特許 7928466出願番号 特願 2023-546953
ＴｉＯ２含有シリカガラス基板の製造方法
公報発行日 2026年10月2
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7928466 ログイン済みの方はこのURLへ
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技術分野
ＴｉＯ２含有シリカガラス基板
発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
気相法では、製造工程における熱履歴に起因してガラス中のＴｉＯ２／ＳｉＯ２組成比に周期的な変動（脈理）が発生する。この脈理が存在すると鏡面研磨によっても超高平滑性を有する表面が得られにくいため光学用途において好ましくなく、したがって、脈理の抑制のために種々の方法が検討されている（特許文献１、２）。
しかしながら、これらの方法はいずれも脈理を根本的に無くせるものではなく、あくまで脈理を抑制するものである。気相法においては脈理を完全に発生させないことは難しい。
課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
課題を解決する本発明のシリカガラス基板は、下記に存する。
〔１〕酸化物基準の質量百分率表示で６．７～１２質量％のＴｉＯ２を含有し、１．４０ｐｐｂ／Ｋ／Ｋ以下のＣＴＥ－ｓｌｏｐｅを有し、少なくとも１の主面、及び少なくとも１の端面において、ＪＯＧＩＳ－１１（２００８）に準ずる脈理評価において脈理が観察されないＴｉＯ２含有シリカガラス基板。
〔２〕酸化物基準の質量百分率表示で６．７～１２質量％・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る
発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明のＴｉＯ２含有シリカガラス基板は、ＣＴＥ－Ｓｌｏｐｅが低く、主面だけでなく端面も含むいずれの面においても脈理が観察されない。したがって、本発明のＴｉＯ２含有シリカガラス基板は熱膨張が小さく、鏡面研磨により超高平滑性を有する表面が得られやすい。
この特許の権利範囲[特許請求の範囲]
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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
【図1】
図１は、標準試料のＪＯＧＩＳに準ずる脈理評価結果を示す。
【図2】
図２は、例１の端面方向のＪＯＧＩＳに準ずる脈理評価結果を示す。
【図3】
図３は、例３の端面方向のＪＯＧＩＳに準ずる脈理評価結果を示す。
【図4】
図４は、標準試料の米国ミリタリー規格に準ずるクラス評価結果を示す。
【図5】
図５は、例１の端面方向の米国ミリタリー規格に準ずるクラス評価結果を示す。
【図6】
図６は、例３の端面方向の米国ミリタリー規格に準ずるクラス評価結果を示す。
代表図 図1本件の代表的な図
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