特表2023-522359化合物、それを含む反射防止フィルムおよびディスプレイ装置
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2023-05-30
(54)【発明の名称】化合物、それを含む反射防止フィルムおよびディスプレイ装置
(51)【国際特許分類】
C07F 5/02 20060101AFI20230523BHJP
C09B 23/14 20060101ALI20230523BHJP
G02B 1/111 20150101ALI20230523BHJP
G02B 5/22 20060101ALI20230523BHJP
G02F 1/1335 20060101ALI20230523BHJP
【ＦＩ】
C07F5/02 D CSP
C09B23/14
G02B1/111
G02B5/22
G02F1/1335
G02F1/1335 505
【審査請求】有
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2022563484
(86)(22)【出願日】2021-03-11
(85)【翻訳文提出日】2022-10-19
(86)【国際出願番号】 KR2021002998
(87)【国際公開番号】W WO2021221303
(87)【国際公開日】2021-11-04
(31)【優先権主張番号】10-2020-0052567
(32)【優先日】2020-04-29
(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】590002817
【氏名又は名称】三星エスディアイ株式会社
【氏名又は名称原語表記】ＳＡＭＳＵＮＧ ＳＤＩ Ｃｏ．， ＬＴＤ．
【住所又は居所原語表記】１５０－２０ Ｇｏｎｇｓｅ－ｒｏ，Ｇｉｈｅｕｎｇ－ｇｕ，Ｙｏｎｇｉｎ－ｓｉ， Ｇｙｅｏｎｇｇｉ－ｄｏ， ４４６－９０２ Ｒｅｐｕｂｌｉｃ ｏｆ Ｋｏｒｅａ
(74)【代理人】
【識別番号】110000671
【氏名又は名称】ＩＢＣ一番町弁理士法人
(72)【発明者】
【氏名】チョイ，キュベム
(72)【発明者】
【氏名】キム，キュヨン
(72)【発明者】
【氏名】シン，インスプ
(72)【発明者】
【氏名】ユ，ユン サン
【テーマコード（参考）】
2H148
2H291
2K009
4H048
【Ｆターム（参考）】
2H148CA04
2H148CA06
2H148CA14
2H291FA02
2H291FA40
2H291FA81Z
2H291FA95
2H291FA98Z
2H291FB04
2H291FC10
2H291LA40
2K009AA02
2K009BB02
2K009CC21
4H048AA01
4H048AB99
4H048VA20
4H048VA22
4H048VA32
(57)【要約】
特定の化学式で表される化合物、それを含む反射防止フィルムおよび前記反射防止フィルムを含むディスプレイ装置を提供する。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記化学式１で表される化合物：【化1】
前記化学式１において、
Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４およびＲ６はそれぞれ独立して水素原子または置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ２０アルキル基であり、
Ｒ２およびＲ５はそれぞれ独立して水素原子、エステル基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ’、ここでＲ’は置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）またはアミド基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ’’Ｒ’’’、ここでＲ’’およびＲ’’’はそれぞれ独立して水素原子または置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）であり、Ｒ２およびＲ５の少なくとも一つ以上は必ずエステル基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ’、ここでＲ’は置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）またはアミド基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ’’Ｒ’’’、ここでＲ’’およびＲ’’’はそれぞれ独立して水素原子または置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）であり、
Ｘは水素原子、置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ２０アルキル基または置換若しくは非置換されたＣ６～Ｃ２０アリール基であり、
Ｌは２価のリガンドである。
【請求項2】
前記Ｒ２およびＲ５はそれぞれ独立してエステル基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ’、ここでＲ’は置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）またはアミド基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ’’Ｒ’’’、ここでＲ’’およびＲ’’’はそれぞれ独立して水素原子または置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）である、請求項１に記載の化合物。
【請求項3】
前記Ｌはカテコール（ｃａｔｅｃｈｏｌ）系リガンド、２，３－ナフタレンジオール（２，３－Ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅｄｉｏｌ）系リガンドまたは１，１’－ビ－２－ナフトール（１，１’－Ｂｉ－２－ｎａｐｈｔｈｏｌ）系リガンドである、請求項１に記載の化合物。
【請求項4】
前記化学式１は下記化学式１－１または化学式１－２で表される、請求項１に記載の化合物：【化2】
前記化学式１－１および化学式１－２において、
Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４およびＲ６はそれぞれ独立して水素原子または置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ２０アルキル基であり、
