特許7858774基板処理装置、ガスノズル、半導体装置の製造方法、基板処理方法及びプログラム

発明の名称　基板処理装置、ガスノズル、半導体装置の製造方法、基板処理方法及びプログラム

出願人　株式会社ＫＯＫＵＳＡＩ　ＥＬＥＣＴＲＩＣ　（識別番号 318009126）

　　　　特許公開件数ランキング 383 位（31件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 436 位（22件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-7858774

公報発行日　2026年5月14

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7858774

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