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特許 7790831出願番号 特願 2022-34478
基板加熱装置及び基板処理装置
出願人 東京エレクトロン株式会社（識別番号 219967）
2026年 特許公開件数ランキング 32位 441件（※）
2026年 特許取得件数ランキング 29位 436件（※）
公報発行日 2025年12月23
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7790831 ログイン済みの方はこのURLへ
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※ 共同出願を含む
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技術分野
基板加熱装置及び基板処理装置
発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
一の側面では、加熱に要する消費電力を抑制し、温度制御性を向上する基板加熱装置及び基板処理装置を提供する。
課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
課題を解決するために、一の態様によれば、誘導加熱コイルと、基板を載置して保持する基板保持部を有し、前記誘導加熱コイルによって誘導加熱される保持トレイと、前記保持トレイを支持し、回転自在に設けられる回転テーブルと、備え、前記回転テーブルは、前記回転テーブルと前記保持トレイとの熱伝導を抑制する熱伝導抑制部を介して、前記保持トレイを支持する、基板加熱装置が提供される。
発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋
一の側面によれば、加熱に要する消費電力を抑制し、温度制御性を向上する基板加熱装置及び基板処理装置を提供することができる。
この特許の権利範囲[特許請求の範囲]
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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
【図1】
基板処理装置の一例を示す断面模式図。
【図2】
チャンバ内の構造を説明するための図。
【図3】
制御部のハードウエア構成の一例を示す図。
【図4】
回転テーブルの収容部及び支持トレイの構造を説明する断面図の一例。
【図5】
回転テーブルの収容部及び支持トレイの構造を説明する断面図の他の一例。
代表図 図1本件の代表的な図
１ チャンバ
２ 回転テーブル
７ 誘導加熱コイル
２４ 収容部
２５ 保持トレイ
２６ 凹部（基板保持部）
２０５ 係止部
２５０ 磁性体部材
２５１ 絶縁体部材
２５２ 磁性体部材
２５５ フランジ部
Ｗ ウエハ
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