Ｒ２およびＲ５はそれぞれ独立して水素原子、エステル基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ’、ここでＲ’は置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）またはアミド基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ’’Ｒ’’’、ここでＲ’’およびＲ’’’はそれぞれ独立して水素原子または置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）であり、Ｒ２およびＲ５の少なくとも一つ以上は必ずエステル基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ’、ここでＲ’は置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）またはアミド基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ’’Ｒ’’’、ここでＲ’’およびＲ’’’はそれぞれ独立して水素原子または置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）であり、
Ｘは水素原子、置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ２０アルキル基または置換若しくは非置換されたＣ６～Ｃ２０アリール基であり、
Ｃ１およびＣ２はそれぞれ独立して芳香族環である。
【請求項5】
前記Ｘは「非置換されたＣ１～Ｃ１０アルキル基、ハロゲン原子で置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１０アルキル基、Ｃ１～Ｃ５アルキル基で置換されたＣ１～Ｃ１０アルキル基、非置換されたＣ１～Ｃ１０アルコキシ基またはこれらの組み合わせ」で置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ２０アルキル基または「非置換されたＣ１～Ｃ１０アルキル基、ハロゲン原子で置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１０アルキル基、Ｃ１～Ｃ５アルキル基で置換されたＣ１～Ｃ１０アルキル基、非置換されたＣ１～Ｃ１０アルコキシ基またはこれらの組み合わせ」で置換若しくは非置換されたＣ６～Ｃ２０アリール基である、請求項４に記載の化合物。
【請求項6】
前記Ｘは非置換されたＣ１～Ｃ２０アルキル基、非置換されたＣ６～Ｃ２０アリール基、「非置換されたＣ１～Ｃ１０アルキル基」で置換されたＣ６～Ｃ２０アリール基、「ハロゲン原子で置換されたＣ１～Ｃ１０アルキル基」で置換されたＣ６～Ｃ２０アリール基または「非置換されたＣ１～Ｃ１０アルコキシ基」で置換されたＣ６～Ｃ２０アリール基である、請求項５に記載の化合物。
【請求項7】
前記Ｃ１およびＣ２はそれぞれ独立してベンゼン環またはナフタレン環である、請求項４に記載の化合物。
【請求項8】
前記化合物は下記化学式１－１－１ないし化学式１－１－９および化学式１－２－１からなる群より選ばれたいずれか一つで表される、請求項１に記載の化合物。【化3】
【化4】
【化5】
【化6】
【化7】
【請求項9】
前記化合物は４００ｎｍ～５２０ｎｍで吸収波長を示し、前記吸収波長のうち４９０ｎｍ～５２０ｎｍで最大吸収波長を有する、請求項１に記載の化合物。
【請求項10】
前記化合物は染料である、請求項１に記載の化合物。
【請求項11】
請求項１ないし１０のいずれか一項による化合物を含む、反射防止フィルム。
【請求項12】
前記反射防止フィルムは粘着層および前記粘着層上に形成された反射防止層を含み、前記化合物は前記粘着層に含まれる、請求項１１に記載の反射防止フィルム。
【請求項13】
前記反射防止フィルムは粘着層、染料含有層および前記染料含有層上に形成された反射防止層を含み、前記化合物は前記染料含有層に含まれる、請求項１１に記載の反射防止フィルム。
【請求項14】
請求項１１による反射防止フィルムを含む、ディスプレイ装置。
【請求項15】
前記ディスプレイ装置は量子ドット含有層をさらに含む、請求項１４に記載のディスプレイ装置。
【請求項16】
前記ディスプレイ装置は光源、カラーフィルタおよび基材をさらに含む、請求項１５に記載のディスプレイ装置。
【請求項17】
前記ディスプレイ装置は、前記光源上に前記量子ドット含有層が位置し、
前記量子ドット含有層上に前記カラーフィルタが位置し、
前記カラーフィルタ上に前記基材が位置し、
前記基材上に前記反射防止フィルムが位置する、請求項１６に記載のディスプレイ装置。
【請求項18】
前記光源は白色光源または青色光源である、請求項１６に記載のディスプレイ装置。
【請求項19】
前記基材はガラス基材を含む、請求項１６に記載のディスプレイ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本記載は、化合物、それを含む反射防止フィルムおよび前記反射防止フィルムを含むディスプレイ装置に関する。
【背景技術】
【0002】
通常の液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）では白色光源から出る光が各画素のＲＧＢカラーフィルタを透過して各色の部分画素をなし、それを組み合わせることによってＲＧＢ範囲の色を出すことができる。
【0003】
近ごろ、各部分画素の色を発光する量子ドットや有機／無機燐光体のような発光体を使用する新規ディスプレイが開発されており、これらの青色、緑色、赤色の発光体を励起させる方法としてはＵＶ光源を使用する方式と青色光源を使用する方式などが提起されている。
【0004】
ＵＶ光源を使用する場合には青色、緑色、赤色の発光体で各色を生成して実現するが、青色光源を使用する場合は緑色、赤色は発光体で各色を生成し、青色画素は光源をそのまま透過させる。
【0005】
最近、商品化されるか開発進行中の量子ドット含有ディスプレイ素材の場合、Ｂｌｕｅ光源またはＷｈｉｔｅ光源による緑色量子ドットおよび赤色量子ドットの発光を用いている。量子ドット含有ディスプレイ装置は、量子ドット素材を用いて色再現率および輝度を向上させようとするものであり、多様な方式の光源を用いた量子ドット発光を用いるパネルに対する開発が続けられている。また、パネルの構成中の量子ドット素材の適用位置によって視野角の改善も可能である。次世代量子ドットディスプレイ装置は、量子ドットの発光効率を増進させるために光源の強度を高めようとする方向またはＢｌｕｅ領域が拡張された光源開発の方向に開発が進められている。
【0006】
