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特表2023-500594光源によって生成される出力光ビームの分光特性の制御

書誌要約請求の範囲詳細な説明課題実施例実施するための形態図面の説明

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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2023-01-10

(54)【発明の名称】光源によって生成される出力光ビームの分光特性の制御

(51)【国際特許分類】

H01S 3/1055 20060101AFI20221227BHJP

G03F 7/20 20060101ALI20221227BHJP

H01S 3/102 20060101ALI20221227BHJP

【ＦＩ】

H01S3/1055

G03F7/20 521

H01S3/102

【審査請求】有

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2022522724

(86)(22)【出願日】2020-10-16

(85)【翻訳文提出日】2022-06-09

(86)【国際出願番号】 US2020056117

(87)【国際公開番号】W WO2021091675

(87)【国際公開日】2021-05-14

(31)【優先権主張番号】62/932,250

(32)【優先日】2019-11-07

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

(81)【指定国・地域】

【公序良俗違反の表示】

（特許庁注：以下のものは登録商標）

１．ＢＬＵＥＴＯＯＴＨ

(71)【出願人】

【識別番号】513192029

【氏名又は名称】サイマーリミテッドライアビリティカンパニー

(74)【代理人】

【識別番号】100079108

【弁理士】

【氏名又は名称】稲葉良幸

(74)【代理人】

【識別番号】100109346

【弁理士】

【氏名又は名称】大貫敏史

(74)【代理人】

【識別番号】100117189

【弁理士】

【氏名又は名称】江口昭彦

(74)【代理人】

【識別番号】100134120

【弁理士】

【氏名又は名称】内藤和彦

(72)【発明者】

【氏名】ツァオ，インボー

【テーマコード（参考）】

2H197

5F172

【Ｆターム（参考）】

2H197AA09

2H197CA06

2H197CA12

2H197DB03

2H197DC02

2H197DC12

5F172DD06

5F172NN24

5F172NP04

5F172NQ03

5F172ZA01

(57)【要約】

システムは、複数の光発振器を含む光源と、分光分析装置と、コントローラとを含む。各光発振器は光ビームを生成するように構成されている。コントローラは、分光分析装置からのデータに基づいて、光発振器のうち１つの光ビームの分光特性が複数の光発振器のうち少なくとも１つの別のものの光ビームの分光特性と異なるかどうかを判定するように構成されている。光発振器のうち第１のものの光ビームの分光特性が光発振器のうち１つの別のものの光ビームの分光特性と異なる場合には、コントローラは、光発振器のうち第１のものの光ビームの又は光発振器のうち少なくとも１つの他のものの光ビームの分光特性を調整するように構成される。
【選択図】図２Ａ

【特許請求の範囲】

【請求項1】

複数の光発振器を備える光源であって、各光発振器は光ビームを生成するように構成されている、光源と、
分光分析装置と、
コントローラであって、
前記分光分析装置からのデータに基づいて、前記光発振器のうち第１のものの前記光ビームの前記分光特性が前記複数の光発振器のうち少なくとも１つの他のものの前記光ビームの前記分光特性と異なるかどうかを判定するように構成されており、
前記光発振器のうち前記第１のものの前記光ビームの前記分光特性が前記光発振器のうち少なくとも１つの他のものの前記光ビームの前記分光特性と異なる場合には、前記光発振器のうち前記第１のものの前記光ビームの前記分光特性又は前記光発振器のうち少なくとも１つの他のものの前記光ビームの前記分光特性を調整するように構成される、コントローラと、
を備える、システム。

【請求項2】

前記分光特性は分光帯域幅を備える、請求項１のシステム。

【請求項3】

前記制御システムが前記光発振器のうち第１のものの前記光ビームの前記分光帯域幅が前記光発振器のうち少なくとも１つの他のものの前記光ビームの前記分光帯域幅と異なるかどうかを判定するように構成されていることは、前記コントローラが前記光発振器のうち前記第１のものの前記光ビームの前記分光帯域幅が前記複数の光発振器のうち前記少なくとも１つの他のものの前記帯域幅よりも小さいかどうかを判定するように構成されていることを備える、請求項２のシステム。

【請求項4】

前記光発振器のうち前記第１のものの前記光ビームの前記分光帯域幅が前記光発振器のうち少なくとも１つの他のものの前記光ビームの前記分光帯域幅よりも小さい場合には、前記コントローラは、前記光発振器のうち前記第１のものの前記光ビームの前記帯域幅を増大させるように構成される、請求項３のシステム。

【請求項5】

複数の分光調整装置を更に備え、各光発振器は前記複数の分光調整装置のうちの１つと関連付けられており、前記コントローラは、前記光発振器のうちいずれかと関連付けられた前記分光調整装置を制御し、それによって前記光発振器のうちいずれかの前記光ビームの前記分光特性を調整するように構成されている、請求項１のシステム。

【請求項6】

各分光調整システムは少なくとも１つの光学要素を備えており、前記コントローラは、特定の分光調整装置を、その分光調整装置の前記光学要素に連結されたアクチュエータをその光学要素が移動するように作動させることによって制御するように構成されている、請求項１のシステム。

【請求項7】

前記光学要素を移動させることは前記光ビームの中心波長を変化させる、請求項６のシステム。

【請求項8】

前記コントローラは更に、作動量を判定するように構成されている、請求項６のシステム。

【請求項9】

前記光学要素を作動させるために、前記コントローラは前記光学要素に電気信号を提供し、前記作動量は前記電気信号に基づいており、前記電気信号の１つ以上の特性は前記差に基づいて判定される、請求項８のシステム。

【請求項10】

前記電気信号の前記１つ以上の特性は振幅及び／又は周波数を備える、請求項９のシステム。

【請求項11】

前記作動量はある期間にわたって前記分光調整システムと相互作用することが予期される光パルスの数に基づいており、前記作動量は前記期間にわたって実施される別々の作動の数である、請求項８のシステム。

【請求項12】

前記作動量は、前記光発振器のうち前記第１のものの前記光ビームの前記分光特性と前記他の光発振器のうち前記少なくとも１つの前記光ビームの前記分光特性との差に基づいている、請求項８のシステム。

【請求項13】

各分光調整装置は少なくとも１つの屈折光学要素を備える、請求項１のシステム。

【請求項14】

各分光調整装置は少なくとも１つのプリズムを備える、請求項１のシステム。

【請求項15】

各分光調整装置は反射光学要素を備える、請求項１のシステム。

【請求項16】

各分光調整装置は、複数のプリズムと、前記プリズムのうち１つに連結されたアクチュエータとを備えており、前記コントローラは、前記それぞれの分光調整アセンブリの前記アクチュエータを制御し、それによって前記プリズムのうち前記１つを移動させることによって、前記光発振器のうちいずれかの前記光ビームの前記分光特性を調整するように構成されている、請求項１のシステム。

【請求項17】

前記各光発振器は複数の光パルスを備えるパルス光ビームを放出するように構成されている、請求項１のシステム。

【請求項18】

前記コントローラは更に、
前記分光特性を調整した後の前記第１の光発振器の前記光ビームの更新された分光特性を判定するように、及び
前記第１の光発振器の前記光ビームの前記更新された分光特性が前記光発振器のうち前記他のもののいずれかの前記光ビームの前記分光特性と異なるかどうかを判定するように構成されている、請求項１のシステム。

【請求項19】

前記複数の光発振器は、前記光発振器のうち前記第１のものが第１の光発振器であり第２の光発振器は前記少なくとも１つの他の光発振器であるように、１つの前記第１の光発振器と１つの前記第２の光発振器とのみを備えており、前記コントローラは、
前記分光分析システムからのデータに基づいて第１の光発振器の前記光ビームの前記分光特性が前記第２の光発振器の前記分光特性と異なるかどうかを判定するように、及び
前記第１の光発振器の前記分光帯域幅が前記第２の光発振器の前記分光帯域幅と異なる場合には、前記第１の光発振器の前記光ビームの前記分光特性又は前記第２の光発振器の前記光ビームの前記分光特性を調整するように構成される、請求項１のシステム。

【請求項20】

前記分光分析システムは複数の分光分析システムを備えており、各分光分析システムは前記光発振器のうちの１つの前記光ビームを受けるように構成されており、各分光分析システムは前記光発振器のうちの前記１つの前記光ビームに関連する分光特性を測定するように構成されている、請求項１のシステム。

【請求項21】

各光発振器はガス状利得媒質を含有するように構成されている、請求項１のシステム。

【請求項22】

前記ガス状利得媒質はフッ化クリプトン（ＫｒＦ）を備える、請求項２１のシステム。

【請求項23】

前記光発振器のうち前記第１のものの前記光ビームの前記分光特性が前記光発振器のうち少なくとも１つの他のものの前記光ビームの前記分光特性と異なる場合には、前記コントローラは、前記光発振器のうち前記第１のものの前記ガス状利得媒質の１つ以上のガス成分の前記圧力及び／又は濃度を調整して前記光発振器のうち前記第１のものの前記光ビームの前記分光特性を調整するように、又は前記光発振器のうち少なくとも１つの他のものの前記ガス状利得媒質の１つ以上のガス成分の前記圧力及び／又は濃度を調整して前記光発振器のうち前記少なくとも１つの他のものの前記分光特性を調整するように構成される、請求項２１のシステム。

【請求項24】

ビームコンバイナを更に備え、前記ビームコンバイナは、前記光発振器の全ての前記光ビームを受けて前記光ビームをＤＵＶリソグラフィスキャナツールに向けるように構成されている、請求項１のシステム。

【請求項25】

各光発振器はある反復率を有するパルス光ビームを生成するように構成されており、前記コントローラは前記光発振器のうち前記第１のもの又は前記光発振器のうち前記第２のものの前記光ビームの前記分光特性をある調整率で調整するように構成されており、前記調整率は前記反復率の１０分の１以上である、請求項１のシステム。

【請求項26】

Ｎ個の光発振器を備える深紫外（ＤＵＶ）光源を制御する方法であって、Ｎは１よりも大きい整数であり、各光発振器はそれぞれの光ビームを生成するように構成されており、
Ｍはゼロよりも大きくＮ以下の整数であるところ、Ｍ個のそれぞれの光発振器によって生成されるＭ個の光ビームに基づいて出力光ビームを形成することと、
前記Ｍ個の光ビームの各々の分光特性に関係するデータにアクセスすることと、
前記Ｍ個の光ビームの各々の分光特性を基準と比較することと、
前記比較に基づいて、前記Ｎ個の光発振器のうちいずれかの一態様を制御し、それによって前記Ｎ個の光ビームのうちいずれかの前記分光特性を調整するかどうかを判定することと、
を備える、方法。

【請求項27】

前記分光特性は分光帯域幅を備える、請求項２６の方法。

【請求項28】

前記基準は、前記Ｍ個の光ビームの各々の前記分光特性を前記基準と比較することが前記Ｍ個の光ビームの各々の前記分光特性を前記他のＭ個の光ビーム全ての前記分光特性と比較することを備えるように、前記Ｍ個の光ビームの全ての分光特性を備える、請求項２６の方法。

【請求項29】

前記Ｍ個の光ビームの各々の前記分光特性を前記他のＭ個の光ビームの全ての前記分光特性と比較することは、前記Ｍ個の光ビームの各々の前記分光特性と前記他のＭ個の光ビームの各々の前記分光特性との差を判定することを備え、
前記比較に基づいて判定することは、判定された各差を仕様と比較することを備える、請求項２６の方法。

【請求項30】

前記基準は前記分光特性の所定の値を備え、前記Ｍ個の光ビームの各々の前記分光特性を前記基準と比較することは、前記Ｍ個の光ビームの各々の前記分光特性を前記所定の値と比較することを備える、請求項２６の方法。

