特許7671680プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置

発明の名称　プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置

出願人　東京エレクトロン株式会社　（識別番号 219967）

　　　　特許公開件数ランキング 35 位（570件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 22 位（757件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-7671680

公報発行日　2025年5月2

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7671680

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