量子ドットディスプレイ装置は量子ドット素材に到達する光源のスペクトルが量子ドットの効率に非常に密接な影響を及ぼし、現在の光源種類によってその特性が異なるので、各光源別の量子ドットの効率改善のために新たなアプローチを取り入れるために多方面での努力が続けられている。
【0007】
一方、発光体を使用した新規ディスプレイの場合、外光による反射率を下げるか散乱反射によるパネル色感を調整する必要がある。これを解決するためにパネルを構成する光学部材内に染料を使用しようとする試みがあったが、前記発光体として量子ドットを使用する場合、外光による反射率の低下やパネル色感調整が難しい問題があった。
【0008】
そのため、新規ディスプレイの場合、輝度損失の改善または色補正機能を追加した反射防止フィルムが導入されており、最近では反射防止フィルムの低反射特性を極大化するために特定の波長の光を吸収できる染料としてシアニン系染料やアゾ系染料を追加で適用しようとする試みが続いている。
【0009】
しかし、前記シアニン系染料やアゾ系染料は短波長領域の光吸収は可能であるが、耐光信頼性が低下する問題があり、反射防止フィルムに適用するのに困難性がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0010】
一実施形態は、光源の青色長波長領域と緑色短波長領域の光を吸収できる化合物を提供する。
【0011】
他の一実施形態は、前記化合物を含む反射防止フィルムを提供する。
【0012】
また他の一実施形態は、前記反射防止フィルムを含むディスプレイ装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【0013】
一実施形態は下記化学式１で表される化合物を提供する。
【0014】
【化1】
【0015】
前記化学式１において、
Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４およびＲ６はそれぞれ独立して水素原子または置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ２０アルキル基であり、
Ｒ２およびＲ５はそれぞれ独立して水素原子、エステル基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ’、ここでＲ’は置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）またはアミド基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ’’Ｒ’’’、ここでＲ’’およびＲ’’’はそれぞれ独立して水素原子または置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）であり、Ｒ２およびＲ５の少なくとも一つ以上は必ずエステル基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ’、ここでＲ’は置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）またはアミド基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ’’Ｒ’’’、ここでＲ’’およびＲ’’’はそれぞれ独立して水素原子または置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）であり、
Ｘは水素原子、置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ２０アルキル基または置換若しくは非置換されたＣ６～Ｃ２０アリール基であり、
Ｌは２価のリガンドである。
Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４およびＲ６はそれぞれ独立して水素原子または置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ２０アルキル基であり、
Ｒ２およびＲ５はそれぞれ独立して水素原子、エステル基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ’、ここでＲ’は置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）またはアミド基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ’’Ｒ’’’、ここでＲ’’およびＲ’’’はそれぞれ独立して水素原子または置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）であり、Ｒ２およびＲ５の少なくとも一つ以上は必ずエステル基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ’、ここでＲ’は置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）またはアミド基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ’’Ｒ’’’、ここでＲ’’およびＲ’’’はそれぞれ独立して水素原子または置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）であり、
Ｘは水素原子、置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ２０アルキル基または置換若しくは非置換されたＣ６～Ｃ２０アリール基であり、
Ｌは２価のリガンドである。
【0016】
前記化学式１において、Ｒ２およびＲ５はそれぞれ独立してエステル基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ’、ここでＲ’は置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）またはアミド基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ’’Ｒ’’’、ここでＲ’’およびＲ’’’はそれぞれ独立して水素原子または置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）であり得る。
【0017】
前記化学式１において、Ｌはカテコール（ｃａｔｅｃｈｏｌ）系リガンド、２，３－ナフタレンジオール（２，３－Ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅｄｉｏｌ）系リガンドまたは１，１’－ビ－２－ナフトール（１，１’－Ｂｉ－２－ｎａｐｈｔｈｏｌ）系リガンドであり得る。
【0018】
前記化学式１は下記化学式１－１または化学式１－２で表されることができる。
【0019】
【化2】