【請求項31】

前記所定の値は最大分光帯域幅を備え、前記Ｍ個の光ビームの各々の前記分光特性は、その光ビームの前記分光特性と前記最大分光帯域幅との差を判定することによって、前記最大分光帯域幅と比較される、請求項３０の方法。

【請求項32】

前記比較に基づいて判定することは、前記判定された差を所定の許容可能な差の範囲と比較することを備え、前記Ｍ個の光ビームのうち前記所定の許容可能な差の範囲の外にある判定された差を有するものについては、前記それぞれの光発振器の一態様が制御される、請求項３１の方法。

【請求項33】

前記それぞれの光発振器の一態様を制御することは、分散光学要素を作動させることを備える、請求項３２の方法。

【請求項34】

前記出力光ビームは第１の期間の前記Ｍ個の光ビームに基づくと共に第２の期間のＬ個の光ビームに基づいており、Ｌは１以上でＮ以下の整数であり、
前記基準は、前記Ｌ個の光ビームの各々の分光特性を備え、前記Ｍ個の光ビームの各々の前記分光特性を前記基準と比較することは、前記Ｍ個の光ビームの各々の前記分光特性を前記Ｌ個の光ビームの各々の前記分光特性と比較することを備える、請求項２６の方法。

【請求項35】

Ｌは１であり、Ｍは１であり、Ｎは２であり、前記Ｌ個の光ビームは前記Ｎ個の光発振器のうち第１のものによって発生される第１の光ビームであり、Ｍ個の光ビームは前記Ｎ個の光発振器のうち第２のものによって発生される第２の光ビームであり、
前記第１の光ビームの前記分光特性と前記第２の光ビームの前記分光特性とを比較することは、前記第２の光ビームの前記分光帯域幅が前記第１の光ビームの分光帯域幅よりも小さいかどうかを判定することと、
前記第２の光ビームの前記分光帯域幅が前記第１の光ビームの前記分光帯域幅よりも小さい場合には、前記Ｎ個の光発振器のうち前記第２のもののプリズムを前記第２の光ビームの前記分光帯域幅が増大されるように制御することと、を備える、請求項３４の方法。

【請求項36】

Ｌは１であり、Ｍは１であり、Ｎは２であり、前記Ｌ個の光ビームは前記Ｎ個の光発振器のうち第１のものによって発生される第１の光ビームであり、Ｍ個の光ビームは前記Ｎ個の光発振器のうち第２のものによって発生される第２の光ビームであり、
前記第１の光ビームの前記分光特性と前記第２の光ビームの前記分光特性とを比較することは、前記第１の光ビームの前記分光帯域幅が前記第２の光ビームの分光帯域幅よりも小さいかどうかを判定することと、
前記第１の光ビームの前記分光帯域幅が前記第２の光ビームの前記分光帯域幅よりも小さい場合には、前記Ｎ個の光発振器のうち前記第１のもののプリズムを前記第１の光ビームの前記分光帯域幅が増大されるように制御することと、を備える、請求項３４の方法。

【請求項37】

前記第１の光ビームの前記分光帯域幅と前記第２の光ビームの前記分光帯域幅との差に基づいて前記Ｎ個の光発振器のうち前記第２のものの前記プリズムへの調整量を判定することを更に備える、請求項３５の方法。

【請求項38】

前記Ｎ個の光発振器のうち前記第２のものの前記プリズムを制御するために、前記プリズムに物理的に連結されたアクチュエータに時変信号が印加され、前記時変信号の前記振幅は前記第１の光ビームの前記分光帯域幅と前記第２の光ビームの前記分光帯域幅との差に関係する、請求項３７の方法。

【請求項39】

Ｎ個の光発振器を備える深紫外（ＤＵＶ）光源のための制御システムであって、Ｎは１よりも大きい整数であり、各光発振器はそれぞれの光ビームを生成するように構成されており、前記制御システムは、
第１の期間に前記ＤＵＶ光源によって生成される出力光ビームが第１組の光ビームを備えるように、第１組の前記Ｎ個の光発振器を、前記第１の期間に前記第１組の光ビームを発生させるように制御し、
第２組の前記Ｎ個の光発振器及び前記第１組の前記Ｎ個の光発振器は前記Ｎ個の光発振器のうち同じ１つ又は複数の光発振器を含まないところ、第２の期間に前記ＤＵＶ光源によって生成される前記出力光ビームが前記第２組の光ビームを備えるように、前記第２組の前記Ｎ個の光発振器を、前記第２の期間に前記第２組の光ビームを発生させるように制御し、
前記Ｎ個の光ビームの分光特性の均一性を増大させるように、前記Ｎ個の光発振器のうち少なくとも１つの分光調整装置を制御するように構成されている、制御システム。

【請求項40】

前記分光調整装置は前記第２の期間の前に制御される、請求項３９の制御システム。

【請求項41】

前記第２組の前記Ｎ個の光発振器の前記Ｎ個の光発振器のうち１つ以上の前記分光調整装置は、前記それぞれの第２組の光ビームのうち１つ以上の前記分光特性を調整するように制御される、請求項４０の制御システム。

【請求項42】

各光発振器はある反復率でそれぞれのパルス光ビームを生成するように構成されており、前記制御システムは、前記Ｎ個の光発振器のうち少なくとも１つの前記分光調整装置を、前記反復率の１０分の１以上の調整率で制御するように構成されている、請求項３９の制御システム。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

関連出願の相互参照
[0001] 本願は２０１９年１１月７日に提出されCONTROLLING A SPECTRAL PROPERTY OF AN OUTPUT LIGHT BEAM PRODUCED BY AN OPTICAL SOURCEと題された米国出願第６２／９３２，２５０号の優先権を主張するものであり、同出願はその全体が参照により本明細書に組み込まれる。

【0002】

[0002] 本開示は、光源によって生成される出力光ビームの分光特性を制御することに関する。光源は複数の光発振器を含み、その各々が深紫外（ＤＵＶ）光ビームを生成し得る。

【背景技術】

【0003】

[0003] フォトリソグラフィとは、半導体回路をシリコンウェーハなどの基板上にパターニングするプロセスである。光源が、ウェーハ上のフォトレジストを露光させるために用いられる深紫外（ＤＵＶ）光を発生させる。ＤＵＶ光は、例えば、約１００ナノメートル（ｎｍ）から約４００ｎｍまでの波長を含み得る。光源はレーザ源（例えばエキシマレーザ）でありＤＵＶ光はパルスレーザビームであることが多い。光源からのＤＵＶ光は投影光学系と相互作用し、投影光学系はマスクを通してシリコンウェーハ上のフォトレジスト上にビームを投影する。このようにして、フォトレジスト上にチップ設計の層がパターニングされる。フォトレジスト及びウェーハはその後エッチングされて洗浄され、次いでフォトリソグラフィプロセスが繰り返される。

【発明の概要】

【0004】

[0004] 一態様においては、システムは、複数の光発振器を含む光源と、分光分析装置と、コントローラとを含む。各光発振器は光ビームを生成するように構成されている。コントローラは、分光分析装置からのデータに基づいて、光発振器のうち第１のものの光ビームの分光特性が複数の光発振器のうち少なくとも１つの他のものの光ビームの分光特性と異なるかどうかを判定するように構成されており、光発振器のうち第１のものの光ビームの分光特性が光発振器のうち少なくとも１つの他のものの光ビームの分光特性と異なる場合には、コントローラは、光発振器のうち第１のものの光ビームの分光特性又は光発振器のうち少なくとも１つの他のものの光ビームの分光特性を調整するように構成される。

【0005】

[0005] 実施例は以下の特徴のうち１つ以上を含み得る。

【0006】

[0006] 分光特性は分光帯域幅を含み得る。制御システムは、光発振器のうち第１のものの光ビームの分光帯域幅が複数の光発振器のうち少なくとも１つの他のものの光ビームの分光帯域幅よりも小さいかどうかを判定することによって、光発振器のうち第１のものの光ビームの分光帯域幅が光発振器のうち少なくとも１つの他のものの光ビームの分光帯域幅と異なるかどうかを判定するように構成され得る。光発振器のうち第１のものの光ビームの分光帯域幅が光発振器のうち少なくとも１つの他のものの光ビームの分光帯域幅よりも小さい場合には、コントローラは、光発振器のうち第１のものの光ビームの帯域幅を増大させ得る。

【0007】

[0007] システムは、複数の分光調整装置も含み得る。各光発振器は複数の分光調整装置のうちの１つと関連付けられていてもよく、コントローラは、光発振器のうちいずれかと関連付けられた分光調整装置を制御し、それによって光発振器のうちいずれかの光ビームの分光特性を調整するように構成されていてもよい。

【0008】

[0008] 各分光調整システムは少なくとも１つの光学要素を含んでいてもよく、コントローラは、特定の分光調整装置の光学要素に連結されたアクチュエータを光学要素が移動するように作動させることによってその分光調整装置を制御するように構成されていてもよい。光学要素を移動させることは、光ビームの中心波長を変化させ得る。コントローラは更に、作動量を判定するように構成されていてもよい。光学要素を作動させるために、コントローラは光学要素に電気信号を提供してもよく、作動量はその電気信号に基づいていてもよく、電気信号の１つ以上の特性は差に基づいて判定され得る。電気信号の１つ以上の特性は、振幅及び／又は周波数を含み得る。作動量はある期間にわたって分光調整システムと相互作用することが予期される光パルスの数に基づいていてもよく、作動量はその期間にわたって実施される別々の作動の数であってもよい。作動量は、光発振器のうち第１のものの光ビームの分光特性と他の光発振器のうち少なくとも１つの光ビームの分光特性との差に基づいていてもよい。

【0009】

[0009] 各分光調整装置は少なくとも１つの屈折光学要素を含み得る。

【0010】

[0010] 各分光調整装置は少なくとも１つのプリズムを含み得る。

【0011】

[0011] 各分光調整装置は反射光学要素を含み得る。

【0012】

[0012] 各分光調整装置は、複数のプリズムと、プリズムのうち１つに連結されたアクチュエータとを含んでいてもよく、コントローラは、それぞれの分光調整アセンブリのアクチュエータを制御し、それによってプリズムのうち１つを移動させることによって、光発振器のうちいずれかの光ビームの分光特性を調整するように構成されていてもよい。

【0013】

[0013] 各光発振器は、複数の光パルスを含むパルス光ビームを放出するように構成されていてもよい。

【0014】

[0014] コントローラは更に、分光特性を調整した後の第１の光発振器の光ビームの更新された分光特性を判定すると共に第１の光発振器の光ビームの更新された分光特性が光発振器のうち他のもののいずれかの光ビームの分光特性と異なるかどうかを判定するように構成され得る。

【0015】

[0015] 複数の光発振器は、光発振器のうち第１のものが第１の光発振器であり第２の光発振器は少なくとも１つの他の光発振器であるように、１つの第１の光発振器と１つの第２の光発振器とのみを含んでいてもよく、コントローラは、分光分析システムからのデータに基づいて第１の光発振器の光ビームの分光特性が第２の光発振器の分光特性と異なるかどうかを判定すると共に、第１の光発振器の分光帯域幅が第２の光発振器の分光帯域幅と異なる場合には、第１の光発振器の光ビームの分光特性又は第２の光発振器の光ビームの分光特性を調整するように、構成され得る。

【0016】

[0016] 分光分析システムは複数の分光分析システムを含んでいてもよく、各分光分析システムは光発振器のうちの１つの光ビームを受けるように構成されていてもよく、各分光分析システムは光発振器のうちのその１つの光ビームに関連する分光特性を測定するように構成されていてもよい。

