特表 2022-505506 調節可能スペーサ（ｔｕｎａｂｌｅ ｓｐａｃｅｒ）によりリソグラフィ装置の第１素子をリソグラフィ装置の第２素子に向けて調整する方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2022-01-14

(54)【発明の名称】調節可能スペーサ（ｔｕｎａｂｌｅ ｓｐａｃｅｒ）によりリソグラフィ装置の第１素子をリソグラフィ装置の第２素子に向けて調整する方法

(51)【国際特許分類】

   G03F 7/20 20060101AFI20220106BHJP

   G02B 7/00 20210101ALI20220106BHJP

【ＦＩ】

G03F7/20 501

G03F7/20 521

G02B7/00 B

【審査請求】未請求

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2021521774

(86)(22)【出願日】2019-10-22

(85)【翻訳文提出日】2021-06-07

(86)【国際出願番号】 EP2019078734

(87)【国際公開番号】W WO2020083914

(87)【国際公開日】2020-04-30

(31)【優先権主張番号】102018218110.1

(32)【優先日】2018-10-23

(33)【優先権主張国・地域又は機関】DE

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】503263355

【氏名又は名称】カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー

(74)【代理人】

【識別番号】100147485

【弁理士】

【氏名又は名称】杉村 憲司

(74)【代理人】

【識別番号】230118913

【弁護士】

【氏名又は名称】杉村 光嗣

(74)【代理人】

【識別番号】100147692

【弁理士】

【氏名又は名称】下地 健一

(72)【発明者】

【氏名】ボアズ ピニーニ

【テーマコード（参考）】

2H043

2H197

【Ｆターム（参考）】

2H043AA03

2H043AA06

2H043AA23

2H043AB02

2H043AB03

2H043AB04

2H043AB05

2H043AB09

2H043AB10

2H043AB18

2H043AB25

2H197AA05

2H197BA03

2H197BA09

2H197BA11

2H197BA30

2H197CA06

2H197CA08

2H197CA10

2H197CB16

2H197CC16

2H197DB23

2H197GA01

2H197GA03

2H197GA04

2H197GA08

2H197GA10

2H197GA23

2H197HA03

(57)【要約】

リソグラフィ装置（１００Ａ、１００Ｂ）の第１素子（２０２）とリソグラフィ装置（１００Ａ，１００Ｂ）の第２素子との間に配置された調節可能スペーサ（３００）により、第１素子（２０２）を第２素子（２０４）に向けて調整する方法であって、ａ）第１素子（２０２）の実際ロケーション（ＩＬ）を求めるステップ（Ｓ１）と、ｂ）第１素子（２０２）のノミナルロケーション（ＳＬ）を求めるステップ（Ｓ２）と、ｃ）調節可能スペーサ（３００）から荷重除荷するステップ（Ｓ３）と、ｄ）第１素子（２０２）を実際ロケーション（ＩＬ）からノミナルロケーション（ＳＬ）にするために調節可能スペーサ（３００）の高さ（ｈ）を調整するステップ（Ｓ４）と、ｅ）調節可能スペーサ（３００）に荷重負荷するステップ（Ｓ５）とを含む方法。

【特許請求の範囲】

【請求項1】

リソグラフィ装置（１００Ａ、１００Ｂ）の第１素子（２０２）と前記リソグラフィ装置（１００Ａ、１００Ｂ）の第２素子との間に配置された調節可能スペーサ（３００）により、前記第１素子（２０２）を前記第２素子（２０４）に向けて調整する方法であって、
ａ）前記第１素子（２０２）の実際ロケーション（ＩＬ）を求めるステップ（Ｓ１）と、
ｂ）前記第１素子（２０２）のノミナルロケーション（ＳＬ）を求めるステップ（Ｓ２）と、
ｃ）前記調節可能スペーサ（３００）から荷重除荷するステップ（Ｓ３）と、
ｄ）前記第１素子（２０２）を前記実際ロケーション（ＩＬ）から前記ノミナルロケーション（ＳＬ）にするために前記調節可能スペーサ（３００）の高さ（ｈ）を調整するステップ（Ｓ４）と、
ｅ）前記調節可能スペーサ（３００）に荷重負荷するステップ（Ｓ５）と
を含む方法。

【請求項2】

請求項１に記載の方法において、前記ステップｄ）において、前記調節可能スペーサ（３００）の前記高さ（ｈ）を無段階で調整する方法。

【請求項3】

請求項１又は２に記載の方法において、前記ステップｃ）において、前記第１素子（２０２）を前記調節可能スペーサ（３００）から持ち上げる方法。

【請求項4】

請求項１～３のいずれか１項に記載の方法において、前記ステップｅ）において、前記第１素子（２０２）を前記調節可能スペーサ（３００）に載せる方法。

【請求項5】

請求項１～４のいずれか１項に記載の方法において、前記ステップａ）において、前記第１素子（２０２）の前記実際ロケーション（ＩＬ）を測定又は計算する方法。

【請求項6】

請求項１～５のいずれか１項に記載の方法において、前記ステップｂ）において、前記第１素子（２０２）の前記ノミナルロケーション（ＳＬ）を計算する方法。

【請求項7】

請求項１～６のいずれか１項に記載の方法において、前記ステップｄ）において、前記調節可能スペーサ（３００）の一部である伝動機構（３２２）により、前記調節可能スペーサ（３００）の前記高さ（ｈ）を調整する方法。

【請求項8】

請求項７に記載の方法において、前記ステップｄ）において、第１空間方向（ｘ）に沿った前記調節可能スペーサ（３００）のハウジング要素（３０２、３０４）に向かう前記調節可能スペーサ（３００）の変位要素（３１６）の相対的な直線移動により、前記調節可能スペーサ（３００）の前記高さ（ｈ）を調整する方法。

【請求項9】

請求項８に記載の方法において、前記ステップｄ）において、前記伝動機構（３２２）は、前記第１空間方向（ｘ）に沿った前記変位要素（３１６）の前記直線移動を前記第１空間方向（ｘ）とは異なる第２空間方向（ｚ）に沿った前記変位要素（３１６）の直線移動に変える方法。

【請求項10】

請求項８又は９に記載の方法において、前記ステップｄ）において、前記ハウジング要素（３０２、３０４）に向かう前記変位要素（３１６）の相対的な前記直線移動中に、前記変位要素（３１６）の傾斜摺動面（３１８、３２０）が前記ハウジング要素（３０２、３０４）の傾斜摺動面（３０８、３１２）上で摺動する方法。

【請求項11】

請求項８～１０のいずれか１項に記載の方法において、前記ステップｄ）において、調整要素（３３２、３３４）により、前記変位要素（３１６）を前記第１空間方向（ｘ）に沿って前記ハウジング要素（３０２、３０４）に向けて相対的に移動させる方法。

【請求項12】

請求項１～１１のいずれか１項に記載の方法において、前記ステップｄ）において、前記調節可能スペーサ（３００）を非撓み状態（Ｚ１）から撓み状態（Ｚ２）にし、該撓み状態（Ｚ２）での前記高さ（ｈ）は前記非撓み状態（Ｚ１）よりも大きい方法。

【請求項13】

請求項１～１２のいずれか１項に記載の方法において、前記ステップａ）～前記ステップｅ）を通して、前記調節可能スペーサ（３００）は前記第１素子（２０２）と前記第２素子（２０４）との間にある方法。

