもよい。
【0036】
上記の方法でアルコキシシランを重縮合する際には、仕込んだアルコキシシランの珪素原子の合計量をＳｉＯ２に換算した濃度（以下、ＳｉＯ２換算濃度と称す。）が、２０質量％以下とされることが一般的であり、１５質量％以下が好ましい。このような濃度範囲で任意の濃度を選択することにより、ゲルの生成を抑え、均質なポリシロキサンの溶液を得ることができる。
【0037】
アルコキシシランを重縮合する際に用いられる溶媒は、前記したアルコキシシラン化合物を溶解するものであれば特に限定されない。一般的には、アルコキシシランの重縮合反応によりアルコールが生成するため、アルコール類やアルコール類と相溶性の良好な有機溶媒が用いられる。
【0038】
上記の重縮合する際に用いられる溶媒の具体例としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ｎ－ブタノールなどのアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルなどのグリコールエーテルなどが挙げられる。本発明においては、上記の有機溶媒を複数種混合して用いてもよい。
【0039】
＜防眩性被膜形成用組成物＞
本発明の防眩性被膜形成用組成物である塗布液（以下、単に塗布液又は防眩性被膜形成用塗布液ともいう）を調製する方法は特に限定されない。一例として、上記で得られたポリシロキサン溶液に下記の溶媒群（Ａ）、溶媒群（Ｂ）及び必要に応じてその他の溶媒群を添加してもよい。また、必要に応じて、上記ポリシロキサン溶液を、濃縮する又は他の溶媒に置換してから調製する方法を用いてもよい。
本発明の防眩性被膜形成用組成物である塗布液（以下、単に塗布液又は防眩性被膜形成用塗布液ともいう）を調製する方法は特に限定されない。一例として、上記で得られたポリシロキサン溶液に下記の溶媒群（Ａ）、溶媒群（Ｂ）及び必要に応じてその他の溶媒群を添加してもよい。また、必要に応じて、上記ポリシロキサン溶液を、濃縮する又は他の溶媒に置換してから調製する方法を用いてもよい。
【0040】
＜溶媒群（Ａ）＞
本発明の防眩性被膜形成用塗布液が含有する溶媒群（Ａ）は、沸点１６０℃未満のグリコールエーテルおよびその誘導体、もしくはケトン類から選ばれる少なくとも１種である。具体的には、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテルなどのグリコールエーテル類及びその誘導体、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類が挙げられるが、その中でも、塗布安定性の観点から、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルイソブチルケトンが好ましい。
本発明の防眩性被膜形成用塗布液が含有する溶媒群（Ａ）は、沸点１６０℃未満のグリコールエーテルおよびその誘導体、もしくはケトン類から選ばれる少なくとも１種である。具体的には、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテルなどのグリコールエーテル類及びその誘導体、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類が挙げられるが、その中でも、塗布安定性の観点から、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルイソブチルケトンが好ましい。
【0041】
溶媒群（Ａ）の防眩性被膜形成用塗布液中の含有量は、成分（Ａ）が有する珪素原子の合計量をＳｉＯ２換算した質量の１質量部に対して、０．１～３００質量部であり、好ましくは０．３～１００質量部であり、特に好ましくは０．８～５０質量部である。
【0042】
＜溶媒群（Ｂ）＞
本発明の防眩性被膜形成用塗布液が含有する溶媒群（Ｂ）は、沸点１２０℃以下のアルコール類から選ばれる少なくとも１種である。具体的には、メタノール、エタノール、１－プロパノール、２－プロパノール、１－ブタノール、２－ブタノール、２－メチル－１－プロパノール、２－メチル－２－プロパノールが挙げられるが、その中でも、組成物の貯蔵安定性の観点から、メタノール、エタノール、２－プロパノール、２－ブタノール、２－メチル－１－プロパノールが好ましい。
本発明の防眩性被膜形成用塗布液が含有する溶媒群（Ｂ）は、沸点１２０℃以下のアルコール類から選ばれる少なくとも１種である。具体的には、メタノール、エタノール、１－プロパノール、２－プロパノール、１－ブタノール、２－ブタノール、２－メチル－１－プロパノール、２－メチル－２－プロパノールが挙げられるが、その中でも、組成物の貯蔵安定性の観点から、メタノール、エタノール、２－プロパノール、２－ブタノール、２－メチル－１－プロパノールが好ましい。
【0043】
溶媒群（Ｂ）の防眩性被膜形成用塗布液中の含有量は、成分（Ａ）が有する珪素原子の合計量をＳｉＯ2換算した質量の１質量部に対して、０．５～５００質量部であり、好ましくは１～２００質量部であり、特に好ましくは２～１５０質量部である。
【0044】
＜その他の溶媒＞
本発明の防眩性被膜形成用塗布液には、塗布液の安定性等の観点から、溶媒群（Ａ）及び（Ｂ）以外の溶媒（以下、その他の溶媒とも称する）が必要に応じ含まれても良い。
本発明の防眩性被膜形成用塗布液には、塗布液の安定性等の観点から、溶媒群（Ａ）及び（Ｂ）以外の溶媒（以下、その他の溶媒とも称する）が必要に応じ含まれても良い。
【0045】
