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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2025-06-24
(45)【発行日】2025-07-02
(54)【発明の名称】特定の共重合体を含むポジ型感光性樹脂組成物
(51)【国際特許分類】
G03F 7/022 20060101AFI20250625BHJP
G03F 7/038 20060101ALI20250625BHJP
G03F 7/028 20060101ALI20250625BHJP
C08F 220/58 20060101ALI20250625BHJP
G03F 7/20 20060101ALI20250625BHJP
G02B 1/04 20060101ALN20250625BHJP
【ＦＩ】
G03F7/022
G03F7/038 503
G03F7/028
C08F220/58
G03F7/20 501
G02B1/04
【請求項の数】
14
(21)【出願番号】P 2023538309
(86)(22)【出願日】2022-05-31
(86)【国際出願番号】 JP2022022110
(87)【国際公開番号】W WO2023007941
(87)【国際公開日】2023-02-02
【審査請求日】2025-03-24
(31)【優先権主張番号】P 2021123288
(32)【優先日】2021-07-28
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
【早期審査対象出願】
(73)【特許権者】
【識別番号】000003986
【氏名又は名称】日産化学株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110001999
【氏名又は名称】弁理士法人はなぶさ特許商標事務所
(72)【発明者】
【氏名】今井 翔太
(72)【発明者】
【氏名】安達 勲
【審査官】福田 由紀
(56)【参考文献】
【文献】特開２００９－２２９８９２（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００９－０７５３２９（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００５－０９７５４６（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００９－２８２５１２（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１２－２２６０４４（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｇ０３Ｆ ７／００－７／４２
Ｃ０８Ｆ ２２０／５８
Ｇ０２Ｂ １／０４
ＣＡｐｌｕｓ／ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ）
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記（Ａ）成分、下記（Ｂ）成分、下記（Ｃ）成分及び溶剤を含む、ポジ型感光性樹脂組成物。（Ａ）成分：（ａ１）下記式（１）で表されるモノマー、（ａ２）エポキシ環を含有するモノマー、及び（ａ３）酸解離定数ｐＫａが１４以上であるヒドロキシ基を含有するモノマーの共重合体であって、カルボキシ基及びカルボン酸無水物基を含まない共重合体
（Ｂ）成分：キノンジアジド化合物
（Ｃ）成分：光酸発生剤
【化1】
【請求項2】
前記（ａ２）エポキシ環を含有するモノマーは下記式（２）で表されるモノマーであり、前記（ａ３）酸解離定数ｐＫａが１４以上であるヒドロキシ基を含有するモノマーは下記式（３）で表されるモノマーである、請求項１に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【化2】
【化3】
【請求項3】
前記（Ａ）成分は下記式（１ａ）で表される構造単位、下記式（２ａ）で表される構造単位及び下記式（３ａ）で表される構造単位を有する共重合体である、請求項１に記載のポジ型感光性樹脂組成物。【化4】
【化5】
【請求項4】
前記（Ａ）成分のポリスチレン換算重量平均分子量は５，０００乃至３０，０００である、請求項１に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項5】
前記（Ｃ）成分は非イオン性光酸発生剤である、請求項１に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項6】
前記非イオン性光酸発生剤は下記式（６）で表される光酸発生剤である、請求項５に記載のポジ型感光性樹脂組成物。【化6】
【請求項7】
下記（Ｄ）成分をさらに含有する、請求項１に記載のポジ型感光性樹脂組成物。（Ｄ）成分：多官能エポキシ化合物
【請求項8】
下記（Ｅ）成分をさらに含有する、請求項１に記載のポジ型感光性樹脂組成物。（Ｅ）成分：増感剤
【請求項9】
マイクロレンズ作製用である、請求項１に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項10】
請求項１乃至請求項９のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物から得られる硬化膜。
【請求項11】
請求項１乃至請求項９のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物から作製されるマイクロレンズ。
【請求項12】
請求項１乃至請求項９のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物を基材上に塗布して樹脂膜を形成する塗布工程、前記塗布工程の後に樹脂膜の少なくとも一部を露光する第一露光工程、前記第一露光工程の後に前記樹脂膜の露光部を現像液により除去して該樹脂膜の未露光部のパターンを形成する現像工程、前記現像工程の後に前記パターンをさらに露光する第二露光工程、及び前記第二露光工程の後に前記パターンを１３０℃以下の温度で加熱するポストベーク工程を含む、マイクロレンズの作製方法。
【請求項13】
前記現像工程の後及び前記第二露光工程の前に、前記パターンを１３０℃以下の温度で加熱するリフロー工程を含む、請求項１２に記載のマイクロレンズの作製方法。
【請求項14】
前記基材は、カラーフィルターが形成された基板である、請求項１２に記載のマイクロレンズの作製方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、ポジ型感光性樹脂組成物、当該樹脂組成物より得られる硬化膜、マイクロレンズ及びその作製方法に関するものである。
【背景技術】
【0002】
ＣＣＤイメージセンサやＣＭＯＳイメージセンサなどの撮像素子、あるいは液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイなどの表示素子には、性能向上のためにマイクロレンズと呼ばれる微小なレンズがしばしば用いられる。例えば、前記イメージセンサにマイクロレンズを設けることは、集光率を向上させてセンサ感度を高める効果がある。
【0003】
マイクロレンズの作製方法の１つとして、エッチバック法が知られている（例えば、特許文献１）。すなわち、カラーフィルター上にマイクロレンズ用樹脂層を形成し、該樹脂層上にポジ型レジストを塗布し、該レジストの一部を露光及び現像し、必要に応じて加熱することでレンズパターンを形成し、該レンズパターンをエッチングマスクとしてエッチバックすることで、該レンズパターン形状をマイクロレンズ用樹脂層に転写してマイクロレンズを作製する。
【0004】
一方、製造コスト削減の観点から、前記ポジ型レジストをそのままマイクロレンズとして利用する方法が提案されている。この場合、レジストとしての特性とマイクロレンズとしての特性を併せ持つことが必要となるため、ポジ型パターニングが可能であるのみならず、形成されるマイクロレンズが優れた透明性及び薬品耐性を有する、感光性樹脂組成物が要求される。ここで、マイクロレンズの形状は素子の設計次第で異なり、角柱、円柱、角錐台、円錐台及び球欠等の様々な形状が要求され得る。球欠形状のマイクロレンズを作製する場合は、角柱又は角錐台等のパターンを形成した後にリフロー（加熱により流動化すること。メルトフロー又はサーマルフローともいう。）させる方法が知られている。
【0005】
例えば、特許文献２にはアルカリ可溶性共重合体及びキノンジアジド基含有化合物を含む感光性樹脂組成物が提案されている。該組成物を用いることで、露光及び現像により樹脂パターンを形成した後、加熱によりフェノール性ヒドロキシ基とエポキシ基とを架橋させてマイクロレンズを得ることができる。
【0006】
しかし近年、有機デバイスやフレキシブルデバイス等の耐熱性が低いデバイスが用いられるようになってきたことから、プロセスの低温化の要求が増えている。それに伴って、低温プロセスでも良好な性能を有するマイクロレンズを作製することが可能な、ポジ型感光性樹脂組成物が望まれている。球欠形状のマイクロレンズを作製する場合には、低温でも十分にリフローすることが求められる。具体的なプロセス上限温度としては、１５０℃が要求され、特に最近では１３０℃が要求されてきている。特許文献２に記載の感光性樹脂組成物は、フェノール性ヒドロキシ基とエポキシ基との熱硬化を採用しているが、この熱硬化反応は通常１５０℃を超える高温条件が必要であり、したがって１３０℃以下の低温プロセスには適さない。
【0007】
そこで特許文献３では、アルカリ可溶性共重合体、１，２－キノンジアジド化合物に加え、放射線の露光により酸を発生する化合物を含む感放射線性樹脂組成物が提案されている。該組成物を用いることで、露光及び現像により樹脂パターンを形成した後、再度露光することにより樹脂パターン内部で強酸を発生させ、カチオン重合を進行させることができるためプロセスの低温化が可能となる。しかし、該組成物に用いられているアルカリ可溶性共重合体を形成するモノマーはカルボン酸又はカルボン酸無水物を有しており、該共重合体をパターニング時に残渣が発生する虞があった。パターン間のスペースに樹脂の一部が残存してしまうと、素子の特性に重大な悪影響を及ぼすため、残渣無くポジ型パターニングが可能である感光性樹脂組成物が要求される。
【0008】
また特許文献４では、アルカリ可溶性重合体、キノンジアジド化合物に加え、ｐＫａが４．０以下の酸を発生する化合物を含む感放射線性樹脂組成物が提案されており、該アルカリ可溶性重合体は、保存安定性を除く長期信頼性（ＨＴＳ試験、ＴＨＳ試験、キセノンアーク試験等）に関しては言及されておらず、その特性は不明であった。前記有機デバイスやフレキシブルデバイスは、実用に耐え得る信頼性を有していなければならず、したがって、ＨＴＳ試験（高温試験）、ＴＨＳ試験（高温高湿試験）、キセノンアーク試験等の長期信頼性試験が行われた後も劣化せず、良好な性能を有するマイクロレンズを作製することが可能な、感光性樹脂組成物が望まれている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0009】
【文献】特開平１－１０６６６号公報
【文献】特開２００７－３３５１８号公報
【文献】特開２００９－７５３２９号公報
【文献】特開２０２０－１０１６５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0010】
本発明は、上記の事情に基づいてなされたものであり、その目的は、残渣無くポジ型パターニングが可能で、１３０℃以下の低温プロセスであっても所望の球欠形状又は半球形状を有するマイクロレンズを形成することができ、形成されるマイクロレンズが優れた透明性、薬品耐性及び長期信頼性を有するポジ型感光性樹脂組成物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0011】
本発明者らは、前記の課題を解決するべく鋭意検討を行った結果、本発明を完成するに至った。本発明の第一態様は、下記（Ａ）成分、下記（Ｂ）成分、下記（Ｃ）成分及び溶剤を含む、ポジ型感光性樹脂組成物である。
（Ａ）成分：（ａ１）下記式（１）で表されるモノマー、（ａ２）エポキシ環を含有するモノマー、及び（ａ３）酸解離定数ｐＫａが１４以上であるヒドロキシ基を含有するモノマーの共重合体であって、カルボキシ基及びカルボン酸無水物基を含まない共重合体
（Ｂ）成分：キノンジアジド化合物
（Ｃ）成分：光酸発生剤
（式中、Ｒ０は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ１は単結合又は炭素原子数１又は２のアルキレン基を表し、Ｒ２はメチル基を表し、ａは１又は２を表し、ｂは０乃至２の整数を表す。）
（Ａ）成分：（ａ１）下記式（１）で表されるモノマー、（ａ２）エポキシ環を含有するモノマー、及び（ａ３）酸解離定数ｐＫａが１４以上であるヒドロキシ基を含有するモノマーの共重合体であって、カルボキシ基及びカルボン酸無水物基を含まない共重合体
（Ｂ）成分：キノンジアジド化合物
（Ｃ）成分：光酸発生剤
【化1】
（式中、Ｒ０は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ１は単結合又は炭素原子数１又は２のアルキレン基を表し、Ｒ２はメチル基を表し、ａは１又は２を表し、ｂは０乃至２の整数を表す。）
【0012】
前記（ａ２）エポキシ環を含有するモノマーは、例えば下記式（２）で表されるモノマーであり、前記（ａ３）酸解離定数ｐＫａが１４以上であるヒドロキシ基を含有するモノマーは、例えば下記式（３）で表されるモノマーである。
（式中、Ｒ０は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ３は下記式（Ｉ）で表される２価の有機基を表し、Ｒ４は下記式（４）又は下記式（５）で表される１価の有機基を表し、Ｒ５は下記式（Ｉ´）で表される１価の有機基を表す。）
（式中、ｃは０乃至３の整数を表し、ｄは１乃至３の整数を表し、ｅはそれぞれ独立に２乃至６の整数を表し、＊は前記式（２）又は前記式（３）で表されるモノマーのアルケニル基との結合手を表し、・は前記式（４）又は前記式（５）で表される１価の有機基との結合手を表す。）
【化2】
