特表 2022-516600 無線周波数用途のための半導体・オン・インシュレータ構造用のレシーバ基板を製造するためのプロセス及び係る構造を製造するためのプロセス

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2022-03-01

(54)【発明の名称】無線周波数用途のための半導体・オン・インシュレータ構造用のレシーバ基板を製造するためのプロセス及び係る構造を製造するためのプロセス

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/02 20060101AFI20220221BHJP

【ＦＩ】

H01L27/12 B

H01L21/02 B

【審査請求】未請求

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2021532344

(86)(22)【出願日】2020-01-08

(85)【翻訳文提出日】2021-06-07

(86)【国際出願番号】 FR2020050028

(87)【国際公開番号】W WO2020144438

(87)【国際公開日】2020-07-16

(31)【優先権主張番号】1900194

(32)【優先日】2019-01-09

(33)【優先権主張国・地域又は機関】FR

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】598054968

【氏名又は名称】ソイテック

【氏名又は名称原語表記】Ｓｏｉｔｅｃ

【住所又は居所原語表記】Ｐａｒｃ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｑｕｅ ｄｅｓ ｆｏｎｔａｉｎｅｓ ｃｈｅｍｉｎ Ｄｅｓ Ｆｒａｎｑｕｅｓ ３８１９０ Ｂｅｒｎｉｎ， Ｆｒａｎｃｅ

(74)【代理人】

【識別番号】100107456

【弁理士】

【氏名又は名称】池田 成人

(74)【代理人】

【識別番号】100162352

【弁理士】

【氏名又は名称】酒巻 順一郎

(74)【代理人】

【識別番号】100123995

【弁理士】

【氏名又は名称】野田 雅一

(72)【発明者】

【氏名】ブルクアールト， マルセル

(72)【発明者】

【氏名】パリシ， ダミアン

(57)【要約】

本発明は、無線周波数用途のための半導体・オン・インシュレータ構造用のレシーバ基板（３０）を製造するためのプロセスに関し、
単結晶材料で作られたベース基板（１）及びベース基板（１）上に配置されたポリシリコンで作られた電荷トラッピング層（２）を備える半導体基板を用意するステップと、
電荷トラッピング層上に配置される酸化物層（３）を形成するために前記電荷トラッピング層（２）を酸化するステップと
を含み、プロセスは、電荷トラッピング層（２）が下記の方法、
７５０℃と１０００℃との間で構成される第１の温度（Ｔ_１）で酸化を開始するステップと、
第１の温度（Ｔ_１）よりも低くそして７５０℃と８７５℃との間で構成される第２の温度（Ｔ_２）まで温度を低下させるステップと、
第２の温度（Ｔ２）で酸化を続けるステップと
で８７５℃以下の温度で少なくとも部分的に酸化されることを特徴とする。
【選択図】 図２

【特許請求の範囲】

【請求項1】

無線周波数用途のための半導体・オン・インシュレータ構造用のレシーバ基板（３０）を製造するためのプロセスであって、
単結晶材料で作られたベース基板（１）及び前記ベース基板（１）上に配置されたポリシリコンで作られた電荷トラッピング層（２）を備える半導体基板（１０）を用意するステップと、
前記電荷トラッピング層上に配置される酸化物層（３）を形成するために前記電荷トラッピング層（２）を酸化するステップと、
を含むプロセスにおいて、前記プロセスは、前記電荷トラッピング層（２）が下記の方法、
７５０℃と１０００℃との間で構成される第１の温度（Ｔ_１）で前記酸化を開始するステップと、
前記第１の温度（Ｔ_１）よりも低く７５０℃と８７５℃との間で構成される第２の温度（Ｔ_２）まで前記温度を低下させるステップと、
前記第２の温度（Ｔ_２）で前記酸化を続けるステップと、
で８７５℃以下の温度で少なくとも部分的に酸化されることを特徴とする、プロセス。

【請求項2】

前記電荷トラッピング層（２）が、７５０℃以上の温度で少なくとも部分的に酸化される、請求項１に記載のプロセス。

【請求項3】

前記第１の温度（Ｔ_１）から前記第２の温度（Ｔ_２）への温度の前記低下が、徐々である、請求項１又は２に記載のプロセス。

【請求項4】

前記酸化物層の厚さの少なくとも５０％、好ましくは少なくとも７０％が、前記第１の温度（Ｔ_１）で作られ、そして前記酸化物層の前記厚さの少なくとも２０％、好ましくは少なくとも３０％が、前記第２の温度（Ｔ_２）で作られる、請求項１～３のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項5】

前記形成された酸化物層（３）が、２００ｎｍと４００ｎｍとの間で構成される厚さを有する、請求項１～４のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項6】