【0017】

[0017] 各光発振器はガス状利得媒質を含有するように構成され得る。ガス状利得媒質はフッ化クリプトン（ＫｒＦ）を含み得る。光発振器のうち第１のものの光ビームの分光特性が光発振器のうち少なくとも１つの他のものの光ビームの分光特性と異なる場合には、コントローラは、光発振器のうち第１のもののガス状利得媒質の１つ以上のガス成分の圧力及び／又は濃度を調整して光発振器のうち第１のものの光ビームの分光特性を調整するように、又は光発振器のうち少なくとも１つの他のもののガス状利得媒質の１つ以上のガス成分の圧力及び／又は濃度を調整して光発振器のうち少なくとも１つの他のものの分光特性を調整するように構成され得る。

【0018】

[0018] システムはビームコンバイナを含んでいてもよく、ビームコンバイナは、全ての光発振器の光ビームを受けてそれらの光ビームをＤＵＶリソグラフィスキャナツールに向けるように構成される。

【0019】

[0019] いくつかの実施例においては、各光発振器はある反復率を有するパルス光ビームを生成するように構成されており、コントローラは光発振器のうち第１のもの又は光発振器のうち第２のものの光ビームの分光特性をある調整率で調整するように構成されており、調整率は反復率の１０分の１以上である。

【0020】

[0020] 別の一態様は、Ｎ個の光発振器を含む深紫外（ＤＵＶ）光源を制御する方法に係る。ただし、Ｎは１よりも大きい整数であり、各光発振器はそれぞれの光ビームを生成するように構成されている。方法は、Ｍはゼロよりも大きくＮ以下の整数であるところ、Ｍ個のそれぞれの光発振器によって生成されるＭ個の光ビームに基づいて出力光ビームを形成することと、Ｍ個の光ビームの各々の分光特性に関係するデータにアクセスすることと、Ｍ個の光ビームの各々の分光特性を基準と比較することと、比較に基づいて、Ｎ個の光発振器のうちいずれかの一態様を制御し、それによってＮ個の光ビームのうちいずれかの分光特性を調整するかどうかを判定することと、を含む。

【0021】

[0021] 実施例は以下の特徴のうち１つ以上を含み得る。

【0022】

[0022] 分光特性は分光帯域幅を含み得る。

【0023】

[0023] 基準は、Ｍ個の光ビームの各々の分光特性を基準と比較することがＭ個の光ビームの各々の分光特性を他のＭ個の光ビームの全ての分光特性と比較することを含むように、Ｍ個の光ビーム全ての分光特性を含み得る。

【0024】

[0024] Ｍ個の光ビームの各々の分光特性を他のＭ個の光ビームの全ての分光特性と比較することは、Ｍ個の光ビームの各々の分光特性と他のＭ個の光ビームの各々の分光特性との差を判定することを含んでいてもよく、比較に基づいて判定することは、判定された各差を仕様と比較することを含んでいてもよい。

【0025】

[0025] 基準は分光特性の所定の値を含んでいてもよく、Ｍ個の光ビームの各々の分光特性を基準と比較することは、Ｍ個の光ビームの各々の分光特性を所定の値と比較することを含む。所定の値は最大分光帯域幅を含んでいてもよく、Ｍ個の光ビームの各々の分光特性は、その光ビームの分光特性と最大分光帯域幅との差を判定することによって、最大分光帯域幅と比較されてもよい。比較に基づいて判定することは、判定された差を所定の許容可能な差の範囲と比較することを含んでいてもよく、Ｍ個の光ビームのうち所定の許容可能な差の範囲の外にある判定された差を有するものについては、それぞれの光発振器の一態様が制御され得る。それぞれの光発振器の一態様を制御することは、分散光学要素を作動させることを含み得る。

【0026】

[0026] 出力光ビームは第１の期間のＭ個の光ビームに基づき得ると共に第２の期間のＬ個の光ビームに基づき得る。Ｌは１以上でＮ以下の整数である。そして基準はＬ個の光ビームの各々の分光特性を含んでいてもよく、Ｍ個の光ビームの各々の分光特性を基準と比較することは、Ｍ個の光ビームの各々の分光特性をＬ個の光ビームの各々の分光特性と比較することを含み得る。Ｌは１であってもよく、Ｍは１であってもよく、Ｎは２であってもよく、Ｌ個のビームはＮ個の光発振器のうち第１のものによって発生される第１のビームであってもよく、Ｍ個の光ビームはＮ個の光発振器のうち第２のものによって発生される第２のビームであってもよく、第１の光ビームの分光特性と第２の光ビームの分光特性とを比較することは、第２の光ビームの分光帯域幅が第１の光ビームの分光帯域幅よりも小さいかどうかを判定することと、第２の光ビームの分光帯域幅が第１の光ビームの分光帯域幅よりも小さい場合には、Ｎ個の光発振器のうち第２のもののプリズムを第２の光ビームの分光帯域幅が増大されるように制御することと、を含み得る。

【0027】

[0027] Ｌは１であってもよく、Ｍは１であってもよく、Ｎは２であってもよく、Ｌ個のビームはＮ個の光発振器のうち第１のものによって発生される第１のビームであってもよく、Ｍ個の光ビームはＮ個の光発振器のうち第２のものによって発生される第２のビームであってもよく、第１の光ビームの分光特性と第２の光ビームの分光特性とを比較することは、第１の光ビームの分光帯域幅が第２の光ビームの分光帯域幅よりも小さいかどうかを判定することと、第１の光ビームの分光帯域幅が第２の光ビームの分光帯域幅よりも小さい場合には、Ｎ個の光発振器のうち第１のもののプリズムを第１の光ビームの分光帯域幅が増大されるように制御することと、を含み得る。方法は更に、第１の光ビームの分光帯域幅と第２の光ビームの分光帯域幅との差に基づいてＮ個の光発振器のうち第２のもののプリズムへの調整量を判定することを含み得る。Ｎ個の光発振器のうち第２のもののプリズムを制御するために、プリズムに物理的に連結されたアクチュエータに時変信号が印加されてもよく、時変信号の振幅は第１の光ビームの分光帯域幅と第２の光ビームの分光帯域幅との差に関係する。

【0028】

[0028] 別の一態様においては、深紫外（ＤＵＶ）光源の制御システムが、第１の期間にＤＵＶ光源によって生成される出力光ビームが第１組の光ビームを含むように、第１組のＮ個の光発振器を、第１の期間に第１組の光ビームを発生させるように制御し、第２組のＮ個の光発振器及び第１組のＮ個の光発振器はＮ個の光発振器のうち同じ１つ又は複数の光発振器を含まないところ、第２の期間にＤＵＶ光源によって生成される出力光ビームが第２組の光ビームを含むように、第２組のＮ個の光発振器を、第２の期間に第２組の光ビームを発生させるように制御し、Ｎ個の光ビームの分光特性の均一性を増大させるように、Ｎ個の光発振器のうち少なくとも１つの分光調整装置を制御するように構成されている。

【0029】

[0029] 実施例は以下の特徴のうち１つ以上を含み得る。

【0030】

[0030] 分光調整装置は第２の期間の前に制御され得る。第２組のＮ個の光発振器のＮ個の光発振器のうち１つ以上の分光調整装置は、それぞれの第２組の光ビームのうち１つ以上の分光特性を調整するように制御され得る。

【0031】

[0031] いくつかの実施例においては、各光発振器はある反復率でそれぞれのパルス光ビームを生成するように構成されており、制御システムは、Ｎ個の光発振器のうち少なくとも１つの分光調整装置を、反復率の１０分の１以上の調整率で制御するように構成されている。

【0032】

[0032] 上述した及び本明細書に記載された技術のうちいずれの実施例も、プロセス、装置、制御システム、非一時的機械可読コンピュータ媒体に記憶された命令、及び／又は方法を含み得る。１つ以上の実施例の詳細を、添付の図面及び以下の説明に記載する。他の特徴は、説明及び図面から、並びに特許請求の範囲から明らかになるであろう。

【図面の簡単な説明】

【0033】

【図1】[0033] 光源システムの一例のブロック図である。

【図2A】[0034] 光源システムの別の一例のブロック図である。

【図2B】[0035] 図２Ａの光源システムにおいて用いられる分光分析装置の一例である。

【図2C】[0036] 波長の関数としてのエネルギ密度で表される分光帯域幅の一例である。

【図3A】[0037] 分光分析装置の一例のブロック図である。

【図3B】[0038] 分光分析装置における光ビームの入射角を変更するための軸回りのプリズムの回転の一例である。

【図4】[0039] 光源システムにおける出力光ビームの分光特性の均一性を増大させるためのプロセスの一例のフローチャートである。

【図5】[0040] 光源システムにおける１つ以上の光発振器の一態様を調整するためのプロセスの一例のフローチャートである。

【発明を実施するための形態】

【0034】

[0041] 図１を参照すると、システム１００のブロック図が示されている。システムは光源１１０及び制御システム１５０を含む。光源１１０は出力光ビーム１１１を共通光学要素（common optical element）１３８に提供する。共通光学要素１３８は、例えば、（図２Ａのビームコンバイナ２１８のような）ビームコンバイナ又は（図２Ａのスキャナ装置２８０のような）リソグラフィツールであり得る。

【0035】

[0042] 光源１１０はＮ個の光発振器の１１２－１から１１２－Ｎを含む。ただし、Ｎは１よりも大きい整数である。各光発振器１１２－１から１１２－Ｎはそれぞれの光ビーム１１６－１から１１６－Ｎを生成するように構成されている。システム１００を用いるアプリケーションの要求に応じて、光ビーム１１６－１から１１６－Ｎのうち１つ、２つ以上、又は全てが任意の所与の時刻に出力光ビーム１１１に寄与し得る。出力光ビーム１１１に寄与する光ビーム１１６－１から１１６－Ｎのうち１つ又は複数は経時的に変化する。例えば、いくつかの実施例においては、特定の時刻に光発振器１１２－１から１１２－Ｎのうち１つのみがそれぞれの光ビーム１１６－１から１１６－Ｎを出力光ビーム１１１に寄与するように、制御システム１５０が光源１１０を、光発振器１１２－１から１１２－Ｎを循環的に切り替える（cycle through）ように制御する。

【0036】

[0043] 光源１１０は分光分析装置１９８も含み、これは光を検知するように及び検知された光の分光特性に関係するデータを生成するように構成されている。分光特性は、例えば、分光帯域幅又は中心波長であり得る。分光分析装置１９８は光ビーム１１６－１から１１６－Ｎのうちいずれかを検知するように構成されている。分光分析装置１９８は、図１の例においては単一の要素として示されている。しかしながら、いくつかの実施例においては、光源１１０はＮ個の分光分析装置を含み、（図２Ａの実施例におけるように）光発振器１１２－１から１１２－Ｎの一つ一つが関連する分光分析装置を有する。

【0037】

[0044] 光発振器１１２－１から１１２－Ｎのコンポーネント、動作、及び／又は構造の相違により、様々な光ビーム１１６－１から１１６－Ｎの間では１つ以上の分光特性（例えば分光帯域幅）が異なり得る。出力光ビーム１１１に寄与する光ビーム１１６－１から１１６－Ｎのうち１つ又は複数は経時的に変化するので、制御システム１５０が光発振器１１２－１から１１２－Ｎのうち特定の１つ又は複数で出力光ビーム１１１を発生させることから光発振器１１２－１から１１２－Ｎのうち別の１つ又は複数で光出力ビーム１１１を発生させることに切り替わるとき、出力光ビーム１１１の分光特徴は変化し得る。