（式中、Ｒ０は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ３は下記式（Ｉ）で表される２価の有機基を表し、Ｒ４は下記式（４）又は下記式（５）で表される１価の有機基を表し、Ｒ５は下記式（Ｉ´）で表される１価の有機基を表す。）
【化3】
（式中、ｃは０乃至３の整数を表し、ｄは１乃至３の整数を表し、ｅはそれぞれ独立に２乃至６の整数を表し、＊は前記式（２）又は前記式（３）で表されるモノマーのアルケニル基との結合手を表し、・は前記式（４）又は前記式（５）で表される１価の有機基との結合手を表す。）
【0013】
前記（Ａ）成分は、例えば下記式（１ａ）で表される構造単位、下記式（２ａ）で表される構造単位及び下記式（３ａ）で表される構造単位を有する共重合体である。
（式中、Ｒ０はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｒ１は単結合又は炭素原子数１又は２のアルキレン基を表し、Ｒ２はメチル基を表し、ｂは０乃至２の整数を表し、Ｒ４は下記式（４）又は下記式（５）で表される１価の有機基を表し、ｅは２乃至６の整数を表す。）
【化4】
（式中、Ｒ０はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｒ１は単結合又は炭素原子数１又は２のアルキレン基を表し、Ｒ２はメチル基を表し、ｂは０乃至２の整数を表し、Ｒ４は下記式（４）又は下記式（５）で表される１価の有機基を表し、ｅは２乃至６の整数を表す。）
【化5】
【0014】
前記（Ａ）成分のポリスチレン換算重量平均分子量は、例えば５，０００乃至３０，０００である。
【0015】
前記（Ｃ）成分は、例えば非イオン性光酸発生剤である。該非イオン性光酸発生剤は、例えば下記式（６）で表される光酸発生剤である。
（式中、Ｒ６は炭素原子数１乃至１０の炭化水素基又はパーフルオロアルキル基を表し、Ｒ７は炭素原子数１乃至８の直鎖状のアルキル基もしくはアルコキシ基、又は炭素原子数３乃至８の分岐鎖状のアルキル基もしくはアルコキシ基を表す。）
【化6】
（式中、Ｒ６は炭素原子数１乃至１０の炭化水素基又はパーフルオロアルキル基を表し、Ｒ７は炭素原子数１乃至８の直鎖状のアルキル基もしくはアルコキシ基、又は炭素原子数３乃至８の分岐鎖状のアルキル基もしくはアルコキシ基を表す。）
【0016】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、下記（Ｄ）成分をさらに含有してもよい。
（Ｄ）成分：多官能エポキシ化合物
（Ｄ）成分：多官能エポキシ化合物
【0017】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、下記（Ｅ）成分をさらに含有してもよい。
（Ｅ）成分：増感剤
（Ｅ）成分：増感剤
【0018】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、例えばマイクロレンズ作製用である。
【0019】
本発明の第二態様は、前記ポジ型感光性樹脂組成物から得られる硬化膜である。
【0020】
本発明の第三態様は、前記ポジ型感光性樹脂組成物から作製されるマイクロレンズである。
【0021】
本発明の第四態様は、前記ポジ型感光性樹脂組成物を基材上に塗布して樹脂膜を形成する塗布工程、前記塗布工程の後に樹脂膜の少なくとも一部を露光する第一露光工程、前記第一露光工程の後に前記樹脂膜の露光部を現像液により除去して該樹脂膜の未露光部のパターンを形成する現像工程、前記現像工程の後に前記パターンをさらに露光する第二露光工程、及び前記第二露光工程の後に前記パターンを１３０℃以下の温度で加熱するポストベーク工程を含む、マイクロレンズの作製方法である。
【0022】
前記現像工程の後及び前記第二露光工程の前に、前記パターンを１３０℃以下の温度で加熱するリフロー工程を含んでもよい。
【0023】
前記基材は、例えばカラーフィルターが形成された基板である。
【発明の効果】
【0024】
本発明によれば、特定の共重合体である（Ａ）成分、キノンジアジド化合物である（Ｂ）成分及び光酸発生剤である（Ｃ）成分を同時に含むため、残渣無くポジ型パターニングが可能で、１３０℃以下の低温プロセスであっても所望の球欠形状又は半球形状を有するマイクロレンズを形成することができ、形成されるマイクロレンズが優れた透明性、薬品耐性及び長期信頼性を有する、ポジ型感光性樹脂組成物を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【0025】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物について、より詳細に説明する。
［（Ａ）成分］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物に含まれる（Ａ）成分は、（ａ１）下記式（１）で表されるモノマー、（ａ２）エポキシ環を含有するモノマー、及び（ａ３）酸解離定数ｐＫａが１４以上であるヒドロキシ基を含有するモノマーの共重合体であって、カルボキシ基及びカルボン酸無水物基を含まない共重合体である。ここで、カルボン酸無水物基は、－ＣＯ－Ｏ－ＣＯ－で表される２価の基である。
（式中、Ｒ０は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ１は単結合又は炭素原子数１又は２のアルキレン基を表し、Ｒ２はメチル基を表し、ａは１又は２を表し、ｂは０乃至２の整数を表す。）
［（Ａ）成分］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物に含まれる（Ａ）成分は、（ａ１）下記式（１）で表されるモノマー、（ａ２）エポキシ環を含有するモノマー、及び（ａ３）酸解離定数ｐＫａが１４以上であるヒドロキシ基を含有するモノマーの共重合体であって、カルボキシ基及びカルボン酸無水物基を含まない共重合体である。ここで、カルボン酸無水物基は、－ＣＯ－Ｏ－ＣＯ－で表される２価の基である。
【化7】
（式中、Ｒ０は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ１は単結合又は炭素原子数１又は２のアルキレン基を表し、Ｒ２はメチル基を表し、ａは１又は２を表し、ｂは０乃至２の整数を表す。）
【0026】
（ａ１）前記式（１）で表されるモノマーとしては、例えば、Ｎ－（２－ヒドロキシフェニル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ－（３－ヒドロキシフェニル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ－（４－ヒドロキシフェニル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ－（４－ヒドロキシベンジル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ－（４－ヒドロキシフェネチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ－（３，５－ジメチル－４－ヒドロキシフェニル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ－（３，５－ジメチル－４－ヒドロキシベンジル）（メタ）アクリルアミド、及びＮ－（３，５－ジメチル－４－ヒドロキシフェネチル）（メタ）アクリルアミドが挙げられる。これらのモノマーは１種単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【0027】
（ａ１）前記式（１）で表されるモノマーの割合は、前記（ａ１）、前記（ａ２）及び前記（ａ３）のモノマー１００質量部に対して、５質量部乃至６０質量部、好ましくは８質量部乃至５０質量部、より好ましくは１０質量部乃至４０質量部である。
【0028】
（ａ２）エポキシ環を含有するモノマーは、分子内にエポキシ環を少なくとも一つ有するモノマーであり、その具体例としては、下記式（２－１）乃至式（２－１６）で表されるモノマーが挙げられる。
これらのモノマーは１種単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【化8】
これらのモノマーは１種単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【0029】
（ａ２）エポキシ環を含有するモノマーの割合は、前記（ａ１）、前記（ａ２）及び前記（ａ３）のモノマー１００質量部に対して、２０質量部乃至８０質量部、好ましくは３０質量部乃至７０質量部、より好ましくは４０質量部乃至６０質量部である。
【0030】
（ａ３）酸解離定数ｐＫａが１４以上であるヒドロキシ基を含有するモノマーは、酸解離定数ｐＫａ（多価酸の場合は最も低い値）が１４以上であるヒドロキシ基を少なくとも一つ有するモノマーであり、その具体例としては、下記式（３－１）乃至式（３－２５）で表されるモノマーが挙げられる。該モノマーは、酸解離定数ｐＫａが１３以下の官能基、例えば、シラノール基、フルオロアルコール基、マレイミド基、カルボキシ基、及びフェノール性ヒドロキシ基を含まない。
これらのモノマーは１種単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【化9】
これらのモノマーは１種単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【0031】
（ａ３）酸解離定数ｐＫａが１４以上であるヒドロキシ基を含有するモノマーの割合は、前記（ａ１）、前記（ａ２）及び前記（ａ３）のモノマー１００質量部に対して、５質量部乃至６０質量部、好ましくは８質量部乃至５０質量部、より好ましくは１０質量部乃至４０質量部である。
【0032】
（Ａ）成分の重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）によって算出されるポリスチレン換算重量平均分子量ＭＷとして５，０００乃至３０，０００、好ましくは５，０００乃至２０，０００、より好ましくは５，０００乃至１５，０００である。（Ａ）成分の重量平均分子量を前記範囲内とすることで、薬品耐性を損なうことなく現像後に良好なパターンを形成することができる。
【0033】
（Ａ）成分のガラス転移温度は、７０℃乃至１３０℃である。（Ａ）成分のガラス転移温度を前記範囲内とすることで、１３０℃以下の低温プロセスにおいても良好なリフロー性を有し、所望の球欠形状又は半球形状のマイクロレンズを作製することができる。
【0034】
［（Ｂ）成分］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物に含まれる（Ｂ）成分は、１，２－キノンジアジド基を有する化合物であれば特に限定されず、例えば、ヒドロキシ基含有化合物と、１，２－ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとの縮合物を用いることできる。具体的には、前記ヒドロキシ基含有化合物のヒドロキシ基のうち、１０モル％乃至１００モル％、好ましくは２０モル％乃至９５モル％が、前記１，２－ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドでエステル化された化合物を用いることができる。前記縮合反応は、各種公知の方法を採用することができる。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物に含まれる（Ｂ）成分は、１，２－キノンジアジド基を有する化合物であれば特に限定されず、例えば、ヒドロキシ基含有化合物と、１，２－ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとの縮合物を用いることできる。具体的には、前記ヒドロキシ基含有化合物のヒドロキシ基のうち、１０モル％乃至１００モル％、好ましくは２０モル％乃至９５モル％が、前記１，２－ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドでエステル化された化合物を用いることができる。前記縮合反応は、各種公知の方法を採用することができる。
【0035】
前記ヒドロキシ基含有化合物としては、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。
２，４－ジヒドロキシベンゾフェノン等のジヒドロキシベンゾフェノン類；
２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン及び２，４，６－トリヒドロキシベンゾフェノン等のトリヒドロキシベンゾフェノン類；
２，４，２’，４’－テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，３’－テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４’－テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，２’－テトラヒドロキシ－４’－メチルベンゾフェノン、及び２，３，４，４’－テトラヒドロキシ－３’－メトキシベンゾフェノン等のテトラヒドロキシベンゾフェノン類；
２，３，４，２’，４’－ペンタヒドロキシベンゾフェノン及び２，３，４，２’，６’－ペンタヒドロキシベンゾフェノン等のペンタヒドロキシベンゾフェノン類；
２，４，６，３’，４’，５’－ヘキサヒドロキシベンゾフェノン及び３，４，５，３’，４’，５’－ヘキサヒドロキシベンゾフェノン等のヘキサヒドロキシベンゾフェノン類；
２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，３，３－トリス（４－ヒドロキシフェニル）ブタン、ビス（２，４－ジヒドロキシフェニル）メタン、ビス（ｐ－ヒドロキシフェニル）メタン、トリス（ｐ－ヒドロキシフェニル）メタン、１，１，１－トリス（ｐ－ヒドロキシフェニル）エタン、ビス（２，３，４－トリヒドロキシフェニル）メタン、２，２－ビス（２，３，４－トリヒドロキシフェニル）プロパン、１，１，３－トリス（２，５－ジメチル－４－ヒドロキシフェニル）－３－フェニルプロパン、４，４’－［１－［４－［１－［４－ヒドロキシフェニル］－１－メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール、ビス（２，５－ジメチル－４－ヒドロキシフェニル）－２－ヒドロキシフェニルメタン、３，３，３’，３’－テトラメチル－１，１’－スピロビインデン－５，６，７，５’，６’，７’－ヘキサノール、及び２，２，４－トリメチル－７，２’，４’－トリヒドロキシフラバン等の（ポリヒドロキシフェニル）アルカン類；