【請求項14】

請求項１～１３のいずれか１項に記載の方法において、前記ステップｅ）において、前記調節可能スペーサ（３００）は力を受けない方法。

【請求項15】

請求項１～１４のいずれか１項に記載の方法において、前記ステップａ）において、前記第１素子（２０２）の前記実際ロケーション（ＩＬ）を前記第２素子（２０４）に対して求める方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、リソグラフィ装置の第１素子をリソグラフィ装置の第２素子に向けて調整する方法に関する。

【0002】

本願は、独国特許出願第ＤＥ１０ ２０１８ ２１８ １１０．１号（２０１８年１０月２３日出願）の優先権を主張し、その全内容を参照により本明細書に援用する。

【背景技術】

【0003】

マイクロリソグラフィは、微細構造コンポーネント、例えば集積回路の製造に用いられる。マイクロリソグラフィプロセスは、照明系及び投影系を有するリソグラフ装置を用いて実行される。この場合、照明系により照明されたマスク（レチクル）の像を、投影系により、感光層（フォトレジスト）で被覆されて投影系の像平面に配置された基板（例えばシリコンウェーハ）に投影することで、マスク構造を基板の感光コーティングに転写するようにする。

【0004】

集積回路の製造における構造のさらなる小型化が望まれることにより、０．１ｎｍ～３０ｎｍ、特に１３．５ｎｍの範囲の波長を有する光を用いるＥＵＶリソグラフィ装置が現在開発中である。このようなＥＵＶリソグラフィ装置の場合、ほとんどの材料がこの波長の光に対して高い吸収を示すので、以前のような屈折光学ユニット、すなわちレンズ素子の代わりに、反射光学ユニット、すなわちミラーを用いなければならない。

【0005】

この種のリソグラフィ装置の始動前に、概して、素子、例えば上記光学ユニットを調整する必要がある。この調整は、例えば、間隔保持体（spacing elements）又はスペーサを用いて行うことができる。この目的で、例えば仮想取付けモデルを用いて又は短絡測定（short-circuit measurements）を用いて、このようなスペーサ要素の必要な厚さ又は高さが最初に決定される。特に必要なスペーサの研削により加工時間が長くならないように、高さ又は厚さがさまざまなスペーサのモジュラーシステムが利用可能とされる。スペーサは、所望の加工精度を達成するためにここでは±２μｍの精度で研削される。したがって、１０μｍずつの小さな増加単位で、最大０．５ｍｍという大きな調整範囲が通常必要であることにより、多数のスペーサを利用可能にする必要がある。スペーサの複雑な取り扱い及びロジスティクスが、コストを押し上げる。高精度スペーサの製造及び洗浄も非常に複雑である。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

こうした背景から、本発明の目的は、リソグラフィ装置の素子を調整する方法を改良することである。

【課題を解決するための手段】

【0007】

したがって、リソグラフィ装置の第１素子とリソグラフィ装置の第２素子との間に配置された調節可能スペーサにより、第１素子を第２素子に向けて調整する方法が提供される。本方法は、ａ）第１素子の実際ロケーション（location）を求めるステップと、ｂ）第１素子のノミナルロケーションを求めるステップと、ｃ）調節可能スペーサから荷重除荷する（unloading）ステップと、ｄ）第１素子を実際ロケーションからノミナルロケーションにするために調節可能スペーサの高さを調整するステップと、ｅ）調節可能スペーサに荷重負荷する（loading）ステップとを含む。

【0008】

調節可能スペーサの高さを調整できるので、異なる高さの複数のスペーサを用いずに第１素子を実際ロケーションからノミナルロケーションにすることが可能である。

【0009】

第１素子は、第２素子により担持又は支持されるミラーのような光学素子であり得る。第１素子はレンズとすることもできる。例えば、第２素子は、リソグラフィ装置のフォースフレームであり得る。調節可能スペーサが第１素子と第２素子との「間に」配置されることは、この文脈では調節可能スペーサが２つの素子間に挟まれることを意味する。特に、調節可能スペーサは、第１素子及び／又は第２素子に固定される。好ましくは、調節可能スペーサは、その高さを調整するために素子から取り外されない。好ましくは、第１素子、第２素子、及び調節可能スペーサは、リソグラフィ装置の光学系の一部である。光学系は、リソグラフィ装置の投影系であることが好ましい。光学系は、好ましくは複数の調節可能スペーサを備える。

【0010】

特に、第１素子は、ｘ方向、ｙ方向、及びｚ方向を有する座標系を有する。これらの方向は相互に垂直に配置される。ｘ方向は第１空間方向と呼ぶことができ、ｚ方向は第２空間方向と呼ぶことができ、ｙ方向は第３空間方向と呼ぶことができる。第１素子は、特に６自由度、すなわちｘ方向、ｙ方向、及びｚ方向それぞれに沿った３つの並進自由度と、ｘ方向、ｙ方向、及びｚ方向それぞれを中心とした３つの回転自由度とを有する。換言すれば、第１素子の位置（position）及び向きは、６自由度を用いて決定又は記述することができる。

【0011】

第１素子の「位置」は、特に、ｘ方向、ｙ方向、及びｚ方向に関するその座標又は第１素子上に設けられた測定点の座標と理解されたい。第１素子の「向き」は、特に、３つの空間方向に関するその傾斜と理解されたい。換言すれば、第１素子は、ｘ方向、ｙ方向、及び／又はｚ方向に関して傾斜し得る。これにより、第１素子の位置及び／又は向きに６自由度が与えられる。第１素子の「ロケーション」は、その位置及びその向きの両方を含む。第１素子のロケーションは、複数の調節可能スペーサを用いて調整することができる。この場合、「調整」は、第１素子をその実際ロケーションからノミナルロケーションにすることと理解され得る。

【0012】

この文脈での「荷重除荷」は、調節可能スペーサの高さを調整できるように、調節可能スペーサにかかる重量、例えば第１素子の重量及び／又はリソグラフィ装置の他の素子の重量が、除去されるか若しくは持ち上げられる、又は少なくとも部分的に除去されるか若しくは持ち上げられることを意味する。この文脈での「荷重負荷」は、調節可能スペーサの高さの調整後に重量が調節可能スペーサに戻されることを意味する。特に、高さはｚ軸に沿って測定される。好ましくは、ステップｃ）において、調節可能スペーサは、第１素子の重量を除荷され、ステップｅ）において、調節可能スペーサは、第１素子の重量を再度負荷される。この文脈での高さの「調整」は、第１素子のノミナルロケーションに達するように高さを必要に応じて増減させることを意味する。

【0013】

一実施形態によれば、ステップｄ）において、調節可能スペーサの高さは無段階調整される。

【0014】

この文脈での「無段階」は、従来の調節不可能なスペーサで必要となるような漸増（increments）がないことを意味する。

【0015】

さらに別の実施形態によれば、ステップｃ）において、第１素子を調節可能スペーサから持ち上げる。

【0016】

この文脈での「持ち上げる」は、調節可能スペーサと第１素子との間に隙間があるように第１素子を調節可能スペーサから取り外すことを意味する。しかしながら、「持ち上げる」は、第１素子が調節可能スペーサと接触したままだが重量が調節可能スペーサに負荷又は少なくとも部分的に負荷されていないことも意味し得る。