【0038】

[0045] その一方で、制御システム１５０は、分光分析装置１９８からのデータを分析すると共に、光発振器１１２－１から１１２－Ｎのうち１つ以上を制御してそれぞれの光ビーム１１６－１から１１６－Ｎの分光特性を制御する。したがって、制御システム１５０は、様々な光ビーム１１６－１から１１６－Ｎの分光特性の不一致を低減させ又は排除し得る。このようにして、共通光学要素１３８において経時的に受けられた出力光ビーム１１１の分光特性の分光特徴は、出力光ビーム１１１に寄与する光を生成する光発振器１１２－１から１１２－Ｎのうち１つ以上が経時的に変化しても、より均一な又は一貫したものとなる。制御システム１５０は、光源１１０に対する他の調整を実施するためにも用いられ得る。例えば、いくつかの実施例においては、制御システム１５０は、仕様を満足しない分光特性を有する光ビームを生成する光発振器１１２－１から１１２－Ｎのうちいずれかのある光学要素又は他のコンポーネントを制御又は調整する。

【0039】

[0046] 制御システム１５０の様々な実施例及び例について詳細に述べる前に、図２Ａ及び図２Ｂに関して、光源２１０の１つの可能な実施例の概観が提示される。

【0040】

[0047] 図２Ａ及び図２Ｂを参照すると、システム２００は、露光ビーム（又は出力光ビーム）２１１をスキャナ装置２８０に提供する光源２１０を含む。制御システム２５０は、光源２１０及び光源２１０に関連する様々なコンポーネントに連結されている。データリンク２５４は、例えば電気又は光信号としてデータ及び情報を運ぶ任意のタイプの無線及び／又は有線媒体である。光源２１０及び制御システム２５０は、それぞれ光源１１０及び制御システム１５０（図１）の実施例である。

【0041】

[0048] 光源２１０は光発振器２１２－１から２１２－Ｎを含む。ただし、Ｎは１よりも大きい整数である。各光発振器２１２－１から２１２－Ｎはそれぞれの光ビーム２１６－１から２１６－Ｎを発生させる。光発振器２１２－１の詳細については後述する。光源２１０の他のＮ－１個の光発振器は同一又は類似の特徴を含む。

【0042】

[0049] 光発振器２１２－１は、カソード２１３－１ａ及びアノード２１３－１ｂを包囲する放電チャンバ２１５－１を含む。放電チャンバ２１５－１はガス状利得媒質２１４－１も含有する。カソード２１３－１ａとアノード２１３－１ｂとの間の電位差がガス状利得媒質２１４－１中に電界を形成する。電位差は、カソード２１３－１ａ及び／又はアノード２１３－１ｂに電圧を印加するように電圧源２９７を制御することによって発生され得る。電界は利得媒質２１４－１に、反転分布を引き起こすのに及び誘導放出を介して光のパルスの発生を可能にするのに十分なエネルギを提供する。そのような電位差を繰り返し作り出すことによって、光ビーム２１６－１として放出されるパルスの列が形成される。パルス光ビーム２１６－１の反復率は、電圧が電極２１３－１ａ及び２１３－１ｂに印加される率によって決定される。

【0043】

[0050] 利得媒質２１４－１は、電極２１３－１ａ及び２１３－１ｂへの電圧の印加によってポンピングされる。パルス光ビーム２１６－１のパルスの持続時間及び反復率は、電極２１３－１ａ及び２１３－１ｂへの電圧の印加の持続時間及び反復率によって決定される。パルスの反復率は、例えば、約５００から６，０００Ｈｚに及び得る。いくつかの実施例においては、反復率は６，０００Ｈｚより大きくてもよく、例えば１２，０００Ｈｚ以上であってもよい。光発振器２１２－１から放出される各パルスは、例えば、およそ１ミリジュール（ｍＪ）のパルスエネルギを有し得る。

【0044】

[0051] ガス状利得媒質２１４－１は、用途に必要な波長、エネルギ、及び帯域幅の光ビームを生成するのに適当な任意のガスであり得る。ガス状利得媒質２１４－１は１つよりも多くの種類のガスを含んでいてもよく、様々なガスがガス成分として参照される。エキシマ光源の場合には、ガス状利得媒質２１４－１は、例えばアルゴン又はクリプトンのような貴ガス（希ガス）、あるいは例えばフッ素又は塩素のようなハロゲンを含有し得る。ハロゲンが利得媒質である実施例においては、利得媒質は、ヘリウムなどのバッファガスの他に、微量のキセノンも含む。

【0045】

[0052] ガス状利得媒質２１４－１は深紫外（ＤＵＶ）域の光を放出する利得媒質であり得る。ＤＵＶ光は、例えば、約１００ナノメートル（ｎｍ）から約４００ｎｍまでの波長を含み得る。ガス状利得媒質２１４－１の具体例は、約１９３ｎｍの波長の光を放出するフッ化アルゴン（ＡｒＦ）、約２４８ｎｍの波長の光を放出するフッ化クリプトン（ＫｒＦ）、又は約３５１ｎｍの波長の光を放出する塩化キセノン（ＸｅＣｌ）を含む。

【0046】

[0053] 放電チャンバ２１５－１の一方の側の分光調整装置２９５－１と放電チャンバ２１５－１の第２の側の出力カプラ２９６－１との間には共振器が形成される。分光調整装置２９５－１は、例えば格子及び／又はプリズムなど、放電チャンバ２１５－１の分光出力を微調整する回折光学要素を含み得る。回折光学要素は反射型又は屈折型であり得る。いくつかの実施例においては、分光調整装置２９５－１は複数の回折光学要素を含む。例えば、分光調整装置２９５－１は４つのプリズムを含んでいてもよく、そのうちのいくつかは光ビーム２１６－１の中心波長を制御するように構成され、そのうちの他のものは光ビーム２１６－１の分光帯域幅を制御するように構成される。

【0047】

[0054] 図３Ａも参照すると、分光調整装置３９５－１のブロック図が示されている。分光調整装置３９５－１は、分光調整装置２９５－１から２９５－Ｎのいずれか又は各々として用いられ得る。分光調整装置３９５－１は、光ビーム２１６－１と光学的に相互作用するように配列された一組の光学フィーチャ又はコンポーネント３２１，３２２，３２３，３２４，３２５を含む。制御システム２５０は、それぞれの光学コンポーネント３２１，３２２，３２３，３２４，３２５に物理的に連結された１つ以上の作動システム３２１Ａ，３２２Ａ，３２３Ａ，３２４Ａ，３２５Ａに接続されている。作動システム３２１Ａ，３２２Ａ，３２３Ａ，３２４Ａ，３２５Ａは（シャフト３２６Ａのような）シャフトを含んでいてもよく、これがシャフトに連結されたコンポーネントをシャフトに平行な軸回りに回転させる。作動システム３２１Ａ，３２２Ａ，３２３Ａ，３２４Ａ，３２５Ａは、例えば制御システム２５０との通信のため及び電力を受けるためのモータ及び電子インターフェイスのような電子機器及び機械デバイスも含む。

【0048】

[0055] 光学コンポーネント３２１は分散光学要素、例えば格子又はプリズムである。図３Ａの例においては、光学コンポーネント３２１は回折面３０２を含む反射格子である。光学コンポーネント３２２，３２３，３２４，及び３２５は、屈折光学要素であり、例えばプリズムであり得る。光学コンポーネント３２２，３２３，３２４，及び３２５は、光学倍率ＯＭ３６５を有するビームエキスパンダ３０１を形成する。ビームエキスパンダ３０１を通る光ビーム２１６－１のＯＭ３６５は、ビームエキスパンダ３０１を出て行く光ビーム２１６－１の横幅Ｗｏの、ビームエキスパンダ２０１に進入する光ビーム２１６－１の横幅Ｗｉに対する比である。

【0049】

[0056] 格子３２１の面３０２は、光ビーム２１６－１の波長を反射及び回折する材料で作製される。プリズム３２２，３２３，３２４，及び３２５の各々はプリズムであり、光ビーム２１６－１がプリズムの本体を通過する際に、この光ビームを分散させ方向転換するように作用する。プリズム３２２，３２３，３２４，及び３２５の各々は、光ビーム２１６－１の波長を透過する材料で作製される。例えば、光ビーム２１６－１がＤＵＶ域にあれば、プリズム３２２，３２３，３２４，及び３２５はＤＵＶ域の光を透過する材料（例えばフッ化カルシウムなど）で作製される。

【0050】

[0057] プリズム３２５は格子３２１から最も遠くに位置しており、プリズム３２２は格子３２１に最も近接して位置している。光ビーム２１６－１はアパーチャ３５５を通って分光調整装置に進入し、その後プリズム３２５、プリズム３２４、プリズム３２３、及びプリズム３２２を（その順序で）通って進む。ビーム２１６－１が連続したプリズム３２５，３２４，３２３，３２２をそれぞれ通過する度に、光ビーム２１６－１は光学的に拡大され、次の光学コンポーネントの方に方向転換（ある角度で屈折）される。プリズム３２５，３２４，３２３，及び３２２を通過後、光ビーム２１６－１は面３０２で反射する。光ビーム２１６－１はその後、プリズム３２２、プリズム３２３、プリズム３２４、及びプリズム３２５を（その順序で）通過する。連続したプリズム３２２，３２３，３２４，３２５をそれぞれ通過する度に、光ビーム２１６－１は、アパーチャ３５５の方に進むにつれて、光学的に圧縮される。プリズム３２２，３２３，３２４，及び３２５を通過後、光ビーム２１６－１はアパーチャ３５５を通って分光調整装置３９５－１を出て行く。分光調整装置３９５－１を出た後、光ビーム２１６－１はチャンバ２１５－１を通過し、出力カプラ２９６－１で反射して、チャンバ２１５－１及び分光調整装置３９５－１に戻る。

【0051】

[0058] 光ビーム２１６－１の分光特性は、光学コンポーネント３２１，３２２，３２３，３２４，及び／又は３２５の相対的な配向を変化させることによって調整され得る。図３Ｂを参照すると、紙面の平面に垂直な軸回りのプリズムＰ（プリズム３２２，３２３，３２４，又は３２５のいずれであってもよい）の回転は、その回転されたプリズムＰの入光面Ｈ（Ｐ）に光ビーム２１６－１が衝突する入射角を変化させる。また、その回転されたプリズムＰを通る光ビーム２１６－１の２つの局所的な光学品質、すなわち光学倍率ＯＭ（Ｐ）及びビーム屈折角δ（Ｐ）は、その回転されたプリズムＰの入光面Ｈ（Ｐ）に衝突する光ビーム２１６－１の入射角の関数である。プリズムＰを通る光ビーム２１６－１の光学倍率ＯＭ（Ｐ）は、そのプリズムＰを出て行く光ビーム１１０Ａの横幅Ｗｏ（Ｐ）の、そのプリズムＰに進入する光ビーム２１６－１の横幅Ｗｉ（Ｐ）に対する比である。

【0052】

[0059] ビームエキスパンダ３０１内のプリズムＰのうち１つ以上における光ビーム２１６－１の局所的な光学倍率ＯＭ（Ｐ）の変化は、ビームエキスパンダ３０１を通る光ビーム２１６－１の光学倍率ＯＭ３６５の全体的な変化を引き起こす。そして、ビームエキスパンダ３０１内のプリズムＰのうち１つ以上を通じた局所的なビーム屈折角δ（Ｐ）の変化は、格子３２１の面３０２における光ビーム１１０Ａの入射角３６２（図３Ａ）の全体的な変化を引き起こす。光ビーム２１６－１の波長は、光ビーム２１６－１が格子３２１の面３０２に衝突する入射角３６２（図３Ａ）を変更することによって調整され得る。光ビーム２１６－１の分光帯域幅は、光ビーム２１６－１の光学倍率３６５を変更することによって調整され得る。

