特許7929951IP Force 特許公報全文掲載

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技術分野

光学系を組み立てる方法、光学系を操作する方法、データ処理装置、及びコ ンピュータプログラム製品

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

以上を踏まえて、本発明の目的は、改良された手法を提供することである。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

したがって、第１態様は、光学系、特にリソグラフィ装置を組み立てる方法であって、 ａ）測定データを提供する目的で光学系の個別部品Ｋ１～ＫＮを測定するステップであ り、Ｎ＞１であるステップと、 ｂ）提供された測定データを用いて個別部品Ｋ１～ＫＮを仮想化し、且つ仮想化された 個別部品Ｋ１～ＫＮから実際組立モデルを生成するステップであり、実際組立モデルは仮 想組立状態の仮想化された個別部品Ｋ・・・　続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1A】 ＥＵＶリソグラフィ装置の実施形態の概略図を示す。
【図1B】 ＤＵＶリソグラフィ装置の実施形態の概略図を示す。
【図2】 光学系を組み立て且つ操作する方法で用いられるデータ処理装置を示す。
【図3】 接触組立モデルの実施形態を示す。
【図4】 目標点組立モデルの実施形態を示す。
【図5】 一実施形態における光学系への異なる自由度の補正用のスペーサの挿入を示す。
【図6】 同次座標を用いた個別部品の例示的な変位及び回転を示す。
【図7】 一実施形態による光学系を組み立て且つ任意に操作する方法のフローチャートを示す。
１００Ａ ＥＵＶリソグラフィ装置 １００Ｂ ＤＵＶリソグラフィ装置 １０４ ビーム整形・照明系 １０４ 投影系 １０６Ａ ＥＵＶ光源 １０６Ｂ ＤＵＶ光源 １０８Ａ ＥＵＶ放射線 １０８Ｂ ＤＵＶ放射線 １１０ ミラー １１２ ミラー １１４ ミラー １１６ ミラー １１８ ミラー １２０ フォトマスク １２２ ミラー １２４ ウェーハ １２６ 光軸 １２８ レンズ素子 １３０ ミラー １３２ 媒体 ２００ データ処理装置 ２０２ 仮想化ユニット ２０４ 決定ユニット ２０６ 測定デバイス ２０８ 測定デバイス ２１０ コンピュータデバイス ２１２ ＣＮＣミリングデバイス ３００ ベース ３０２ 光学有効面 ３０４ スペーサ ３０６ フォースフレーム ３０８ 光学素子 ＡＢＤ 構成データ ＩＭＭ 実際組立モデル ＫＯＭ 補正措置 Ｋ１～ＫＮ 個別部品 Ｐｔａｒｇｅｔ 目標位置 Ｐａｃｔｕａｌ 実際位置 Ｐａｃｔｕａｌ＿ＫＮ－１ 実際位置 Ｐａｃｔｕａｌ＿Ｋ２ 実際位置 ＭＥＭ 機械的測定データ Ｍ１ ミラー Ｍ２ ミラー Ｍ３ ミラー Ｍ４ ミラー Ｍ５ ミラー Ｍ６ ミラー ＯＥＭ 光学的測定データ ＳＭＭ 目標組立モデル Ｓ７００～Ｓ７１６ 方法ステップ Ｖ ギャップ

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