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グローバルウェーハズ・ジャパン株式会社
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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第1189位 15件
（
2025年：第2022位 10件）
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第1434位 10件
（2025年：第1750位 10件）
（ランキング更新日：2026年10月13日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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グローバルウェーハズ・ジャパン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7918702 | デバイスパターンの除去方法、及びこの方法を用いたシリコンウェーハの結晶欠陥評価方法 | 2026年 9月10日 | |
| 特許 7912952 | 単結晶引上方法 | 2026年 8月31日 | |
| 特許 7902718 | シリコン単結晶の製造方法 | 2026年 8月10日 | |
| 特許 7883433 | シリコンウェーハの製造方法 | 2026年 7月 1日 | |
| 特許 7876972 | シリコン単結晶の製造方法 | 2026年 6月22日 | |
| 特許 7847419 | シリコンウェーハ用サセプタの前処理方法およびシリコンウェーハの熱処理方法 | 2026年 4月17日 | |
| 特許 7812739 | シリコンウェーハの研磨方法 | 2026年 2月10日 | |
| 特許 7812740 | シリコンウェーハの研磨方法 | 2026年 2月10日 | |
| 特許 7809022 | 半導体ウェーハの不純物測定方法及び不純物測定用治具 | 2026年 1月30日 | |
| 特許 7801886 | シリコンウェーハ表面の結晶欠陥検出方法 | 2026年 1月19日 |
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7918702 7912952 7902718 7883433 7876972 7847419 7812739 7812740 7809022 7801886
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