【0053】

[0060] したがって、光ビーム２１６－１の分光特性は、格子３２１及び／又はプリズム３２２，３２３，３２４，３２５のうち１つ以上の配向をそれぞれのアクチュエータ３２１Ａ，３２２Ａ，３２３Ａ，３２４Ａ，３２５Ａを介して制御することによって、変更又は調整され得る。分光調整装置は他の実施例が可能である。

【0054】

[0061] また、光ビーム２１６－１から２１６－Ｎの分光特性は他の手法で調整されてもよい。例えば、光ビーム２１６－１から２１６－Ｎの分光帯域幅などの分光特性は、それぞれのチャンバ２１５－１から２１５－Ｎのガス状利得媒質の圧力及び／又はガス濃度を制御することによって調整され得る。源（source）２１０がエキシマ光源である実施例については、光ビーム２１６－１から２１６－Ｎの分光特性（例えば分光帯域幅）は、例えば、それぞれのチャンバ２１５－１から２１５－Ｎのフッ素、塩素、アルゴン、クリプトン、キセノン、及び／又はヘリウムの圧力及び／又は濃度を制御することによって調整され得る。ガス状利得媒質２１４－１から２１４－Ｎの圧力及び／又は濃度はガス供給システム２９０によって制御可能である。

【0055】

[0062] 再び図２Ｂを参照すると、光発振器２１２－１は分光分析装置２９８－１も含む。分光分析装置２９８－１は、光ビーム２１６－１の波長を測定又はモニタするために用いられ得る測定システムである。図２に示される例においては、分光分析装置２９８－１は出力カプラ２９６－１から光を受ける。他の実施例が可能である。例えば、分光分析装置２９８－１は出力カプラ２９６－１と分光調整装置２９５－１との間にあってもよく、又はスキャナ装置２８０に位置していてもよい。

【0056】

[0063] 分光分析装置２９８－１はデータを制御システム２５０に提供し、制御システム２５０は分光分析装置２９８－１からのデータに基づいて光ビーム２１６－１の分光特徴に関係するメトリクスを決定する。例えば、制御システム２５０は、分光分析装置２９８－１によって測定されたデータに基づいて中心波長及び／又は分光帯域幅を決定し得る。分光特性は、装置２９８－１によって直接的に測定されてもよいし、又は分光分析装置２９８－１からのデータに基づき制御システム２５０によって判定されてもよい。中心波長は光ビームの電力加重平均波長（power-weighted average wavelength）である。分光帯域幅は光ビームにおける波長の広がり又は分布の測度である。図２Ｃは、波長の関数としてのエネルギ密度で表された分光帯域幅２３０の一例を示し、中心波長は２３１と標示されている。分光帯域幅は、半値全幅（ＦＷＨＭ）又は９５％積分幅（Ｅ９５）などの量によって特徴付けられ得る。ＦＷＨＭは最大強度の半分において含まれる分光領域である。Ｅ９５はスペクトルの総エネルギの９５％を囲む間隔である。

【0057】

[0064] 再び図２Ａを参照すると、光源２１０は、流体導管２８９を介して放電チャンバ２１５－１の内部に流体結合されたガス供給システム２９０も含む。流体導管２８９は、ガス又は他の流体を、その流体の損失無しに又は最小の損失で輸送することができる、任意の導管である。例えば、流体導管２８９は、流体導管２８９で輸送される１つ又は複数の流体と反応しない材料で作製又は被覆されたパイプであり得る。ガス供給システム２９０は、利得媒質２１４－１において用いられる１つ又は複数のガスを含有する及び／又はその供給を受けるように構成されたチャンバ２９１を含む。ガス供給システム２９０は、ガス供給システム２９０が放電チャンバ２１５－１からガスを除去すること又は同チャンバ内にガスを噴射することを可能にするデバイス（ポンプ、バルブ、及び／又は流体スイッチなど）も含む。ガス供給システム２９０は制御システム２５０に連結されている。ガス供給システム２９０は制御システム２５０によって、例えば再充填手順を実施するように、制御され得る。

【0058】

[0065] 他のＮ－１個の光発振器は光発振器２１２－１に類似しており、類似又は同一のコンポーネント及びサブシステムを有する。例えば、光発振器２１２－１から２１２－Ｎの各々は、電極２１３－１ａ及び２１３－１ｂのような電極と、分光分析装置２９８－１のような分光分析装置と、出力カプラ２９６－１のような出力カプラとを含む。また、電圧源２９７は光発振器２１２－１から２１２－Ｎの各々の電極に電気的に接続されていてもよく、又は、電圧源２９７はＮ個の個々の電圧源を含む電圧システムとして実装され、それらの電圧源の各々が光発振器２１２－１から２１２－Ｎのうち１つの光発振器の電極に電気的に接続されていてもよい。

【0059】

[0066] 光源２１０は、ビーム制御装置２１７及びビームコンバイナ２１８も含む。ビーム制御装置２１７は、光発振器２１２－１から２１２－Ｎのガス状利得媒質とビームコンバイナ２１８との間にある。ビーム制御装置２１７は、光ビーム２１６－１から２１６－Ｎのうちどれがビームコンバイナ２１８に入射するのかを決定する。ビームコンバイナ２１８は、ビームコンバイナ２１８に入射する１つ又は複数の光ビームから露光ビーム２１１を形成する。例えば、ビームコンバイナ２１８は、そこに入射する全ての光ビームをスキャナ装置２８０の方に方向転換し得る。

【0060】

[0067] 図示される例においては、ビーム制御装置２１７は単一の要素として表されている。しかしながら、ビーム制御装置２１７は、個々のビーム制御装置の集合として実装されてもよい。例えば、ビーム制御装置２１７はＮ個のシャッタの集合を含んでいてもよく、１つのシャッタが光発振器２１２－１から２１２－Ｎの各々と関連付けられている。Ｎ個のシャッタの各々はメカニカルシャッタ又は電子光学シャッタであり得る。Ｎ個のシャッタの各々は、それぞれの光ビーム２１６－１から２１６－Ｎを遮蔽する第１の状態と、それぞれの光ビーム２１６－１から２１６－Ｎを透過する第２組とを有する。

【0061】

[0068] 光源２１０は他のコンポーネント及びシステムを含んでいてもよい。例えば、光源２１０はビーム準備システム２９９を含み得る。ビーム準備システム２９９はパルスストレッチャ（図示しない）を含んでいてもよく、これは時間的にパルスストレッチャと相互作用する各パルスを拡張する。ビーム準備システムは、例えば反射及び／又は屈折光学要素（例えばレンズ及びミラーなど）、及び／又はフィルタなど、光に対して作用することのできる他のコンポーネントも含み得る。図示される例においては、ビーム準備システム２９９は露光ビーム２１１の経路に位置している。しかしながら、ビーム準備システム２９９は光リソグラフィシステム２００内の他の場所に設置されてもよい。また、他の実施例が可能である。例えば、光源２１０はビーム準備システム２９９のＮ個のインスタンスを含んでいてもよく、その各々がビームコンバイナ２１８とチャンバ２１５－１から２１５－Ｎのうち１つとの間に設置されると共に光ビーム２１６－１から２１６－Ｎのうち１つと相互作用するように位置している。別の一例においては、光源２１０は、光ビーム２１６－１から２１６－Ｎをビームコンバイナ２１８の方に向ける光学要素（ミラーなど）を含み得る。

【0062】

[0069] システム２００はスキャナ装置２８０も含む。スキャナ装置２８０はウェーハ２８２を整形された露光光ビーム２１１’で露光する。整形された露光光ビーム２１１’は、露光ビーム２１１に投影光学系２８１を通過させることによって形成される。スキャナ装置２８０は液浸システム又は乾式システムであり得る。スキャナ装置２８０は、ウェーハ２８２に到達する前に露光ビーム２１１が通過する投影光学系２８１と、センサシステム又はメトロロジシステム２７０とを含む。ウェーハ２８２はウェーハホルダ２８３上に保持又は受容される。スキャナ装置２８０は、例えば、（空調デバイス及び／又は加熱デバイスなどの）温度制御デバイス、及び／又は様々な電気部品のための電源も含み得る。

【0063】

[0070] メトロロジシステム２７０はセンサ２７１を含む。センサ２７１は、例えば帯域幅、エネルギ、パルス長、及び／又は波長など、整形された露光ビーム２１１’の特性を測定するように構成され得る。センサ２７１は、例えば、ウェーハ２８２における整形された露光ビーム２１１’の像を捕捉することのできるカメラ又は他のデバイス、あるいは、ウェーハ２８２におけるｘ－ｙ平面内の光エネルギの量を記述するデータを捕捉することのできるエネルギ検出器であり得る。

【0064】

[0071] 図２Ａに示される実施例においては、メトロロジシステム２７０は制御システム２５０に連結されていない。しかしながら、他の実施例においては、メトロロジシステム２７０は制御システム２５０に連結される。これらの実施例においては、メトロロジシステム２７０はデータを制御システム２５０に提供し、制御システム２５０はメトロロジシステム２７０にコマンドを発し得る。

【0065】

[0072] 制御システム２５０は、電子処理モジュール２５１と、電子記憶装置２５２と、Ｉ／Ｏインターフェイス２５３とを含む。電子処理モジュール２５１は、汎用又は専用マイクロプロセッサのようなコンピュータプログラムの実行に適した１つ以上のプロセッサと、任意の種類のデジタルコンピュータの任意の１つ以上のプロセッサとを含む。一般に、電子プロセッサは、読み出し専用メモリ、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）、又はその両方から命令及びデータを受信する。電子処理モジュール２５１は任意のタイプの電子プロセッサを含み得る。電子処理モジュール２５１の１つ又は複数の電子プロセッサは、命令を実行すると共に電子記憶装置２５２に記憶されたデータにアクセスする。１つ又は複数の電子プロセッサは、電子記憶装置２５２にデータを書き込むこともできる。

【0066】

[0073] 電子記憶装置２５２は、ＲＡＭなどの揮発性メモリであってもよいし、又は不揮発性メモリであってもよい。いくつかの実施例においては、電子記憶装置２５２は、不揮発性及び揮発性の部分又はコンポーネントを含む。電子記憶装置２５２は制御システム２５０の動作において用いられるデータ及び情報を記憶し得る。例えば、電子記憶装置２５２は、光ビーム２１６－１から２１６－Ｎの仕様情報を記憶し得る。仕様情報は、例えば、光ビーム２１６－１から２１６－Ｎの目標エネルギ、波長、及び／又は分光帯域幅を含み得る。仕様情報は、光ビーム２１６－１から２１６－Ｎの分光特性の許容可能な差の量の範囲又は上限も含み得る。電子記憶装置２５２は、分光調整装置２９５－１から２９５－Ｎを制御するため及び分光分析装置２９８－１から２９８－Ｎからのデータを分析するための（例えばコンピュータプログラムの形をとる）命令も記憶し得る。

【0067】

[0074] 電子記憶装置２５２は、制御システム２５０に光リソグラフィシステム２００の他のコンポーネント及びサブシステムと相互作用させる（例えばコンピュータプログラムの形をとる）命令も記憶し得る。例えば、命令は、電子処理モジュール２５１に光源２１０及び／又はビーム制御装置２１７へのコマンド信号を提供させて露光ビーム２１１に寄与する光発振器２１２－１から２１２－Ｎのうち１つ又は複数を変化させる命令であり得る。電子記憶装置２５２は、光リソグラフィシステム２００、スキャナ装置２８０、及び／又は光源２１０から受信した情報も記憶し得る。

