特許 7921440出願番号 特願 2025-515271
磁性体、磁石、および磁性体の製造方法
出願人 株式会社デンソー（識別番号 4260）
2026年 特許公開件数ランキング 15位 815件（※）
2026年 特許取得件数ランキング 10位 1,035件（※）
出願人 日亜化学工業株式会社（識別番号 226057）
2026年 特許公開件数ランキング 99位 241件（※）
2026年 特許取得件数ランキング 125位 164件（※）
公報発行日 2026年9月15
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7921440 ログイン済みの方はこのURLへ
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※ 共同出願を含む
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技術分野
Ｌ１０型規則構造のＦｅＮｉ規則合金を含む磁性体、磁石、および磁性体の製造方法に関するものである。
この特許の権利範囲[特許請求の範囲]
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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
【図1】
磁石の概略図である。
【図2】
磁石に含まれる磁性体の概略図である。
【図3】
磁性体粒子の概略図である。
【図4】
磁性体粒子の断面構造を示す概略図である。
【図5】
磁性体粒子に含まれるＬ１０型のＦｅＮｉ規則合金の格子構造を示す模式図である。
【図6】
Ｌ１０型のＦｅＮｉ規則合金の前駆体であるＦｅＮｉＮの格子構造を示す模式図である。
【図7】
磁性体の製造方法の一実施例の概要を示すフローチャートである。
【図8】
比較例１に係る磁性体の製造方法の概要を示すフローチャートである。
【図9】
比較例１と実施例１～３の評価結果を対比して示す表である。
【図10】
前駆体を示すＳＥＭ写真である。
【図11】
図１０の領域Ａを拡大したＳＥＭ写真である。
【図12】
図１０の領域Ｂを拡大したＳＥＭ写真である。
【図13】
実施例と比較例のＸＲＤパターンを示すグラフである。
【図14】
図１３の領域Ｃを拡大したグラフである。
【図15】
実施例と比較例のヒステリシスカーブを示すグラフである。
【図16】
比較例１におけるＦｅＮｉＮ粒子のＳＥＭ写真である。
【図17】
実施例１におけるＦｅＮｉＮ粒子のＳＥＭ写真である。
【図18】
実施例２におけるＦｅＮｉＮ粒子のＳＥＭ写真である。
【図19】
実施例３におけるＦｅＮｉＮ粒子のＳＥＭ写真である。
【図20】
実施例と比較例における短軸長と規則度との関係を示すグラフである。
【図21】
実施例における長軸長と保磁力との関係を示すグラフである。
【図22】
実施例２におけるＦｅＮｉＮ粒子のＴＥＭ写真である。
【図23】
図２２のＦｅＮｉＮ粒子の電子線回折像を示す写真である。
【図24】
図２３の領域Ｆで示す回折スポットに対応する暗視野像を示す写真である。
【図25】
図２３の領域Ｇで示す回折スポットに対応する暗視野像を示す写真である。
【図26】
実施例３におけるＦｅＮｉＮ粒子のＴＥＭ写真である。
【図27】
図２６のＦｅＮｉＮ粒子の電子線回折像を示す写真である。
【図28】
比較例２に係る磁性体の製造方法の概要を示すフローチャートである。
【図29】
比較例２におけるＦｅＮｉ粒子のＳＥＭ写真である。
【図30】
比較例２と実施例２の評価結果を示す表である。
【図31】
実施例４に係る磁性体の製造方法の概要を示すフローチャートである。
【図32】
実施例３と実施例４の評価結果を示す表である。
【図33】
実施例５に係る磁性体の製造方法の概要を示すフローチャートである。
【図34】
実施例３と実施例５の評価結果を示す表である。
【図35】
実施例３における磁性体粒子の断面形状を示すＴＥＭ写真である。
【図36】
実施例５における磁性体粒子の断面形状を示すＴＥＭ写真である。
代表図 図1本件の代表的な図
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