その他の溶媒の例としては、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ノナノール、デカノール、ウンデカノール、ドデカノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール類、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、２－メチル－２，４－ペンタンジオール、プロパンジオール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ヘプタンジオールなどのグリコール類、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジプロピルエーテル、プロピレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテルなどのグリコールエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸エチル等のエステル類、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、γ－ブチロラクトン、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホトリアミド、ｍ－クレゾール、テトラヒドロフランなどが挙げられる。その中でも、入手性および組成物の貯蔵安定性の観点から、エチレングリコール、ジエチレングリコール、２－メチル－２，４－ペンタンジオール、プロパンジオール、ブタンジオール、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフランは好ましく用いられる。
【0046】
防眩性被膜形成用塗布液中の成分（Ａ）が有する珪素原子の合計量をＳｉＯ２に換算した濃度（ＳｉＯ２換算濃度）は、０．２～１０質量％が好ましく、０．５～８質量％がより好ましい。
【0047】
＜その他の成分＞
本発明においては、成分（Ａ）、溶媒群（Ａ）および（Ｂ）以外のその他の成分、例えば、無機微粒子、メタロキサンオリゴマー、メタロキサンポリマー、レベリング剤、界面活性剤等の成分が含まれていてもよい。
本発明においては、成分（Ａ）、溶媒群（Ａ）および（Ｂ）以外のその他の成分、例えば、無機微粒子、メタロキサンオリゴマー、メタロキサンポリマー、レベリング剤、界面活性剤等の成分が含まれていてもよい。
【0048】
無機微粒子としては、シリカ微粒子、アルミナ微粒子、チタニア微粒子、フッ化マグネシウム微粒子等の微粒子が好ましく、これらの無機微粒子のコロイド溶液が特に好ましい。このコロイド溶液は、無機微粒子粉を分散媒に分散したものでもよいし、市販品のコロイド溶液であってもよい。
【0049】
本発明においては、無機微粒子を含有させることにより、形成される硬化被膜の表面形状やその他の機能を付与することが可能となる。無機微粒子としては、その平均粒子径が０．００１～０．２μｍであることが好ましく、更に好ましくは０．００１～０．１μｍである。無機微粒子の平均粒子径が０．２μｍを超える場合には、調製される塗布液を用いて形成される硬化被膜の透明性が低下する場合がある。
【0050】
無機微粒子の分散媒としては、水及び有機溶剤を挙げることができる。コロイド溶液としては、被膜形成用塗布液の安定性の観点から、ｐＨ又はｐＫａが１～１０に調整されていることが好ましい。より好ましくは２～７である。
【0051】
コロイド溶液の分散媒に用いる有機溶剤としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオール、２－メチル－２，４－ペンタンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、エチレングリコールモノプロピルエーテル等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン等のアミド類；酢酸エチル、酢酸ブチル、γ－ブチロラクトン等のエステル類；テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン等のエ－テル類を挙げることができる。これらの中で、アルコール類及びケトン類が好ましい。これら有機溶剤は、単独でまたは２種以上を混合して分散媒として使用することができる。
【0052】
メタロキサンオリゴマー、あるいはメタロキサンポリマーとしては、ケイ素、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、タンタル、アンチモン、ビスマス、錫、インジウム、亜鉛等の単独又は複合酸化物前駆体が用いられる。メタロキサンオリゴマー、あるいはメタロキサンポリマーとしては、市販品であっても、金属アルコキシド、硝酸塩、塩酸塩、カルボン酸塩等のモノマーから、加水分解等の常法により得られたものであってもよい。
【0053】
＜防眩層及び防眩層の形成＞
本発明の防眩層は、上述した防眩性被膜形成用塗布液を基材に塗布し、熱硬化することで得ることができる。すなわち、防眩層は、防眩性被膜形成用塗布液に含有される含フッ素有機基を有するポリシロキサンの硬化物からなる。
本発明の防眩層は、上述した防眩性被膜形成用塗布液を基材に塗布し、熱硬化することで得ることができる。すなわち、防眩層は、防眩性被膜形成用塗布液に含有される含フッ素有機基を有するポリシロキサンの硬化物からなる。
【0054】
ここで、防眩層は、表面に凹凸構造を有する。凹凸構造は、凸部の高さが５０ｎｍ～２，０００ｎｍの微細凹凸構造である。防眩層全体の厚さは５０ｎｍ～３，０００ｎｍであり、この防眩層の表面側が微細凹凸構造となっている。すなわち、均一で平坦な被膜の上に微細凹凸構造が形成されていることになるので、平坦な被膜の上に凸部が間欠的に形成されていると表現することもできる。なお、この場合、凸部が形成されていない部分が凹部となる。微細凹凸構造の凸部の占有割合である凸部表面被覆率は、５％～７０％、好ましくは、１０％～６０％である。
【0055】
上記凸部表面被覆率は、具体的には、以下の方法により測定することができる。即ち、白色光干渉型光学顕微鏡（ＣｏｎｔｏｕｒＧＴ、ＢＲＵＫＥＲ社製）を用いて、表面形状を測定し、更に形状解析することにより行う。表面形状測定は、ＶＳＩ測定方式で高密度ＣＣＤカメラを使用し、ズームレンズ倍率が０．５５倍、対物レンズ倍率が５０倍、測定領域が２３０μｍ×１７０μｍ、光源が白色光源、光量及びＴｈｒｅｓｈｈｏｌｄは、ノイズが測定に極力入らない、適切な条件で行う。更に、形状解析として、ＴｅｒｍｓＲｅｍｏｖａｌ（ＣｙｌｉｎｄｅｒａｎｄＴｉｌｔ）にて、フィルタ処理を行った後、画像を２５６階調のグレースケールに処理する。上記凸部表面被覆率の測定は、膜面の任意の箇所で行い、前記処理画像を１９００分割し、そのエリアの明度を求め、明度が高い領域を凸部、明度が低く、かつ均一化した領域を平坦部とし、凸部／平坦部×１００と計算した値をその膜表面の凸部表面被覆率とする。測定時の環境は２３℃及び３０ＲＨ％下である。
【0056】
