特表2022-520760動作環境における反射フォトリソグラフィマスクのパターン要素の配置を決定するためのデバイスおよびその方法

発明の名称　動作環境における反射フォトリソグラフィマスクのパターン要素の配置を決定するためのデバイスおよびその方法

出願人　カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー　（識別番号 503263355）

　　　　特許公開件数ランキング 463 位（21件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 654 位（11件）（共同出願を含む）

公報番号　特表-2022-520760

公報発行日　2022年4月1

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_P1-2022-520760

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