フェノール、ｏ－クレゾール、ｍ－クレゾール、ｐ－クレゾール、ハイドロキノン、レゾルシノール、カテコール、ガリック酸メチル、ガリック酸エチル、２－メチル－２－（２，４－ジヒドロキシフェニル）－４－（４－ヒドロキシフェニル）－７－ヒドロキシクロマン、１－［１－（３－｛１－（４－ヒドロキシフェニル）－１－メチルエチル｝－４，６－ジヒドロキシフェニル）－１－メチルエチル］－３－（１－（３－｛１－（４－ヒドロキシフェニル）－１－メチルエチル｝－４，６－ジヒドロキシフェニル）－１－メチルエチル）ベンゼン、及び４，６－ビス｛１－（４－ヒドロキシフェニル）－１－メチルエチル｝－１，３－ジヒドロキシベンゼン等のその他化合物。
これらの化合物の中でも、２，３，４，４’－テトラヒドロキシベンゾフェノン、１，１，１－トリス（ｐ－ヒドロキシフェニル）エタン、及び４，４’－［１－［４－［１－［４－ヒドロキシフェニル］－１－メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノールが好ましい。
２，４－ジヒドロキシベンゾフェノン等のジヒドロキシベンゾフェノン類；
２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン及び２，４，６－トリヒドロキシベンゾフェノン等のトリヒドロキシベンゾフェノン類；
２，４，２’，４’－テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，３’－テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４’－テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，２’－テトラヒドロキシ－４’－メチルベンゾフェノン、及び２，３，４，４’－テトラヒドロキシ－３’－メトキシベンゾフェノン等のテトラヒドロキシベンゾフェノン類；
２，３，４，２’，４’－ペンタヒドロキシベンゾフェノン及び２，３，４，２’，６’－ペンタヒドロキシベンゾフェノン等のペンタヒドロキシベンゾフェノン類；
２，４，６，３’，４’，５’－ヘキサヒドロキシベンゾフェノン及び３，４，５，３’，４’，５’－ヘキサヒドロキシベンゾフェノン等のヘキサヒドロキシベンゾフェノン類；
２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，３，３－トリス（４－ヒドロキシフェニル）ブタン、ビス（２，４－ジヒドロキシフェニル）メタン、ビス（ｐ－ヒドロキシフェニル）メタン、トリス（ｐ－ヒドロキシフェニル）メタン、１，１，１－トリス（ｐ－ヒドロキシフェニル）エタン、ビス（２，３，４－トリヒドロキシフェニル）メタン、２，２－ビス（２，３，４－トリヒドロキシフェニル）プロパン、１，１，３－トリス（２，５－ジメチル－４－ヒドロキシフェニル）－３－フェニルプロパン、４，４’－［１－［４－［１－［４－ヒドロキシフェニル］－１－メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール、ビス（２，５－ジメチル－４－ヒドロキシフェニル）－２－ヒドロキシフェニルメタン、３，３，３’，３’－テトラメチル－１，１’－スピロビインデン－５，６，７，５’，６’，７’－ヘキサノール、及び２，２，４－トリメチル－７，２’，４’－トリヒドロキシフラバン等の（ポリヒドロキシフェニル）アルカン類；
フェノール、ｏ－クレゾール、ｍ－クレゾール、ｐ－クレゾール、ハイドロキノン、レゾルシノール、カテコール、ガリック酸メチル、ガリック酸エチル、２－メチル－２－（２，４－ジヒドロキシフェニル）－４－（４－ヒドロキシフェニル）－７－ヒドロキシクロマン、１－［１－（３－｛１－（４－ヒドロキシフェニル）－１－メチルエチル｝－４，６－ジヒドロキシフェニル）－１－メチルエチル］－３－（１－（３－｛１－（４－ヒドロキシフェニル）－１－メチルエチル｝－４，６－ジヒドロキシフェニル）－１－メチルエチル）ベンゼン、及び４，６－ビス｛１－（４－ヒドロキシフェニル）－１－メチルエチル｝－１，３－ジヒドロキシベンゼン等のその他化合物。
これらの化合物の中でも、２，３，４，４’－テトラヒドロキシベンゾフェノン、１，１，１－トリス（ｐ－ヒドロキシフェニル）エタン、及び４，４’－［１－［４－［１－［４－ヒドロキシフェニル］－１－メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノールが好ましい。
【0036】
前記１，２－ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとしては、１，２－ナフトキノンジアジドスルホン酸クロリドが好ましく、１，２－ナフトキノン－２－ジアジド－４－スルホン酸クロリド及び１，２－ナフトキノン－２－ジアジド－５－スルホン酸クロリドがより好ましく、１，２－ナフトキノン－２－ジアジド－５－スルホン酸クロリドがさらに好ましい。
【0037】
（Ｂ）成分の化合物は１種単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【0038】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物の（Ｂ）成分の含有量は、（Ａ）成分１００質量部に対して、５質量部乃至１００質量部、好ましくは１０質量部乃至６０質量部、より好ましくは１５質量部乃至４０質量部である。（Ｂ）成分の含有量を上記範囲内とすることで、感度を著しく低下させることなく露光部と未露光部との間のアルカリ現像液に対する溶解度差を大きくすることができ、比較的低露光量でポジ型パタ－ニングが可能となる。
【0039】
［（Ｃ）成分］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物に含まれる（Ｃ）成分は、露光により酸解離定数ｐＫａが４以下の酸を生じ得る化合物であれば特に限定されず、イオン性光酸発生剤及び非イオン性光酸発生剤が挙げられる。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物に含まれる（Ｃ）成分は、露光により酸解離定数ｐＫａが４以下の酸を生じ得る化合物であれば特に限定されず、イオン性光酸発生剤及び非イオン性光酸発生剤が挙げられる。
【0040】
イオン性光酸発生剤としては、例えば、以下に示す商品及び化合物を用いることができる。
アデカアークルズ（登録商標）ＳＰ－０５６、同ＳＰ－１７１（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＣＰＩ（登録商標）－１００Ｂ（４０）、同－１００Ｐ、同－１０１Ａ、同－１１０Ａ、同－１１０Ｂ、同－１１０Ｐ、同－２００Ｋ、同－２１０Ｓ、同－３００、同－３１０Ｂ、同－３１０ＦＧ、同－４００、同－４１０Ｂ、同－４１０Ｓ、ＶＣ－１ＦＧ、ＥＳ－１Ｂ（以上、サンアプロ（株）製）、ＴＰＳ－ＴＦ、ＴＰＳ－ＣＳ、ＴＰＳ－ＰＦＢＳ（以上、東洋合成工業（株）製）、ＴＰＳ－１０２、ＴＰＳ－１０３、ＴＰＳ－１０５、ＴＰＳ－１０６、ＴＰＳ－１０９、ＴＰＳ－２００、ＴＰＳ－３００、ＴＰＳ－１０００、ＨＤＳ－１０９、ＭＤＳ－１０３、ＭＤＳ－１０５、ＭＤＳ－１０９、ＭＤＳ－２０５、ＭＤＳ－２０９、ＢＤＳ－１０９、ＭＮＰＳ－１０９、ＤＴＳ－１０２、ＤＴＳ－１０３、ＤＴＳ－１０５、ＤＴＳ－２００、ＮＤＳ－１０３、ＮＤＳ－１０５、ＮＤＳ－１５５、及びＮＤＳ－１６５（以上、みどり化学（株）製）等のアリールスルホニウム塩類；
アデカアークルズ（登録商標）ＳＰ－１４０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＩＫ－１、ＩＫ－１ＰＣ（８０）、ＩＫ－１ＦＧ、（以上、サンアプロ（株）製）、ＤＴＢＰＩ－ＰＦＢＳ（以上、東洋合成工業（株）製）、ＤＰＩ－１０５、ＤＰＩ－１０６、ＤＰＩ－１０９、ＤＰＩ－２０１、ＢＩ－１０５、ＭＰＩ－１０５、ＭＰＩ－１０６、ＭＰＩ－１０９、ＢＢＩ－１０２、ＢＢＩ－１０３、ＢＢＩ－１０５、ＢＢＩ－１０６、ＢＢＩ－１０９、ＢＢＩ－１１０、ＢＢＩ－２００、ＢＢＩ－２０１、ＢＢＩ－３００、及びＢＢＩ－３０１（以上、みどり化学（株）製）等のアリールヨードニウム塩類。
アデカアークルズ（登録商標）ＳＰ－０５６、同ＳＰ－１７１（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＣＰＩ（登録商標）－１００Ｂ（４０）、同－１００Ｐ、同－１０１Ａ、同－１１０Ａ、同－１１０Ｂ、同－１１０Ｐ、同－２００Ｋ、同－２１０Ｓ、同－３００、同－３１０Ｂ、同－３１０ＦＧ、同－４００、同－４１０Ｂ、同－４１０Ｓ、ＶＣ－１ＦＧ、ＥＳ－１Ｂ（以上、サンアプロ（株）製）、ＴＰＳ－ＴＦ、ＴＰＳ－ＣＳ、ＴＰＳ－ＰＦＢＳ（以上、東洋合成工業（株）製）、ＴＰＳ－１０２、ＴＰＳ－１０３、ＴＰＳ－１０５、ＴＰＳ－１０６、ＴＰＳ－１０９、ＴＰＳ－２００、ＴＰＳ－３００、ＴＰＳ－１０００、ＨＤＳ－１０９、ＭＤＳ－１０３、ＭＤＳ－１０５、ＭＤＳ－１０９、ＭＤＳ－２０５、ＭＤＳ－２０９、ＢＤＳ－１０９、ＭＮＰＳ－１０９、ＤＴＳ－１０２、ＤＴＳ－１０３、ＤＴＳ－１０５、ＤＴＳ－２００、ＮＤＳ－１０３、ＮＤＳ－１０５、ＮＤＳ－１５５、及びＮＤＳ－１６５（以上、みどり化学（株）製）等のアリールスルホニウム塩類；
アデカアークルズ（登録商標）ＳＰ－１４０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＩＫ－１、ＩＫ－１ＰＣ（８０）、ＩＫ－１ＦＧ、（以上、サンアプロ（株）製）、ＤＴＢＰＩ－ＰＦＢＳ（以上、東洋合成工業（株）製）、ＤＰＩ－１０５、ＤＰＩ－１０６、ＤＰＩ－１０９、ＤＰＩ－２０１、ＢＩ－１０５、ＭＰＩ－１０５、ＭＰＩ－１０６、ＭＰＩ－１０９、ＢＢＩ－１０２、ＢＢＩ－１０３、ＢＢＩ－１０５、ＢＢＩ－１０６、ＢＢＩ－１０９、ＢＢＩ－１１０、ＢＢＩ－２００、ＢＢＩ－２０１、ＢＢＩ－３００、及びＢＢＩ－３０１（以上、みどり化学（株）製）等のアリールヨードニウム塩類。
【0041】
非イオン性光酸発生剤としては、例えば、以下に示す商品及び化合物を用いることができる。
アデカアークルズ（登録商標）ＳＰ－０８２、同ＳＰ－６０６（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＮＡ－ＣＳ１、ＮＰ－ＴＭ２、ＮＰ－ＳＥ１０（以上、サンアプロ（株）製）、ＳＩ－１０５、ＳＩ－１０６、ＰＩ－１０６、ＮＤＩ－１０１、ＮＤＩ－１０５、ＮＤＩ－１０６、ＮＤＩ－１０９、ＮＤＩ－１００１、ＮＤＩ－１００４、ＮＡＩ－１００、ＮＡＩ－１０１、ＮＡＩ－１０５、ＮＡＩ－１０６、ＮＡＩ－１０９、ＮＡＩ－１００２、ＮＡＩ－１００３、及びＮＡＩ－１００４（以上、みどり化学（株）製）等のＮ－スルホニルオキシイミド類；
ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）ＰＡＧ１０３、同ＰＡＧ１２１、同ＰＡＧ２０３（以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製）、ＰＡＩ－０１、ＰＡＩ－１０１、ＰＡＩ－１０６、ＰＡＩ－１００１、ＰＡＩ－１００２、ＰＡＩ－１００３、及びＰＡＩ－１００４（以上、みどり化学（株）製）等のオキシムスルホネート類；
ＴＡＺ－１００、ＴＡＺ－１０１、ＴＡＺ－１０２、ＴＡＺ－１０３、ＴＡＺ－１０４、ＴＡＺ－１０７、ＴＡＺ－１０８、ＴＡＺ－１０９、ＴＡＺ－１１０、ＴＡＺ－１１３、ＴＡＺ－１１４、ＴＡＺ－１１８、ＴＡＺ－１２２、ＴＡＺ－１２３、ＴＡＺ－２０３、及びＴＡＺ－２０４（以上、みどり化学（株）製）等のトリアジン類。
アデカアークルズ（登録商標）ＳＰ－０８２、同ＳＰ－６０６（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＮＡ－ＣＳ１、ＮＰ－ＴＭ２、ＮＰ－ＳＥ１０（以上、サンアプロ（株）製）、ＳＩ－１０５、ＳＩ－１０６、ＰＩ－１０６、ＮＤＩ－１０１、ＮＤＩ－１０５、ＮＤＩ－１０６、ＮＤＩ－１０９、ＮＤＩ－１００１、ＮＤＩ－１００４、ＮＡＩ－１００、ＮＡＩ－１０１、ＮＡＩ－１０５、ＮＡＩ－１０６、ＮＡＩ－１０９、ＮＡＩ－１００２、ＮＡＩ－１００３、及びＮＡＩ－１００４（以上、みどり化学（株）製）等のＮ－スルホニルオキシイミド類；
ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）ＰＡＧ１０３、同ＰＡＧ１２１、同ＰＡＧ２０３（以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製）、ＰＡＩ－０１、ＰＡＩ－１０１、ＰＡＩ－１０６、ＰＡＩ－１００１、ＰＡＩ－１００２、ＰＡＩ－１００３、及びＰＡＩ－１００４（以上、みどり化学（株）製）等のオキシムスルホネート類；
ＴＡＺ－１００、ＴＡＺ－１０１、ＴＡＺ－１０２、ＴＡＺ－１０３、ＴＡＺ－１０４、ＴＡＺ－１０７、ＴＡＺ－１０８、ＴＡＺ－１０９、ＴＡＺ－１１０、ＴＡＺ－１１３、ＴＡＺ－１１４、ＴＡＺ－１１８、ＴＡＺ－１２２、ＴＡＺ－１２３、ＴＡＺ－２０３、及びＴＡＺ－２０４（以上、みどり化学（株）製）等のトリアジン類。
【0042】
これらのイオン性光酸発生剤及び非イオン性光酸発生剤の中でも、保存安定性や感度の観点から非イオン性光酸発生剤が好ましく、Ｎ－スルホニルオキシイミド類がより好ましく、前記式（６）で表される化合物がさらに好ましい。前記式（６）で表される化合物の具体例としては、下記式（６－１）乃至下記式（６－２８）で表される化合物が挙げられる。
【化10】
【0043】
（Ｃ）成分の化合物は１種単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【0044】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物の（Ｃ）成分の含有量は、（Ａ）成分１００質量部に対して、０．１質量部乃至１０質量部、好ましくは０．５質量部乃至５質量部である。（Ｃ）成分の含有量を上記範囲内とすることで、透明性を損なうことなく薬品耐性を向上させることができる。