前記電荷トラッピング層（２）が、２０ｎｍと５００ｎｍとの間で構成される厚さを有する、請求項１～５のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項7】

前記電荷トラッピング層（２）が、反応炉内で低圧化学気相堆積によって単結晶材料で作られた前記ベース基板（１）上に事前に堆積される、請求項１～６のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項8】

無線周波数用途のための半導体・オン・インシュレータ構造を製造するためのプロセスにおいて、前記プロセスが、
請求項１～７のいずれか一項に従ってレシーバ基板（３０）を製造するステップと、
単結晶基板を含むドナー基板を用意するステップと、
前記レシーバ基板に前記ドナー基板をボンディングするステップと、
前記レシーバ基板に前記ドナー基板の層を移転するステップと、
を含むことを特徴とする、プロセス。

【請求項9】

前記ドナー基板から移転された前記層が、半導体を備える、請求項８に記載のプロセス。

【請求項10】

前記ドナー基板から移転された前記層が、強誘電性材料を備える、請求項８に記載のプロセス。

【請求項11】

前記強誘電性材料が、ＬｉＴａＯ_３、ＬｉＮｂＯ_３、ＬｉＡｌＯ_３、ＢａＴｉＯ_３、ＰｂＺｒＴｉＯ_３、ＫＮｂＯ_３、ＢａＺｒＯ_３、ＣａＴｉＯ_３、ＰｂＴｉＯ_３、ＫＴａＯ_３から選択される、請求項１０に記載のプロセス。

【請求項12】

前記移転が、
移転されるべき単結晶半導体又は強誘電性材料の層を画定する弱化ゾーンを形成するために前記ドナー基板に原子種を注入するステップと、
前記レシーバ基板に前記ドナー基板をボンディングするステップであって、前記酸化物層及び移転されるべき単結晶半導体又は強誘電性材料の前記層がボンディング界面のところにある、ボンディングするステップと、
前記レシーバ基板へ単結晶半導体又は強誘電性材料の前記層を移転させるために前記弱化ゾーンに沿って前記ドナー基板を切り離すステップであって、前記酸化物層が電荷トラッピング層と単結晶半導体又は強誘電性材料の前記移転すべき層との間に配置される、切り離すスッテプと、
を含む、請求項８～１１のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項13】

前記単結晶半導体又は強誘電性材料が、前記ドナー基板の表面のところに存在し、原子種の前記注入が前記表面を通して直接実行される、請求項１２に記載のプロセス。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、無線周波数用途のための半導体・オン・インシュレータ構造を生産するための「レシーバ基板」と呼ばれる基板の製造に関する。本発明はさらに、レシーバ基板への、「ドナー基板」と呼ばれる第２の基板の層の移転を介して係る構造を製造するためのプロセスにも関する。

【背景技術】

【0002】

半導体がシリコンであるときにその特定の例がシリコン・オン・インシュレータ（ＳＯＩ）構造である、半導体・オン・インシュレータ構造（頭字語ＳｅＯＩ）の製造の状況では、ドナー基板がレシーバ基板にボンディングされる。

【0003】

一般に、ドナー基板は、単結晶半導体基板、例えば単結晶シリコン基板を含み、そしてレシーバ基板は、ドナー基板からレシーバ基板へ移転されなければならない薄い半導体層のためのキャリアとして作用するように特に意図された少なくとも１つのベース基板を含む。

【0004】

酸化物層が、ドナー基板上に又はレシーバ基板上に形成され、そのため、前記酸化物層は、ドナー基板とレシーバ基板とがボンディングされた後でボンディング界面のところに配置される。酸化物層は、そのときには「埋め込まれた」と言われ、埋め込み酸化物（Ｂｕｒｉｅｄ ＯＸｉｄｅ）に関して「ＢＯＸ」と呼ばれる。

【0005】

無線周波数（ＲＦ）用途に関して、ベース層と埋め込み酸化物層との間の界面のところに存在する電荷をトラップするために、ポリシリコン（多結晶シリコン）層が埋め込み酸化物層の下のレシーバ基板へと組み込まれる。このポリシリコン層は、ボンディングの前にレシーバ基板のベース層上に配置される。

【0006】

酸化物層は、「ダイレクトボンディング」と呼ばれる第１のプロセスを使用してドナー基板の単結晶半導体で作られた基板上、又は「リバースボンディング」と呼ばれる第２のプロセスを使用してレシーバ基板のポリシリコン層上のいずれかに形成される。

