特許7893584IP Force 特許公報全文掲載

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技術分野

発光部材及びその製造方法、光学部材、発光装置

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

光出射面から出射される光の色ムラ及び／又は輝度ムラの低減を目的とする。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本開示の一発光部材は、第１面を有し、光が出射される発光部と、前記第１面に形成される膜と、を有し、前記膜は、前記膜と前記発光部との屈折率差が０．３以上であり、粒子状の物質を含み、かつ、膜厚が１０ｎｍ以上７０ｎｍ以下である。

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本開示の一実施形態によれば、光出射面から出射される光の色ムラ及び／又は輝度ムラを低減できる。

この特許の権利範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 第１発光部材を例示する斜視図である。
【図2】 第１発光部材を例示する、図１のII－II線における断面図である。
【図3】 第１発光部材の製造方法を例示する図（その１）である。
【図4】 第１発光部材の製造方法を例示する図（その２）である。
【図5】 加熱前のニオブ酸化物の膜のＳＥＭ写真である。
【図6】 大気圧下で８００℃１ｈ加熱後のニオブ酸化物の膜のＳＥＭ写真である。
【図7】 大気圧下で８５０℃１ｈ加熱後のニオブ酸化物の膜のＳＥＭ写真である。
【図8】 大気圧下で９００℃１ｈ加熱後のニオブ酸化物の膜のＳＥＭ写真である。
【図9】 大気圧下で９５０℃１ｈ加熱後のニオブ酸化物の膜のＳＥＭ写真である。
【図10】 大気圧下で１０００℃１ｈ加熱後のニオブ酸化物の膜のＳＥＭ写真である。
【図11】 大気圧下で９５０℃１ｈ加熱後の膜厚５［ｎｍ］のニオブ酸化物の膜のＳＥＭ写真である。
【図12】 大気圧下で９５０℃１ｈ加熱後の膜厚１０［ｎｍ］のニオブ酸化物の膜のＳＥＭ写真である。
【図13】 大気圧下で９５０℃１ｈ加熱後の膜厚３０［ｎｍ］のニオブ酸化物の膜のＳＥＭ写真である。
【図14】 大気圧下で９５０℃１ｈ加熱後の膜厚５０［ｎｍ］のニオブ酸化物の膜のＳＥＭ写真である。
【図15】 大気圧下で９５０℃１ｈ加熱後の膜厚７０［ｎｍ］のニオブ酸化物の膜のＳＥＭ写真である。
【図16】 大気圧下で９５０℃１ｈ加熱後の膜厚１００［ｎｍ］のニオブ酸化物の膜のＳＥＭ写真である。
【図17】 膜厚１０［ｎｍ］のニオブ酸化物の膜の加熱前後での直線透過率の変化を例示する図である。
【図18】 膜厚３０［ｎｍ］のニオブ酸化物の膜の加熱前後での直線透過率の変化を例示する図である。
【図19】 膜厚５０［ｎｍ］のニオブ酸化物の膜の加熱前後での直線透過率の変化を例示する図である。
【図20】 膜厚７０［ｎｍ］のニオブ酸化物の膜の加熱前後での直線透過率の変化を例示する図である。
【図21】 発光部材に入力されるレーザ光の出力と発光効率との関係を例示する図である。
【図22】 第２光学部材を例示する斜視図である。
【図23】 第２光学部材を例示する、図２２のXXIII－XXIII線における断面図である。
【図24】 第３発光装置を例示する斜視図である。
【図25】 第３発光装置を例示する、図２４のXXV－XXV線における断面図である。
【図26】 第３発光装置から更に光学部材を除いた状態の斜視図である。
【図27】 第３発光装置から更に光学部材を除いた状態の平面図である。

代表図 図1本件の代表的な図

１０ 発光部材 １１ 発光部 １１ａ、１２ａ、２１ａ、２１０ａ 上面 １１ｂ、１２ｂ、２１ｂ、２１０ｂ 下面 １１ｃ、２１ｃ 側面 １２ 光反射部 １２ｃ、２１０ｃ 内側面 １２ｄ、２１０ｄ 外側面 １３ 複合部材 １５ 膜 ２０ 光学部材 ２１ 板状部材 ２００ 発光装置 ２１０ 基部 ２１６ 段差部 ２２０ 発光素子 ２３０ サブマウント ２４０ 光反射部材 ２４１ 光反射面 ２５０ 保護素子 ２６０ 温度測定素子 ２７０ 配線 ２８０ 遮光部材

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