【0045】
［（Ｄ）成分］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物に任意成分として含まれる（Ｄ）成分は、エポキシ環を分子中に少なくとも２つ有する化合物であれば特に限定されず、例えば、以下に示す商品及び化合物を用いることができる。
ＥＰＩＣＬＯＮ（登録商標）８３０、同８３０－Ｓ、同８３５、同８４０、同８４０－Ｓ、同８５０、同８５０－Ｓ、同８５０－ＬＣ、同ＨＰ－８２０（以上、ＤＩＣ（株）製）、ＤＥＮＡＣＯＬ（登録商標）ＥＸ－２０１、同ＥＸ－２１１、同ＥＸ－２１２、同ＥＸ－２５２、同ＥＸ－８１０、同ＥＸ－８１１、同ＥＸ－８２１、同ＥＸ－８３０、同ＥＸ－８３２、同ＥＸ－８４１、同ＥＸ－８５０、同ＥＸ－８５１、同ＥＸ－８６１、同ＥＸ－９２０、同ＥＸ－９３１、同ＥＸ－９９１Ｌ、同ＥＸ－３１３、同ＥＸ－３１４、同ＥＸ－３２１、同ＥＸ－３２１Ｌ、同ＥＸ－４１１、同ＥＸ－４２１、同ＥＸ－５１２、同ＥＸ－５２１、同ＥＸ－６１２、同ＥＸ－６１４、同ＥＸ－６１４Ｂ、同ＥＸ－６２２（以上、ナガセケムテックス（株）製）、ｊＥＲ（登録商標）１５２、同６３０、同８２５、同８２７、同８２８、同８２８ＥＬ、同８２８ＵＳ、同８２８ＸＡ（以上、三菱ケミカル（株）製）、ＴＥＴＲＡＤ（登録商標）－Ｃ、同－Ｘ（以上、三菱ガス化学（株）製）、セロキサイド（登録商標）２０２１Ｐ、同２０８１、エポリード（登録商標）ＧＴ４０１（以上、（株）ダイセル製）、エポトート（登録商標）ＹＤ－１１５、同ＹＤ－１１５ＣＡ、同ＹＤ－１２７、同ＹＤ－１２８、同ＹＤ－１２８Ｇ、同ＹＤ－１２８Ｓ、同ＹＤ－１２８ＣＡ、同ＹＤ－８１２５、同ＹＤ－８２５ＧＳ、同ＹＤＦ－１７０、同ＹＤＦ－１７０Ｎ、同ＹＤＦ－８１７０Ｃ、同ＹＤＦ－８７０ＧＳ、同ＺＸ－１０５９、同ＹＨ－４０４、同ＹＨ－４３４、同ＹＨ－４３４Ｌ、同ＹＨ－５１３、同ＹＨ－５２３、同ＳＴ－３０００（以上、日鉄ケミカル＆マテリアル（株）製）、アデカレジン（登録商標）ＥＰ－４１００、同ＥＰ－４１００Ｇ、同ＥＰ－４１００Ｅ、同ＥＰ－４１００ＴＸ、同ＥＰ－４３００Ｅ、同ＥＰ－４１００、同ＥＰ－４４００、同ＥＰ－４５２０Ｓ、同ＥＰ－４５３０、同ＥＰ－４９０１、同ＥＰ－４９０１Ｅ、同ＥＰ－４０００、同ＥＰ－４００５、同ＥＰ－７００１、同ＥＰ－４０８０Ｅ、同ＥＰＵ－６、同ＥＰＵ－７Ｎ、同ＥＰＵ－１１Ｆ、同ＥＰＵ－１５Ｆ、同ＥＰＵ－１３９５、同ＥＰＵ－７３Ｂ、同ＥＰＵ－１７、同ＥＰＵ－１７Ｔ－６、同ＥＰＲ－１４１５－１、同ＥＰＲ－２０００、同ＥＰＲ－２００７、アデカグリシロール（登録商標）ＥＤ－５０３、同ＥＤ－５０３Ｇ、同ＥＤ－５０６、同ＥＤ－５２３Ｔ、同ＥＤ－５０５（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、スミエポキシ（登録商標）ＥＬＭ－４３４、同ＥＬＭ－４３４Ｌ、同ＥＬＭ－４３４ＶＬ、同ＥＬＭ－１００、同ＥＬＭ－１００Ｈ（以上、住友化学（株）製）、エポライトＭ－１２３０、同４０Ｅ，同１００Ｅ、同２００Ｅ、同４００Ｅ、同７０Ｐ、同２００Ｐ、同４００Ｐ、同１５００ＮＰ、同１６００、同８０ＭＦ、同４０００、同３００２（Ｎ）（以上、共栄社化学（株）製）及びＴＨＩ－ＤＥ（ＥＮＥＯＳ（株）製）等の多官能エポキシ樹脂。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物に任意成分として含まれる（Ｄ）成分は、エポキシ環を分子中に少なくとも２つ有する化合物であれば特に限定されず、例えば、以下に示す商品及び化合物を用いることができる。
ＥＰＩＣＬＯＮ（登録商標）８３０、同８３０－Ｓ、同８３５、同８４０、同８４０－Ｓ、同８５０、同８５０－Ｓ、同８５０－ＬＣ、同ＨＰ－８２０（以上、ＤＩＣ（株）製）、ＤＥＮＡＣＯＬ（登録商標）ＥＸ－２０１、同ＥＸ－２１１、同ＥＸ－２１２、同ＥＸ－２５２、同ＥＸ－８１０、同ＥＸ－８１１、同ＥＸ－８２１、同ＥＸ－８３０、同ＥＸ－８３２、同ＥＸ－８４１、同ＥＸ－８５０、同ＥＸ－８５１、同ＥＸ－８６１、同ＥＸ－９２０、同ＥＸ－９３１、同ＥＸ－９９１Ｌ、同ＥＸ－３１３、同ＥＸ－３１４、同ＥＸ－３２１、同ＥＸ－３２１Ｌ、同ＥＸ－４１１、同ＥＸ－４２１、同ＥＸ－５１２、同ＥＸ－５２１、同ＥＸ－６１２、同ＥＸ－６１４、同ＥＸ－６１４Ｂ、同ＥＸ－６２２（以上、ナガセケムテックス（株）製）、ｊＥＲ（登録商標）１５２、同６３０、同８２５、同８２７、同８２８、同８２８ＥＬ、同８２８ＵＳ、同８２８ＸＡ（以上、三菱ケミカル（株）製）、ＴＥＴＲＡＤ（登録商標）－Ｃ、同－Ｘ（以上、三菱ガス化学（株）製）、セロキサイド（登録商標）２０２１Ｐ、同２０８１、エポリード（登録商標）ＧＴ４０１（以上、（株）ダイセル製）、エポトート（登録商標）ＹＤ－１１５、同ＹＤ－１１５ＣＡ、同ＹＤ－１２７、同ＹＤ－１２８、同ＹＤ－１２８Ｇ、同ＹＤ－１２８Ｓ、同ＹＤ－１２８ＣＡ、同ＹＤ－８１２５、同ＹＤ－８２５ＧＳ、同ＹＤＦ－１７０、同ＹＤＦ－１７０Ｎ、同ＹＤＦ－８１７０Ｃ、同ＹＤＦ－８７０ＧＳ、同ＺＸ－１０５９、同ＹＨ－４０４、同ＹＨ－４３４、同ＹＨ－４３４Ｌ、同ＹＨ－５１３、同ＹＨ－５２３、同ＳＴ－３０００（以上、日鉄ケミカル＆マテリアル（株）製）、アデカレジン（登録商標）ＥＰ－４１００、同ＥＰ－４１００Ｇ、同ＥＰ－４１００Ｅ、同ＥＰ－４１００ＴＸ、同ＥＰ－４３００Ｅ、同ＥＰ－４１００、同ＥＰ－４４００、同ＥＰ－４５２０Ｓ、同ＥＰ－４５３０、同ＥＰ－４９０１、同ＥＰ－４９０１Ｅ、同ＥＰ－４０００、同ＥＰ－４００５、同ＥＰ－７００１、同ＥＰ－４０８０Ｅ、同ＥＰＵ－６、同ＥＰＵ－７Ｎ、同ＥＰＵ－１１Ｆ、同ＥＰＵ－１５Ｆ、同ＥＰＵ－１３９５、同ＥＰＵ－７３Ｂ、同ＥＰＵ－１７、同ＥＰＵ－１７Ｔ－６、同ＥＰＲ－１４１５－１、同ＥＰＲ－２０００、同ＥＰＲ－２００７、アデカグリシロール（登録商標）ＥＤ－５０３、同ＥＤ－５０３Ｇ、同ＥＤ－５０６、同ＥＤ－５２３Ｔ、同ＥＤ－５０５（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、スミエポキシ（登録商標）ＥＬＭ－４３４、同ＥＬＭ－４３４Ｌ、同ＥＬＭ－４３４ＶＬ、同ＥＬＭ－１００、同ＥＬＭ－１００Ｈ（以上、住友化学（株）製）、エポライトＭ－１２３０、同４０Ｅ，同１００Ｅ、同２００Ｅ、同４００Ｅ、同７０Ｐ、同２００Ｐ、同４００Ｐ、同１５００ＮＰ、同１６００、同８０ＭＦ、同４０００、同３００２（Ｎ）（以上、共栄社化学（株）製）及びＴＨＩ－ＤＥ（ＥＮＥＯＳ（株）製）等の多官能エポキシ樹脂。
【0046】
（Ｄ）成分の化合物は１種単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【0047】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物が（Ｄ）成分を含む場合、（Ｄ）成分の含有量は、（Ａ）成分１００質量部に対して、５質量部乃至１００質量部、好ましくは１０質量部乃至５０質量部である。（Ｄ）成分の含有量を上記範囲内とすることで、薬品耐性を向上させることができる。
【0048】
［（Ｅ）成分］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物に任意成分として含まれる（Ｅ）成分は、照射された光のエネルギーを他の物質に渡すことができる物質であれば特に限定されず、例えば、ｐ－トルキノン、１－フェニル－１，２－プロパンジオン、フェナントレン、アントラセン、９，１０－ジエトキシアントラセン、９，１０－ジプロピルオキシアントラセン、９，１０－ジブトキシアントラセン、９，１０－ジオクタノイルオキシアントラセン、３，７－ジメトキシアントラセン、ピレン、ペリレン、キサントン、チオキサントン、２，４－ジメチルチオキサントン、２，４－ジエチルチオキサントン、及び２－イソプロピルチオキサントン等が挙げられる。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物に任意成分として含まれる（Ｅ）成分は、照射された光のエネルギーを他の物質に渡すことができる物質であれば特に限定されず、例えば、ｐ－トルキノン、１－フェニル－１，２－プロパンジオン、フェナントレン、アントラセン、９，１０－ジエトキシアントラセン、９，１０－ジプロピルオキシアントラセン、９，１０－ジブトキシアントラセン、９，１０－ジオクタノイルオキシアントラセン、３，７－ジメトキシアントラセン、ピレン、ペリレン、キサントン、チオキサントン、２，４－ジメチルチオキサントン、２，４－ジエチルチオキサントン、及び２－イソプロピルチオキサントン等が挙げられる。
【0049】
（Ｅ）成分の化合物は１種単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【0050】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物が（Ｅ）成分を含む場合、（Ｅ）成分の含有量は、（Ａ）成分１００質量部に対して、０．０１質量部乃至５質量部、好ましくは０．０５質量部乃至３質量部、より好ましくは０．１質量部乃至１質量部である。（Ｅ）成分の含有量を上記範囲内とすることで、透明性を損なうことなく（Ｃ）成分の光酸発生剤に対して効果的に増感作用を発現し、薬品耐性を向上させることができる。
【0051】
［溶剤］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物に含まれる溶剤は、（Ａ）成分乃至（Ｃ）成分、並びに必要に応じて添加される任意成分を溶解するものであれば特に限定されず、例えば、炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、アルコール類、アルデヒド類、ケトン類、エステル類、アミド類、及びニトリル類等の全ての有機溶媒を使用することができる。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物に含まれる溶剤は、（Ａ）成分乃至（Ｃ）成分、並びに必要に応じて添加される任意成分を溶解するものであれば特に限定されず、例えば、炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、アルコール類、アルデヒド類、ケトン類、エステル類、アミド類、及びニトリル類等の全ての有機溶媒を使用することができる。
【0052】
前記炭化水素類としては、例えば、ｎ－ペンタン、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、ｎ－ヘキサン、イソヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ｎ－ヘプタン、ベンゼン、トルエン、о－キシレン、ｍ－キシレン、ｐ－キシレン及びメシチレン等が挙げられる。
【0053】
前記ハロゲン化炭化水素類としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロエタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、テトラクロロエタン、ヘキサクロロエタン、ジクロロエチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、ハイドロフルオロカーボン及びパーフルオロカーボン等が挙げられる。
【0054】
前記エーテル類としては、例えば、ジエチルエーテル、ジ－ｎ－プロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジ－ｎ－ブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、ジ－ｎ－ペンチルエーテル、ジイソペンチルエーテル、ジ－ｎ－ヘキシルエーテル、メチル－ｎ－プロピルエーテル、メチルイソプロピルエーテル、エチル－ｎ－プロピルエーテル、エチルイソプロピルエーテル、ｎ－ブチルメチルエーテル、イソブチルメチルエーテル、ｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテル、ｎ－ブチルエチルエーテル、イソブチルエチルエーテル、ｔｅｒｔ－ブチルエチルエーテル、メチル－ｎ－ペンチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ｎ－ヘキシルメチルエーテル、シクロヘキシルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，３－ジオキサン、１，４－ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジブチルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、トリプロピレングリコールジエチルエーテル及びトリプロピレングリコールジブチルエーテル等が挙げられる。
【0055】
前記アルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、１－プロパノール、２－プロパノール、１－ブタノール、２－ブタノール、２－メチル－１－プロパノール、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール、１－ペンタノール、２－ペンタノール、３－ペンタノール、２－メチル－１－ブタノール、３－メチル－２－ブタノール、ネオペンチルアルコール、シクロペンタノール、メチルシクロペンタノール、１－ヘキサノール、２－ヘキサノール、３－ヘキサノール、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、１－ヘプタノール、２－ヘプタノール、３－ヘプタノール、４－ヘプタノール、１－オクタノール、２－オクタノール、３－オクタノール、４－オクタノール、２－エチル－１－ヘキサノール、ベンジルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノプロピルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル及びトリプロピレングリコールモノブチルエーテル等の１価アルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，３－プロパンジオール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，４－ブタンジオール、１，３－ブタンジオール、１，２－ブタンジオール、１，５－ペンタンジオール、１，４－ペンタンジオール、１，３－ペンタンジオール、１，２－ペンタンジオール、３－メチル－１，５－ペンタンジオール、２，２，４－トリメチル－１，３－ペンタンジオール及び１，２－ヘキサンジオール等の２価アルコール、並びにグリセリン等の３価アルコール等が挙げられる。