【0068】

[0075] Ｉ／Ｏインターフェイス２５３は、制御システム２５０がオペレータ、光源２１０、スキャナ装置２８０、及び／又は別の電子デバイス上で動作する自動化されたプロセスとデータ及び信号を交換することを可能にする、任意の種類のインターフェイスである。例えば、電子記憶装置２５２に記憶されたルール又は命令が編集され得る実施例においては、その編集はＩ／Ｏインターフェイス２５３を通じて行われ得る。Ｉ／Ｏインターフェイス２５３は、視覚表示装置、キーボード、並びにパラレルポート、ユニバーサルシリアルバス（ＵＳＢ）接続、及び／又は例えばイーサネットのような任意のタイプのネットワークインターフェイスなどの通信インターフェイスのうち、１つ以上を含み得る。Ｉ／Ｏインターフェイス２５３は、例えばＩＥＥＥ８０２．１１、Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ、又は近距離通信（ＮＦＣ）接続を通じて、物理的接触の無い通信も可能にし得る。

【0069】

[0076] 制御システム２５０はデータ接続２５４を通じて光源２１０に連結されている。データ接続２５４は、物理的なケーブル若しくは他の物理的なデータ管路（ＩＥＥＥ８０２．３に基づくデータの伝送をサポートするケーブルなど）、無線データ接続（ＩＥＥＥ８０２．１１又はＢｌｕｅｔｏｏｔｈを介してデータを提供するデータ接続など）、又は有線及び無線のデータ接続の組み合わせであってもよい。データ接続を経由して提供されるデータは、任意のタイプのプロトコル又はフォーマットを通じて設定され得る。データ接続２５４は通信インターフェイスにおいて光源２１０に接続される。通信インターフェイスは、データを送信及び受信することのできる任意の種類のインターフェイスであり得る。例えば、データインターフェイスは、イーサネットインターフェイス、シリアルポート、パラレルポート、又はＵＳＢ接続であってもよい。いくつかの実施例においては、データインターフェイスは無線データ接続を通じたデータ通信を可能にする。例えば、データインターフェイスは、ＩＥＥＥ８１１．１１トランシーバ、Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ、又はＮＦＣ接続であってもよい。制御システム２５０は光源２１０内のシステム及び／又はコンポーネントに接続され得る。例えば、制御システム２５０は光発振器２１２－１から２１２－Ｎの各々に直接的に接続され得る。

【0070】

[0077] 図２Ｂも参照すると、投影光学系２８１は、スリット２８４と、マスク２８５と、レンズシステム２８６を含む投影対物系とを含む。レンズシステム２８６は１つ以上の光学要素を含む。露光ビーム２１１はスキャナ装置２８０に進入してスリット２８４に衝突し、出力光ビーム２１１の少なくともいくらかがスリット２８４を通過して整形された露光ビーム２１１’を形成する。図２Ａ及び図２Ｂの例においては、スリット２８４は長方形であり、露光ビーム２１１を細長の長方形状の光ビームに整形する。これが整形された露光ビーム２１１’である。マスク２８５は、整形された光ビームのどの部分がマスク２８５によって透過されどの部分がマスク２８５によって遮蔽されるのかを決定するパターンを含む。ウェーハ２８２上には、ウェーハ２８２上の放射感応性フォトレジスト材料の層を露光ビーム２１１’で露光することによって、マイクロ電子フィーチャが形成される。マスク上のパターンの設計は、所望される具体的なマイクロ電子回路フィーチャによって決定される。

【0071】

[0078] 制御システム２５０は、それぞれの光ビーム２１６－１から２１６－Ｎの１つ又は複数の分光特性を制御するように光発振器２１２－１から２１２－Ｎの１つ以上の態様を制御する。制御システム２５０は、実質的に同一の分光特性を有するように光ビーム２１６－１から２１６－Ｎを調整してもよい。例えば、制御システム２５０は、分光分析装置２９８－１から２９８－Ｎからの情報に基づいて、光ビーム２１６－１の分光帯域幅が他のＮ－１個の光ビームの分光帯域幅よりも小さいということを判定し得る。これに呼応して、制御システム２５０は、分光調整装置２９５－１又は利得媒質２１４－１の特徴を、光ビーム２１６－１の分光帯域幅を増大させるように制御する。

【0072】

[0079] 図４を参照すると、手順４００のフローチャートが示されている。手順４００は、制御システム１５０（図１）又は制御システム２５０（図２Ａ）によって実施され得る。下記の例においては、手順４００は、制御システム２５０によって及び光源２１０によって実施される。上述したように、光学系２１０はＮ個の光発振器２１２－１から２１２－Ｎを含み、その各々がそれぞれの光ビーム２１６－１から２１６－Ｎを生成するように構成されている。光ビーム２１６－１から２１６－Ｎのうち少なくとも１つが任意の所与の時刻に出力光ビーム２１１に寄与する。

【0073】

[0080] 光源２１０に１つよりも多くの光発振器を含むことは、光源２１０及びシステム２００の性能を向上させる。例えば、光発振器は典型的には、ある運用間隔が経過した後、保守のために運用停止される。運用間隔は、ある期間又は予め定義されたパルス数であり得る。光発振器は、保守が実施されている間は、それぞれの光ビームを信頼性高く生成することができない。光源２１０は１つよりも多くの光発振器を含むので、光発振器のうち１つが、光発振器のうち他の１つ又は複数が保守されている間に運用され得る。このように、Ｎ個の光発振器を含むことによって、源２１０（及びシステム２００）のダウンタイムが短縮される。また、光発振器のうちいずれかが置換されることを要さずに源２１０が動作する合計期間は、１組の光発振器しか含まない光源が動作することのできる時間の量よりも長い。

【0074】

[0081] したがって、Ｎ個の光発振器により、源２１０は、より短いダウンタイム及びより長い全体的な動作寿命を有するようになる。出力光ビーム２１１に寄与する光ビーム２１６－１から２１６－Ｎのうち１つ又は複数は経時的に変化する。補正をしなければ、光ビーム２１６－１から２１６－Ｎの各々は、同一の分光特性について異なる値又は量を有し得る。したがって、補正をしない場合には、光発振器２１２－１から２１２－Ｎのうち異なる１つ又は複数からの光ビームを用いて出力光ビーム２１１が発生されるにつれて、出力光ビーム２１１の分光特性も経時的に変化するであろう。手順４００は、出力光ビーム２１１の分光特性の均一性を経時的に増大させるために実施される。

【0075】

[0082] 第１の期間の間、光リソグラフィシステム２００は、第１組のＮ個の光発振器２１２－１から２１２－Ｎから出力光ビーム２１１を発生させる（４１０）。第１の期間は第１組の光発振器の各々が特定の数のパルス、例えば数千のパルスを生成するのにかかる時間であってもよく、又は第１の期間は予め設定された期間であってもよい。第１組は、Ｎ個の光発振器２１２－１から２１２－Ｎのうち１つ、Ｎ個の光発振器のうち複数、又はＮ個の光発振器の全てを含み得る。制御システム２５０は、第１組の発振器からの光ビームのみが出力光ビーム２１１に寄与するように光学系２１０を制御する。

【0076】

[0083] 例えば、いくつかの実施例においては、光発振器２１２－１から２１２－Ｎの全てがそれぞれの光ビーム２１６－１から２１６－Ｎを生成し、制御システム２５０はビーム制御装置２１７に対して、第１組の光発振器によって生成される光ビームのみが出力光ビーム２１１に寄与することを保証するように作用する。この実施例においては、制御システム２５０はビーム制御装置２１７に対して、第１組の１つの光発振器によって発生された光ビームのみが出力光ビーム２１１に寄与するように作用する。例えば、ビーム制御装置２１７はＮ個のシャッタを含んでいてもよく、その各々がＮ個の光発振器２１２－１から２１２－Ｎのうちの１つと関連付けられている。第１の状態では、各シャッタはそれぞれの光ビームを遮蔽する。第２の状態では、各シャッタはそれぞれの光ビームを透過する。これらの実施例においては、制御システム２５０は、第１組の各光発振器と関連付けられたシャッタを、第２の状態になるように制御する。制御システム２５０は、第１組の光発振器ではない各光発振器と関連付けられたシャッタを第１の状態にする。したがって、第１組ではない光発振器によって発生された光ビームは、ビームコンバイナ２１８に到達せず、出力光ビーム２１１に寄与しない。

【0077】

[0084] 他の実施例においては、制御システム２５０は第１組の光発振器のみにそれぞれの光ビームを発生させ、その一方で、第１組ではない光発振器は、光ビームを生成しないＯＦＦ状態にある。これらの実施例においては、第１組の光発振器からの光ビームはビームコンバイナ２１８に到達する。第１組ではない光発振器からの光ビームはビームコンバイナ２１８に到達しない。したがって、第１の期間の間、出力光ビーム２１１は、第１組の光発振器によって生成される光ビームからの寄与のみを含む。

【0078】

[0085] 第２の期間の間、光リソグラフィシステム２００は、第２組のＮ個の光発振器２１２－１から２１２－Ｎから出力光ビーム２１１を発生させる（４２０）。第２の期間は第１の期間の後で起こる。第２の期間は、第２組の光発振器の各々が特定の数のパルス、例えば数千のパルスを生成するのにかかる時間、又は予め設定された期間であり得る。第１及び第２の期間は同一であってもよく、又は異なっていてもよい。

【0079】

[0086] 第２組の光発振器は、１つの光発振器、複数であるがＮ個の光発振器２１２－１から２１２－Ｎの全てよりは少ない光発振器、又はＮ個の光発振器２１２－１から２１２－Ｎの全てを含み得る。しかしながら、第２組のＮ個の光発振器２１２－１から２１２－Ｎは、第１組と同一の１つ又は複数の光発振器は含まない。例えば、第１組の光発振器がＮ個の光発振器２１２－１から２１２－Ｎの全てを含むのであれば、第２組はＮ個の光発振器２１２－１から２１２－Ｎの全てよりも少ない光発振器を含む。第１組の光発振器が光発振器２１２－１から２１２－Ｎのうち１つを含むのであれば、第２組の光発振器は光発振器２１２－１から２１２－Ｎのうち別の１つのみであってもよく、又は第２組の光発振器は第１組で用いられる光発振器を含む若しくは含まない複数の光発振器であってもよい。

【0080】

[0087] 制御システム２５０は、出力光ビーム２１１の分光特性の均一性を経時的に増大させるように分光調整装置２９５－１から２９５－Ｎのうち１つ以上を制御する（４３０）。Ｎが２であり、光源２１０が第１組として光発振器２１２－１及び第２組として光発振器２１２－２を含むものとして上記の例を続けると、第１の期間の間には、光ビーム２１６－１のみがビームコンバイナ２１８に到達する。光ビーム２１６－２は、生成されるが、ビームコンバイナ２１８に到達しない。光ビーム２１６－２の分光帯域幅が分光分析装置２９８－２によって測定され、光ビーム２１６－２の分光帯域幅を表すデータが制御システム２５０に提供される。制御システム２５０は、光ビーム２１６－２の分光帯域幅を、光ビーム２１６－１の測定された若しくは既知の分光帯域幅と又は仕様と比較する。光ビーム２１６－２の分光帯域幅が光ビーム２１６－１の分光帯域幅よりも小さい及び／又は仕様よりも小さい場合には、制御システム２５０は、第２の光ビーム２１６－２の分光帯域幅を増大させるように分光調整装置２９５－２を制御する。

