発明の名称 エピタキシャルウェーハの製造方法およびエピタキシャルウェーハ製造装置
出願人 株式会社SUMCO (識別番号 302006854)
特許公開件数ランキング 673 位(35件)(共同出願を含む)
特許取得件数ランキング 357 位(70件)(共同出願を含む)
公報番号 特許-7661877
公報発行日 2025年4月15
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7661877
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