【0056】
前記アルデヒド類としては、例えば、エタナール、プロパナール、２－メチル－１－プロパナール、ブタナール、３－メチルブタナール、ペンタナール及びベンズアルデヒド等が挙げられる。
【0057】
前記ケトン類としては、例えば、アセトン、２－ブタノン、２－ペンタノン、３－ペンタノン、シクロペンタノン、２，４－ペンタンジオン、４－メチル－２－ペンタノン、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン、シクロヘキサノン及び２－ヘプタノン等が挙げられる。
【0058】
前記エステル類としては、例えば、メチルホルマート、エチルホルマート、ｎ－プロピルホルマート、イソプロピルホルマート、ｎ－ブチルホルマート、イソブチルホルマート、ｔｅｒｔ－ブチルホルマート、ｎ－ペンチルホルマート、イソペンチルホルマート、メチルアセタート、エチルアセタート、ｎ－プロピルアセタート、イソプロピルアセタート、ｎ－ブチルアセタート、イソブチルアセタート、ｔｅｒｔ－ブチルアセタート、ｎ－ペンチルアセタート、イソペンチルアセタート、シクロペンチルアセタート、ｎ－へキシルアセタート、イソへキシルアセタート、シクロヘキシルアセタート、ｎ－ヘプチルアセタート、イソヘプチルアセタート、ｎ－オクチルアセタート、イソオクチルアセタート、ベンジルアセタート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセタート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセタート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセタート、エチレングリコールジアセタート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセタート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセタート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセタート、トリエチレングリコールモノメチルエーテルアセタート、トリエチレングリコールモノエチルエーテルアセタート、トリエチレングリコールモノブチルエーテルアセタート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセタート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセタート、プロピレングリコールジアセタート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセタート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセタート、トリプロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート、トリプロピレングリコールモノエチルエーテルアセタート、トリプロピレングリコールモノブチルエーテルアセタート、メチルプロピオナート、エチルプロピオナート、ｎ－プロピルプロピオナート、イソプロピルプロピオナート、ｎ－ブチルプロピオナート、イソブチルプロピオナート、ｔｅｒｔ－ブチルプロピオナート、メチルブチラート、エチルブチラート、ｎ－プロピルブチラート、イソプロピルブチラート、ｎ－ブチルブチラート、イソブチルブチラート、ｔｅｒｔ－ブチルブチラート、メチルイソブチラート、エチルイソブチラート、ｎ－プロピルイソブチラート、イソプロピルイソブチラート、ｎ－ブチルイソブチラート、イソブチルイソブチラート、ｔｅｒｔ－ブチルイソブチラート、メチルラクタート、エチルラクタート、ｎ－プロピルラクタート、イソプロピルラクタート、ｎ－ブチルラクタート、イソブチルラクタート、ｔｅｒｔ－ブチルラクタート、メチルアセトアセタート、エチルアセトアセタート、ｎ－プロピルアセトアセタート、イソプロピルアセトアセタート、ｎ－ブチルアセトアセタート、イソブチルアセトアセタート、ｔｅｒｔ－ブチルアセトアセタート、ジメチルマロナート、ジエチルマロナート、トリアセチン、γ－ブチロラクトン、γ－バレロラクトン、γ－カプロラクトン、δ－バレロラクトン、δ－カプロラクトン及びε－カプロラクトン等が挙げられる。
【0059】
前記アミド類としては、例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルイソブチルアミド、Ｎ－メチルピロリドン及びＮ－エチルピロリドン等が挙げられる。
【0060】
前記ニトリル類としては、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル及びブチロニトリル等が挙げられる。
【0061】
これらの溶剤は１種単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【0062】
これらの溶剤の中でも、本発明のポジ型感光性樹脂組成物を基材上に塗布して形成される硬化膜のレベリング性の向上の観点から、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、２－ヘプタノン、エチルラクタート、ｎ－ブチルラクタート、シクロペンタノン及びシクロヘキサノンが好ましい。
【0063】
［界面活性剤、その他添加剤］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、塗布性を向上させる目的で、任意で界面活性剤を含有することもできる。界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル及びポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレン／ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレート、ソルビタントリオレート、及びソルビタントリステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレート、及びポリオキシエチレンソルビタントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等のノニオン系界面活性剤、エフトップ（登録商標）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５２（以上、三菱マテリアル電子化成（株）製）、メガファック（登録商標）Ｆ－１７１、同Ｆ－１７３、同Ｒ－３０、同Ｒ－４０、同Ｒ－４０－ＬＭ（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１（以上、住友スリーエム（株）製）、アサヒガード（登録商標）ＡＧ７１０、サーフロン（登録商標）Ｓ－３８２、同ＳＣ１０１、同ＳＣ１０２、同ＳＣ１０３、同ＳＣ１０４、同ＳＣ１０５、同ＳＣ１０６（ＡＧＣ（株）製）、ＦＴＸ－２０６Ｄ、ＦＴＸ－２１２Ｄ、ＦＴＸ－２１８、ＦＴＸ－２２０Ｄ、ＦＴＸ－２３０Ｄ、ＦＴＸ－２４０Ｄ、ＦＴＸ－２１２Ｐ、ＦＴＸ－２２０Ｐ、ＦＴＸ－２２８Ｐ、ＦＴＸ－２４０Ｇ等のフタージェントシリーズ（（株）ネオス製）等のフッ素系界面活性剤、及びオルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）を挙げることができる。これらの界面活性剤は１種単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、塗布性を向上させる目的で、任意で界面活性剤を含有することもできる。界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル及びポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレン／ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレート、ソルビタントリオレート、及びソルビタントリステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレート、及びポリオキシエチレンソルビタントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等のノニオン系界面活性剤、エフトップ（登録商標）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５２（以上、三菱マテリアル電子化成（株）製）、メガファック（登録商標）Ｆ－１７１、同Ｆ－１７３、同Ｒ－３０、同Ｒ－４０、同Ｒ－４０－ＬＭ（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１（以上、住友スリーエム（株）製）、アサヒガード（登録商標）ＡＧ７１０、サーフロン（登録商標）Ｓ－３８２、同ＳＣ１０１、同ＳＣ１０２、同ＳＣ１０３、同ＳＣ１０４、同ＳＣ１０５、同ＳＣ１０６（ＡＧＣ（株）製）、ＦＴＸ－２０６Ｄ、ＦＴＸ－２１２Ｄ、ＦＴＸ－２１８、ＦＴＸ－２２０Ｄ、ＦＴＸ－２３０Ｄ、ＦＴＸ－２４０Ｄ、ＦＴＸ－２１２Ｐ、ＦＴＸ－２２０Ｐ、ＦＴＸ－２２８Ｐ、ＦＴＸ－２４０Ｇ等のフタージェントシリーズ（（株）ネオス製）等のフッ素系界面活性剤、及びオルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）を挙げることができる。これらの界面活性剤は１種単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【0064】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物が界面活性剤を含む場合、界面活性剤の含有量は、該ポジ型感光性樹脂組成物中の溶剤を除く全固形分１００質量部に対し、０．００１質量部乃至３質量部、好ましくは０．００５質量部乃至１質量部であり、より好ましくは０．０１質量部乃至０．５質量部である。
【0065】
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて硬化助剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、密着助剤等の添加剤をさらに含むことができる。
【0066】
［ポジ型感光性樹脂組成物の調製方法］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物の調製方法は特に限定されないが、例えば、（Ａ）成分乃至（Ｃ）成分及び任意でその他の成分を溶剤に溶解し、均一な溶液とする方法が挙げられる。また、必要に応じて、該溶液を孔径０．１μｍ乃至１０μｍのフィルターを用いてろ過してもよい。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物の調製方法は特に限定されないが、例えば、（Ａ）成分乃至（Ｃ）成分及び任意でその他の成分を溶剤に溶解し、均一な溶液とする方法が挙げられる。また、必要に応じて、該溶液を孔径０．１μｍ乃至１０μｍのフィルターを用いてろ過してもよい。
【0067】
［マイクロレンズの作製方法］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物を用いたマイクロレンズの作製例について説明する。
＜塗布工程＞
基材（例えば、半導体基板、ガラス基板、石英基板、プラスチック基板、シリコンウエハー、及びこれらの表面に各種金属膜又はカラーフィルター等の素子が形成された基板）上に、スピナー又はコーター等の適当な塗布方法により本発明のポジ型感光性樹脂組成物を塗布し、好ましくはその後、オーブン又はホットプレート等の加熱手段を用いてプリベークを行って溶剤を除去することにより樹脂膜を形成する。プリベーク条件は、ベーク温度６０℃乃至１３０℃、ベーク時間２０秒間乃至３０分間の範囲から適宜選択される。形成される樹脂膜の膜厚としては、０．１μｍ乃至１０μｍ、好ましくは０．２μｍ乃至５μｍである。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物を用いたマイクロレンズの作製例について説明する。
＜塗布工程＞
基材（例えば、半導体基板、ガラス基板、石英基板、プラスチック基板、シリコンウエハー、及びこれらの表面に各種金属膜又はカラーフィルター等の素子が形成された基板）上に、スピナー又はコーター等の適当な塗布方法により本発明のポジ型感光性樹脂組成物を塗布し、好ましくはその後、オーブン又はホットプレート等の加熱手段を用いてプリベークを行って溶剤を除去することにより樹脂膜を形成する。プリベーク条件は、ベーク温度６０℃乃至１３０℃、ベーク時間２０秒間乃至３０分間の範囲から適宜選択される。形成される樹脂膜の膜厚としては、０．１μｍ乃至１０μｍ、好ましくは０．２μｍ乃至５μｍである。
【0068】
＜第一露光工程＞
前記塗布工程の後、形成された樹脂膜の少なくとも一部に、所定のマスクを介して露光する。露光する光線としては、例えば、ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザー及びＡｒＦエキシマレーザーを使用することができる。露光量は、２０ｍＪ／ｃｍ２乃至２０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲から適宜選択される。
前記塗布工程の後、形成された樹脂膜の少なくとも一部に、所定のマスクを介して露光する。露光する光線としては、例えば、ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザー及びＡｒＦエキシマレーザーを使用することができる。露光量は、２０ｍＪ／ｃｍ２乃至２０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲から適宜選択される。
