特許7904451IP Force 特許公報全文掲載

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発光装置及びその製造方法

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

量子ドットは、時間の経過により酸素や水分に晒されて劣化し、波長変換性能が低下する問題があった。本開示の目的の一は、量子ドットの劣化を抑制した発光装置及びその製造方法を提供することにある。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の一発光装置の製造方法は、発光素子と、前記発光素子の発する光を波長変換する量子ドットと、を備える発光装置の製造方法であって、基体と、前記基体に配置された発光素子と、を準備する工程と、前記発光素子を囲み、内側面及び上面を有する光反射部を形成する工程と、前記発光素子の表面と、前記光反射部の内側面及び上面と、を連続的に覆う、第一バリア層を形成する工程と、前記光反射部の内側面で囲・・・　続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の一発光装置及びその製造方法によれば、量子ドットの劣化を抑制した発光装置及びその製造方法を提供することが可能となる。

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 本発明の発光装置の断面図である。
【図2】 図１の発光装置の拡大断面図である。
【図3】 本発明の発光装置の製造工程を示す断面図である。
【図4】 本発明の発光装置の製造工程を示す断面図である。
【図5】 本発明の発光装置の製造工程を示す断面図である。
【図6】 本発明の発光装置の製造工程を示す断面図である。
【図7】 本発明の発光装置の製造工程を示す断面図である。
【図8】 本発明の発光装置の製造工程を示す断面図である。
【図9】 本発明の発光装置の製造工程を示す断面図である。
【図10】 第一変形例に係る発光装置を示す断面図である。
【図11】 図１０の発光装置に、カラーフィルタを設けた例を示す断面図である。
【図12】 第二変形例に係る発光装置の製造工程を示す断面図である。
【図13】 第二変形例に係る発光装置の製造工程を示す断面図である。
【図14】 第二変形例に係る発光装置の製造工程を示す断面図である。
【図15】 第三変形例に係る発光装置を示す断面図である。
【図16】 第四変形例に係る発光装置を示す断面図である。
【図17】 本発明の他の発光装置の製造工程を示す断面図である。
【図18】 本発明の他の発光装置の製造工程を示す断面図である。
【図19】 本発明の実施例に係る発光装置の赤色量子ドットの分光放射輝度を示すグラフである。
【図20】 本発明の実施例に係る発光装置の緑色量子ドットの分光放射輝度を示すグラフである。
【図21】 比較例に係る発光装置の赤色量子ドットの分光放射輝度を示すグラフである。
【図22】 比較例に係る発光装置の緑色量子ドットの分光放射輝度を示すグラフである。
【図23】 アクティブマトリクスディスプレイとした画像表示装置の要部拡大断面図である。
【図24】 画像表示装置の模式的なブロック図である。
【図25】 変形例に係る画像表示装置を例示する模式的な斜視図である。

代表図 図1本件の代表的な図

１００、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄ、１００Ｅ…発光装置 ２００、３００…画像表示装置 ２…表示領域 ３…電源線；３ａ…電源端子 ４…接地線；４ａ…ＧＮＤ端子 ５…行選択回路 ６…走査線 ７…信号電圧出力回路 ８…信号線 １０、２１０…基体 ２０、２２０、２２２、３２０…発光素子 ２０ａ、２０ａ’…第一発光素子 ２０ｂ、２０ｂ’…第二発光素子 ２０ｃ…第三発光素子 ３０、２３０…光反射部 ３１…下地部 ３２…側壁部 ３３…凹部 ３４、２３４…第一バリア層 ３５、２３５…第二バリア層 ３６、２３６…金属層 ４０、２４０…波長変換部 ４１、４１ａ、４１ａ’、２４１…第一量子ドット ４２、４２ａ、２４２…第二量子ドット ５０、５０Ｂ、５０Ｃ、５０Ｄ、２５０…カラーフィルタ ６０…レジスト ７０…白色ドライフィルム ８１…第一発光領域 ８２…第二発光領域 ８３…第三発光領域 ８５…ブラックマトリクス ２０１…ピクセル ２０２、２０２Ｒ、２０２Ｇ、２０２Ｂ…サブピクセル ２１１…回路基板 ２１２…中間層 ２１３…層間絶縁膜 ２１４…平坦化膜 ２１５…トランジスタ ２１６…ゲート絶縁膜 ２２４…選択トランジスタ ２２６…駆動トランジスタ ２２８…キャパシタ ３１０…回路層 ３１４…下地部 ３３０…側壁部

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