【0081】

[0088] 例えば、分光調整装置２９５－２は、図３に示される分光調整装置３９５－１であってもよい。この例においては、制御システム２５０は、（図３に示される）格子３２１及び／又はプリズム３２２，３２３，３２４，３２５のうち１つ以上の配向をそれぞれのアクチュエータ３２１Ａ，３２２Ａ，３２３Ａ，３２４Ａ，３２５Ａを介して制御することによって、光ビーム２１６－２の分光特性を調整する。

【0082】

[0089] 光ビーム２１６－２の１つ又は複数の分光特性は、第２の期間が始まる前に調整される。したがって、制御システム２５０がビーム制御装置２１７に対して、光ビーム２１６－２がビームコンバイナ２１８と相互作用することを可能にするように作用するとき、光ビーム２１６－２の分光特性は既に調整されている。このようにして、制御システム２５０は出力光ビーム２１１の分光特性の突然の変化を軽減又は排除し、それによって、たとえ第１及び第２の期間に光発振器２１２－１から２１２－Ｎのうち異なるものが用いられるとしても、出力光ビーム２１１の均一性を増大させる。

【0083】

[0090] 第１及び第２の期間は例として提供されている。制御システム２５０は、２つよりも多くの期間にわたり、第１の光発振器２１２－１と第２の光発振器２１２－２とを交代で使用し続けてもよい。また、各々が光発振器を１つだけ有する第１組及び第２組は一例として提供されている。制御システム２５０は２組よりも多くのＮ個の光発振器を循環的に切り替えてもよい。例えば、Ｎは６であってもよい。制御システム２５０は、６つの光発振器のうち３つを第１の期間にビームコンバイナ２１８に到達させ、６つの光発振器のうち他の３つを第２の期間にビームコンバイナ２１８に到達させ、３つの他の発振器の任意のグループを第３の期間にビームコンバイナ２１８に到達させる。

【0084】

[0091] 図５を参照すると、手順５００のフローチャートが示されている。手順５００は、制御システム１５０（図１）又は制御システム２５０（図２Ａ）によって実施され得る。下記の例においては、手順５００は、制御システム２５０によって及び光源２１０によって実施される。手順５００は１つ以上の光ビーム２１６－１から２１６－Ｎの分光特性を調整するために用いられる。光源２１０はＮ個の光発振器２１２－１から２１２－Ｎを含む。以下の議論においては、Ｎ個の光発振器は、第１組のＭ個の光発振器２１２－１から２１２－Ｍ及び第２組のＬ個の光発振器２１２－１から２１２－Ｌを含む。Ｍ及びＬは、ゼロよりも大きくＮ以下の整数である。第１組と第２組とは同一の光発振器を含まない。第１組のＭ個の光発振器は、第１の期間に出力光ビーム２１１を発生させるために用いられる。第２組のＬ個の光発振器は、第２の期間に出力光ビーム２１１を発生させるために用いられる。

【0085】

[0092] 手順５００は、全ての光ビーム２１６－１から２１６－Ｎの分光特性が互いにより類似するように若しくは略同一になるように又は仕様により近くなるように光ビーム２１６－１から２１６－Ｌ及び／又は光ビーム２１６－１から２１６－Ｍの分光特性を調整するために用いられ得る。例えば、手順５００は、光ビーム２１６－１から２１６－Ｎの全ての分光帯域幅をそれぞれの光発振器２１２－１から２１２－Ｎによって生成される光出力にとって可能な最大の分光帯域幅に等しくするために用いられ得る。

【0086】

[0093] 第１の期間の間、出力光ビーム２１１は、光発振器２１２－１から２１２－ＭのうちＭ個からの光に基づいて発生される（５１０）。Ｍ個の光ビームのうち１つ以上の分光特性に関係するデータがアクセスされる（５２０）。例えば、アクセスされるデータは、分光分析装置２９８－１から２９８－Ｍからのデータであり得る。いくつかの実施例においては、アクセスされるデータは、電子記憶装置２５２に記憶された、分光分析装置２９８－１から２９８－Ｍからのデータであり得る。Ｍ個の光ビームの各々の判定された分光特性は基準と比較される（５３０）。Ｎ個の光発振器のうちいずれかの一態様を制御するかどうかが、比較に基づいて判定される（５４０）。一態様が制御されるときには、制御システム２５０は、Ｍ個の光発振器のうち１つ以上を調整してＭ個の光ビームのうちそれぞれの１つ以上の分光特性を調整する（５５０）。

【0087】

[0094] 以下では、Ｎが４であり、Ｍが２であり、Ｌが２である一例を用いて、様々な実施例について述べる。光源２１０は４つの光発振器２１２－１から２１２－４を含む。第１組は光発振器２１２－１及び２１２－２を含む。第２組は光発振器２１２－３及び２１２－４を含む。

【0088】

[0095] いくつかの実施例においては、基準は、最大分光帯域幅を表す所定の値である。これらの実施例においては、基準は電子記憶装置２５２に記憶される。基準は、光学系２１０が製造されるときに電子記憶装置２５２に記憶されてもよく、又は、光源２１０が使用現場にある（in the field）間に電子記憶装置２５２にロードされてもよい。Ｍ個の光ビーム２１６－１及び２１６－２の各々の分光特性は、それぞれ、分光分析装置２９８－１及び２９８－２からのデータに基づいて判定され、又は分光分析装置２９８－１及び２９８－２を用いて直接的に測定される。光ビーム２１６－１及び２１６－２の各々の分光特性は最大分光帯域幅と比較される。例えば、比較は、最大分光帯域幅と光ビーム２１６－１及び２１６－２の各々の分光特性との差を判定することによって実施され得る。判定された差は閾値と比較され得る。光ビーム２１６－１についての差が閾値よりも大きい場合には、制御システム２５０は、光ビーム２１６－１の分光帯域幅を増大させるように分光調整装置２９５－１を作動させる。例えば、分光調整装置２９５－１は図３に示されるように実装され得る。光ビーム２１６－１の分光帯域幅を増大させるために、制御システム２５０は、アクチュエータ３２４Ａを用いてプリズム３２４を作動させる。

【0089】

[0096] 光ビーム２１６－１の分光帯域幅を増大させることへの１つのアプローチは、分光調整装置２９５－１の格子に衝突する光の発散度を増大させることである。もう１つのアプローチは、分光調整装置２９５－１の格子に衝突する光の入射角を急激に変動させることである。この急激な変動は、例えば後述するように、分光調整装置２９５－１のステアリングプリズム用のアクチュエータに適当な時変信号を印加することによって実行され得る。分光調整装置２９５－１が調整されるスピードは、分光調整装置２９５－１が調整されると共にそれによって光ビーム２１６－１の分光特性を１０パルス毎に調整するように、例えば、光ビーム２１６－１の反復率の少なくとも１０分の１であってもよい。例えば、光ビーム２１６－１の反復率が６，０００Ｈｚである場合には、分光調整装置２９５－１は少なくとも６００Ｈｚの速度で調整される。この例においては、上述のように用いられるステアリングプリズムのアクチュエータは、少なくとも６００Ｈｚの速度で作動されるであろう。他の調整速度が用いられてもよい。例えば、分光調整装置２９５－１は、光発振器２１２－１によって生成される各パルスについて（つまりパルス毎に）調整されてもよい。別の一例においては、分光調整装置２９５－１の光学要素（ステアリングプリズムなど）が、５パルス毎に光ビーム２１６－１の分光特性を調整する速度で作動され得る。

【0090】

[0097] 光ビーム２１６－１についての差が閾値よりも小さい場合には、制御システム２５０は光ビーム２１６－１の分光帯域幅を調整しない。同様の分析が光ビーム２１６－２について実施される。

【0091】

[0098] 上記の例は、光ビーム２１６－１から２１６－Ｎのうち１つ以上の分光特性が所定の値と比較されるように、基準が予め定義された値又は目標値であることに関する。他の実施例が可能である。例えば、第１組の光ビームの分光特性が第２組の光ビームの分光特性と比較されてもよく、又は第１組の１つの光ビームの分光特性が第１組の別の１つの光ビームの分光特性と比較されてもよい。

【0092】

[0099] より具体的な一例を提供すると、基準は、光ビーム２１６－３及び２１６－４の各々の分光帯域幅を表す値を含み得る。各光ビーム２１６－１及び２１６－２の分光帯域幅は光ビーム２１６－３及び／又は光ビーム２１６－４の分光特性と比較される。例えば、比較は、光ビーム２１６－１と２１６－３との分光帯域幅の差を判定することによって実施され得る。光ビーム２１６－１の分光帯域幅が光ビーム２１６－３の分光帯域よりも小さい場合には、制御システム２５０は、光ビーム２１６－１の分光帯域幅を増大させるように分光調整装置２９５－１を作動させる。光ビーム２１６－３の分光帯域幅が光ビーム２１６－１の分光帯域よりも小さい場合には、制御システム２５０は、光ビーム２１６－３の分光帯域幅を増大させるように分光調整装置２９５－３を作動させる。例えば、分光調整装置２９５－１から２９５－４は図３に示されるように実装され得る。これらの実施例においては、光ビーム２１６－１の帯域幅を増大させるために、制御システム２５０は、分光調整装置２９５－１のアクチュエータ３２４Ａを制御することによってプリズム３２４を作動させる。

【0093】

[0100] また、制御システム２５０は、光ビーム２１６－１の分光帯域幅と光ビーム２１６－３の分光帯域幅との差に基づいてプリズム３２４の作動量を判定し得る。例えば、アクチュエータ３２４Ａは、電圧信号の印加に応答して形状を変えるピエゾアクチュエータであってもよい。プリズム３２４は、ピエゾアクチュエータが形状を変えるときに移動する。プリズム３２４の移動の量及び方向は、印加される電圧信号の特徴によって決定される。プリズム３２４は時変電圧信号を印加することによって急激に移動され得る。印加される電圧信号の振幅はプリズム３２４の変位を決定し、印加される電圧信号の周波数はプリズム３２４がどれほど急激に変位されるかを決定する。印加される電圧信号の振幅は差の規模に基づいており、振幅は、差が大きい方が差が小さいよりも大きくなる。時変信号は、例えば、正弦若しくは略正弦信号、矩形波、三角波、又は任意の他の時変信号であり得る。このシナリオは一例として提供されている。しかしながら、光ビームのうち他のものの分光特性を比較するために類似の分析が実施されてもよい。例えば、各光ビーム２１６－３及び２１６－４の各々の分光特性が光ビーム２１６－１及び／又は２１６－２の分光特性と比較され得ると共に適宜調整がなされる。また、光ビーム２１６－１の分光特性が光ビーム２１６－２の分光特性と比較され得ると共に適宜調整がなされる。