【0007】

図１を参照して、ダイレクトボンディングプロセスでは、ポリシリコン（多結晶シリコン）で作られた電荷トラッピング層２で覆われたベース基板１を含むレシーバ基板１０、及び単結晶半導体で作られた基板４を含むドナー基板２０が用意される。ドナー基板の単結晶材料で作られた基板は、酸化物層３を形成するために酸化される。

【0008】

次に、単結晶材料で作られた前記層４に「弱化ゾーン」と呼ばれるゾーンを形成するために、原子種が酸化物層３を通して単結晶材料で作られた層４へと注入される。弱化ゾーンは、移転されるべき層の厚さに実質的に対応する所定の深さのところに作り出される。移転されるべき層は、そのときには、酸化物層及び単結晶基板のセグメントを含む。

【0009】

ドナー基板２０は、次いでレシーバ基板１０にボンディングされ、ポリシリコン層２及び酸化物層３がボンディング界面のところにあり、次いで、酸化物層３及び単結晶基板のセグメントをレシーバ基板１０へ移転させるために、ドナー基板２０が弱化ゾーンに沿って切り離される。

【0010】

ダイレクトボンディングプロセスは、酸化物層がドナー基板上に配置されるという欠点を有する。したがって、注入中に、原子種は、単結晶層に達する前に酸化物層を通過しなければならず、これが高い注入エネルギーを必要とする。ここで、注入エネルギーが高いほど、注入すべきイオンの量は多くなければならず、そして注入電流（電流密度）が低いほど、生産コストの増加に結びつき、プロセスの実行可能性を制限し、特に酸化物層の最大厚さを制限する。加えて、ドナー基板の一部が酸化物層を形成するために消費されるので、このプロセスは、ドナー基板の再使用性を低下させる。

【0011】

図２を参照して、リバースボンディングプロセスでは、ポリシリコンで作られた電荷トラッピング層２で覆われたベース基板１を含むレシーバ基板１０及び単結晶半導体で作られた基板４を含むドナー基板２０が用意される。しかしながら、ダイレクトボンディングプロセスとは対照的に、酸化物層３が電荷トラッピング層２の酸化を介してレシーバ基板１０上に直接形成される。

【0012】

弱化ゾーンを形成するために、原子種の注入は、このときには、ドナー基板の単結晶材料で作られた層４へ直接実行され、そして酸化物層３を通過しない。移転されるべき層は、そのときには単結晶基板のセグメントを単独で含む。

【0013】

ドナー基板は、次いで、レシーバ基板にボンディングされ、単結晶基板及び酸化物層がボンディング界面のところにあり、次いで、レシーバ基板へ単結晶基板のセグメントを移転させるために、ドナー基板が弱化ゾーンに沿って切り離される。

【0014】

リバースボンディングプロセスは、生産コストを低下させること及びドナー基板の再利用性を改善することを可能にする。

【0015】

対照的に、ポリシリコン層上に形成された酸化物層は、ダイレクトボンディングプロセスにおいて（特に単結晶シリコンの問題であるときに）ドナー基板の単結晶材料上の成長によって得られた酸化物層に対して、余りにも低い絶縁破壊電圧（Ｖｂｄ）を有する。絶縁破壊電圧は、無線周波数用途に適合するためには余りにも低い。

【0016】

この記述を図説するために、図３は、様々なレシーバ基板についての、センチメートル当たりのメガボルト（ＭＶ／ｃｍ）での電界の関数として、電流、アンペア（Ａ）の変化をプロットするグラフを示し、レシーバ基板には、埋め込み酸化物層が、先行技術によるダイレクトボンディング（図１のものなどの基板）又はリバースボンディング（図２のものなどの基板）によって形成された。

【0017】

Ｄ_１及びＤ_２として参照されたグラフ中の右の２つの曲線は、ダイレクトボンディングによって得られた２つの基板に対応する。これら２つの基板では、酸化物層が、ドナー基板の単結晶半導体の酸化によって形成され、次いで電荷トラッピング層へ移転された。

【0018】

Ｉ_１、Ｉ_２、Ｉ_３、Ｉ_４、及びＩ_５として参照されたグラフ中の左の５つの曲線は、リバースボンディングによって得られた５つの基板に対応する。５つの基板には、酸化物層が、レシーバ基板の多結晶シリコンで作られた電荷トラッピング層の酸化によって形成された。

【0019】

電流は、酸化物層上に配置された一片のアルミニウム及び測定プローブを用いて、グランドと基板の自由表面との間で測定された。

【0020】

ダイレクトボンディングに関して、２つの曲線Ｄ_１及びＤ_２は、基板が約７ＭＶ／ｃｍの短絡の前に耐えることができる最大電界に対応する勾配の急変を示す。曲線Ｄ_２に対応する最大電界の値は、曲線Ｄ_１に対応する最大電界の値よりもわずかに大きい。

