特許7933218IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

投影露光装置の光学系の光学素子を調整するためのバイポッド、当該バイポッドを備えた光学系、及び当該バイポッド及び/又は当該光学系を備えた投影露光装置

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

こうした背景から、本発明の目的は、改良型のバイポッドを提供することである。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

したがって、投影露光装置の光学系の光学素子を調整するためのバイポッドが提供される。バイポッドは、光学素子を調整するために光学素子に結合可能な機構と、ベース部と、ベース部から延出する第1タワー部と、第1タワー部とは異なりベース部から同じく延出する第2タワー部とを備え、機構は、第1タワー部と第2タワー部との間に配置され、第1タワー部及び第2タワー部は、バイポッドの剛性を高めるためにベース部とは反・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

この特許の権利範囲[特許請求の範囲]

知財ポータルサイト IP Force にログインして確認する (無料)

この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 DUV投影リソグラフィ用の投影露光装置の概略子午線断面を示す。
【図2】 図1に示す投影露光装置の光学系の一実施形態の概略図を示す。
【図3】 図2に示す光学系の概略上面図を示す。
【図4】 図2に示す光学系のバイポッドの一実施形態の概略正面図を示す。
【図5】 図4に示すバイポッドの概略背面図を示す。
【図6】 図2に示す光学系のバイポッドのさらに別の実施形態の概略正面図を示す。

代表図 図1本件の代表的な図

1 投影露光装置 2 ビーム整形・照明系 4 照明光学ユニット 6 光源 8 放射線 10 フォトマスク 12 ウェハ 14 レンズ素子 16 レンズ素子 18 レンズ素子 20 ミラー 22 ミラー 24 光軸 26 媒体 100 光学系 102 光学素子 102’ 光学素子 104 基板 106 光学有効面 106’ 光学有効面 108 前側 110 後側 112 ミラーソケット 114 ミラーソケット 116 ミラーソケット 200 調整装置 202 バイポッド 202A バイポッド 202B バイポッド 204 バイポッド 206 バイポッド 208 接続点 210 接続点 212 固定環境 214 結合素子 214’ 結合素子 216 開ループ・閉ループ制御ユニット 218 ベース部 220 タワー部 222 タワー部 224 機構 226 作動素子 228 作動素子 230 ポケット 232 ポケット 234 移動量 236 移動量 238 切欠き 240 切欠き 242 補剛素子 244 締結点 246 締結点 248 締結点 250 締結点 252 凹部 254 凹陥部 256 凹陥部 258 凹陥部 260 外骨格 262 ベース部 264 開口 266 接続部 268 接続部 270 切欠き 272 切欠き 274 切欠き AL 開始姿勢 EL 終了姿勢 IL 実際姿勢 M1 ミラー M2 ミラー M3 ミラー M4 ミラー M5 ミラー M6 ミラー SL 目標姿勢 x x方向 y y方向 z z方向

全ての図面はログインすると無料で閲覧できます。ログイン・ユーザー登録

[広告欄]

ログインすれば広告は減ります

ログインすれば広告は減ります