上記防眩層は、ギラツキを抑制しつつ、視認性の高い画像表示装置が得られる観点から、ＨＡＺＥとして、０．３％～４０％が好ましく、より好ましくは０．５％～３０％となる。なお、本明細書および特許請求の範囲において、ＨＡＺＥは、ＪＩＳ Ｋ７１６３に準拠して、ヘイズメーター（スガ試験機（株）社製、ヘイズメーターＨＺ－Ｖ３）を用いて測定できる。
【0057】
平坦被膜部と、微細凹凸構造とは、一回の塗布で形成することもできるが、平坦被覆部を形成した後、微細凹凸構造を形成することもできる。また、平坦被覆部を形成する防眩性被膜形成用塗布液と微細凹凸構造を形成する防眩性被膜形成用塗布液を同じ塗布液としてもよいが、両者の塗布液を異なるものとしてもよい。例えば、両者の固形分の組成は同一であるが、微細凹凸構造を形成する塗布液の固形分濃度を平坦被覆部より高いものとしてもよいし、両者の固形分の組成を異なるものとしてもよい。更には、両者の固形分の組成は同一であるが、両者の溶媒組成を異なるものとしてもよいが、これらに限定されない。
【0058】
微細凹凸構造は、例えば、防眩性被膜形成用塗布液を塗布した後、硬化する前に表面に風を当てることにより、表面に微細凹凸が形成するようにしてもよいし、平坦被膜部を形成した後、少し濃度が高い塗布液をスプレー塗布して部分的に凸部が形成されるようにしてもよく、スプレー塗布時に防眩性被膜形成用塗布液の流量と後述するガス流量とを調整することで、微細凸凹を形成してもよいが、これらに限定されない。
【0059】
防眩層の屈折率は、反射光を抑制する観点から、例えば、１．３～１．４９の範囲から選択される。
【0060】
防眩層を形成するための防眩性被膜形成用塗布液の塗布は、例えば、ディップコート法、フローコート法、スピンコート法、フレキソ印刷法、インクジェットコート法、バーコート法、グラビアロールコート法、ロールコート法、ブレードコート法、エアドクターコート法、エアーナイフコート法、ワイヤードクターコート法、リバースコート法、トランスファーロールコート法、マイクログラビアコート法、キスコート法、キャストコート法、スロットオリフィスコート法、カレンダーコート法、ダイコート法等の公知又は周知の方法にも適用することができるが、本発明の防眩性被膜形成用塗布液は、スプレー塗布法に対して特に適している点が特徴である。
【0061】
基材としては、プラスチック、ガラス、セラミックス等の公知又は周知の基材を挙げることができる。プラスチックとしては、ポリカーボネート、ポリ（メタ）アクリレート、ポリエーテルサルホン、ポリアリレート、ポリウレタン、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、トリメチルペンテン、ポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、（メタ）アクリロニトリル、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロース等の板及びフィルム等が挙げられる。
【0062】
スプレー塗布法により得られる、上記したような均一な膜厚は、薬液量、ノズル／ステージ距離（ノズルとステージとの距離）、塗布速度、ガス流量もしくはガス圧力等により調整することができる。
【0063】
薬液量は膜厚を決めるパラメータであり、薬液量を増やすことで膜厚は厚くなり、減らすことで膜厚は薄くなる。スプレー塗布において、薬液量は、例えば０．５～２０ｍＬ（ミリリットル）／ｍｉｎであり、好ましくは０．８～１２ｍＬ／ｍｉｎである。
【0064】
ガス流量は微細な液滴を形成するパラメータであり、使用されるガスの例としては、Ｎ２やドライエアーが挙げられるが、特にこれに限定されるものではない。スプレー塗布において、ガス流量は、例えば３～７０Ｌ（リットル）／ｍｉｎであり、好ましくは６～６０Ｌ／ｍｉｎである。ガス圧力の場合は、３０～７００ｋＰａであり、好ましくは５０～６５０ｋＰａである。
【0065】
微細凸凹を形成する観点で好ましいガスの流量としては、防眩性被膜形成用塗布液の流量に対しガスを大気雰囲気中で１５０～１４０，０００倍、好ましくは５００～７５，０００倍の流量で通気して防眩性被膜形成用塗布液の液滴を微細化しながら基材表面に塗布するのが好ましい。
【0066】
ノズル／ステージ距離は膜厚、塗布性、および表面への凸部被覆量に関係するパラメータである。例えば、膜厚は距離が近づくことで厚くなるが、距離を遠ざけることで膜厚は薄くなる。好ましいノズル／ステージ距離は、例えば３０～２００ｍｍであり、より好ましくは５０～１５０ｍｍである。
【0067】
塗布速度は膜厚、および表面への凸部被覆量に関係するパラメータであり、例えば、膜厚は速度が速くなると膜厚は薄くなり、遅くなると膜厚は厚くなる。スプレー塗布において、塗布速度は、例えば５０～２０００ｍｍ／ｓｅｃであり、好ましくは１００～１５００ｍｍ／ｓｅｃである。
【0068】
基材に形成する被膜の厚さは、塗布時の上記のようなパラメータによって調節することができるが、塗布液のＳｉＯ２換算濃度によっても容易に調節することができる。
【0069】
基材上に形成された塗膜は、加熱することにより被膜が得られる。基材などの耐熱性を考慮した場合、焼成温度８０℃～３００℃の範囲が好ましく、１００℃～２５０℃の範囲内とすることがより好ましい。
【0070】
本発明の防眩層の下層に防眩層より高屈折率の高屈折率層を設けてもよい。この場合、防眩層と高屈折率層の屈折率を適宜調整することにより、防眩層表面で反射する反射光と高屈折率層の表面で反射する反射光とが逆位相で干渉させるようにして反射光を低減する効果をさらに付加させることができる。
【0071】
ここで、高屈折率層は、防眩層より高屈折率となる層であれば特に限定されないが、防眩層との密着性を考慮すると、金属アルコキシドとアルコキシシランを含有する塗布液の硬化物とするのが好ましく、例えば、国際公開ＷＯ２０１２－０５７１６５号公報に開示された被膜を用いることができる。
【0072】
上記公報に開示された高屈折率層は、例えば、下記式（Ａ）の金属アルコキシド、式（Ｂ）のアルコキシシランやこれらの縮合体を１種または２種以上含有する塗布液を塗布して硬化させた膜を挙げることができる。
【0073】
Ｍ１（ＯＲ１）ｎ （Ａ）