【0021】

リバースボンディングに関して、５つの曲線Ｉ_１、Ｉ_２、Ｉ_３、Ｉ_４、及びＩ_５は、基板が約３ＭＶ／ｃｍの短絡の前に耐えることができる最大電界に対応する勾配の急変を示す。最大電界の値は、Ｉ_１とＩ_５との間で増加する。

【0022】

比較によって、最大電界の値が、ダイレクトボンディングによって得られた最大電界の値に対してリバースボンディングによって得られた基板に関して明らかに低いことを見ることができる。曲線の２つの組の間の平均距離は、約４ＭＶ／ｃｍである。

【0023】

リバースボンディングによる基板の製造は、これゆえ最大電界の低下を引き起こし、これが絶縁破壊電圧の対応する低下という結果をもたらす。

【発明の概要】

【0024】

本発明の１つの目的は、前述の欠点が克服されることを可能にするプロセスを提供することである。本発明は、レシーバ基板が半導体・オン・インシュレータ構造用に製造されることを可能にするこのようなプロセスを提供することを目的とし、レシーバ基板の埋め込み酸化物層は、生産コストを制限しながら無線周波数用途のために十分な絶縁破壊電圧を保有する。

【0025】

この目的のために、本発明は、無線周波数用途のための半導体・オン・インシュレータ構造用のレシーバ基板を製造するためのプロセスであって、
単結晶材料で作られたベース層及びベース層上に配置されたポリシリコンで作られた電荷トラッピング層を備える半導体基板を用意するステップと、
前記電荷トラッピング層上に配置される酸化物層を形成するために前記電荷トラッピング層を酸化するステップと
を含み、このプロセスは、上記電荷トラッピング層が下記の方法、
７５０℃と１０００℃との間で構成される第１の温度で酸化を開始するステップと、
第１の温度よりも低くそして７５０℃と８７５℃との間で構成される第２の温度まで温度を低下させるステップと、
第２の温度で酸化を続けるステップと
で８７５℃以下の温度で少なくとも部分的に酸化されることを主に特徴とする、プロセスを提案する。

【0026】

８７５℃以下の温度は、トラッピング層の酸化が先行技術で通常実行される温度よりも低い。具体的に、出願人は、無線周波数分野の当業者が特に出版物［１］によって例証されたような現在の知識に基づいて予想されるはずのものとは対照的に、電荷トラッピング層の酸化の温度を低下させることが、形成される酸化物層の絶縁破壊電圧を高くすることを可能にすることを発見したことは驚くべきことである。

【0027】

ポリシリコンで作られた電荷トラッピング層の酸化は、ポリシリコンを消費し、そして酸化物の形成の速度は、ポリシリコン粒子の結晶方位に依存する。このように、ポリシリコン層の結晶粒子が種々に配向されるという事実は、これらの粒子から形成されるシリコン酸化物を異なる速度で成長させる。例えば、酸化物は、＜１００＞方向及び＜１１１＞方向に配向した粒子から、同じ＜１００＞方向及び＜１１１＞方向に異なる速度で成長する。＜１００＞及び＜１１１＞という指数は、ミラー指数であり、この指数は結晶内の面の方位が決定されることを可能にし、これゆえ、結晶構造内の結晶粒子の方位が表現される。

【0028】

ポリシリコンの結晶粒子の方位に依存する酸化物の成長速度のこれらの違いは、結晶構造内部に、最も特に、成長中の酸化物層とその下にあるポリシリコン層との間の界面のところに機械的応力を発生する。成長中の酸化物層の体積が増加するので、そして酸化が進行するので、これらの応力は、ポリシリコン表面のところで増幅される。

【0029】

他の態様によれば、提案したプロセスは、下記の様々な特徴を有し、これらの特徴は、単独で又は技術的に実行できるこれらの組み合わせで実装されてもよく、
電荷トラッピング層が、７５０℃以上の温度で少なくとも部分的に酸化される。酸化速度が、したがって産業上の必要条件にさらに適合し、そして経済的に実行可能なままであり、
第１の温度Ｔ_１から上記第２の温度Ｔ_２への温度の低下が、徐々であり、
酸化物層の厚さの少なくとも５０％、好ましくは少なくとも７０％が、第１の温度Ｔ_１で作られ、そして酸化物層の厚さの少なくとも２０％、好ましくは少なくとも３０％が、第２の温度Ｔ_２で作られ、
形成された酸化物層が、２００ｎｍと３００ｎｍとの間で構成される厚さを有し、
電荷トラッピング層が、２０ｎｍと５００ｎｍとの間で構成される厚さを有し、
電荷トラッピング層が、反応炉内で低圧化学気相堆積によって単結晶材料で作られたベース基板の上に事前に堆積される。

