発明の名称 高抵抗シリコンウェーハの厚さ測定方法及び平坦度測定方法
出願人 グローバルウェーハズ・ジャパン株式会社 (識別番号 312007423)
特許公開件数ランキング 300 位(0件)(共同出願を含む)
特許取得件数ランキング 481 位(0件)(共同出願を含む)
公報番号 特許-7764239
公報発行日 2025年11月5
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7764239
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