特許7635511スパッタリング処理を行う装置及び方法

発明の名称　スパッタリング処理を行う装置及び方法

出願人　東京エレクトロン株式会社　（識別番号 219967）

　　　　特許公開件数ランキング 34 位（592件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 19 位（782件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-7635511

公報発行日　2025年2月26

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7635511

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