【0017】

さらに別の実施形態によれば、ステップｅ）において、第１素子を調節可能スペーサに載せる。

【0018】

「載せる」は、第１素子が調節可能スペーサと接触し、その重量が調節可能スペーサに完全にかかることを意味する。

【0019】

さらに別の実施形態によれば、ステップａ）において、第１素子の実際ロケーションを測定又は計算する。

【0020】

これは、仮想組立てモデルを用いて又は短絡測定を用いて行うことができる。「短絡測定」は、２つの素子及び調節可能スペーサを備えた光学系に標準又はノミナルスペーサを完全に組み付けてから測定することを意味するとこの場合は理解されたい。

【0021】

さらに別の実施形態によれば、ステップｂ）において、第１素子のノミナルロケーションを計算する。

【0022】

ノミナル位置は、例えば特に補正レシピを用いて計算することができる。

【0023】

さらに別の実施形態によれば、ステップｄ）において、調節可能スペーサの一部である伝動機構により調節可能スペーサの高さを調整する。

【0024】

特に、伝動機構は、調節可能スペーサの変位要素及びハウジング要素の傾斜摺動面を含む。

【0025】

さらに別の実施形態によれば、ステップｄ）において、第１空間方向に沿った調節可能スペーサのハウジング要素に向かう調節可能スペーサの変位要素の相対的な直線移動により、調節可能スペーサの高さを調整する。

【0026】

好ましくは、高さは、第１空間方向又はｘ方向に向かって垂直な向きである。

【0027】

さらに別の実施形態によれば、ステップｄ）において、伝動機構は、第１空間方向に沿った変位要素の直線移動を第１空間方向とは異なる第２空間方向に沿った変位要素の直線移動に変える。

【0028】

特に、第２空間方向はｚ方向である。調節可能スペーサの高さは、ｚ方向に沿って測定される。

【0029】

さらに別の実施形態によれば、ステップｄ）において、ハウジング要素に向かう変位要素の相対的な直線移動中に、変位要素の傾斜摺動面がハウジング要素の傾斜摺動面上で摺動する。

【0030】

好ましくは、変位要素及びハウジング要素は楔形である。

【0031】

さらに別の実施形態によれば、ステップｄ）において、調整要素により第１空間方向に沿って変位要素をハウジング要素に向けて相対的に移動させる。

【0032】

調整要素は、ねじ、ねじ棒等であり得る。

【0033】

さらに別の実施形態によれば、ステップｄ）において、調節可能スペーサを非撓み（non-deflected）状態から撓み（deflected）状態にし、撓み状態での高さは非撓み状態よりも大きい。

【0034】

特に、調節可能スペーサは、無段階で非撓み状態から撓み状態にすることができる。つまり、一定の増加単位は必要ない。

【0035】

さらに別の実施形態によれば、ステップａ）～ｅ）を通して、調節可能スペーサは第１素子と第２素子との間にある。

【0036】

代替として、調節可能スペーサは、調節可能スペーサの高さを調整するために取り外すことができる。しかしながら、調節可能スペーサを第１素子と第２素子との間に残したまま高さを調整することが好ましい。

【0037】

さらに別の実施形態によれば、ステップｅ）において、調節可能スペーサは力を受けない（force-free）。

【0038】

この文脈での「力を受けない」は、高さに沿って又はｚ方向に沿って調節可能スペーサに力が、例えば第１素子の重量が作用しないことを意味する。

【0039】

さらに別の実施形態によれば、ステップａ）において、第１素子の実際ロケーションを第２素子に対して求める。

【0040】

第２素子も調整することができる。

【0041】

さらに、光学系又はリソグラフィ装置の調節可能スペーサが提案される。調節可能スペーサは、ハウジング要素と、ハウジング要素に対して直線変位可能な変位要素と、第１空間方向のハウジング要素に対する変位要素の直線移動を第１空間方向とは異なる第２空間方向のハウジング要素の直線移動に変換して、調節可能スペーサを無段階で非撓み状態から撓み状態とその逆とにするよう設計された伝動機構とを備える。

【0042】

調節可能スペーサを無段階で非撓み状態から撓み状態とその逆とにできることにより、調節可能スペーサの高さ又は厚さの調整の精度は、高精度の、したがって高価な製造によってではなく伝動機構の形態の敏感でない調整機構を用いて達成される。調節可能スペーサの高さ又は厚さの調整の精度は、特に変位要素及び／又はハウジング要素が浅い傾斜角又は楔角を有することにより達成される。ここで、「浅い」は、１０°未満の傾斜角又は楔角と特に理解されたい。調節可能スペーサの高さを調整するために調節可能スペーサを交換する必要はない。調節可能スペーサでは、既知のモジュラー概念で可能なものと少なくとも同じ調整精度、すなわち高さの漸変（graduation）を達成することが可能である。

【0043】

調節可能スペーサは、調整可能スペーサと称することもできる。調節可能スペーサは、間隔保持体と称することもできる。伝動機構を用いて、特に第２空間方向の調節可能スペーサの高さ又は厚さを調整することが特に可能である。高さ又は厚さは、非撓み状態よりも撓み状態で特に大きい。調節可能スペーサには、ｘ方向と、ｘ方向に対して垂直な向きのｙ方向と、ｘ方向に対して垂直且つｙ方向に対して垂直な向きのｚ方向とを有する座標系が割り当てられることが好ましい。この座標系は、第１素子の上記座標系と同じであり得る。方向は空間方向と称することもできる。上記第１空間方向は特にｘ方向である。上記第２空間方向はｚ方向であり得る。第２空間方向は、調節可能スペーサの垂直方向、高さ方向、又は厚さ方向と称することもできる。

【0044】

本明細書において、「直線移動」は、対応する空間方向に沿った且つ／又は平行な移動と理解されたい。非撓み状態は、非撓み位置、後退状態、又は後退位置と称することもできる。撓み状態は、撓み位置、展開状態、又は展開位置と称することもできる。非撓み状態及び撓み状態は、調節可能スペーサの終端状態又は終端位置を表し得る。調節可能スペーサを「無段階で」非撓み状態から撓み状態とその逆とにすることができることは、任意の所望数の調整可能な中間位置又は中間状態を非撓み状態と撓み状態との間に設けることができることを特に意味すると理解されたい。したがって、調節可能スペーサの高さ又は厚さは、特に非撓み状態と撓み状態との間で無段階調整することができる。

【0045】

変位要素は、少なくとも部分的にハウジング要素内に収容され得る。ハウジング要素に対する変位要素の直線移動中に、変位要素は特にハウジング要素上で摺動する。特に、ハウジング要素は、第２空間方向で変位要素に対して直線移動する。

【0046】

一実施形態によれば、伝動機構は、ハウジング要素に設けられた摺動面及び変位要素に設けられた摺動面を有し、摺動面は、調節可能スペーサが非撓み状態から撓み状態とその逆とになるときに相互に摺動する。