【0069】
＜現像工程＞
前記第一露光工程の後、樹脂膜の露光部を現像液により除去し、該樹脂膜の未露光部のパターンを形成する。現像方法は特に限定されないが、例えば、ディップ法、パドル法及びスプレー法が挙げられる。現像条件は、現像温度５℃乃至５０℃、現像時間１０秒乃至３００秒の範囲から適宜選択される。使用する現像液としては、露光部を除去することができる限り特に限定されないが、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、アンモニア、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）、及びテトラエチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＥＡＨ）等のアルカリ水溶液が挙げられる。また、アルカリ水溶液に界面活性剤や有機溶媒を適当量添加したものを現像液として使用してもよい。これらの現像液は１種単独で、又は２種以上を組み合わせて使用してもよい。
前記第一露光工程の後、樹脂膜の露光部を現像液により除去し、該樹脂膜の未露光部のパターンを形成する。現像方法は特に限定されないが、例えば、ディップ法、パドル法及びスプレー法が挙げられる。現像条件は、現像温度５℃乃至５０℃、現像時間１０秒乃至３００秒の範囲から適宜選択される。使用する現像液としては、露光部を除去することができる限り特に限定されないが、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、アンモニア、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）、及びテトラエチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＥＡＨ）等のアルカリ水溶液が挙げられる。また、アルカリ水溶液に界面活性剤や有機溶媒を適当量添加したものを現像液として使用してもよい。これらの現像液は１種単独で、又は２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【0070】
現像後、現像液を洗い流すためにリンス液でリンスしてもよい。現像又はリンスの後、残存した現像液又はリンス液を除去するために、スピナー又はコーター等のスピン可能な装置で回転させることにより、あるいは圧縮空気又は圧縮窒素を吹きかけることにより乾燥させることができる。
【0071】
＜リフロー工程＞
前記現像工程の後に形成されたパターンを、後述する第二露光工程の前に、オーブン又はホットプレート等の加熱手段を用いて加熱するリフロー工程を含んでもよい。リフロー条件は、ベーク温度８０℃乃至１３０℃、ベーク時間１分間乃至９０分間の範囲から適宜選択される。なお、リフロー工程を省略しても球欠形状又は半球形状のマイクロレンズを作製することはできるが、リフロー工程を含むことによって、より低温で球欠形状又は半球形状のマイクロレンズを作製することが可能となる。
前記現像工程の後に形成されたパターンを、後述する第二露光工程の前に、オーブン又はホットプレート等の加熱手段を用いて加熱するリフロー工程を含んでもよい。リフロー条件は、ベーク温度８０℃乃至１３０℃、ベーク時間１分間乃至９０分間の範囲から適宜選択される。なお、リフロー工程を省略しても球欠形状又は半球形状のマイクロレンズを作製することはできるが、リフロー工程を含むことによって、より低温で球欠形状又は半球形状のマイクロレンズを作製することが可能となる。
【0072】
＜第二露光工程＞
前記現像工程の後、又は前記リフロー工程の後、前記パターンをさらに露光する。露光する光線としては、例えば、ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザー及びＡｒＦエキシマレーザーを使用することができる。露光量は、１００ｍＪ／ｃｍ２乃至５０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲から適宜選択される。
前記現像工程の後、又は前記リフロー工程の後、前記パターンをさらに露光する。露光する光線としては、例えば、ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザー及びＡｒＦエキシマレーザーを使用することができる。露光量は、１００ｍＪ／ｃｍ２乃至５０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲から適宜選択される。
【0073】
＜ポストベーク工程＞
前記第二露光工程の後、前記パターンをオーブン又はホットプレート等の加熱手段を用いて加熱する。ポストベーク条件は、ベーク温度８０℃乃至１３０℃、ベーク時間１分間乃至９０分間の範囲から適宜選択される。
前記第二露光工程の後、前記パターンをオーブン又はホットプレート等の加熱手段を用いて加熱する。ポストベーク条件は、ベーク温度８０℃乃至１３０℃、ベーク時間１分間乃至９０分間の範囲から適宜選択される。
【実施例】
【0074】
以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。
【0075】
共重合体のポリスチレン換算重量平均分子量ＭＷの測定に用いた装置及び条件は以下の通りである。
装置：日本分光（株）製ＧＰＣシステム
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ（登録商標）ＫＦ－８０４Ｌ及びＫＦ－８０３Ｌ
カラムオーブン：４０℃
流量：１ｍＬ／分
溶離液：テトラヒドロフラン
試料濃度：１０ｍｇ／ｍＬ
試料注入量：２０μＬ
標準物質：単分散ポリスチレン
検出器：示差屈折計
装置：日本分光（株）製ＧＰＣシステム
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ（登録商標）ＫＦ－８０４Ｌ及びＫＦ－８０３Ｌ
カラムオーブン：４０℃
流量：１ｍＬ／分
溶離液：テトラヒドロフラン
試料濃度：１０ｍｇ／ｍＬ
試料注入量：２０μＬ
標準物質：単分散ポリスチレン
検出器：示差屈折計
【0076】
実施例及び比較例で用いた化合物は以下の通りである。
＜（Ｂ）成分＞
Ｂ－１：４，４’－［１－［４－［１－［４－ヒドロキシフェニル］－１－メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール１モルと１，２－ナフトキノン－２－ジアジド－５－スルホン酸クロリド１．５モルとの縮合物
＜（Ｃ）成分＞
Ｃ－１：アデカアークルズ（登録商標）ＳＰ－６０６（（株）ＡＤＥＫＡ製）
Ｃ－２：ＣＰＩ－１１０Ｐ（サンアプロ（株）製）
＜（Ｄ）成分＞
Ｄ－１：エポリード（登録商標）ＧＴ４０１（（株）ダイセル製）
＜（Ｅ）成分＞
Ｅ－１：２－イソプロピルチオキサントン（東京化成工業（株）製）
＜界面活性剤＞
Ｒ－４０：メガファック（登録商標）Ｒ－４０（ＤＩＣ（株）製）
＜（Ｂ）成分＞
Ｂ－１：４，４’－［１－［４－［１－［４－ヒドロキシフェニル］－１－メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール１モルと１，２－ナフトキノン－２－ジアジド－５－スルホン酸クロリド１．５モルとの縮合物
＜（Ｃ）成分＞
Ｃ－１：アデカアークルズ（登録商標）ＳＰ－６０６（（株）ＡＤＥＫＡ製）
Ｃ－２：ＣＰＩ－１１０Ｐ（サンアプロ（株）製）
＜（Ｄ）成分＞
Ｄ－１：エポリード（登録商標）ＧＴ４０１（（株）ダイセル製）
＜（Ｅ）成分＞
Ｅ－１：２－イソプロピルチオキサントン（東京化成工業（株）製）
＜界面活性剤＞
Ｒ－４０：メガファック（登録商標）Ｒ－４０（ＤＩＣ（株）製）
【0077】
［（Ａ）成分の合成］
＜合成例１＞
フラスコ内に撹拌子と、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル５０ｇを入れ、加温したオイルバスに浸漬して８７℃に保持した。次に、（ａ１）前記式（１）で表されるモノマーとしてＮ－（４－ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド３０ｇ、（ａ２）エポキシ環を含有するモノマーとして３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート（前記式（２－６））６０ｇ、（ａ３）酸解離定数ｐＫａが１４以上であるヒドロキシ基を含有するモノマーとして２－ヒドロキシエチルメタクリレート（前記式（３－５））１０ｇ、熱ラジカル発生剤として２，２’－アゾビスイソブチロニトリル４．５ｇ、及び溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル１９４ｇを混合した溶液を、滴下漏斗に入れて前記フラスコに接続し、窒素置換した後、撹拌しながら３時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに１５時間反応させることで共重合体の溶液（固形分濃度３０質量％）を得た。得られた共重合体のポリスチレン換算重量平均分子量ＭＷは８，０００であった。以下、本明細書では、合成例１で得られた共重合体をＡ－１と表す。
＜合成例１＞
フラスコ内に撹拌子と、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル５０ｇを入れ、加温したオイルバスに浸漬して８７℃に保持した。次に、（ａ１）前記式（１）で表されるモノマーとしてＮ－（４－ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド３０ｇ、（ａ２）エポキシ環を含有するモノマーとして３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート（前記式（２－６））６０ｇ、（ａ３）酸解離定数ｐＫａが１４以上であるヒドロキシ基を含有するモノマーとして２－ヒドロキシエチルメタクリレート（前記式（３－５））１０ｇ、熱ラジカル発生剤として２，２’－アゾビスイソブチロニトリル４．５ｇ、及び溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル１９４ｇを混合した溶液を、滴下漏斗に入れて前記フラスコに接続し、窒素置換した後、撹拌しながら３時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに１５時間反応させることで共重合体の溶液（固形分濃度３０質量％）を得た。得られた共重合体のポリスチレン換算重量平均分子量ＭＷは８，０００であった。以下、本明細書では、合成例１で得られた共重合体をＡ－１と表す。
【0078】
＜合成例２＞
Ｎ－（４－ヒドロキシフェニル）メタクリルアミドを２５ｇ、２－ヒドロキシエチルメタクリレートを１５ｇ、２，２’－アゾビスイソブチロニトリルを４．６ｇ使用する以外は合成例１と同様の方法で、共重合体の溶液（固形分濃度３０質量％）を得た。得られた共重合体のポリスチレン換算重量平均分子量ＭＷは８，０００であった。以下、本明細書では、合成例２で得られた共重合体をＡ－２と表す。
Ｎ－（４－ヒドロキシフェニル）メタクリルアミドを２５ｇ、２－ヒドロキシエチルメタクリレートを１５ｇ、２，２’－アゾビスイソブチロニトリルを４．６ｇ使用する以外は合成例１と同様の方法で、共重合体の溶液（固形分濃度３０質量％）を得た。得られた共重合体のポリスチレン換算重量平均分子量ＭＷは８，０００であった。以下、本明細書では、合成例２で得られた共重合体をＡ－２と表す。
【0079】
＜合成例３＞
Ｎ－（４－ヒドロキシフェニル）メタクリルアミドを２０ｇ、２－ヒドロキシエチルメタクリレートを２０ｇ、２，２’－アゾビスイソブチロニトリルを４．７ｇ使用する以外は合成例１と同様の方法で、共重合体の溶液（固形分濃度３０質量％）を得た。得られた共重合体のポリスチレン換算重量平均分子量ＭＷは８，０００であった。以下、本明細書では、合成例３で得られた共重合体をＡ－３と表す。
Ｎ－（４－ヒドロキシフェニル）メタクリルアミドを２０ｇ、２－ヒドロキシエチルメタクリレートを２０ｇ、２，２’－アゾビスイソブチロニトリルを４．７ｇ使用する以外は合成例１と同様の方法で、共重合体の溶液（固形分濃度３０質量％）を得た。得られた共重合体のポリスチレン換算重量平均分子量ＭＷは８，０００であった。以下、本明細書では、合成例３で得られた共重合体をＡ－３と表す。
【0080】
＜合成例４＞
フラスコ内に撹拌子と、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル５０ｇを入れ、加温したオイルバスに浸漬して８０℃に保持した。次に、モノマーとしてＮ－（４－ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド４０ｇ及び３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート６０ｇ、熱ラジカル発生剤として２，２’－アゾビスイソブチロニトリル４．４ｇ、並びに溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル１９４ｇを混合した溶液を、滴下漏斗に入れて前記フラスコに接続し、窒素置換した後、撹拌しながら３時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに１５時間反応させることで共重合体の溶液（固形分濃度３０質量％）を得た。得られた共重合体のポリスチレン換算重量平均分子量ＭＷは１１，０００であった。以下、本明細書では、合成例４で得られた共重合体をＡ－４と表す。
フラスコ内に撹拌子と、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル５０ｇを入れ、加温したオイルバスに浸漬して８０℃に保持した。次に、モノマーとしてＮ－（４－ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド４０ｇ及び３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート６０ｇ、熱ラジカル発生剤として２，２’－アゾビスイソブチロニトリル４．４ｇ、並びに溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル１９４ｇを混合した溶液を、滴下漏斗に入れて前記フラスコに接続し、窒素置換した後、撹拌しながら３時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに１５時間反応させることで共重合体の溶液（固形分濃度３０質量％）を得た。得られた共重合体のポリスチレン換算重量平均分子量ＭＷは１１，０００であった。以下、本明細書では、合成例４で得られた共重合体をＡ－４と表す。