【0030】

本発明はまた、無線周波数用途のための半導体・オン・インシュレータ構造を製造するためのプロセスに関し、このプロセスは、
上述したようなレシーバ基板を製造するステップと、
単結晶基板を含むドナー基板を用意するステップと、
レシーバ基板にドナー基板をボンディングするステップと、
レシーバ基板にドナー基板の層を移転するステップと
を含むことを特徴とする。

【0031】

他の態様によれば、提案したプロセスは、下記の様々な特徴を有し、これらの特徴は、単独で又は技術的に実行できるこれらの組み合わせで実装されてもよく、
ドナー基板から移転された層が、半導体を含み、
ドナー基板から移転された層が、強誘電性材料を含み、
強誘電性材料が、ＬｉＴａＯ_３、ＬｉＮｂＯ_３、ＬｉＡｌＯ_３、ＢａＴｉＯ_３、ＰｂＺｒＴｉＯ_３、ＫＮｂＯ_３、ＢａＺｒＯ_３、ＣａＴｉＯ_３、ＰｂＴｉＯ_３、ＫＴａＯ_３から選択され、
前記移転が、
移転されるべき単結晶半導体又は強誘電性材料の層を画定する弱化ゾーンを形成するためにドナー基板に原子種を注入するステップと、
レシーバ基板にドナー基板をボンディングするステップであって、酸化物層及び移転すべき単結晶半導体又は強誘電性材料の層がボンディング界面のところにある、ボンディングするステップと、
レシーバ基板へ単結晶半導体又は強誘電性材料の層を移転させるために弱化ゾーンに沿ってドナー基板を切り離すステップであって、酸化物層が電荷トラッピング層と単結晶半導体又は強誘電性材料の移転すべき層との間に配置される、切り離すスッテプと
を含む。

【0032】

単結晶半導体又は強誘電性材料が、ドナー基板の表面のところに位置することが好ましく、原子種の注入が前記表面を通して直接実行される。

【0033】

本発明の他の利点及び特徴は、次の添付した図を参照して、実例であり非限定的な例として与えられた下記の説明を読むと明確になるであろう。

【図面の簡単な説明】

【0034】

【図1】ダイレクトボンディングによる無線周波数用途のための半導体・オン・インシュレータ基板の製造を図説する図である。

【図2】リバースボンディングによる無線周波数用途のための半導体・オン・インシュレータ基板の製造を説明する図である。

【図3】先行技術による、埋め込み酸化物層がダイレクトボンディングによって又はリバースボンディングによって形成された様々なレシーバ基板について、電界の関数として電流の大きさの変化を示すグラフである。

【図4】温度の関数として＜１００＞及び＜１１１＞ミラー指数の酸化物結晶について４００ｎｍの厚さの酸化物層の成長時間を示す図である。

【図5】温度の関数として図４の２つの曲線の間の違いの変化を示すグラフである。

【図6】電荷トラッピング層の酸化の後で得られそして凸型の湾曲を有する図２の基板の模式図である。

【図7】埋め込み酸化物層が本発明によるリバースボンディングによって形成された様々なレシーバ基板について、電界の関数として電流の大きさの変化を示すグラフである。

【発明を実施するための形態】

【0035】

図の見やすさの目的で、基板を形成する様々な層は、必ずしも等尺で示される必要がない。

【0036】

本発明は、無線周波数用途のための半導体・オン・インシュレータ構造用のレシーバ基板（３０）を製造するためのプロセスに関し、下記のステップを含む。

【0037】

本発明によるプロセスは、リバースボンディングプロセスである。このプロセスは、図２を参照して、単結晶材料で作られたベース基板１及びベース基板上に配置されたポリシリコンで作られた電荷トラッピング層２を備える半導体基板１０を用意するステップで、前記電荷トラッピング層上に配置される酸化物層３を形成するために電荷トラッピング層２を酸化するステップが続く。

【0038】

電荷トラッピング層２は、ベース基板１上にエピタキシによって形成されるか、又は代替で特に化学気相堆積（ＣＶＤ）により前記ベース基板上に堆積されてもよい。

【0039】

電荷トラッピング層２は、７５０℃と８７５℃との間で構成される温度で少なくとも部分的に酸化される。

【0040】

このようなプロセスは、リバースボンディングによって、レシーバ基板３０を形成することを可能にし、このレシーバ基板の酸化物層は、酸化が８７５℃よりも高い温度で実行されるときよりも高い絶縁破壊電圧を有する。