【0047】

摺動面は、摺動平面と称することもできる。特に、摺動面は傾斜平面（slanting planes）である。すなわち、摺動面は傾斜している。変位要素は、１つの摺動面を含むことができるか、又は変位要素の対称面に関して鏡面対称に配置された２つの摺動面を有することもできる。変位要素が２つの摺動面を含む場合、それぞれが摺動面を有する２つのハウジング要素が設けられる。すなわち、変位要素の各摺動面にハウジング要素が割り当てられることが好ましい。

【0048】

さらに別の実施形態によれば、摺動面はそれぞれが傾斜角をなして傾斜し、傾斜角は１０°未満、好ましくは５°～８°である。

【0049】

傾斜角は全て同じサイズであることが好ましい。傾斜角が小さいほど、調節可能スペーサの高さ又は厚さの調整の精度が高くなる。傾斜角は、楔角と称することもできる。

【0050】

さらに別の実施形態によれば、調節可能スペーサはばね要素をさらに含み、ばね要素は、非撓み状態の方向で調節可能スペーサにプリテンションをかける。

【0051】

特に、ばね要素は、ハウジング要素に対して変位要素にプリテンションをかける。すなわち、ばね要素は、特に変位要素とハウジング要素との間に位置決めされる。特に、ばね要素は、非撓み状態で弛緩又は圧縮解除（relaxed or uncompressed）され、撓み状態で緊張又は圧縮（tensioned or compressed）される。ばね要素は、円筒ばね、特に圧縮ばねであり得る。しかしながら、ばね要素は、プラスチック材料から、例えばエラストマーから製造された構造部品とすることもできる。

【0052】

さらに別の実施形態によれば、ハウジング要素及び変位要素は、それぞれが収容領域を有し、ばね要素が収容領域に収容される。

【0053】

ハウジング要素の収容領域は半円筒状であり得る。特に、収容領域は、ハウジング要素の摺動面内又は摺動面上に設けられる。変位要素の収容領域は、摺動面に延びる凹部として構成され得る。例えば、変位要素の収容領域は矩形であり得る。

【0054】

さらに別の実施形態によれば、調節可能スペーサは、第１ハウジング要素及び第２ハウジング要素をさらに含み、変位要素はハウジング要素間に配置される。

【0055】

第１ハウジング要素には第１摺動面が特に割り当てられる。したがって、第２ハウジング要素には第２摺動面が特に割り当てられる。調節可能スペーサが非撓み状態から撓み状態とその逆とになると、第１ハウジング要素の第１摺動面が変位要素の第１摺動面上で摺動し、第２ハウジング要素の第２摺動面が変位要素の第２摺動面上で摺動する。

【0056】

さらに別の実施形態によれば、変位要素は楔形であり、変位要素は、対称面に関して鏡面対称に構成される。

【0057】

変位要素は、楔要素と称することもできる。２つの摺動面は、対称面に関して鏡面対称に位置決めされる。

【0058】

さらに別の実施形態によれば、第１ハウジング要素及び第２ハウジング要素は、対称面に関して鏡面対称に位置決めされる。

【0059】

第１ハウジング要素及び第２ハウジング要素は、同一の構成であることが好ましい。これにより、調節可能スペーサの製造に伴うコストが減る。

【0060】

さらに別の実施形態によれば、第１ハウジング要素及び第２ハウジング要素は、調節可能スペーサが非撓み状態から撓み状態になるときに第２空間方向で相互に離れ、第１ハウジング要素及び第２ハウジング要素は、調節可能スペーサが撓み状態から非撓み状態になるときに第２空間方向で相互に近付く。

【0061】

特に、調節可能スペーサが非撓み状態から撓み状態とその逆とになるときに、ハウジング要素はそれぞれがこうして同期移動を行う。

【0062】

さらに別の実施形態によれば、第１ハウジング要素及び第２ハウジング要素は、ガイドレールを用いて相互に直線的に案内される。

【0063】

ガイドレールは、ガイド面又はガイド壁と称することもできる。特に、第１ハウジング要素及び第２ハウジング要素は、ガイドレールを用いて第２空間方向に沿って相互に直線的に案内される。このように、ハウジング要素の相互に対する捩れが回避される。

【0064】

さらに別の実施形態によれば、調節可能スペーサは、変位要素をハウジング要素に対して第１空間方向で直線的にシフトさせるよう設計された調整要素をさらに含む。

【0065】

調整要素は、特に伝動機構の一部である。調整要素は、特に調節可能スペーサに横方向に設けられる。したがって、調節可能スペーサを非撓み状態から撓み状態とその逆とにするには、調整要素への横からのアクセスで十分である。調整要素は特にねじである。調整要素は、変位要素に嵌め合い（with positive locking、formschlussig）係合するよう設計される。この目的で、変位要素は、調整要素を螺入するねじ孔を含み得る。嵌め合い接続は、少なくとも２つの接続相手、この場合は調整要素及びねじ孔が相互に前後から係合する結果として起こる。ハウジング要素は、調整要素を案内する貫通孔を有する後壁を含むことが好ましい。したがって、調整要素は、後壁に回転可能に取り付けられる。調整要素を用いて、ばね要素のばね力に反して変位要素をハウジング要素に対して直線的にシフトさせることができる。２つの調整要素が設けられることが好ましい。調整要素は、ｙ方向で相互に離間して位置決めされ得る。調節可能スペーサを非撓み状態から撓み状態にするために、調整要素を交互に作動させる、特に締めることができる。

【0066】

さらに別の実施形態によれば、第１空間方向の変位要素の変位経路は、第２空間方向の調節可能スペーサの高さ変化よりも大きく、変位経路は、高さ変化の３倍～１５倍、好ましくは６倍～１２倍、より好ましくは１０倍である。

【0067】

このように、高さ変化を非常に高精度に行なわせることができる。摺動面の傾斜角が小さいほど、高さ変化に対する変位経路の比が大きくなる。高さ変化は、厚さ変化と称することもできる。高さ変化は、特に以下のように計算することができる：Δｈ＝２ｔａｎβ１Δｘ。式中、Δｈは高さ変化であり、β１は傾斜角であり、Δｘは変位経路である。

【0068】

さらに別の実施形態によれば、調節可能スペーサは貫通孔を有し、貫通孔は、締結要素、特にねじを収容するために第２空間方向で調節可能スペーサを完全に貫通する。

【0069】

すなわち、締結要素は調節可能スペーサに通される。締結要素が調節可能スペーサに通されることにより、締結要素が調節可能スペーサの横を通過する配置に比べて、調節可能スペーサを用いて調整される素子の曲げ荷重を防止することが可能である。

【0070】

さらに、リソグラフィ装置の光学系が提案される。光学系は、素子、特に光学素子と、上記調節可能スペーサとを備え、調節可能スペーサを非撓み状態から撓み状態にすることにより素子を実際位置から所望位置にすることができる。

【0071】

素子は、例えば、ミラー、レンズ素子、絞り、及びエンドストップ（end stop）、フォースフレーム等であり得る。光学系は、リソグラフィ装置の投影系であることが好ましい。光学系は、複数の調節可能スペーサを備えることが好ましい。

【0072】

上記調節可能スペーサ及び／又は上記光学系を有するリソグラフィ装置がさらに提案される。

【0073】

リソグラフィ装置は、複数の調節可能スペーサ及び／又は複数の光学系を備えることができる。リソグラフィ装置は、ＥＵＶリソグラフィ装置であり得る。ＥＵＶは「極紫外線」を意味し、０．１ｎｍ～３０ｎｍの使用光の波長を示す。リソグラフィ装置は、ＤＵＶリソグラフィ装置でもあり得る。ＤＵＶは「深紫外線」を意味し、３０ｎｍ～２５０ｎｍの使用光の波長を示す。