（式中、Ｍ１は珪素（Ｓｉ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ホウ素（Ｂ）、アルミニウム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、錫（Ｓｎ）および亜鉛（Ｚｎ）などの金属を表し、Ｒ１は炭素数１から５のアルキル基を表し、ｎはＭ１の価数を表す。）
（Ｒ１０２）ｎＳｉ（ＯＲ１０３）４－ｎ （Ｂ）
（式中、Ｒ１０２はアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、又は前記アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基及びアリール基の炭素－炭素間にヘテロ原子を有する基を含むヘテロ原子含有基を表す。但し、上記アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基及びヘテロ原子含有基が有する一部又は全部の水素原子は置換基で置換してもよく、上記アルキル基、アルケニル基は、その一部にシクロアルキル基やアリール基を有していてもよい。Ｒ１０３は炭素数１～５のアルキル基を表し、ｎは１又は２の整数を表す。）
（式中、Ｍ１は珪素（Ｓｉ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ホウ素（Ｂ）、アルミニウム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、錫（Ｓｎ）および亜鉛（Ｚｎ）などの金属を表し、Ｒ１は炭素数１から５のアルキル基を表し、ｎはＭ１の価数を表す。）
（Ｒ１０２）ｎＳｉ（ＯＲ１０３）４－ｎ （Ｂ）
（式中、Ｒ１０２はアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、又は前記アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基及びアリール基の炭素－炭素間にヘテロ原子を有する基を含むヘテロ原子含有基を表す。但し、上記アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基及びヘテロ原子含有基が有する一部又は全部の水素原子は置換基で置換してもよく、上記アルキル基、アルケニル基は、その一部にシクロアルキル基やアリール基を有していてもよい。Ｒ１０３は炭素数１～５のアルキル基を表し、ｎは１又は２の整数を表す。）
【0074】
上記ヘテロ原子を有する基としては、例えば、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群より選ばれる少なくとも１種を有する基等が挙げられ、－Ｏ－、－ＮＲ－（Ｒは、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表す。）、－ＣＯ－、－Ｓ－、－ＣＯ－及びこれらを組み合わせた基等が挙げられる。
【0075】
上記置換基としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、アミノ基、ウレイド基、イソシアネート基、メルカプト基等が挙げられる。
【0076】
式（Ａ）で表される金属アルコキシドの代表的な例としては、Ｍ１がチタンの場合、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラｎ－プロポキシチタン、テトラｎ－ブトキシチタン、テトライソブトキシチタン、テトラｔ－ブトキシチタン、テトラペントキシチタン等のアルコキシチタンが挙げられる。
Ｍ１が珪素の場合、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等のアルコキシシランを挙げることができる。
Ｍ１が珪素の場合、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等のアルコキシシランを挙げることができる。
【0077】
式（Ｂ）におけるＲ１０２の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ステアリル基等の炭素数１～１８のアルキル基；ビニル基等のアルケニル基；シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；３－（メタ）アクリルオキシプロピル基等の（メタ）アクリルオキシ基含有アルキル基；３－クロロプロピル基、トリフルオロプロピル基、トリデカフルオロオクチル基、ヘプタデカフルオロデシル基等のハロゲン原子含有アルキル基；３－ヒドロキシプロピル基等のヒドロキシ基含有アルキル基；γ－ウレイド（３－ウレイド）プロピル基のウレイド基含有アルキル基；γ－アミノ（３－アミノ）プロピル基、２－アミノエチルアミノメチル基、３－（Ｎ－スチリルメチル－２－アミノエチルアミノ）プロピル基等のアミノ基含有アルキル基；γ－グリシドキシ（３－グリシジルオキシ）プロピル基、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチル基等のエポキシ基含有アルキル基；γ－メルカプト（３－メルカプト）プロピル基等のメルカプト基含有アルキル基；３－イソシアネートプロピル基等のイソシアネート基含有アルキル基；フェニル基等のアリール基が挙げられる。
【0078】
式（Ｂ）の具体的な例として、トリアルコキシシラン、ジアルコキシシラン等のアルコキシラン等が挙げられる。
トリアルコキシシランの具体例としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、ペンチルトリメトキシシラン、ペンチルトリエトキシシラン、ヘプチルトリメトキシシラン、ヘプチルトリエトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、ドデシルトリエトキシシラン、ヘキサデシルトリメトキシシラン、ヘキサデシルトリエトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、２－アミノエチルアミノメチルトリメトキシシラン、γ－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－（２－アミノエチルアミノプロピル）トリメトキシシラン、３－（２－アミノエチルアミノプロピル）トリエトキシシラン、γ－アミノプロピルトリエトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、スチリルエチルトリエトキシシラン、３－（Ｎ－スチリルメチル－２－アミノエチルアミノ）プロピルトリメトキシシラン、ｐ－スチリルトリメトキシシラン、γ－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ－メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ－ウレイドプロピルトリメトキシシラン、γ－ウレイドプロピルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン、３－イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、を挙げることができる。