【0041】

形成された酸化物層３は、数１００ナノメートル（ｎｍ）の厚さ、２００ｎｍと４００ｎｍとの間で構成される厚さを有することが好ましい。

【0042】

酸化の後で残っている電荷トラッピング層は、２０ｎｍと５００ｎｍとの間で構成される厚さを有することが好ましい。

【0043】

「少なくとも部分的に」という表現は、酸化の全体が７５０℃と８７５℃との間で構成される温度で実行されること、又は酸化の一部だけが７５０℃と８７５℃との間で構成される温度で実行されることを意味する。

【0044】

１つの実施形態によれば、電荷トラッピング層２が７５０℃と１０００℃との間で構成される温度Ｔ_１で酸化されることから始めて、次いで、温度はＴ_１より低くそして７５０℃と８７５℃との間で構成される温度Ｔ_２が達せられるまで直ちに又は徐々に下げられ、酸化がさらにまた続けられる。

【0045】

温度Ｔ_１は、これゆえ８７５℃よりも低いことがあり、又は実際には８７５℃よりも高く、例えば、９００℃若しくは９５０℃に等しいことがある。

【0046】

この実施形態では、酸化物層３の上側セグメントは温度Ｔ_１で作られ、一方、酸化物層３の下側セグメントは温度Ｔ_１よりも低い温度Ｔ_２で作られる。具体的には、電荷トラッピング層２は、その上面から下面へと酸化され、そして酸化界面は、反応が進むにつれて上面から下面へと移動する。

【0047】

この実施形態は、酸化速度が温度とともに増加するので電荷トラッピング層２の上側セグメントの酸化速度が増加すること、そしてこれゆえトラッピング層を酸化するために必要な時間が減少することを可能にする。

【0048】

酸化物層３の絶縁破壊電圧の上昇は、酸化の全体が７５０℃と８７５℃との間で構成される温度で実行される場合、及び酸化の一部だけが７５０℃と８７５℃との間で構成される温度で実行される場合の両方で観測される。具体的には、前記電荷トラッピング層２とベース基板との間の界面から電荷トラッピング層の自由表面に向けて延びる電荷トラッピング層２の少なくとも１つのセグメントに関して７５０℃と８７５℃との間で構成される温度で酸化されることが単純に必要である。

【0049】

７５０℃と８７５℃との間で構成される温度で作られる電荷トラッピング層のセグメントを最小にし、これゆえ酸化ステップの合計の長さを最小にするために、酸化パラメータを調節することが可能である。

【0050】

１つの実施形態によれば、酸化物層３の厚さの少なくとも５０％、好ましくは少なくとも７０％が、第１の温度Ｔ_１で作られ、そして酸化物層の厚さの少なくとも２０％、好ましくは少なくとも３０％が、第２の温度Ｔ_２で作られる。

【0051】

温度の関数として酸化物層を成長させるためにかかる時間の変化の検討が、種々の結晶方位の結晶について実行されてきている。

【0052】

図４は、ミラー指数＜１００＞（曲線Ｅ_１）及び＜１１１＞（曲線Ｅ_２）を有する酸化物結晶について（度摂氏での）温度の関数として４００ｎｍの厚さの酸化物層の（時間での）成長時間を示すグラフである。

【0053】

図５は、（度摂氏での）温度の関数として図４のミラー指数＜１００＞（曲線Ｅ_１）及び＜１１１＞（曲線Ｅ_２）を有する酸化物結晶間の（相対パーセントでの）成長速度の相対的な違いΔｖを示すグラフである。

【0054】

これらの結果は、温度が低いほど、異なる＜１００＞及び＜１１１＞結晶方位の結晶間の成長速度の違いが大きいことを示す。特に、この相対的な違いは、温度が８７５℃であるときに約４８％であり、それから８７５℃よりも低い温度に対して５０％より高く増加する。

【0055】

対照的に、温度が高いほど、異なる＜１００＞及び＜１１１＞結晶方位の結晶間の成長速度の違いが小さくなる。特に、この違いは、温度が１２００℃であるときには約９％である。

【0056】

加えて、酸化時間は、１０００℃よりも低い温度に関して、さらにもっと８５０℃よりも低い温度に関して非常に大きく増加する。このように、このプロセスを産業上の必要条件に適合する時間で実行されそして経済的に実行可能であり続けることを可能にするために、７５０℃よりも低く低下させないことが望ましい。

【0057】

電荷トラッピング層２の酸化は、ベース基板１の反対側の酸化を同時にともなう。基板の２つの側の間の材料の違いのために、ベース基板１及び電荷トラッピング層２を含む半導体基板１０は変形する。この変形は、全体の基板に影響を及ぼし、すなわち、基板の湾曲はその全体で、湾曲が凹型又は凸型になるように変形される。基板が円盤形状であるときには、基板は、変形の後で全体として放物面形状を有するだろう。

