特許7908995IP Force 特許公報全文掲載

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本特許出願は、２０２０年７月３０日に独国特許商標庁に出願された「Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen einer Ausrichtung einer Fotomaske auf einem Probentisch, der entlang zumindest einer Achse verschiebbar und zumindest um eine Achse drehbar ist」と題する独国特許出願第ＤＥ１０２０２０２０９６３８．４号の優先権を主張する。独国特許出願第ＤＥ１０２０２０２０９６３８．４号は、その全体が参照により本特許出願に組み込まれる。

この特許の権利範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 ３つの並進軸および１つの回転軸を有する例示的な試料ステージの概略図である。
【図2】 図１の例示的な試料ステージの概略断面図である。
【図3】 例示的な試料ステージ内の座標系およびフォトマスクに関連付けられた座標系の様々な座標を表す図である。
【図4】 図１の試料ステージ上のフォトマスクの斜め位置を説明し、フォトマスクのマーキングを走査するための粒子ビーム源と、フォトマスクのｚ座標を測定するための高さセンサとを概略的に示す図である。
【図5】 様々なマスクパターンに対する高さセンサによるｚ座標の測定を概略的に示す図である。
【図6】 １つのタイプのマーキングをその関連付けられた基準点とともに示す平面図である。
【図7】 ３つのマーキングを有する例示的なフォトマスクの平面図である。
【図8】 図６のマーキング内での高さセンサの走査の第１の例を示す図である。
【図9a】 図８の第１の例による高さセンサの走査のフロー図の第１の部分を示す図である。
【図9b】 図８の第１の例による高さセンサの走査のフロー図の第２の部分を再現している図である。
【図10】 図６のマーキング内での高さセンサの走査の第２の例を説明する図である。
【図11】 図７のフォトマスクを９０°回転させた状態の平面図である。
【図12】 任意の回転角で回転させた後の図７のフォトマスクの平面図である。
【図13】 回転によって引き起こされる並進を概略的に説明する図である。
【図14】 試料ステージ上のフォトマスクの斜め位置を示し、マスクに対して垂直に配向されていない回転軸を表し、したがって、回転中のフォトマスクの揺動運動をもたらす図である。
【図15】 上側部分像は、図７のマスクの平面図であり、回転軸からの距離ｄ0において、マスクの回転中の高さ変化および高さプロファイルが測定され、下側部分像は、回転軸の配向のフォトマスクに対する垂線からの偏りを示す図である。
【図16】 マスクに対して垂直にアライメントされていない回転軸に対する回転角の関数としての高さプロファイルの一例を示す図である。
【図17】 試料ステージ上のフォトマスクのアライメントを決定するための本発明による方法のフロー図である。
【図18a】 図１７のフロー図の第１の部分を示す図であり、細部がより詳細に指定されている。
【図18b】 図１７のフロー図の第２の部分を示す図であり、細部がより詳細に指定されている。

代表図 図1本件の代表的な図

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