特許7777943レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤、酸拡散制御剤、及び高分子化合物

発明の名称　レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤、酸拡散制御剤、及び高分子化合物

出願人　東京応化工業株式会社　（識別番号 220239）

　　　　特許公開件数ランキング 238 位（136件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 358 位（73件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-7777943

公報発行日　2025年12月1

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7777943

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