【0058】

より正確には、酸化中には、電荷トラッピング層２は、成長中の酸化物層３の機械的応力を支える。基板は、次いで凸型に変形する。

【0059】

「凸型」及び「凹型」という用語は、本明細書で下記に説明するドナー基板とのボンディング界面を形成することを意図する基板３０の側の湾曲に関すると理解されるべきであり、この側は、「表側」と呼ばれる。このように、表側の湾曲が凸型であるときに、基板は「凸型」であると言われ、そして表側の湾曲が凹型であるときに、基板は「凹型」であると言われる。

【0060】

図６に示した基板３０は、凸型に変形している。表側３１は上側である。裏側３２は表側に平行である。

【0061】

基板の湾曲は、バウと呼ばれそしてＢｗと記される大きさパラメータを介して典型的には定量化される。

【0062】

Ｂｗは、基板のメジアン平面Ｐｍ（破線により示される）の中心点Ｃと基板が載る基準ホルダに対応する基準平面Ｐとの間の距離に対応する。Ｂｗは、（図６に示したような）凸型湾曲の場合は正であり、凹型湾曲の場合は負である。

【0063】

出願人は、先行技術よりも低い温度で、そして特に７５０℃と８７５℃との間で構成される温度で電荷トラッピング層２の酸化の少なくとも一部を実行することが、バウＢｗを減少させることを可能にすることにさらに言及している。ベース基板１との界面のところの電荷トラッピング層２の下側表面と酸化物３との界面のところの電荷トラッピング層の上側表面との間の湾曲の違いが、このように減少され、このことはしたがって電荷トラッピング層内部の機械的応力を低下させる。

【0064】

上述したプロセスを使用して得られたレシーバ基板３０から、無線周波数用途のための半導体・ノン・インシュレータ構造は、プロセスのステップが下記に説明される製造プロセスを使用して製造される。

【0065】

次々と、ベース基板１、電荷トラッピング層２、及び酸化物層３を備えるレシーバ基板３０が用意される。ドナー基板と呼ばれる、単結晶材料で作られる第２の基板もまた用意される。

【0066】

ドナー基板は、半導体基板を含むことが好ましい。

【0067】

弱化ゾーンが、移転されるべき層を画定するように前記ドナー基板に形成される。

【0068】

移転されるべき層は、半導体層であることが好ましい。

【0069】

弱化ゾーンが、移転されるべき層の厚さに実質的に対応する所定の深さのところのドナー基板内に形成される。弱化ゾーンは、ドナー基板中へ、原子種、例えば、水素原子及び／又はヘリウム原子を注入することによって作り出されることが好ましい。実際には、原子種の注入は、ドナー基板の自由表面のところの単結晶材料を通して直接実行されることが好ましい。

【0070】

ドナー基板は、次いで、レシーバ基板にボンディングされる。酸化物層及び移転されるべき層は、ボンディング界面のところに配置される。

【0071】

ドナー基板は、次いで、レシーバ基板へ層を移転させるために、弱化ゾーンに沿って切り離される（スマートカット（Ｓｍａｒｔ Ｃｕｔ）（商標）プロセス）。酸化物層が電荷トラッピング層と移転された層との間に配置される最終構造が、このように得られる。

【0072】

或いは、層は、層に対する所望の厚さが得られるまで、ボンディング界面とは反対の側からドナー基板をシンニングすることによって移転されてもよい。

【0073】

１つの実施形態によれば、ドナー基板の移転されるべき層は、強誘電性材料を含む。

【0074】

強誘電性材料は、ＬｉＴａＯ_３、ＬｉＮｂＯ_３、ＬｉＡｌＯ_３、ＢａＴｉＯ_３、ＰｂＺｒＴｉＯ_３、ＫＮｂＯ_３、ＢａＺｒＯ_３、ＣａＴｉＯ_３、ＰｂＴｉＯ_３及びＫＴａＯ_３から選択されることが有利である。

【0075】

移転されるべき前記単結晶層のドナー基板は、例えば、直径１５０ｍｍ又は２００ｍｍの標準化されたサイズの円形ウェハの形態を取ることができる。本発明は、しかしながらこれらの寸法に又はこの形態に決して限定されない。ウェハは、予め決めた結晶方位を有するドナー基板を形成するように、強誘電体材料のインゴットから得られていてもよい。或いは、ドナー基板は、キャリア基板に接合された強誘電性材料の層を含むことができる。

