特許7668766アルカリ性過酸化水素水に対する保護膜形成組成物、半導体装置製造用基板、保護膜の形成方法、及びパターン形成方法

発明の名称　アルカリ性過酸化水素水に対する保護膜形成組成物、半導体装置製造用基板、保護膜の形成方法、及びパターン形成方法

出願人　信越化学工業株式会社　（識別番号 2060）

　　　　特許公開件数ランキング 65 位（377件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 64 位（372件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-7668766

公報発行日　2025年4月25

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7668766

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