特許7673669シルフェニレン骨格含有ポリマー、感光性樹脂組成物、パターン形成方法、及び光半導体素子の製造方法

発明の名称　シルフェニレン骨格含有ポリマー、感光性樹脂組成物、パターン形成方法、及び光半導体素子の製造方法

出願人　信越化学工業株式会社　（識別番号 2060）

　　　　特許公開件数ランキング 65 位（377件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 64 位（372件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-7673669

公報発行日　2025年5月9

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7673669

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