【0074】

この場合の「a(an)」は、厳密に１つの要素に制限するものと必ずしも理解すべきでない。正確には、複数の要素、例えば、２つ、３つ、又はそれ以上等を設けることもできる。ここで用いる他の数字はいずれも、正確に対応する数の要素に厳密に制限しなければならないと理解すべきでない。正確には、数の増減が可能である。

【0075】

本方法に関して記載した実施形態及び特徴は、調節可能スペーサ、光学系、及び／又はリソグラフィ装置にも適宜当てはまり、またその逆でもある。

【0076】

本発明のさらに他の可能な実施態様は、例示的な実施形態に関して上述又は後述されている特徴又は実施形態の明記されていない組み合わせも含む。この場合、当業者であれば、個々の態様を改良又は補足として本発明の各基本形態に加えることもあろう。

【0077】

本発明のさらに他の有利な構成及び態様は、従属請求項の主題であり、後述する本発明の例示的な実施形態の主題でもある。以下において、好ましい実施形態に基づき添付図面を参照して本発明をより詳細に説明する。

【図面の簡単な説明】

【0078】

【図1A】ＥＵＶリソグラフィ装置の実施形態の概略図を示す。

【図1B】ＤＵＶリソグラフィ装置の実施形態の概略図を示す。

【図2】図１Ａに示すＥＵＶリソグラフィ装置又は図１Ｂに示すＤＵＶリソグラフィ装置の光学系の実施形態の概略図を示す。

【図3】図２に示す光学系の調節可能スペーサの実施形態の概略図を示す。

【図4】図３に示す調節可能スペーサのさらに別の概略図を示す。

【図5】図３に示す調節可能スペーサのさらに別の概略図を示す。

【図6】図３に示す調節可能スペーサの概略斜視図を示す。

【図7】図３に示す調節可能スペーサのハウジング要素の実施形態の概略斜視図を示す。

【図8】図３に示す調節可能スペーサの変位要素の実施形態の概略斜視図を示す。

【図9】図３に示す調節可能スペーサの概略斜視部分図を示す。

【図10】図１Ａに示すＥＵＶリソグラフィ装置又は図１Ｂに示すＤＵＶリソグラフィ装置の第１素子をリソグラフィ装置の第２素子に向けて調整する方法の一実施形態の概略ブロック図を示す。

【発明を実施するための形態】

【0079】

別途指示のない限り、図中で同一の要素又は同一の機能を有する要素には同じ参照符号を設けてある。図示は必ずしも一定の縮尺ではないことにも留意されたい。

【0080】

図１Ａは、ビーム整形・照明系１０２及び投影系１０４を備えたＥＵＶリソグラフィ装置１００Ａの概略図を示す。この場合、ＥＵＶは「極紫外線」を意味し、０．１ｎｍ～３０ｎｍの使用光の波長を示す。ビーム整形・照明系１０２及び投影系１０４は、それぞれが真空ハウジング（図示せず）内に設けられ、各真空ハウジングは排気デバイス（図示せず）を用いて真空引きされる。真空ハウジングは、光学素子を機械的に移動させる又は設定する駆動デバイスが設けられた機械室（図示せず）により囲まれる。さらに、電気コントローラ等をこの機械室内に設けることもできる。

【0081】

ＥＵＶリソグラフィ装置１００Ａは、ＥＵＶ光源１０６Ａを備える。ＥＵＶ域（極紫外域）の、すなわち例えば５ｎｍ～２０ｎｍの波長域の放射線１０８Ａを発するプラズマ源（又はシンクロトロン）を、例えばＥＵＶ光源１０６Ａとして設けることができる。ビーム整形・照明系１０２において、ＥＵＶ放射線１０８Ａを集束させ、所望の作動波長をＥＵＶ放射線１０８Ａからフィルタリングする。ＥＵＶ光源１０６Ａが発生したＥＵＶ放射線１０８Ａは、空気中の透過率が比較的低く、こうした理由でビーム整形・照明系１０２及び投影系１０４の導光空間が真空引きされる。

【0082】

図１Ａに示すビーム整形・照明系１０２は、５つのミラー１１０、１１２、１１４、１１６、１１８を有する。ビーム整形・照明系１０２の通過後に、ＥＵＶ放射線１０８Ａはフォトマスク（レチクルと呼ばれる）へ導かれる。フォトマスク１２０は、同様に反射光学素子として具現され、システム１０２、１０４の外部に配置され得る。さらに、ＥＵＶ放射線１０８Ａは、ミラー１２２によりフォトマスク１２０へ指向され得る。フォトマスク１２０は、投影系１０４により縮小されてウェーハ１２４等に結像される構造を有する。

【0083】

投影系１０４（投影レンズとも称する）は、フォトマスク１２０をウェーハ１２４に結像するために６つのミラーＭ１～Ｍ６を有する。この場合、投影系１０４の個々のミラーＭ１～Ｍ６は、投影系１０４の光軸１２６に関して対称に配置され得る。ＥＵＶリソグラフィ装置１００ＡのミラーＭ１～Ｍ６の数は、提示した数に制限されないことに留意されたい。設けられるミラーＭ１～Ｍ６の数をより多くすることもより少なくすることもできる。さらに、ミラーＭ１～Ｍ６は、ビーム整形用に前面が概して湾曲している。

【0084】

図１Ｂは、ビーム整形・照明系１０２及び投影系１０４を備えたＤＵＶリソグラフィ装置１００Ｂの概略図を示す。この場合、ＤＵＶは「深紫外線」を意味し、３０ｎｍ～２５０ｎｍの使用光の波長を示す。図１Ａを参照してすでに記載したように、ビーム整形・照明系１０２及び投影系１０４は、真空ハウジング内に配置され且つ／又は対応する駆動デバイスを有する機械室により囲まれ得る。

【0085】

ＤＵＶリソグラフィ装置１００Ｂは、ＤＵ光源１０６Ｂを有する。例として、例えば１９３ｎｍのＤＵＶ域の放射線１０８Ｂを発するＡｒＦエキシマレーザをＤＵＶ光源１０６Ｂとして設けることができる。

【0086】

図１Ｂに示すビーム整形・照明系１０２は、ＤＵＶ放射線１０８Ｂをフォトマスク１２０へ導く。フォトマスク１２０は、透過光学素子として具現され、システム１０２、１０４の外部に配置され得る。フォトマスク１２０は、投影系１０４により縮小されてウェーハ１２４等に結像される構造を有する。

【0087】

投影系１０４は、フォトマスク１２０をウェーハ１２４に結像するために複数のレンズ素子１２８及び／又はミラー１３０を有する。この場合、投影系１０４の個々のレンズ素子１２８及び／又はミラー１３０は、投影系１０４の光軸１２６に関して対称に配置され得る。ＤＵＶリソグラフィ装置１００Ｂのレンズ素子１２８及びミラー１３０の数は、提示した数に制限されないことに留意されたい。設けられるレンズ素子１２８及び／又はミラー１３０の数をより多くすることもより少なくすることもできる。さらに、ミラー１３０は、ビーム整形用に前面が概して湾曲している。

