特許7763312基板処理方法及びプラズマ処理装置

発明の名称　基板処理方法及びプラズマ処理装置

出願人　東京エレクトロン株式会社　（識別番号 219967）

　　　　特許公開件数ランキング 34 位（612件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 21 位（808件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-7763312

公報発行日　2025年10月31

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7763312

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