【0081】
＜合成例５＞
フラスコ内に撹拌子と、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル９０ｇを入れ、加温したオイルバスに浸漬して７０℃に保持した。次に、モノマーとしてアクリル酸１０ｇ、４－ヒドロキシブチルアクリレート３０ｇ及びスチレン６０ｇ、熱ラジカル発生剤として２，２’－アゾビスイソブチロニトリル４．５ｇ、並びに溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル１０５ｇを混合した溶液を、滴下漏斗に入れて前記フラスコに接続し、窒素置換した後、撹拌しながら３時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに１５時間反応させることで、共重合体の溶液（固形分濃度３５質量％）を得た。得られた共重合体のポリスチレン換算重量平均分子量ＭＷは１８，０００であった。以下、本明細書では、合成例５で得られた共重合体をＡ－５と表す。
フラスコ内に撹拌子と、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル９０ｇを入れ、加温したオイルバスに浸漬して７０℃に保持した。次に、モノマーとしてアクリル酸１０ｇ、４－ヒドロキシブチルアクリレート３０ｇ及びスチレン６０ｇ、熱ラジカル発生剤として２，２’－アゾビスイソブチロニトリル４．５ｇ、並びに溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル１０５ｇを混合した溶液を、滴下漏斗に入れて前記フラスコに接続し、窒素置換した後、撹拌しながら３時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに１５時間反応させることで、共重合体の溶液（固形分濃度３５質量％）を得た。得られた共重合体のポリスチレン換算重量平均分子量ＭＷは１８，０００であった。以下、本明細書では、合成例５で得られた共重合体をＡ－５と表す。
【0082】
［ポジ型感光性樹脂組成物の調製］
＜実施例１＞
（Ａ）成分として合成例１で得られた共重合体Ａ－１を７０．０ｇ（固形分として２１．０ｇ）、（Ｂ）成分としてＢ－１を４．８ｇ、（Ｃ）成分としてＣ－１を０．２ｇ、（Ｄ）成分としてＤ－１を６．３ｇ、界面活性剤としてＲ－４０を０．０１ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを６．６ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセタートを２３．８ｇ配合し、均一溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いて濾過し、ポジ型感光性樹脂組成物（固形分濃度２９質量％）を得た。
＜実施例１＞
（Ａ）成分として合成例１で得られた共重合体Ａ－１を７０．０ｇ（固形分として２１．０ｇ）、（Ｂ）成分としてＢ－１を４．８ｇ、（Ｃ）成分としてＣ－１を０．２ｇ、（Ｄ）成分としてＤ－１を６．３ｇ、界面活性剤としてＲ－４０を０．０１ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを６．６ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセタートを２３．８ｇ配合し、均一溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いて濾過し、ポジ型感光性樹脂組成物（固形分濃度２９質量％）を得た。
【0083】
＜実施例２＞
（Ａ）成分として合成例１で得られた共重合体Ａ－１を７０．０ｇ（固形分として２１．０ｇ）、（Ｂ）成分としてＢ－１を４．８ｇ、（Ｃ）成分としてＣ－２を０．３ｇ、（Ｄ）成分としてＤ－１を６．３ｇ、界面活性剤としてＲ－４０を０．０１ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを６．８ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセタートを２３．９ｇ配合し、均一溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いて濾過し、ポジ型感光性樹脂組成物（固形分濃度２９質量％）を得た。
（Ａ）成分として合成例１で得られた共重合体Ａ－１を７０．０ｇ（固形分として２１．０ｇ）、（Ｂ）成分としてＢ－１を４．８ｇ、（Ｃ）成分としてＣ－２を０．３ｇ、（Ｄ）成分としてＤ－１を６．３ｇ、界面活性剤としてＲ－４０を０．０１ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを６．８ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセタートを２３．９ｇ配合し、均一溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いて濾過し、ポジ型感光性樹脂組成物（固形分濃度２９質量％）を得た。
【0084】
＜実施例３＞
（Ａ）成分として合成例２で得られた共重合体Ａ－２を７０．０ｇ（固形分として２１．０ｇ）、（Ｂ）成分としてＢ－１を４．８ｇ、（Ｃ）成分としてＣ－１を０．２ｇ、（Ｄ）成分としてＤ－１をを６．３ｇ、界面活性剤としてＲ－４０を０．０１ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを６．６ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセタートを２３．８ｇ配合し、均一溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いて濾過し、ポジ型感光性樹脂組成物（固形分濃度２９質量％）を得た。
（Ａ）成分として合成例２で得られた共重合体Ａ－２を７０．０ｇ（固形分として２１．０ｇ）、（Ｂ）成分としてＢ－１を４．８ｇ、（Ｃ）成分としてＣ－１を０．２ｇ、（Ｄ）成分としてＤ－１をを６．３ｇ、界面活性剤としてＲ－４０を０．０１ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを６．６ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセタートを２３．８ｇ配合し、均一溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いて濾過し、ポジ型感光性樹脂組成物（固形分濃度２９質量％）を得た。
【0085】
＜実施例４＞
（Ａ）成分として合成例３で得られた共重合体Ａ－３を７０．０ｇ（固形分として２１．０ｇ）、（Ｂ）成分としてＢ－１を４．８ｇ、（Ｃ）成分としてＣ－１を０．２ｇ、（Ｄ）成分としてＤ－１を６．３ｇ、界面活性剤としてＲ－４０を０．０１ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを３０．２ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセタートを７９．２ｇ配合し、均一溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いて濾過し、ポジ型感光性樹脂組成物（固形分濃度１７質量％）を得た。
（Ａ）成分として合成例３で得られた共重合体Ａ－３を７０．０ｇ（固形分として２１．０ｇ）、（Ｂ）成分としてＢ－１を４．８ｇ、（Ｃ）成分としてＣ－１を０．２ｇ、（Ｄ）成分としてＤ－１を６．３ｇ、界面活性剤としてＲ－４０を０．０１ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを３０．２ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセタートを７９．２ｇ配合し、均一溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いて濾過し、ポジ型感光性樹脂組成物（固形分濃度１７質量％）を得た。
【0086】
＜実施例５＞
（Ａ）成分として合成例３で得られた共重合体Ａ－３を７０．０ｇ（固形分として２１．０ｇ）、（Ｂ）成分としてＢ－１を４．８ｇ、（Ｃ）成分としてＣ－１を０．２ｇ、界面活性剤としてＲ－４０を０．０１ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを２５．１ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセタートを７４．１ｇ配合し、均一溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いて濾過し、ポジ型感光性樹脂組成物（固形分濃度１５質量％）を得た。
（Ａ）成分として合成例３で得られた共重合体Ａ－３を７０．０ｇ（固形分として２１．０ｇ）、（Ｂ）成分としてＢ－１を４．８ｇ、（Ｃ）成分としてＣ－１を０．２ｇ、界面活性剤としてＲ－４０を０．０１ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを２５．１ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセタートを７４．１ｇ配合し、均一溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いて濾過し、ポジ型感光性樹脂組成物（固形分濃度１５質量％）を得た。
【0087】
＜実施例６＞
（Ａ）成分として合成例３で得られた共重合体Ａ－３を８４．０ｇ（固形分として２５．２ｇ）、（Ｂ）成分としてＢ－１を５．８ｇ、（Ｃ）成分としてＣ－１を０．２ｇ、（Ｄ）成分としてＤ－１を７．６ｇ、（Ｅ）成分としてＥ－１を０．０５ｇ、界面活性剤としてＲ－４０を０．０１ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを３６．２ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセタートを９５．０ｇ配合し、均一溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いて濾過し、ポジ型感光性樹脂組成物（固形分濃度１７質量％）を得た。
（Ａ）成分として合成例３で得られた共重合体Ａ－３を８４．０ｇ（固形分として２５．２ｇ）、（Ｂ）成分としてＢ－１を５．８ｇ、（Ｃ）成分としてＣ－１を０．２ｇ、（Ｄ）成分としてＤ－１を７．６ｇ、（Ｅ）成分としてＥ－１を０．０５ｇ、界面活性剤としてＲ－４０を０．０１ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを３６．２ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセタートを９５．０ｇ配合し、均一溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いて濾過し、ポジ型感光性樹脂組成物（固形分濃度１７質量％）を得た。
【0088】
＜比較例１＞
（Ａ）成分に該当しない合成例４で得られた共重合体Ａ－４を７０．０ｇ（固形分として２１．０ｇ）、（Ｂ）成分としてＢ－１を４．８ｇ、（Ｃ）成分としてＣ－１を０．２ｇ、（Ｄ）成分としてＤ－１を６．３ｇ、界面活性剤としてＲ－４０を０．０１ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを９．４ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセタートを２５．０ｇ配合し、均一溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いて濾過し、ポジ型感光性樹脂組成物（固形分濃度２８質量％）を得た。
（Ａ）成分に該当しない合成例４で得られた共重合体Ａ－４を７０．０ｇ（固形分として２１．０ｇ）、（Ｂ）成分としてＢ－１を４．８ｇ、（Ｃ）成分としてＣ－１を０．２ｇ、（Ｄ）成分としてＤ－１を６．３ｇ、界面活性剤としてＲ－４０を０．０１ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを９．４ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセタートを２５．０ｇ配合し、均一溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いて濾過し、ポジ型感光性樹脂組成物（固形分濃度２８質量％）を得た。
【0089】
＜比較例２＞
（Ａ）成分に該当しない合成例５で得られた共重合体Ａ－５を６０．０ｇ（固形分として２１．０ｇ）、（Ｂ）成分としてＢ－１を４．８ｇ、（Ｃ）成分としてＣ－１を０．２ｇ、（Ｄ）成分としてＤ－１を１０．５ｇ、界面活性剤としてＲ－４０を０．０１ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを３．８ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセタートを３５．１ｇ配合し、均一溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いて濾過し、ポジ型感光性樹脂組成物（固形分濃度３２質量％）を得た。
（Ａ）成分に該当しない合成例５で得られた共重合体Ａ－５を６０．０ｇ（固形分として２１．０ｇ）、（Ｂ）成分としてＢ－１を４．８ｇ、（Ｃ）成分としてＣ－１を０．２ｇ、（Ｄ）成分としてＤ－１を１０．５ｇ、界面活性剤としてＲ－４０を０．０１ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを３．８ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセタートを３５．１ｇ配合し、均一溶液とした。その後、孔径０．１０μｍのポリエチレン製ミクロフィルターを用いて濾過し、ポジ型感光性樹脂組成物（固形分濃度３２質量％）を得た。