【0088】

最終レンズ素子１２８とウェーハ１２４との間の空隙は、屈折率が１を超える液体媒体１３２で置き換えることができる。液体媒体１３２は、例えば高純度水であり得る。このような構成は、液浸リソグラフィとも称し、高いフォトリソグラフィ解像度を有する。媒体１３２は、浸液と称することもできる。

【0089】

図２は、光学系２００を示す。光学系２００は、ＥＵＶリソグラフィ装置１００Ａ又はＤＵＶリソグラフィ装置１００Ｂの一部であり得る。例えば、光学系２００は、例えばＥＵＶリソグラフィ装置１００Ａの投影系１０２の一部であり得るか又は投影系１０２であり得る。以下では、ＥＵＶリソグラフィ装置１００Ａのみを参照して光学系２００を説明する。しかしながら、光学系２００は、ＤＵＶリソグラフィ装置１００Ｂで用いることもできる。

【0090】

光学系２００は、第１素子２０２を備える。第１素子２０２は、例えば光学素子、特にミラー１１０、１１２、１１４、１１６、１１８、１２２、１３０、Ｍ１～Ｍ６のうちの１つ、レンズ素子１２８のうちの１つ、又は絞りであり得る。しかしながら、第１素子２０２は、フォースフレーム、光学素子を位置合わせするための調整素子又はアクチュエータ、光学素子のエンドストップ、特にセンサフレームの懸架用のアクティブ防振システム（ＡＶＩＳ）の一部、又は類似のものでもあり得る。

【0091】

光学系２００は、第２素子２０４をさらに備える。第２素子２０４は、光学系２００のベースであり得る。ベースは、光学系２００の固定環境（fixed world）と称することもできる。例えば、第２要素２０４は、光学系２００の又はＥＵＶリソグラフィ装置１００Ａの上記フォースフレームでもあり得る。この場合、第１素子２０２は、例えば、第２素子２０４により担持又は支持される上述のような光学素子であり得る。

【0092】

第１素子２０２は、第２素子２０４に対して特に６自由度、すなわちｘ方向、ｙ方向、及びｚ方向それぞれに沿った３つの並進自由度と、ｘ方向、ｙ方向、及びｚ方向それぞれを中心とした３つの回転自由度とを有する。換言すれば、第１素子２０２の位置及び向きは、６自由度を用いて決定又は記述することができる。方向ｘ、ｙ、ｚは、空間方向と称することもできる。

【0093】

第１素子２０２の「位置」は、特に、ｘ方向、ｙ方向、及びｚ方向に関するその座標又は第１素子２０２上に設けられた測定点の座標と理解されたい。第１素子２０２の「向き」は、特に、３つの空間方向に関するその傾斜と理解されたい。換言すれば、第１素子２０２は、ｘ方向、ｙ方向、及び／又はｚ方向に関して傾斜し得る。これにより、第１素子２０２の位置及び／又は向きに６自由度が与えられる。第１素子２０２の「ロケーション」は、その位置及びその向きの両方を含む。

【0094】

境界面２０６が、第１素子２０２と第２素子２０４との間に設けられる。第１素子２０２は、境界面２０６で第２素子２０４に結合される。第１素子２０２の表面２０８及び第２素子２０４の表面２１０に、境界面２０６が割り当てられる。表面２０８、２１０は相互に対面している。

【0095】

光学系２００の始動前、例えば露光動作前に、第１素子２０２の位置及び／又は向きを適合させる必要がある。この目的で、例えば、第１素子２０２を空間方向ｘ、ｙ、ｚにより規定された座標系で調整する又は方向付けることができるか、又は第１素子２０２を第２素子２０４に対して調整する又は方向付ける。

【0096】

この場合、「調整」は、第１素子２０２を実際位置ＩＬ（図２に実線で示し参照符号２０２を付す）からノミナル位置ＳＬ（図２に破線で示し参照符号２０２’を付す）にすることと理解され得る。特に補正レシピを用いて、例えば実際位置ＩＬを測定することができ、例えばノミナル位置ＳＬを計算することができる。

【0097】

第１素子２０２の調整は、例えばスペーサを用いて行うことができる。この目的で、こうしたスペーサ要素の必要な厚さ又は高さが、例えば仮想組立てモデルを用いて又は短絡測定を用いて最初に決定される。「短絡測定」は、光学系２００に標準又はノミナルスペーサを完全に組み付けてから測定することを意味するとこの場合は理解されたい。

【0098】

特に必要なスペーサの研削により加工時間が長くならないように、高さ又は厚さがさまざまなスペーサのモジュラーシステムが利用可能とされる。スペーサは、所望の加工精度を達成するためにここでは±２μｍの精度で研削される。複数のスペーサを組み合わせてスペーサスタックを形成することができる。１０μｍずつの小さな増加単位で、最大０．５ｍｍの大きな調整範囲が通常必要であることにより、多数のスペーサを利用可能にする必要がある。例えば、上述の種類の投影系１０４用に１０００個を超えるスペーサの在庫がなければならない。スペーサの複雑な取り扱い及びロジスティクスが、コストを押し上げる。さらに、長い加工時間を予想しなければならない。高精度スペーサの製造及び洗浄も非常に複雑である。

【0099】

既知のスペーサに対する調整を容易にするために、調節可能スペーサ３００が境界面２０６に設けられる。図２に示すスペーサ３００により、第１素子２０２のｚ方向の位置を調整することができる。この種のスペーサ３００を多数設けることができることで、第１素子２０２の位置及び／又は向きを特に第２素子２０４に対して調整することができる。締結要素２１２、例えばねじをスペーサ３００に通すことができる。スペーサ３００には、３つの空間方向ｘ、ｙ、ｚにより形成される座標が割り当てられることが好ましい。すなわち、空間方向ｘ、ｙ、ｚは、スペーサ３００に割り当てられる。第１素子２０２は、スペーサ３００にかかる重量Ｇを有する。このように、第１素子２０２は、その重量Ｇをスペーサ３００に負荷する。

【0100】

図３及び図４は、スペーサ３００の実施形態を示す。スペーサ３００は、第１ハウジング要素３０２及び第２ハウジング要素３０４を含む。ハウジング要素３０２、３０４は、同一の構成であり得る。ハウジング要素３０２、３０４は、対称面３０６に関して鏡面対称に位置決めされ得る。

【0101】

第１ハウジング要素３０２は、第１摺動平面又は第１摺動面３０８を含み、これは第１ハウジング要素３０２の外面３１０に対して第１傾斜角α１で傾斜している。傾斜角α１は、好ましくは１０°未満、例えば５°～８°である。したがって、第２ハウジング要素３０４は、第２摺動平面又は第２摺動面３１２を有し、これは第２ハウジング要素３０４の外面３１４に対して第２傾斜角αで傾斜している。傾斜角α１、α２は、同じサイズであることが好ましい。代替として、傾斜角α１、α２は、異なるサイズでもあり得る。外面３１０、３１４は、素子２０２、２０４の表面２０８、２１０に当接する。傾斜角α１、α２は、楔角と称することもできる。

