特許7853596IP Force 特許公報全文掲載

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発光装置および発光装置の製造方法

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

上面の光沢が低減された発光装置および発光装置の製造方法を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本開示の発光装置の製造方法は、 発光素子と、前記発光素子が配置される上面を備える基体と、を含む発光装置中間体を準備する発光装置中間体準備工程と、 底面と側面とで規定される凹部を有する成形型であって、前記底面は第１底面と、前記第１底面の周囲に配置される第２底面と、を含む成形型を準備する成形型準備工程と、 前記凹部内に、第１光学部材と、粒状体を含む第２光学部材と、を含む光学部材を配置・・・　続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本開示によれば、上面の光沢が低減された発光装置および発光装置の製造方法を提供することができる。

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1A】 第１発光装置の模式上面図である。
【図1B】 図１ＡのＩＢ-ＩＢ線における模式断面図である。
【図2】 第１発光装置の製造方法のフローチャートである。
【図3A】 第１発光装置の製造方法の模式工程断面図である。
【図3B】 第１発光装置の製造方法の模式工程断面図である。
【図4A】 第１発光装置の製造方法の模式工程上面図である。
【図4B】 第１発光装置の製造方法の模式工程断面図である。
【図5】 第１発光装置の製造方法の模式工程断面図である。
【図6】 第１発光装置の製造方法の模式工程断面図である。
【図7】 第１発光装置の製造方法の模式工程断面図である。
【図8】 第１発光装置の製造方法の模式工程断面図である。
【図9】 第１発光装置の製造方法の模式工程断面図である。
【図10A】 第１発光装置の製造方法の模式工程断面図である。
【図10B】 第１発光装置の製造方法の変形例の模式工程断面図である。
【図10C】 第１発光装置の製造方法の変形例の模式工程断面図である。
【図11】 第２発光装置の模式断面図である。
【図12】 第２発光装置の製造方法のフローチャートである。
【図13】 第２発光装置の製造方法の模式工程断面図である。
【図14】 第２発光装置の製造方法の模式工程断面図である。
【図15】 第２発光装置の製造方法の模式工程断面図である。
【図16】 第２発光装置の製造方法の模式工程断面図である。
【図17】 第３発光装置の模式断面図である。
【図18】 他の発光装置の模式断面図である。
【図19】 他の発光装置の模式断面図である。
【図20】 他の発光装置の模式断面図である。
【図21】 他の発光装置の模式断面図である。
【図22A】 変形例の一部を拡大した模式斜視図である。
【図22B】 変形例の一部を拡大した模式断面図である。
１、２、３、４、５、６、７，８ 発光装置 １ａ、１ｂ 発光装置中間体 １０ 発光素子 １１ 第１発光素子 １２ 第２発光素子 １３ 第３発光素子 ２０ 基体 ２１ 基体の上面 ２２ 基体の下面 ２３ 導電部材（リード電極） ２４ 透光性部材 ２５ 基材 ２６ 壁部 ２７ 凹部 ３０ 光学部材 ３１ 第１光学部材 ３２ 第２光学部材 ３３ 第３光学部材 ３０ｐ 粒状体 ３０ｑ カーボン粒子 ３０ｃ カーボン部材 ３０ｍ 母材 Ｐ 光学部材の上面 Ｐ１ 光学部材の上面の第１面 Ｐ２ 光学部材の上面の第２面 ４０ ワイヤ Ｍ 成形型 Ｂ 底面 Ｂ１ 第１底面 Ｂ２ 第２底面 Ｂ３ 第３底面 Ｓ 側面 Ｃ 凹部 Ｚ１ 第１マスク Ｚ２ 第２マスク Ｚ３ 第３マスク Ａ 開口部

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