特許7792995半導体ＲＦプラズマ処理のためのパルス内のＲＦパルス

発明の名称　半導体ＲＦプラズマ処理のためのパルス内のＲＦパルス

出願人　ラム　リサーチ　コーポレーション　（識別番号 592010081）

　　　　特許公開件数ランキング 178 位（8件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 222 位（6件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-7792995

公報発行日　2025年12月26

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7792995

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