【0102】

スペーサ３００は、ハウジング要素３０２、３０４間に配置されてこれらに対して直線変位可能な変位要素３１６をさらに含む。変位要素３１６は楔形である。したがって、変位要素３１６は、楔要素と称することもできる。変位要素３１６は、対称面３０６に関して鏡面対称に構成されることが好ましい。

【0103】

変位要素３１６は、第１摺動平面又は第１摺動面３１８を含み、これは第１ハウジング要素３０２の第１摺動面３０８に当接して第１摺動面３０８上で摺動することができる。変位要素３１６は、第２摺動平面又は第２摺動面３２０をさらに含み、これは第２ハウジング要素３０４の第２摺動面３１２に当接して第２摺動面３１２上で摺動することができる。摺動面３１８、３２０は、対称面３０６に関して鏡面対称に位置決めされる。

【0104】

第１摺動面３１８は、第１傾斜角α１に等しいことが好ましい第１傾斜角β１で対称面３０６に対して傾斜している。第２摺動面３２０は、第２傾斜角α２に等しいことが好ましい第２傾斜角β２で対称面３０６に対して傾斜している。傾斜角α１、α２が異なるサイズである場合、傾斜角β１、β２も異なるサイズだが、第１傾斜角α１、β１及び第２傾斜角α２、β２はそれぞれ同じサイズである。例えば、対応する摺動面３０８、３１８又は３１２、３２０が対称面３０６と平行に位置決めされるように、第１傾斜角α１、β１又は第２傾斜角α２、β２を０°に等しくすることもできる。傾斜角β１、β２は、楔角と称することもできる。

【0105】

摺動面３０８、３１２、３１８、３２０は、スペーサ３００の伝動機構３２２の一部である。伝動機構３２２は、ある空間方向、例えばｘ方向ｘの変位要素３１６の直線移動を、変位要素３１６がシフトする空間方向とは異なる空間方向、例えばｚ方向ｚのハウジング要素３０２、３０４のうちの少なくとも一方の直線移動に変換するよう設計される。すなわち、図３の向きでは、摺動面３０８、３１２、３１８、３２０は、ｘ方向ｘの変位要素３１６の直線シフト中に相互に摺動し、その結果として、ｚ方向ｚに見てハウジング要素３０２、３０４は相互に離れる。このように、図３の向きでｚ方向ｚと平行な向きのスペーサ３００の高さｈを調整することができる。高さｈは、厚さと称することもできる。ハウジング要素３０２、３０４に対する変位要素３１６の直線移動は、図３及び図４に矢印３２４を用いて示す。

【0106】

スペーサ３００は、任意のばね要素３２６をさらに含み得る。ばね要素３２６は、円筒ばね、特に圧縮ばねであり得る。ばね要素３２６は、変位要素３１６と固定軸受３２８との間に位置決めされる。特に、ばね要素３２６は、変位要素３１６を固定軸受３２８に結合する。固定軸受３２８は、例えばスペーサ３００のハウジング要素３０２、３０４の一部であり得る。

【0107】

スペーサ３００は、図３に示す非撓み状態Ｚ１から図４に示す撓み状態Ｚ２とその逆とにすることができる。高さｈは、非撓み状態Ｚ１よりも撓み状態Ｚ２の方が大きい。状態Ｚ１とＺ２との間で、スペーサ３００を無段階で任意の所望数の中間状態にすることができる。スペーサ３００が非撓み状態Ｚ１から撓み状態Ｚ２とその逆とになるとき、摺動面３０８は摺動面３１８上で摺動し、摺動面３１２は摺動面３２０上で摺動する。非撓み状態Ｚ１では、高さに参照符号ｈを付し、撓み状態では、高さに参照符号ｈ’を付し、高さｈ’は高さｈよりも大きい。

【0108】

スペーサ３０３が非撓み状態Ｚ１から撓み状態Ｚ２になるとき、ばね要素３２６は可逆的に非圧縮又は非緊張状態Ｚ１０から圧縮又は緊張状態Ｚ２になる。緊張状態Ｚ２０では、ばね要素３２６が変位要素３１６にばね力Ｆ、特に圧縮力をかけることで、変位要素３１６が非撓み状態Ｚ１の方向にプリテンションをかけられる。

【0109】

図５は、変位要素３１６の半分のみを図示し第２ハウジング要素３０４を全く図示しない、スペーサ３００のさらに別の概略図を示す。第１ハウジング要素３０２は、変位要素３１６から区別しやすいようにハッチングで示す。上述のように、高さｈを調整するために、変位要素３１６をハウジング要素３０２、３０４に対して直線移動させる。伝動機構３２２を用いて、ある空間方向に沿った、例えばｘ方向ｘに沿った変位要素３１６の変位経路Δｘの直線移動を、別の空間方向の、例えばｚ方向ｚのハウジング要素３０２、３０４の直線移動、すなわち高さ変化Δｈに変換することができる。

【0110】

図５に示す幾何学的配置では、ｔａｎβ１＝（Δｈ／２）Δｘ又はｔａｎα１＝（Δｈ／２）／Δｘである。ｘ方向ｘに沿った変位要素３１６の変位経路Δｘが例えば１ｍｍで、傾斜角β１が５°であるとすると、変位要素３１６が２つの摺動面３１８、３２０を有する場合には高さ変化Δｈ＝２ｔａｎβ１Δｘ＝１７５μｍとなる。傾斜角α１、α２、β１、β１が小さいほど、一定の変位経路Δｘに対する高さ変化Δｈが小さくなる。変位要素３１６が１つの摺動面３１８、３２０しか有しない場合、同じ変位経路Δｘに対する高さ変化Δｈは半減する。傾斜角α１、α２、β１、β２が小さいほど、実現される調整増加単位が小さくなる。

【0111】

浅い傾斜角α１、α２、β１、β２は、変位要素３１６とハウジング要素３０２、３０４との間の静摩擦も増加させる。したがって、スペーサ３００はセルフロック式である。すなわち、スペーサ３００は、ハウジング３０２、３０４の外面３１０、３１４に力を加えても撓み状態Ｚ２から非撓み状態Ｚ１にすることができない。したがって、調整不可能なスペーサに比べて、スペーサ３００はこれに劣らず剛性があり、さらに安定性もある。

【0112】

図６は、スペーサ３００の特定の設計を概略斜視図で示す。図９は、スペーサ３００の概略斜視部分図を示す。スペーサ３００は、２つのハウジング要素３０２、３０４を通り且つ変位要素３１６も通る貫通孔３３０を含む。貫通孔３３０は、ｘ方向ｘに延び得る細長い幾何学的形状を有し得る。すなわち、ｘ方向ｘに沿った貫通孔３３０の大きさは、ｙ方向ｙに沿ったその大きさよりも大きい。締結要素２１２を貫通孔３３０に通すことができる。このように、締結要素２１２は、第１素子２０２の曲げ応力につながり得るようなスペーサ３００の隣に配置される必要がない。貫通孔３３０は、スペーサ３００の実質的に中心に設けられる。

【0113】

スペーサ３００は、２つの調整要素３３２、３３４を含む。調整要素３３２、３３４は、ねじ、特に押えねじであり得る。第１調整要素３３２及び第２調整要素３３４が設けられる。調整要素３３２、３３４は、伝動機構３２２の一部であり得る。スペーサ３００を非撓み状態Ｚ１から撓み状態Ｚ２にするために、調整要素３３２、３３４を用いて、変位要素３１６をばね要素３２６のばね力Ｆに反して変位経路Δｘに沿って直線移動させることができる。調整要素３３２、３３４は、交互に作動させることができる。