【0094】

[0101] 本発明の他の態様は、以下の番号を付した条項に記載する。
１．複数の光発振器を備える光源であって、各光発振器は光ビームを生成するように構成されている、光源と、
分光分析装置と、
コントローラであって、
分光分析装置からのデータに基づいて、光発振器のうち第１のものの光ビームの分光特性が複数の光発振器のうち少なくとも１つの他のものの光ビームの分光特性と異なるかどうかを判定するように構成されており、
光発振器のうち第１のものの光ビームの分光特性が光発振器のうち少なくとも１つの他のものの光ビームの分光特性と異なる場合には、光発振器のうち第１のものの光ビームの分光特性又は光発振器のうち少なくとも１つの他のものの光ビームの分光特性を調整するように構成される、コントローラと、
を備える、システム。
２．分光特性は分光帯域幅を備える、条項１のシステム。
３．制御システムが光発振器のうち第１のものの光ビームの分光帯域幅が光発振器のうち少なくとも１つの他のものの光ビームの分光帯域幅と異なるかどうかを判定するように構成されていることは、コントローラが光発振器のうち第１のものの光ビームの分光帯域幅が複数の光発振器のうち少なくとも１つの他のものの帯域幅よりも小さいかどうかを判定するように構成されていることを備える、条項２のシステム。
４．光発振器のうち第１のものの光ビームの分光帯域幅が光発振器のうち少なくとも１つの他のものの光ビームの分光帯域幅よりも小さい場合には、コントローラは、光発振器のうち第１のものの光ビームの帯域幅を増大させるように構成される、条項３のシステム。
５．複数の分光調整装置を更に備え、各光発振器は複数の分光調整装置のうちの１つと関連付けられており、コントローラは、光発振器のうちいずれかと関連付けられた分光調整装置を制御し、それによって光発振器のうちいずれかの光ビームの分光特性を調整するように構成されている、条項１のシステム。
６．各分光調整システムは少なくとも１つの光学要素を備えており、コントローラは、特定の分光調整装置を、その分光調整装置の光学要素に連結されたアクチュエータをその光学要素が移動するように作動させることによって制御するように構成されている、条項１のシステム。
７．光学要素を移動させることは光ビームの中心波長を変化させる、条項６のシステム。
８．コントローラは更に、作動量を判定するように構成されている、条項６のシステム。
９．光学要素を作動させるために、コントローラは光学要素に電気信号を提供し、作動量は電気信号に基づいており、電気信号の１つ以上の特性は差に基づいて判定される、条項８のシステム。
１０．電気信号の１つ以上の特性は振幅及び／又は周波数を備える、条項９のシステム。
１１．作動量はある期間にわたって分光調整システムと相互作用することが予期される光パルスの数に基づいており、作動量は期間にわたって実施される別々の作動の数である、条項８のシステム。
１２．作動量は、光発振器のうち第１のものの光ビームの分光特性と他の光発振器のうち少なくとも１つの光ビームの分光特性との差に基づいている、条項８のシステム。
１３．各分光調整装置は少なくとも１つの屈折光学要素を備える、条項１のシステム。
１４．各分光調整装置は少なくとも１つのプリズムを備える、条項１のシステム。
１５．各分光調整装置は反射光学要素を備える、条項１のシステム。
１６．各分光調整装置は、複数のプリズムと、プリズムのうち１つに連結されたアクチュエータとを備えており、コントローラは、それぞれの分光調整アセンブリのアクチュエータを制御し、それによってプリズムのうち１つを移動させることによって、光発振器のうちいずれかの光ビームの分光特性を調整するように構成されている、条項１のシステム。
１７．各光発振器は複数の光パルスを備えるパルス光ビームを放出するように構成されている、条項１のシステム。
１８．コントローラは更に、
分光特性を調整した後の第１の光発振器の光ビームの更新された分光特性を判定するように、及び
第１の光発振器の光ビームの更新された分光特性が光発振器のうち他のもののいずれかの光ビームの分光特性と異なるかどうかを判定するように構成されている、条項１のシステム。
１９．複数の光発振器は、光発振器のうち第１のものが第１の光発振器であり第２の光発振器は少なくとも１つの他の光発振器であるように、１つの第１の光発振器と１つの第２の光発振器とのみを備えており、コントローラは、
分光分析システムからのデータに基づいて第１の光発振器の光ビームの分光特性が第２の光発振器の分光特性と異なるかどうかを判定するように、及び
第１の光発振器の分光帯域幅が第２の光発振器の分光帯域幅と異なる場合には、第１の光発振器の光ビームの分光特性又は第２の光発振器の光ビームの分光特性を調整するように構成される、条項１のシステム。
２０．分光分析システムは複数の分光分析システムを備えており、各分光分析システムは光発振器のうちの１つの光ビームを受けるように構成されており、各分光分析システムは光発振器のうちの１つの光ビームに関連する分光特性を測定するように構成されている、条項１のシステム。
２１．各光発振器はガス状利得媒質を含有するように構成されている、条項１のシステム。
２２．ガス状利得媒質はフッ化クリプトン（ＫｒＦ）を備える、条項２１のシステム。
２３．光発振器のうち第１のものの光ビームの分光特性が光発振器のうち少なくとも１つの他のものの光ビームの分光特性と異なる場合には、コントローラは、光発振器のうち第１のもののガス状利得媒質の１つ以上のガス成分の圧力及び／又は濃度を調整して光発振器のうち第１のものの光ビームの分光特性を調整するように、又は光発振器のうち少なくとも１つの他のもののガス状利得媒質の１つ以上のガス成分の圧力及び／又は濃度を調整して光発振器のうち少なくとも１つの他のものの分光特性を調整するように構成される、条項２１のシステム。
２４．ビームコンバイナを更に備え、ビームコンバイナは、光発振器の全ての光ビームを受けて光ビームをＤＵＶリソグラフィスキャナツールに向けるように構成されている、条項１のシステム。
２５．各光発振器はある反復率を有するパルス光ビームを生成するように構成されており、コントローラは光発振器のうち第１のもの又は光発振器のうち第２のものの光ビームの分光特性をある調整率で調整するように構成されており、調整率は反復率の１０分の１以上である、条項１のシステム。
２６．Ｎ個の光発振器を備える深紫外（ＤＵＶ）光源を制御する方法であって、Ｎは１よりも大きい整数であり、各光発振器はそれぞれの光ビームを生成するように構成されており、
Ｍはゼロよりも大きくＮ以下の整数であるところ、Ｍ個のそれぞれの光発振器によって生成されるＭ個の光ビームに基づいて出力光ビームを形成することと、
Ｍ個の光ビームの各々の分光特性に関係するデータにアクセスすることと、
Ｍ個の光ビームの各々の分光特性を基準と比較することと、
比較に基づいて、Ｎ個の光発振器のうちいずれかの一態様を制御し、それによってＮ個の光ビームのうちいずれかの分光特性を調整するかどうかを判定することと、
を備える、方法。
２７．分光特性は分光帯域幅を備える、条項２６の方法。
２８．基準は、Ｍ個の光ビームの各々の分光特性を基準と比較することがＭ個の光ビームの各々の分光特性を他のＭ個の光ビーム全ての分光特性と比較することを備えるように、Ｍ個の光ビームの全ての分光特性を備える、条項２６の方法。
２９．Ｍ個の光ビームの各々の分光特性を他のＭ個の光ビームの全ての分光特性と比較することは、Ｍ個の光ビームの各々の分光特性と他のＭ個の光ビームの各々の分光特性との差を判定することを備え、
比較に基づいて判定することは、判定された各差を仕様と比較することを備える、条項２６の方法。
３０．基準は分光特性の所定の値を備え、Ｍ個の光ビームの各々の分光特性を基準と比較することは、Ｍ個の光ビームの各々の分光特性を所定の値と比較することを備える、条項２６の方法。
３１．所定の値は最大分光帯域幅を備え、Ｍ個の光ビームの各々の分光特性は、その光ビームの分光特性と最大分光帯域幅との差を判定することによって、最大分光帯域幅と比較される、条項３０の方法。
３２．比較に基づいて判定することは、判定された差を所定の許容可能な差の範囲と比較することを備え、Ｍ個の光ビームのうち所定の許容可能な差の範囲の外にある判定された差を有するものについては、それぞれの光発振器の一態様が制御される、条項３１の方法。
３３．それぞれの光発振器の一態様を制御することは、分散光学要素を作動させることを備える、条項３２の方法。
３４．出力光ビームは第１の期間のＭ個の光ビームに基づくと共に第２の期間のＬ個の光ビームに基づいており、Ｌは１以上でＮ以下の整数であり、
基準は、Ｌ個の光ビームの各々の分光特性を備え、Ｍ個の光ビームの各々の分光特性を基準と比較することは、Ｍ個の光ビームの各々の分光特性をＬ個の光ビームの各々の分光特性と比較することを備える、条項２６の方法。
３５．Ｌは１であり、Ｍは１であり、Ｎは２であり、Ｌ個の光ビームはＮ個の光発振器のうち第１のものによって発生される第１の光ビームであり、Ｍ個の光ビームはＮ個の光発振器のうち第２のものによって発生される第２の光ビームであり、
第１の光ビームの分光特性と第２の光ビームの分光特性とを比較することは、第２の光ビームの分光帯域幅が第１の光ビームの分光帯域幅よりも小さいかどうかを判定することと、
第２の光ビームの分光帯域幅が第１の光ビームの分光帯域幅よりも小さい場合には、Ｎ個の光発振器のうち第２のもののプリズムを第２の光ビームの分光帯域幅が増大されるように制御することと、を備える、条項３４の方法。
３６．Ｌは１であり、Ｍは１であり、Ｎは２であり、Ｌ個の光ビームはＮ個の光発振器のうち第１のものによって発生される第１の光ビームであり、Ｍ個の光ビームはＮ個の光発振器のうち第２のものによって発生される第２の光ビームであり、
第１の光ビームの分光特性と第２の光ビームの分光特性とを比較することは、第１の光ビームの分光帯域幅が第２の光ビームの分光帯域幅よりも小さいかどうかを判定することと、
第１の光ビームの分光帯域幅が第２の光ビームの分光帯域幅よりも小さい場合には、Ｎ個の光発振器のうち第１のもののプリズムを第１の光ビームの分光帯域幅が増大されるように制御することと、を備える、条項３４の方法。
３７．第１の光ビームの分光帯域幅と第２の光ビームの分光帯域幅との差に基づいてＮ個の光発振器のうち第２のもののプリズムへの調整量を判定することを更に備える、条項３５の方法。
３８．Ｎ個の光発振器のうち第２のもののプリズムを制御するために、プリズムに物理的に連結されたアクチュエータに時変信号が印加され、時変信号の振幅は第１の光ビームの分光帯域幅と第２の光ビームの分光帯域幅との差に関係する、条項３７の方法。
３９．Ｎ個の光発振器を備える深紫外（ＤＵＶ）光源のための制御システムであって、Ｎは１よりも大きい整数であり、各光発振器はそれぞれの光ビームを生成するように構成されており、制御システムは、
第１の期間にＤＵＶ光源によって生成される出力光ビームが第１組の光ビームを備えるように、第１組のＮ個の光発振器を、第１の期間に第１組の光ビームを発生させるように制御し、
第２組のＮ個の光発振器及び第１組のＮ個の光発振器はＮ個の光発振器のうち同じ１つ又は複数の光発振器を含まないところ、第２の期間にＤＵＶ光源によって生成される出力光ビームが第２組の光ビームを備えるように、第２組のＮ個の光発振器を、第２の期間に第２組の光ビームを発生させるように制御し、
Ｎ個の光ビームの分光特性の均一性を増大させるように、Ｎ個の光発振器のうち少なくとも１つの分光調整装置を制御するように構成されている、制御システム。
４０．分光調整装置は第２の期間の前に制御される、条項３９の制御システム。
４１．第２組のＮ個の光発振器のＮ個の光発振器のうち１つ以上の分光調整装置は、それぞれの第２組の光ビームのうち１つ以上の分光特性を調整するように制御される、条項４０の制御システム。
４２．各光発振器はある反復率でそれぞれのパルス光ビームを生成するように構成されており、制御システムは、Ｎ個の光発振器のうち少なくとも１つの分光調整装置を、反復率の１０分の１以上の調整率で制御するように構成されている、条項３９の制御システム。

【0095】

[0102] 他の実施例は特許請求の範囲内にあり得る。

【図1】