特許7759543高Ｋ金属ゲート（ＨＫＭＧ）膜スタックの選択的成膜を介した閾値電圧の調整方法

発明の名称　高Ｋ金属ゲート（ＨＫＭＧ）膜スタックの選択的成膜を介した閾値電圧の調整方法

出願人　東京エレクトロン株式会社　（識別番号 219967）

　　　　特許公開件数ランキング 30 位（239件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 25 位（244件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-7759543

公報発行日　2025年10月24

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7759543

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