【0114】

スペーサ３００を撓み状態Ｚ２から非撓み状態Ｚ１にするには、調整要素３３２、３３４を再度緩め、その結果として、ばね要素３２６がスペーサ３００を再度自動的に撓み状態Ｚ２から非撓み状態Ｚ１にする。

【0115】

スペーサ３００がばね要素３２６を有しない場合、スペーサ３００は、緩めた調整要素３３２、３３４に対する打撃動作により撓み状態Ｚ２から非撓み状態Ｚ１にすることもできる。さらに、スペーサ３００は、代替として１つの調整要素３３２、３３４のみを含むこともできる。

【0116】

図７に概略斜視図で示す第１ハウジング要素３０２は、第２ハウジング要素３０４と同一の構成を有する。第１ハウジング要素３０２の第１摺動面３０８及び外面３１０には、貫通孔３３６が貫通している。貫通孔３３６は、貫通孔３３０の一部である。調整要素３３２、３３４用の溝３３８、３４０が、貫通孔３３６の両側で第１摺動面３０８に設けられる。さらに、ばね要素３２６用の収容領域３４２が第１摺動面３０８に設けられる。収容領域３４２は、半円筒状であり得る。第１ハウジング要素３０２は、金属材料から、例えば鋼合金、又はアルミニウム合金から製造され得る。

【0117】

第１ハウジング要素３０２は、第２調整要素３３４を通す貫通孔３４６を有する後壁３４４をさらに含む。ばね要素３２６の上記固定軸受３２８は、後壁３４４の一部であり得る。第１ハウジング要素３０２は、第１ガイドレール３４８と、第１ガイドレール３４８と平行且つこれから離れて配置された第２ガイドレール３５０とを有する。ガイドレール３４８、３５０は、ガイド面又はガイド壁と称することもできる。図６が示すように、第１ハウジング要素３０２の第２ガイドレール３５０は、第２ハウジング要素３０４の第１ガイドレール３４８に対して内側を案内される。したがって、第２ハウジング要素３０４の第２ガイドレール３５０は、第１ハウジング要素３０２の第１ガイドレール３４８に対して内側を案内される。このように、ハウジング要素３０２、３０４は相互に対して捩れることができない。

【0118】

図８に概略斜視図で示す変位要素３１６も同様に、摺動面３１８、３２０を通り貫通孔３３０の一部である貫通孔３５２を含む。さらに、変位要素３１６は、第１調整要素３３２用の第１収容部３５４と、第２調整要素３３４用の第２収容部３５６とを有する。収容部３５４、３５６は、摺動面３１８、３２０を部分的に貫通し得る。

【0119】

各収容部３５４、３５６は、各調整要素３３２、３３４を螺入できるねじ孔（図示せず）を有する。貫通孔として形成された収容領域３５８が、ばね要素３２６を収容する役割を果たす。変位要素３１６は、金属材料、例えば鋼合金又はアルミニウム合金から製造され得る。

【0120】

スペーサ３００には、既知のスペーサに勝る多くの利点がある。高さｈの調整の精度は、高精度の、したがって高価な製造によってではなく伝動機構３２２の形態の敏感でない調整機構を用いて達成される。高さｈを調整するためにスペーサ３００を交換する必要はない。正確には、高さｈを調整するには、調整要素３３２、３３４への横からのアクセスで十分である。スペーサ３００では、上述のモジュラー概念で可能なものと少なくとも同じ調整精度、すなわち高さｈの漸変を達成することが可能である。スペーサ３００は、既知のスペーサスタックに劣らない剛性及び安定性を提供する。

【0121】

図１０は、第１素子２０２を第２素子２０４に向けて調整する方法の一実施形態の概略ブロック図を示す。

【0122】

ステップＳ１において、第１素子の実際ロケーションＩＬを求める。その後、ステップＳ２において、第１素子２０２のノミナルロケーションＳＬを求める。ステップＳ３において、スペーサ３００から荷重除荷する。これは、第１素子２０２をスペーサ３００から持ち上げることにより行うことができる。結果として、第１素子２０を実際ロケーションＩＬからノミナルロケーションＳＬにするために、ステップＳ４においてスペーサ３００の高さｈを調整する。これは、スペーサを２つの素子２０２、２０４間に挟んだままで行われることが好ましい。最後に、ステップＳ５において、スペーサ３００に再度荷重負荷する。例えば、スペーサ３００に第１素子２０２の重量Ｇを負荷する。

【0123】

本発明は、例示的な実施形態に基づいて説明したが、多様な方法で変更可能である。

【符号の説明】

【0124】

１００Ａ ＥＵＶリソグラフィ装置
１００Ｂ ＤＵＶリソグラフィ装置
１０２ ビーム整形・照明系
１０４ 投影系
１０６Ａ ＥＵＶ光源
１０６Ｂ ＤＵＶ光源
１０８Ａ ＥＵＶ放射線
１０８Ｂ ＤＵＶ放射線
１１０ ミラー
１１２ ミラー
１１４ ミラー
１１６ ミラー
１１８ ミラー
１２０ フォトマスク
１２２ ミラー
１２４ ウェーハ
１２６ 光軸
１２８ レンズ素子
１３０ ミラー
１３２ 媒体
２００ 光学系
２０２ 素子
２０２’ 素子
２０４ 素子
２０６ 境界面
２０８ 表面
２１０ 表面
２１２ 締結要素
３００ スペーサ
３０２ ハウジング要素
３０４ ハウジング要素
３０６ 対称面
３０８ 摺動面
３１０ 外面
３１２ 摺動面
３１４ 外面
３１６ 変位要素
３１８ 摺動面
３２０ 摺動面
３２２ 伝動機構
３２４ 矢印
３２６ ばね要素
３２８ 固定軸受
３３０ 貫通孔
３３２ 調整要素
３３４ 調整要素
３３６ 貫通孔
３３８ 溝
３４０ 溝
３４２ 収容領域
３４４ 後壁
３４６ 貫通孔
３４８ ガイドレール
３５０ ガイドレール
３５２ 貫通孔
３５４ 収容部
３５６ 収容部
３５８ 収容領域
Ｆ ばね力
Ｇ 重量
ｈ 高さ
ｈ’ 高さ
ＩＬ 実際位置
Ｍ１ ミラー
Ｍ２ ミラー
Ｍ３ ミラー
Ｍ４ ミラー
Ｍ５ ミラー
Ｍ６ ミラー
ＳＬ ノミナル位置
Ｓ１ ステップ
Ｓ２ ステップ
Ｓ３ ステップ
Ｓ４ ステップ
Ｓ５ ステップ
ｘ 空間方向
ｙ 空間方向
ｚ 空間方向
Ｚ１ 状態
Ｚ２ 状態
Ｚ１０ 状態
Ｚ２０ 状態
α１ 傾斜角
α２ 傾斜角
β１ 傾斜角
β２ 傾斜角
Δｈ 高さ変化
Δｘ 変位経路

【図1A】

【図1B】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【国際調査報告】