特許7925230IP Force 特許公報全文掲載

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技術分野

独国特許出願第１０２０２２２０５７６７．８号、独国特許出願第１０２０２３１１０１７３．０号、および独国特許出願第１０２０２３１１０１７４．９号の内容が参照により本明細書に援用される。

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の目的は、ＥＵＶ照明光のための使用効率が最適化されるようにそのような検査システムのための照明光学ユニットを展開することである。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明によれば、この目的は、請求項１に指定された特徴を含む照明光学ユニットによって達成される。

この特許の権利範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 ＥＵＶ照明光と共に用いるためのマスク検査システムのための照明光学ユニットを有する光学システムを概略的に示す。
【図2】 図１における観測方向ＩＩから見たときの光学システムの平面図を示す。
【図3】 図１による光学システムを、図１と比較して旋回軸の周りを旋回した光学システムのＥＵＶ光源のソース領域と共に示す。
【図4】 図３における観測方向ＩＶから見たときの光学システムの図を示す。
【図5】 照明光学ユニットの中空導波路の入射開口に入射したとき、および中空導波路の出射開口から出射したときの照明光ビームの角度関係を概略的に示す。
【図6】 厳密に１つの入射角で入射する照明光ビームの中空導波路における奇数回の内部反射の場合の中空導波路における反射条件を、概略的に、理想化された形式で示す。
【図7】 照明光ビームの中空導波路における内部反射に関係する奇数回および偶数回の反射の混合の場合の中空導波路における反射条件を、概略的に、理想化された形式で示す。
【図8】 図６および図７による入射開口への入射時の照明光ビームの入射角を瞳表現で示す。
【図9】 図６および図７による出射開口からの照射時の照射光ビームの出射角を、図８に類似した図において示す。
【図10】 照射野の四重極照明を生成するための、図６および図７に対応する構成における照射光ビームの出射時の出射角度を、図８に類似した図において示す。
【図11】 図１０による入射角条件の場合に現れる出射照明光角度分布、すなわち四重瞳を示す。
【図12】 中空導波路における偶数回の反射の場合の照明光ビームの反射条件を、図６および図７に類似した図において示す。
【図13】 ＥＵＶ照明光と共に用いるためのマスク検査システムのための照明光学ユニットを有する光学システムの更なる実施形態を、図１に類似した図において示す。
【図14】 ＥＵＶ照明光と共に用いるためのマスク検査システムのための照明光学ユニットを有する光学システムの更なる実施形態を、図１に類似した図において示す。

代表図 図1本件の代表的な図

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