特許7823536分子レジスト組成物及びパターン形成方法

発明の名称　分子レジスト組成物及びパターン形成方法

出願人　信越化学工業株式会社　（識別番号 2060）

　　　　特許公開件数ランキング 37 位（123件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 66 位（78件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-7823536

公報発行日　2026年3月4

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7823536

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