ジアルコキシシランの具体例としては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシランを挙げることができる。
トリアルコキシシランの具体例としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、ペンチルトリメトキシシラン、ペンチルトリエトキシシラン、ヘプチルトリメトキシシラン、ヘプチルトリエトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、ドデシルトリエトキシシラン、ヘキサデシルトリメトキシシラン、ヘキサデシルトリエトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、２－アミノエチルアミノメチルトリメトキシシラン、γ－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－（２－アミノエチルアミノプロピル）トリメトキシシラン、３－（２－アミノエチルアミノプロピル）トリエトキシシラン、γ－アミノプロピルトリエトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、スチリルエチルトリエトキシシラン、３－（Ｎ－スチリルメチル－２－アミノエチルアミノ）プロピルトリメトキシシラン、ｐ－スチリルトリメトキシシラン、γ－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ－メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ－ウレイドプロピルトリメトキシシラン、γ－ウレイドプロピルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン、３－イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、を挙げることができる。
ジアルコキシシランの具体例としては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシランを挙げることができる。
【0079】
上記縮合体の具体例としては、メチルシリケート５１、メチルシリケート５３、エチルシリケート４０、エチルシリケート４８（商品名、コルコート社製）、ＭＫＣシリケート（商品名、三菱化学社製）、東レ・ダウコーニング社製のシリコンレジン、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製のシリコンレジン、信越化学工業社製のシリコンレジン、ダウコーニング・アジア社製のヒドロキシル基含有ポリジメチルシロキサン、東レ・ダウコーニング社製のシリコンオリゴマー等のシリコンオリゴマー；チタンテトラ－ｎ－ブトキシド，テトラマー（関東化学社製）等のチタンオリゴマー等が挙げられる。
【0080】
高屈折率層の屈折率は、防眩層より高い屈折率であり、防眩層の表面で反射した反射光と防眩層と高屈折率層との界面である高屈折率層の表面で反射した反射光が逆位相となるような屈折率とするのが好ましく、例えば、１．５～２．１の範囲、より好ましくは１．５～１．８の範囲から選択される。
【0081】
上記高屈折率層は、硬化温度を調整することで、屈折率を調整してもよい。この場合、硬化温度を高くするほど、高屈折率層の屈折率を高くする点で好ましい。基材などの耐熱性を考慮する観点から、焼成温度は１００℃～３００℃の範囲が好ましく、１５０℃～２５０℃の範囲内とすることがより好ましい。
【0082】
上記高屈折率層は、硬化後に更に塗膜に紫外線（ＵＶ）を照射して、得られる高屈折率層の屈折率を調整してもよい。高屈折率層において、所望の屈折率を得るための紫外線照射は、例えば、高圧水銀ランプを使用して行うことができる。そして、高圧水銀ランプを使用した場合、３６５ｎｍ換算で全光照射１０００ｍＪ／ｃｍ２以上の照射量が好ましく、２０００ｍＪ／ｃｍ２～１００００ｍＪ／ｃｍ２の照射量がより好ましい。また、ＵＶ光源としては特に指定はなく、別のＵＶ光源を使用することもできる。別の光源を用いる場合は、上記高圧水銀ランプを使用した場合と同量の積算光量が照射されればよい。
【0083】
次いで、防眩層の表面には、特定のコーティング剤から得られる機能性層を形成してもよい。本発明においては、防眩層が上述した塗布液から形成されるので、防眩層上への機能性層を形成する塗布液の塗布性や機能性層との密着性が良好なものとなる。
【0084】
本発明において、防眩層上に設けられる機能性層は特に限定されない。具体的な例としては、防汚剤、塗料、接着剤、反射防止剤、撥水剤、親水剤、撥油剤、親油剤、ハードコート剤、防滑剤などから得られる機能性層を挙げることができる。
【0085】
防眩層や機能性層の厚さは、いずれも、５～１０００ｎｍが好ましく、より好ましくは１０～４００ｎｍである。
【0086】
本発明の被膜形成用塗布液は、塗布性に優れ、透過率が高い被膜を形成することができる。また、スプレー塗布した場合の着液効率にも優れている。そのため、テレビ、コンピューター、カーナビゲーション、携帯電話等のディスプレイ等の分野に好適に用いることができる。
【実施例】
【0087】
以下に実施例を挙げ、本発明をさらに詳しく説明するが、これらに限定されるものではない。
以下で用いる略語は下記の通りである。
以下で用いる略語は下記の通りである。
【0088】
ＴＥＯＳ：テトラエトキシシラン
