特許 7909542出願番号特願 2023-558493
リソグラフィ投影露光装置のための光学システム

出願人カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー（識別番号 503263355）

2026年特許公開件数ランキング 381位 56件（※）

2026年特許取得件数ランキング 557位 28件（※）

公報発行日　2026年8月21

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7909542　ログイン済みの方はこのURLへ

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※ 共同出願を含む

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本特許出願は、ドイツ特許出願第１０２０２１２０２８４７．０号の優先権を主張し、その内容は参照により本明細書に組み込まれる。

【図1】マイクロリソグラフィ投影露光装置の概略図である。

【図2】特に、最初に偏光方向の、次に構造の広がり方向の平行性を明らかにするために、照明光の偏光方向を含む照明光の照明光ビームの、結像された（ｉｍａｇｅｄ）一次元物体構造を有する投影露光装置の投影光学ユニットの像視野の概略平面図と、ピューピル面で得られた断面の概略平面図である。

【図3】図１の視線方向に対応する視線方向から描写された投影露光装置の照明光学ユニットの一変形例における照明光の概略的なビームガイドの概略平面図である。

【図4】図３における視線方向ＩＶから見られる、照明光学ユニットの主要構成要素を示す図である。

【図5】図１による投影露光装置のための照明光学ユニットの実施形態の主要構成要素の配置のさらなる実施形態を、図３と同様の表現で示す図である。

【図6】図５における視線方向ＶＩから見られる、図５による実施形態を、図４と同様の表現で示す図である。

【図7】図１による投影露光装置のための照明光学ユニットの実施形態の主要構成要素の配置のさらなる実施形態を、図３と同様の表現で示す図である。

【図8】図７における視線方向ＶＩＩＩから見られる、図７による実施形態を、図４と同様の表現で示す図である。

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