【0076】

移転されるべき強誘電性材料の単結晶層の結晶方位は、意図された用途に応じて選択される。このように、材料ＬｉＴａＯ_３に関して、特に、ＳＡＷフィルタ（ＳＡＷは表面弾性波（Ｓｕｒｆａｃｅ Ａｃｏｕｓｉｔｃ Ｗａｖｅ）の頭字語である）を形成するために薄層の特性を利用することが望まれる場合では、３０°と６０°ＸＹとの間、又は４０°と５０°ＸＹとの間で構成される方位を選択することが定型である。材料ＬｉＮｂＯ_３に関して、約１２８°ＸＹの方位を選択することが定型である。しかしながら、本発明は、特定の結晶方位に決して限定されない。

【0077】

ドナー基板の強誘電性材料の結晶方位がどうであろうとも、プロセスは、例えば、このドナー基板中へ水素種及び／又はヘリウム種（イオン及び／又は原子）を導入するステップを含む。この導入は、例えば、水素注入、すなわち、ドナー基板の平坦な面の水素イオン照射、に対応することができる。

【0078】

それ自体知られているように、注入したイオンの目的は、移転すべき強誘電性材料の第１の層を画定する弱化平面を形成するためであり、この第１の層は、面の側に置かれそして他の部分が基板の残りを形成する。注入される種の特質、ドーズ及び注入されるイオンのタイプ、並びに注入エネルギーは、移転することが望まれる層の厚さ及びドナー基板の物理化学的特性に応じて選択される。ＬｉＴａＯ_３で作られたドナー基板の場合は、したがって、約２０～２０００ｎｍの厚さの第１の層を画定するために３０と３００ｋｅＶとの間のエネルギーで１Ｅ１６と５Ｅ１７ａｔ／ｃｍ^２との間の水素のドーズを注入するように選択されてもよい。

【0079】

（実験結果）
電界の関数としての構造内の電流の大きさの変化
上述の本発明のプロセスを使用して実現される利点を例証するために、電界の関数としての構造内の電流の変化の検討が実行された。

【0080】

図７は、本発明によるリバースボンディングによって得られた様々な基板について、センチメートル当たりのメガボルト（ＭＶ／ｃｍ）での、電界の関数として、グラフをより見やすくするために係数１００を掛け算したアンペア（Ａ）での、電流の大きさの変化をプロットするグラフを示す。前記基板は、埋め込み酸化物層を形成するために使用したレシーバ基板の酸化の形成の条件においては異なる。

【0081】

電流は、酸化物層上に配置された一片のアルミニウム及び測定プローブを通して、グランドと基板の自由表面との間で測定された。

【0082】

Ｃ_ｒｅｆ、Ｃ_１、Ｃ_２、Ｃ_３、Ｃ_４、及びＣ_５で参照された曲線は、下記をプロットする。

【0083】

曲線Ｃ_ｒｅｆは、４０００オングストロームの酸化物層を有する参照値、すなわち、ダイレクトボンディングによって得られた基板、に対応する。この曲線は、約７ＭＶ／ｃｍの最大電界に対応する勾配の急変を有する。

【0084】

曲線Ｃ_１は、追加アニールをせずに８５０℃で全体が実行された酸化に対応する。この曲線は、約６ＭＶ／ｃｍの最大電界を有する。

【0085】

曲線Ｃ_２は、９５０℃で実行された酸化であり、次いでその温度が従来型の炉内で１時間にわたり１１００℃に上昇された酸化に対応する。この曲線は、約３．７ＭＶ／ｃｍの最大電界を有する。

【0086】

曲線Ｃ_３は、熱アニールをせずに９５０℃で全体が実行された酸化に対応する。この曲線は、約３．５ＭＶ／ｃｍの最大電界を有する。

【0087】

曲線Ｃ_４は、９５０℃で全体が実行された酸化であり、１１００℃での４５秒の急速熱アニール（ＲＴＡ）が続く酸化に対応する。この曲線は、約２．８ＭＶ／ｃｍの最大電界を有する。

【0088】

曲線Ｃ_５は、１０００℃で全体が実行された酸化であり、１１００℃での４５秒の急速熱アニール（ＲＴＡ）が続く酸化に対応する。この曲線は、約２．８ＭＶ／ｃｍの最大電界を有する。

【0089】

これらの結果は、酸化温度の低下が最大電界を高くすることを可能にし、このことが絶縁破壊電圧の対応する増加という結果をもたらすことを示す。

【0090】

（参考文献）
[1]: Effect of Physical Stress on theDegradation of Thin SiO₂ Films Under Electrical Stress, Tien-ChunYang, 2000 IEEE.

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【国際調査報告】