【0090】
実施例１乃至実施例６のポジ型感光性樹脂組成物に含まれる各成分、及び（Ａ）成分１００質量部に対する（Ｂ）成分乃至（Ｅ）成分の含有量を、表１に表す。
【表1】
【0091】
［パターニング性評価］
実施例１乃至実施例６並びに比較例１及び比較例２で調製したポジ型感光性樹脂組成物を、それぞれシリコンウエハー上にスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレート上で８０℃、９０秒間プリベークを行い、表２に記載の膜厚を有する樹脂膜を形成した。次に、該樹脂膜に対して、ｉ線ステッパー（ＮＳＲ－２２０５ｉ１２Ｄ、ＮＡ＝０．６３、（株）ニコン製）を用い、所定のマスクを介して表２に記載の露光量で第一露光を行った。ここで、該マスクとしては、膜厚４μｍの樹脂膜（実施例１乃至実施例３並びに比較例１及び比較例２）については４μｍ×４μｍの正方形ドットパターン／４μｍスペースを形成するマスクを、膜厚１μｍの樹脂膜（実施例４乃至実施例６）については１μｍ×１μｍの正方形ドットパターン／１μｍスペースを形成するマスクを用いた。その後、前記第一露光から１０分以内に２．３８質量％濃度の水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）水溶液を用いて現像を行い、膜厚４μｍの樹脂膜については４μｍ×４μｍの正方形ドットパターンを、膜厚１μｍの樹脂膜については１μｍ×１μｍの正方形ドットパターンを形成した。形成された正方形ドットパターンを、走査型電子顕微鏡を用いて５０００倍の倍率にて観察し、隣り合う正方形ドットパターン間のスペース部分に、前記樹脂膜の残渣が明確に視認できる場合はパターニング性“×”、前記樹脂膜の残渣が視認できない場合はパターニング性“○”と評価した。評価結果を表２に示す。
実施例１乃至実施例６並びに比較例１及び比較例２で調製したポジ型感光性樹脂組成物を、それぞれシリコンウエハー上にスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレート上で８０℃、９０秒間プリベークを行い、表２に記載の膜厚を有する樹脂膜を形成した。次に、該樹脂膜に対して、ｉ線ステッパー（ＮＳＲ－２２０５ｉ１２Ｄ、ＮＡ＝０．６３、（株）ニコン製）を用い、所定のマスクを介して表２に記載の露光量で第一露光を行った。ここで、該マスクとしては、膜厚４μｍの樹脂膜（実施例１乃至実施例３並びに比較例１及び比較例２）については４μｍ×４μｍの正方形ドットパターン／４μｍスペースを形成するマスクを、膜厚１μｍの樹脂膜（実施例４乃至実施例６）については１μｍ×１μｍの正方形ドットパターン／１μｍスペースを形成するマスクを用いた。その後、前記第一露光から１０分以内に２．３８質量％濃度の水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）水溶液を用いて現像を行い、膜厚４μｍの樹脂膜については４μｍ×４μｍの正方形ドットパターンを、膜厚１μｍの樹脂膜については１μｍ×１μｍの正方形ドットパターンを形成した。形成された正方形ドットパターンを、走査型電子顕微鏡を用いて５０００倍の倍率にて観察し、隣り合う正方形ドットパターン間のスペース部分に、前記樹脂膜の残渣が明確に視認できる場合はパターニング性“×”、前記樹脂膜の残渣が視認できない場合はパターニング性“○”と評価した。評価結果を表２に示す。
【0092】
【表2】
【0093】
［レンズ形状評価］
実施例１乃至実施例６並びに比較例１及び比較例２で調製したポジ型感光性樹脂組成物を用い、前記［パターニング性評価］に記載した手順により、膜厚４μｍの樹脂膜については４μｍ×４μｍの正方形ドットパターンを、膜厚１μｍの樹脂膜については１μｍ×１μｍの正方形ドットパターンを、シリコンウエハー上に形成した。続いて、前記正方形ドットパターンに対し、ホットプレート上で表２に記載のリフロー温度にて５分間ベークを行った。さらに、前記ｉ線ステッパーを用い、前記正方形ドットパターン全面に対して５００ｍＪ／ｃｍ２にて第二露光を行った後、ホットプレート上で表２に記載のポストベーク温度にて１０分間ベークを行うことで、マイクロレンズを作製した。さらに、実施例４で調製したポジ型感光性樹脂組成物を用いて形成した１μｍ×１μｍの正方形ドットパターン全面に対し、リフロー温度でベークを行わずに（表２においてリフロー温度を“無し”と表示）、前記ｉ線ステッパーを用い、５００ｍＪ／ｃｍ２にて第二露光を行った後、ホットプレート上で表２に記載のポストベーク温度にて１０分間ベークを行うことで、マイクロレンズを作製した。作製したマイクロレンズの形状が、四角柱又は四角錐台であるものを“□”、球欠形状又は半球形状であるものを“〇”と評価した。評価結果を表２に示す。
実施例１乃至実施例６並びに比較例１及び比較例２で調製したポジ型感光性樹脂組成物を用い、前記［パターニング性評価］に記載した手順により、膜厚４μｍの樹脂膜については４μｍ×４μｍの正方形ドットパターンを、膜厚１μｍの樹脂膜については１μｍ×１μｍの正方形ドットパターンを、シリコンウエハー上に形成した。続いて、前記正方形ドットパターンに対し、ホットプレート上で表２に記載のリフロー温度にて５分間ベークを行った。さらに、前記ｉ線ステッパーを用い、前記正方形ドットパターン全面に対して５００ｍＪ／ｃｍ２にて第二露光を行った後、ホットプレート上で表２に記載のポストベーク温度にて１０分間ベークを行うことで、マイクロレンズを作製した。さらに、実施例４で調製したポジ型感光性樹脂組成物を用いて形成した１μｍ×１μｍの正方形ドットパターン全面に対し、リフロー温度でベークを行わずに（表２においてリフロー温度を“無し”と表示）、前記ｉ線ステッパーを用い、５００ｍＪ／ｃｍ２にて第二露光を行った後、ホットプレート上で表２に記載のポストベーク温度にて１０分間ベークを行うことで、マイクロレンズを作製した。作製したマイクロレンズの形状が、四角柱又は四角錐台であるものを“□”、球欠形状又は半球形状であるものを“〇”と評価した。評価結果を表２に示す。
【0094】
［薬品耐性評価］
実施例１乃至実施例６並びに比較例１及び比較例２で調製したポジ型感光性樹脂組成物を、それぞれシリコンウエハー上にスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレート上で８０℃、９０秒間プリベークを行い、表２に記載の膜厚を有する樹脂膜を形成した。次に、該樹脂膜の全面に対して、前記ｉ線ステッパーを用いて５００ｍＪ／ｃｍ２にて露光した後、ホットプレート上で表２に記載のポストベーク温度にて１０分間ベークを行うことで、硬化膜を形成した。硬化膜が形成されたシリコンウエハーを、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート、シクロヘキサノン及び２．３８質量％濃度の水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）水溶液それぞれに、２３℃にて５分間浸漬した。浸漬前及び浸漬後の前記硬化膜の膜厚測定を行い、浸漬前後での膜厚変化を算出した。前記浸漬に使用した溶剤のうち、一つでも浸漬前の膜厚に対して１０％以上の膜厚増減がある場合は薬品耐性“×”、全ての溶剤について膜厚増減が１０％未満である場合は薬品耐性“○”と評価した。評価結果を表２に示す。
実施例１乃至実施例６並びに比較例１及び比較例２で調製したポジ型感光性樹脂組成物を、それぞれシリコンウエハー上にスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレート上で８０℃、９０秒間プリベークを行い、表２に記載の膜厚を有する樹脂膜を形成した。次に、該樹脂膜の全面に対して、前記ｉ線ステッパーを用いて５００ｍＪ／ｃｍ２にて露光した後、ホットプレート上で表２に記載のポストベーク温度にて１０分間ベークを行うことで、硬化膜を形成した。硬化膜が形成されたシリコンウエハーを、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート、シクロヘキサノン及び２．３８質量％濃度の水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）水溶液それぞれに、２３℃にて５分間浸漬した。浸漬前及び浸漬後の前記硬化膜の膜厚測定を行い、浸漬前後での膜厚変化を算出した。前記浸漬に使用した溶剤のうち、一つでも浸漬前の膜厚に対して１０％以上の膜厚増減がある場合は薬品耐性“×”、全ての溶剤について膜厚増減が１０％未満である場合は薬品耐性“○”と評価した。評価結果を表２に示す。
【0095】
［透明性評価］
実施例１乃至実施例６並びに比較例１及び比較例２で調製したポジ型感光性樹脂組成物を、それぞれ石英基板上にスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレート上で８０℃、９０秒間プリベークを行い、表２に記載の膜厚を有する樹脂膜を形成した。次に、該樹脂膜の全面に対して、前記ｉ線ステッパーを用いて５００ｍＪ／ｃｍ２にて露光した後、ホットプレート上で表２に記載のポストベーク温度にて１０分間ベークを行うことで、硬化膜を形成した。硬化膜が形成された石英基板を、紫外可視分光光度計ＵＶ－２５５０（（株）島津製作所製）を用いて、波長４００ｎｍにおける透過率を測定した。波長４００ｎｍにおける透過率が９０％未満である場合は透明性“×”、９０％以上である場合は透明性“○”と評価した。評価結果を表２に示す。
実施例１乃至実施例６並びに比較例１及び比較例２で調製したポジ型感光性樹脂組成物を、それぞれ石英基板上にスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレート上で８０℃、９０秒間プリベークを行い、表２に記載の膜厚を有する樹脂膜を形成した。次に、該樹脂膜の全面に対して、前記ｉ線ステッパーを用いて５００ｍＪ／ｃｍ２にて露光した後、ホットプレート上で表２に記載のポストベーク温度にて１０分間ベークを行うことで、硬化膜を形成した。硬化膜が形成された石英基板を、紫外可視分光光度計ＵＶ－２５５０（（株）島津製作所製）を用いて、波長４００ｎｍにおける透過率を測定した。波長４００ｎｍにおける透過率が９０％未満である場合は透明性“×”、９０％以上である場合は透明性“○”と評価した。評価結果を表２に示す。
【0096】
［長期信頼性評価］
＜ＨＴＳ試験＞
実施例１乃至実施例６で調製したポジ型感光性樹脂組成物を用い、前記［透明性評価］に記載した手順により硬化膜を石英基板上に形成した。硬化膜が形成された石英基板を、オーブン内で１００℃、１，０００時間加熱した後、前記紫外可視分光光度計を用いて、波長４００ｎｍにおける透過率を測定した。１，０００時間加熱前の波長４００ｎｍにおける透過率に対して、５％以上の透過率増減がある場合は“×”、透過率増減が５％未満である場合は“○”と評価した。評価結果を表２に示す。
＜ＨＴＳ試験＞
実施例１乃至実施例６で調製したポジ型感光性樹脂組成物を用い、前記［透明性評価］に記載した手順により硬化膜を石英基板上に形成した。硬化膜が形成された石英基板を、オーブン内で１００℃、１，０００時間加熱した後、前記紫外可視分光光度計を用いて、波長４００ｎｍにおける透過率を測定した。１，０００時間加熱前の波長４００ｎｍにおける透過率に対して、５％以上の透過率増減がある場合は“×”、透過率増減が５％未満である場合は“○”と評価した。評価結果を表２に示す。
【0097】
＜ＴＨＳ試験＞
実施例１乃至実施例６で調製したポジ型感光性樹脂組成物を用い、前記［透明性評価］に記載した手順により、硬化膜を石英基板上に形成した。硬化膜が形成された石英基板を、内部が８５℃及び相対湿度８５％に保持された恒温恒湿槽内で１，０００時間保管した後、前記紫外可視分光光度計を用いて、波長４００ｎｍにおける透過率を測定した。１，０００時間保管前の波長４００ｎｍにおける透過率に対して、５％以上の透過率増減がある場合は“×”、透過率増減が５％未満である場合は“○”と評価した。評価結果を表２に示す。
実施例１乃至実施例６で調製したポジ型感光性樹脂組成物を用い、前記［透明性評価］に記載した手順により、硬化膜を石英基板上に形成した。硬化膜が形成された石英基板を、内部が８５℃及び相対湿度８５％に保持された恒温恒湿槽内で１，０００時間保管した後、前記紫外可視分光光度計を用いて、波長４００ｎｍにおける透過率を測定した。１，０００時間保管前の波長４００ｎｍにおける透過率に対して、５％以上の透過率増減がある場合は“×”、透過率増減が５％未満である場合は“○”と評価した。評価結果を表２に示す。
【0098】
＜キセノンアーク試験＞
実施例１乃至実施例６で調製したポジ型感光性樹脂組成物を用い、前記［透明性評価］に記載した手順により硬化膜を石英基板上に形成した。硬化膜が形成された石英基板にカットフィルター（Ｌ３８、（株）渋谷光学製）を装着し、キセノンアーク試験機（Ｑ－ＳＵＮＸｅ－１、Ｑ－Ｌａｂ社製）内で２５００万［ｌｘ・ｈ］露光した後、前記紫外可視分光光度計を用いて、波長４００ｎｍにおける透過率を測定した。前記キセノンアーク試験機による露光前の波長４００ｎｍにおける透過率に対して、５％以上の透過率増減がある場合は“×”、透過率増減が５％未満である場合は“○”と評価した。
実施例１乃至実施例６で調製したポジ型感光性樹脂組成物を用い、前記［透明性評価］に記載した手順により硬化膜を石英基板上に形成した。硬化膜が形成された石英基板にカットフィルター（Ｌ３８、（株）渋谷光学製）を装着し、キセノンアーク試験機（Ｑ－ＳＵＮＸｅ－１、Ｑ－Ｌａｂ社製）内で２５００万［ｌｘ・ｈ］露光した後、前記紫外可視分光光度計を用いて、波長４００ｎｍにおける透過率を測定した。前記キセノンアーク試験機による露光前の波長４００ｎｍにおける透過率に対して、５％以上の透過率増減がある場合は“×”、透過率増減が５％未満である場合は“○”と評価した。
【0099】
表２の結果から、本発明のポジ型感光性樹脂組成物を用いることで、残渣無くポジ型パターニングが可能で、１３０℃以下の低温プロセスであっても球欠形状又は半球形状のマイクロレンズを形成することができ、それらマイクロレンズは優れた透明性、薬品耐性及び長期信頼性を有することが示された。