Ｆ１３：トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン
ＵＰＳ：γ－ウレイドプロピルトリエトキシシラン
ＴＴＥ：テトラエトキシチタン
ＡＮ：硝酸アルミニウム九水和物
ＭｅＯＨ：メタノール
ＥｔＯＨ：エタノール
ＩＰＡ：イソプロパノール
ＰＧＭＥ：プロピレングリコールモノメチルエーテル
ＢＣＳ：ブチルセロソルブ
ＰＢ：プロピレングリコールモノブチルエーテル
ＰＧ：プロピレングリコール
ＨＧ：２－メチル－２，４－ペンタンジオール
ＮＭＰ：Ｎ－メチル－２－ピロリドン
Ｆ１３：トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン
ＵＰＳ：γ－ウレイドプロピルトリエトキシシラン
ＴＴＥ：テトラエトキシチタン
ＡＮ：硝酸アルミニウム九水和物
ＭｅＯＨ：メタノール
ＥｔＯＨ：エタノール
ＩＰＡ：イソプロパノール
ＰＧＭＥ：プロピレングリコールモノメチルエーテル
ＢＣＳ：ブチルセロソルブ
ＰＢ：プロピレングリコールモノブチルエーテル
ＰＧ：プロピレングリコール
ＨＧ：２－メチル－２，４－ペンタンジオール
ＮＭＰ：Ｎ－メチル－２－ピロリドン
【0089】
＜合成例１＞
還流管を備え付けた２００ｍＬ四つ口フラスコに、ＴＥＯＳ（３１．６ｇ）、Ｆ１３（６．２ｇ）、及びＭｅＯＨ（３０．３ｇ）を加え、撹拌し、そこにＭｅＯＨ（１５．１ｇ）、水（１５．０ｇ）、及び蓚酸（０．８ｇ）を加え、１０℃の氷浴中で３０分撹拌した。その後、６５℃で２時間撹拌し、その後、ＵＰＳ（０．５ｇ）及びＭｅＯＨ（０．５ｇ）を加え、さらに６５℃で２時間反応させた。その後、室温まで放冷し、溶液Ｋ１を得た。
還流管を備え付けた２００ｍＬ四つ口フラスコに、ＴＥＯＳ（３１．６ｇ）、Ｆ１３（６．２ｇ）、及びＭｅＯＨ（３０．３ｇ）を加え、撹拌し、そこにＭｅＯＨ（１５．１ｇ）、水（１５．０ｇ）、及び蓚酸（０．８ｇ）を加え、１０℃の氷浴中で３０分撹拌した。その後、６５℃で２時間撹拌し、その後、ＵＰＳ（０．５ｇ）及びＭｅＯＨ（０．５ｇ）を加え、さらに６５℃で２時間反応させた。その後、室温まで放冷し、溶液Ｋ１を得た。
【0090】
＜合成例２＞
２００ｍＬ容量のフラスコ中に、ＡＮ（２．９ｇ）、水（２．６ｇ）及びＥｔＯＨ（５０．６ｇ）を加えて撹拌し、ＡＮ溶液を得た。そのＡＮ溶液に、ＴＥＯＳ（２１．２ｇ）を加え、室温で３０分撹拌した。その後、ＴＴＥ（１０．０ｇ）及びＥｔＯＨ（１２．７ｇ）を加え、さらに室温で３０分撹拌し、溶液Ｋ２を得た。
２００ｍＬ容量のフラスコ中に、ＡＮ（２．９ｇ）、水（２．６ｇ）及びＥｔＯＨ（５０．６ｇ）を加えて撹拌し、ＡＮ溶液を得た。そのＡＮ溶液に、ＴＥＯＳ（２１．２ｇ）を加え、室温で３０分撹拌した。その後、ＴＴＥ（１０．０ｇ）及びＥｔＯＨ（１２．７ｇ）を加え、さらに室温で３０分撹拌し、溶液Ｋ２を得た。
【0091】
＜合成例３＞
２００ｍＬ容量のフラスコ中に、ＡＮ（２．８ｇ）、水（２．６ｇ）及びＥｔＯＨ（５１．２ｇ）を加えて撹拌し、ＡＮ溶液を得た。そのＡＮ溶液に、ＴＥＯＳ（１７．７ｇ）を加え、室温で３０分撹拌した。その後、ＴＴＥ（１２．９ｇ）及びＥｔＯＨ（１２．８ｇ）を加え、さらに室温で３０分撹拌し、溶液Ｋ３を得た。
２００ｍＬ容量のフラスコ中に、ＡＮ（２．８ｇ）、水（２．６ｇ）及びＥｔＯＨ（５１．２ｇ）を加えて撹拌し、ＡＮ溶液を得た。そのＡＮ溶液に、ＴＥＯＳ（１７．７ｇ）を加え、室温で３０分撹拌した。その後、ＴＴＥ（１２．９ｇ）及びＥｔＯＨ（１２．８ｇ）を加え、さらに室温で３０分撹拌し、溶液Ｋ３を得た。
【0092】
＜合成例４＞
２００ｍＬ容量のフラスコ中に、ＡＮ（２．７ｇ）、水（２．５ｇ）及びＥｔＯＨ（５１．８ｇ）を加えて撹拌し、ＡＮ溶液を得た。そのＡＮ溶液に、ＴＥＯＳ（１４．３ｇ）を加え、室温で３０分撹拌した。その後、ＴＴＥ（１５．７ｇ）及びＥｔＯＨ（１３．０ｇ）を加え、さらに室温で３０分撹拌し、溶液Ｋ４を得た。
２００ｍＬ容量のフラスコ中に、ＡＮ（２．７ｇ）、水（２．５ｇ）及びＥｔＯＨ（５１．８ｇ）を加えて撹拌し、ＡＮ溶液を得た。そのＡＮ溶液に、ＴＥＯＳ（１４．３ｇ）を加え、室温で３０分撹拌した。その後、ＴＴＥ（１５．７ｇ）及びＥｔＯＨ（１３．０ｇ）を加え、さらに室温で３０分撹拌し、溶液Ｋ４を得た。
【0093】
＜合成例５＞
還流管を備え付けた２００ｍＬ四つ口フラスコに、ＴＥＯＳ（３３．０ｇ）及びＭｅＯＨ（３２．５ｇ）を加え、撹拌し、そこにＭｅＯＨ（１３．８ｇ）、水（１５．０ｇ）及び蓚酸（０．９ｇ）を加え、１０℃の氷浴中で３０分撹拌した。その後、６０℃で２時間撹拌し、その後、ＵＰＳ（２．４ｇ）及びＭｅＯＨ（２．４ｇ）を加え、さらに６０℃で３０分反応させた。その後、室温まで放冷し、溶液Ｋ５を得た。
還流管を備え付けた２００ｍＬ四つ口フラスコに、ＴＥＯＳ（３３．０ｇ）及びＭｅＯＨ（３２．５ｇ）を加え、撹拌し、そこにＭｅＯＨ（１３．８ｇ）、水（１５．０ｇ）及び蓚酸（０．９ｇ）を加え、１０℃の氷浴中で３０分撹拌した。その後、６０℃で２時間撹拌し、その後、ＵＰＳ（２．４ｇ）及びＭｅＯＨ（２．４ｇ）を加え、さらに６０℃で３０分反応させた。その後、室温まで放冷し、溶液Ｋ５を得た。
【0094】
＜調製例１＞
Ｋ１，Ｋ５溶液（６０ｇ）に、ＰＧＭＥ（２０ｇ）及びＥｔＯＨ（２０ｇ）を加え、それぞれ溶液ＫＬ１－１，ＫＭ２－１を得た。
Ｋ１，Ｋ５溶液（６０ｇ）に、ＰＧＭＥ（２０ｇ）及びＥｔＯＨ（２０ｇ）を加え、それぞれ溶液ＫＬ１－１，ＫＭ２－１を得た。
【0095】
＜調製例２＞
Ｋ１溶液（１２ｇ）に、ＰＧ（５ｇ）、ＮＭＰ（２０ｇ）及びＭｅＯＨ（６３ｇ）を加え、溶液ＫＬ１－２を得た。
Ｋ１溶液（１２ｇ）に、ＰＧ（５ｇ）、ＮＭＰ（２０ｇ）及びＭｅＯＨ（６３ｇ）を加え、溶液ＫＬ１－２を得た。
【0096】
＜調製例３＞
Ｋ２～Ｋ４溶液（１８ｇ）に、ＥｔＯＨ（２．５ｇ）、ＩＰＡ（４２ｇ）、ＢＣＳ（９．４ｇ）、ＰＢ（９．４ｇ）及びＨＧ（１８．７ｇ）を加え、それぞれ溶液ＫＬ２～ＫＬ４を得た。
Ｋ２～Ｋ４溶液（１８ｇ）に、ＥｔＯＨ（２．５ｇ）、ＩＰＡ（４２ｇ）、ＢＣＳ（９．４ｇ）、ＰＢ（９．４ｇ）及びＨＧ（１８．７ｇ）を加え、それぞれ溶液ＫＬ２～ＫＬ４を得た。
【0097】
＜調製例４＞
Ｋ１溶液（４０ｇ）に、ＰＧＭＥ（２０ｇ）及びＥｔＯＨ（４０ｇ）を加え、溶液ＫＭ１を得た。
Ｋ１溶液（４０ｇ）に、ＰＧＭＥ（２０ｇ）及びＥｔＯＨ（４０ｇ）を加え、溶液ＫＭ１を得た。
【0098】
＜調製例５＞
Ｋ５溶液（１５ｇ）に、ＭｅＯＨ（１．８ｇ）、ＥｔＯＨ（１８．５ｇ）、ＰＧＭＥ（１８．５ｇ）、ＰＢ（２７．７ｇ）及びＨＧ（１８．５ｇ）を加え、溶液ＫＭ２－２を得た。
Ｋ５溶液（１５ｇ）に、ＭｅＯＨ（１．８ｇ）、ＥｔＯＨ（１８．５ｇ）、ＰＧＭＥ（１８．５ｇ）、ＰＢ（２７．７ｇ）及びＨＧ（１８．５ｇ）を加え、溶液ＫＭ２－２を得た。
【0099】
［スプレー塗布条件］
スプレー塗布は下記に示す装置、条件で行った。
装置名：(株)アピロス社製スプレーコーターＡＰＩ－２４０－３Ｄ
スプレー塗布は下記に示す装置、条件で行った。
装置名：(株)アピロス社製スプレーコーターＡＰＩ－２４０－３Ｄ
【0100】
＜塗布条件Ｉ－１＞
ノズル型式：ＬＰＶＮ４５、ノズル高さ：１００ｍｍ、Ｙ軸ピッチ：２ｍｍ、Ａｉｒ圧力：５５０ｋＰａ、薬液流量１．０ｍＬ／ｍｉｎ、ノズル速度：９００ｍｍ／ｓｅｃ
ノズル型式：ＬＰＶＮ４５、ノズル高さ：１００ｍｍ、Ｙ軸ピッチ：２ｍｍ、Ａｉｒ圧力：５５０ｋＰａ、薬液流量１．０ｍＬ／ｍｉｎ、ノズル速度：９００ｍｍ／ｓｅｃ
【0101】
＜塗布条件Ｉ－２＞
塗布条件Ｉ－１から、Ｙ軸ピッチ：３ｍｍに変更し、その他の条件は同じにした。
塗布条件Ｉ－１から、Ｙ軸ピッチ：３ｍｍに変更し、その他の条件は同じにした。
【0102】
＜塗布条件Ｉ－３＞
塗布条件Ｉ－１から、Ｙ軸ピッチ：５ｍｍに変更し、その他の条件は同じにした。
塗布条件Ｉ－１から、Ｙ軸ピッチ：５ｍｍに変更し、その他の条件は同じにした。
【0103】
＜塗布条件Ｉ－４＞
塗布条件Ｉ－１から、Ｙ軸ピッチ：１．４ｍｍに変更し、その他の条件は同じにした。
塗布条件Ｉ－１から、Ｙ軸ピッチ：１．４ｍｍに変更し、その他の条件は同じにした。
【0104】
＜塗布条件ＩＩ－１＞
ノズル型式：ＬＰＶＮ１２、ノズル高さ：１００ｍｍ、Ｙ軸ピッチ：７ｍｍ、Ａｉｒ圧力：５６０ｋＰａ、薬液流量４．９ｍＬ／ｍｉｎ、ノズル速度：５００ｍｍ／ｓｅｃ
ノズル型式：ＬＰＶＮ１２、ノズル高さ：１００ｍｍ、Ｙ軸ピッチ：７ｍｍ、Ａｉｒ圧力：５６０ｋＰａ、薬液流量４．９ｍＬ／ｍｉｎ、ノズル速度：５００ｍｍ／ｓｅｃ
【0105】
＜塗布条件ＩＩ－２＞
塗布条件ＩＩ－１から、ノズル速度：５５０ｍｍ／ｓｅｃに変更し、その他の条件は同じにした。
塗布条件ＩＩ－１から、ノズル速度：５５０ｍｍ／ｓｅｃに変更し、その他の条件は同じにした。
【0106】
＜塗布条件ＩＩＩ＞
ノズル型式：ＬＰＶＮ４５、ノズル高さ：１００ｍｍ、Ｙ軸ピッチ：７ｍｍ、Ａｉｒ圧力：４７０ｋＰａ、薬液流量４．９ｍＬ／ｍｉｎ、ノズル速度：１７０ｍｍ／ｓｅｃ
ノズル型式：ＬＰＶＮ４５、ノズル高さ：１００ｍｍ、Ｙ軸ピッチ：７ｍｍ、Ａｉｒ圧力：４７０ｋＰａ、薬液流量４．９ｍＬ／ｍｉｎ、ノズル速度：１７０ｍｍ／ｓｅｃ
【0107】
＜塗布条件ＩＶ＞
ノズル型式：ＬＰＶＮ４５、ノズル高さ：１００ｍｍ、Ｙ軸ピッチ：７ｍｍ、Ａｉｒ圧力：３６５ｋＰａ、薬液流量４．９ｍＬ／ｍｉｎ、ノズル速度：５００ｍｍ／ｓｅｃ
ノズル型式：ＬＰＶＮ４５、ノズル高さ：１００ｍｍ、Ｙ軸ピッチ：７ｍｍ、Ａｉｒ圧力：３６５ｋＰａ、薬液流量４．９ｍＬ／ｍｉｎ、ノズル速度：５００ｍｍ／ｓｅｃ
【0108】
＜塗布条件Ｖ＞
ノズル型式：ＬＰＶＮ４５、ノズル高さ：５０ｍｍ、Ｙ軸ピッチ：３ｍｍ、Ａｉｒ圧力：５５０ｋＰａ、薬液流量１．０ｍＬ／ｍｉｎ、ノズル速度：７００ｍｍ／ｓｅｃ
ノズル型式：ＬＰＶＮ４５、ノズル高さ：５０ｍｍ、Ｙ軸ピッチ：３ｍｍ、Ａｉｒ圧力：５５０ｋＰａ、薬液流量１．０ｍＬ／ｍｉｎ、ノズル速度：７００ｍｍ／ｓｅｃ
【0109】
［焼成条件］
＜焼成条件Ａ＞
ホットプレート上にて温度７０℃で５分乾燥し、熱風循環式オーブンにて１６０℃で３０分焼成した。
＜焼成条件Ａ＞
ホットプレート上にて温度７０℃で５分乾燥し、熱風循環式オーブンにて１６０℃で３０分焼成した。
【0110】
＜焼成条件Ｂ＞
熱風循環式オーブンにて温度１３０℃で３分乾燥し、ＵＶ照射３０００ｍＪ／ｃｍ２（３６５ｎｍ換算、高圧水銀ランプ）、熱風循環式オーブンにて１６０℃で３０分焼成した。
熱風循環式オーブンにて温度１３０℃で３分乾燥し、ＵＶ照射３０００ｍＪ／ｃｍ２（３６５ｎｍ換算、高圧水銀ランプ）、熱風循環式オーブンにて１６０℃で３０分焼成した。
【0111】
＜焼成条件Ｃ＞
ホットプレート上にて温度４０℃で５分乾燥し、熱風循環式オーブンにて１６０℃で３０分焼成した。
ホットプレート上にて温度４０℃で５分乾燥し、熱風循環式オーブンにて１６０℃で３０分焼成した。
【0112】
＜各種評価条件＞
［ＨＡＺＥ］
基板にソーダライムガラスを用い、スプレー塗布で実施例及び比較例と同じ塗布条件で製膜した。得られた被膜付き基板をスガ試験機（株）社製ヘイズメーターＨＺ－Ｖ３にてＨＡＺＥを測定した。
［ＨＡＺＥ］
基板にソーダライムガラスを用い、スプレー塗布で実施例及び比較例と同じ塗布条件で製膜した。得られた被膜付き基板をスガ試験機（株）社製ヘイズメーターＨＺ－Ｖ３にてＨＡＺＥを測定した。
【0113】
［表面観察］
基板にソーダライムガラスを用い、作製した被膜付き基板をブルカージャパン（株）社製３次元白色干渉顕微鏡Ｃｏｎｔｏｕｒ ＧＴにて観察した。
基板にソーダライムガラスを用い、作製した被膜付き基板をブルカージャパン（株）社製３次元白色干渉顕微鏡Ｃｏｎｔｏｕｒ ＧＴにて観察した。
【0114】
［凸部表面被覆率］
表面観察で取得した画像から、任意の測定箇所内での凸部、および平坦部の面積比率を画像解析の明るさ成分から算出し、凸部表面被覆率を算出した。凸部表面被覆率は、上記で説明した凸部表面被覆率の算出方法と同様の方法で算出した。
表面観察で取得した画像から、任意の測定箇所内での凸部、および平坦部の面積比率を画像解析の明るさ成分から算出し、凸部表面被覆率を算出した。凸部表面被覆率は、上記で説明した凸部表面被覆率の算出方法と同様の方法で算出した。
【0115】
［反射率］
＜正反射、反射色＞
基板にソーダライムガラスを用い、作製した被膜付き基板を、(株)島津製作所社製紫外可視近赤外分光光度計ＵＶ－３６００にて、光の入射角５°での波長３８０ｎｍから８００ｎｍの範囲での反射率を測定し、得られた分光反射率曲線から、ＪＩＳ Ｒ ３１０６に従って、平均視感反射率（正反射）および反射色ａ＊、ｂ＊を求めた。
＜正反射、反射色＞
基板にソーダライムガラスを用い、作製した被膜付き基板を、(株)島津製作所社製紫外可視近赤外分光光度計ＵＶ－３６００にて、光の入射角５°での波長３８０ｎｍから８００ｎｍの範囲での反射率を測定し、得られた分光反射率曲線から、ＪＩＳ Ｒ ３１０６に従って、平均視感反射率（正反射）および反射色ａ＊、ｂ＊を求めた。
【0116】
＜ＳＣＩ、ＳＣＥ＞
基板にソーダライムガラスを用い、作製した被膜付き基板を、コニカミノルタ（株）製分光測色計ＣＭ－３７００Ａにて、光の入射角８°での波長３６０ｎｍから７４０ｎｍの範囲での反射率を測定し、ＪＩＳ Ｚ ８７２２に従って、ＳＣＩ、ＳＣＥの平均視感反射率を求めた。なお、ＳＣＩ（Ｓｐｅｃｕｌａｒ Ｃｏｍｐｏｎｅｎｔ Ｉｎｃｌｕｄｅ）は正反射光を考慮に入れた測定であり、ＳＣＥ（Ｓｐｅｃｕｌａｒ Ｃｏｍｐｏｎｅｎｔ Ｅｘｃｌｕｄｅ）は正反射光を考慮に入れない測定である。
基板にソーダライムガラスを用い、作製した被膜付き基板を、コニカミノルタ（株）製分光測色計ＣＭ－３７００Ａにて、光の入射角８°での波長３６０ｎｍから７４０ｎｍの範囲での反射率を測定し、ＪＩＳ Ｚ ８７２２に従って、ＳＣＩ、ＳＣＥの平均視感反射率を求めた。なお、ＳＣＩ（Ｓｐｅｃｕｌａｒ Ｃｏｍｐｏｎｅｎｔ Ｉｎｃｌｕｄｅ）は正反射光を考慮に入れた測定であり、ＳＣＥ（Ｓｐｅｃｕｌａｒ Ｃｏｍｐｏｎｅｎｔ Ｅｘｃｌｕｄｅ）は正反射光を考慮に入れない測定である。
【0117】
［スパークリング］
画素密度３５０ｐｐｉの液晶ディスプレイにて、黄緑色を前面に、かつ輝度を最大にして表示し、その画面上に直接被膜付き基板を置き、スパークリングが発生したものを×、若干確認できるものを△、発生しなかったものを〇として評価した。
画素密度３５０ｐｐｉの液晶ディスプレイにて、黄緑色を前面に、かつ輝度を最大にして表示し、その画面上に直接被膜付き基板を置き、スパークリングが発生したものを×、若干確認できるものを△、発生しなかったものを〇として評価した。
【0118】
［屈折率］
基板にシリコン基板（１００）を用い、スピンコートにて焼成後の膜厚が１００ｎｍとなるように溶液ＫＬ２～４を製膜し、上記焼成条件Ｂにて焼成し、得られた被膜付き基板を用いて、エリプソメーター（溝尻光学工業所社製、ＤＶＡ－ＦＬＶＷ）で波長６３３ｎｍにおける屈折率を測定した。
基板にシリコン基板（１００）を用い、スピンコートにて焼成後の膜厚が１００ｎｍとなるように溶液ＫＬ２～４を製膜し、上記焼成条件Ｂにて焼成し、得られた被膜付き基板を用いて、エリプソメーター（溝尻光学工業所社製、ＤＶＡ－ＦＬＶＷ）で波長６３３ｎｍにおける屈折率を測定した。
【0119】
＜実施例１＞
基板にソーダライムガラスを用い、上記調製例２で得られた溶液ＫＬ１－２を塗布条件ＩＩＩにてスプレー塗布を行った後、焼成条件Ａにて焼成を行い、下層を形成した。得られた基板に、上記調製例１で得られた溶液ＫＬ１－１を塗布条件Ｉ－１にてスプレー塗布を行った後、焼成条件Ｃにて焼成を行い、被膜付き基板を得た。
得られた被膜付き基板を用いて各種評価を行った。評価結果を表１－２に示す。
基板にソーダライムガラスを用い、上記調製例２で得られた溶液ＫＬ１－２を塗布条件ＩＩＩにてスプレー塗布を行った後、焼成条件Ａにて焼成を行い、下層を形成した。得られた基板に、上記調製例１で得られた溶液ＫＬ１－１を塗布条件Ｉ－１にてスプレー塗布を行った後、焼成条件Ｃにて焼成を行い、被膜付き基板を得た。
得られた被膜付き基板を用いて各種評価を行った。評価結果を表１－２に示す。
【0120】
＜実施例２～３、比較例１～４＞
使用する溶液及び各条件を下記表１－１に示すように変更した点以外は実施例１と同様に行い、被膜付き基板を得た。尚、比較例２及び比較例４においては、下層の形成をもって被膜付き基板とした。
得られた被膜付き基板を用いて各種評価を行った。評価結果を表１－２に示す。
使用する溶液及び各条件を下記表１－１に示すように変更した点以外は実施例１と同様に行い、被膜付き基板を得た。尚、比較例２及び比較例４においては、下層の形成をもって被膜付き基板とした。
得られた被膜付き基板を用いて各種評価を行った。評価結果を表１－２に示す。
【0121】
【表1-1】
【0122】
【表1-2】
【0123】
表１－２に示されるように、実施例１～３では、正反射およびＳＣＩ値が低く抑えられており、かつスパークリングも発生していない。さらに、比較例２に対して、反射率のうちの光散乱成分であるＳＣＥが生じていることから、防眩機能が発現できており、以上のことから、反射防止機能を付与した防眩性機能膜が構築できていることが示唆される。
【0124】
比較例１では、ＳＣＩ値が非常に大きく、またスパークリングも発生している。
【0125】
比較例３は、フルオロアルキル成分が無い溶液を用いた場合であり、凸部表面被覆率が低い形状は得られず、ＳＣＩ値が高くなってしまっている。また、比較例４については、防眩性は無いが、反射色は小さい。しかし、ＳＣＩ、正反射ともに高くなってしまう。
【0126】
＜実施例４～６、比較例５～７＞
使用する溶液及び各条件を下記表２－１に示すように変更した点以外は実施例１と同様に行い、被膜付き基板を得た。
得られた被膜付き基板を用いて各種評価を行った。評価結果を表２－２に示す。
使用する溶液及び各条件を下記表２－１に示すように変更した点以外は実施例１と同様に行い、被膜付き基板を得た。
得られた被膜付き基板を用いて各種評価を行った。評価結果を表２－２に示す。
【0127】
【表2-1】
【0128】
【表2-2】
【0129】
表２－２に示す通り、実施例４～６では、ＳＣＩ値を低く抑えることができ、かつスパークリングも発生しなかった。さらに、それぞれ比較例５～７と比較して、反射色の値の絶対値が低減できており、かつＳＣＥが生じていることから、防眩機能が発現できており、以上のことから反射防止機能付き防眩性被膜が形成できていることが示唆される。
【産業上の利用可能性】
【0130】
本発明の眩性被膜形成用塗布液およびそれを用いた被膜構成物を用いることにより、ガラス基板上に形成可能で、反射防止性、および防眩性（アンチグレア機能）の両方に優れる積層体の提供が可能となる。これにより、テレビ、パーソナルコンピュータ、スマートフォン等の各種デバイスが具備する画像表示装置（液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイ等）の表示品位の向上に貢献することが出来る。