【0020】
前記化学式１－１および化学式１－２において、
Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４およびＲ６はそれぞれ独立して水素原子または置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ２０アルキル基であり、
Ｒ２およびＲ５はそれぞれ独立して水素原子、エステル基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ’、ここでＲ’は置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）またはアミド基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ’’Ｒ’’’、ここでＲ’’およびＲ’’’はそれぞれ独立して水素原子または置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）であり、Ｒ２およびＲ５の少なくとも一つ以上は必ずエステル基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ’、ここでＲ’は置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）またはアミド基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ’’Ｒ’’’、ここでＲ’’およびＲ’’’はそれぞれ独立して水素原子または置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）であり、
Ｘは水素原子、置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ２０アルキル基または置換若しくは非置換されたＣ６～Ｃ２０アリール基であり、
Ｃ１およびＣ２はそれぞれ独立して芳香族環である。
Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４およびＲ６はそれぞれ独立して水素原子または置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ２０アルキル基であり、
Ｒ２およびＲ５はそれぞれ独立して水素原子、エステル基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ’、ここでＲ’は置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）またはアミド基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ’’Ｒ’’’、ここでＲ’’およびＲ’’’はそれぞれ独立して水素原子または置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）であり、Ｒ２およびＲ５の少なくとも一つ以上は必ずエステル基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ’、ここでＲ’は置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）またはアミド基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ’’Ｒ’’’、ここでＲ’’およびＲ’’’はそれぞれ独立して水素原子または置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）であり、
Ｘは水素原子、置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ２０アルキル基または置換若しくは非置換されたＣ６～Ｃ２０アリール基であり、
Ｃ１およびＣ２はそれぞれ独立して芳香族環である。
【0021】
前記化学式１－１および化学式１－２において、Ｘは「非置換されたＣ１～Ｃ１０アルキル基、ハロゲン原子で置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１０アルキル基、Ｃ１～Ｃ５アルキル基で置換されたＣ１～Ｃ１０アルキル基、非置換されたＣ１～Ｃ１０アルコキシ基またはこれらの組み合わせ」で置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ２０アルキル基または「非置換されたＣ１～Ｃ１０アルキル基、ハロゲン原子で置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１０アルキル基、Ｃ１～Ｃ５アルキル基で置換されたＣ１～Ｃ１０アルキル基、非置換されたＣ１～Ｃ１０アルコキシ基またはこれらの組み合わせ」で置換若しくは非置換されたＣ６～Ｃ２０アリール基であり得る。
【0022】
前記化学式１－１および化学式１－２において、Ｘは非置換されたＣ１～Ｃ２０アルキル基、非置換されたＣ６～Ｃ２０アリール基、「非置換されたＣ１～Ｃ１０アルキル基」で置換されたＣ６～Ｃ２０アリール基、「ハロゲン原子で置換されたＣ１～Ｃ１０アルキル基」で置換されたＣ６～Ｃ２０アリール基または「非置換されたＣ１～Ｃ１０アルコキシ基」で置換されたＣ６～Ｃ２０アリール基であり得る。
【0023】
前記化学式１－１および化学式１－２において、Ｃ１およびＣ２はそれぞれ独立してベンゼン環またはナフタレン環であり得る。
【0024】
前記化学式１で表される化合物は下記化学式１－１－１ないし化学式１－１－９および化学式１－２－１からなる群より選ばれたいずれか一つで表されることができる。
【0025】
【化3】
【0026】
【化4】
【0027】
【化5】
【0028】
【化6】
【0029】
【化7】
【0030】
前記化学式１で表される化合物は４００ｎｍ～５２０ｎｍで吸収波長を示し、前記吸収波長のうち４９０ｎｍ～５２０ｎｍで最大吸収波長を有することができる。
【0031】
前記化合物は染料であり得る。
【0032】
他の一実施形態は前記化学式１で表される化合物を含む反射防止フィルムを提供する。
【0033】
前記反射防止フィルムは粘着層および前記粘着層上に形成された反射防止層を含み、前記化学式１で表される化合物は前記粘着層に含まれ得る。
【0034】
前記反射防止フィルムは粘着層、染料含有層および前記染料含有層上に形成された反射防止層を含み、前記化学式１で表される化合物は前記染料含有層に含まれ得る。
【0035】
また他の一実施形態は前記反射防止フィルムを含むディスプレイ装置を提供する。
【0036】
前記ディスプレイ装置は量子ドット含有層をさらに含み得る。
【0037】
前記ディスプレイ装置は光源、カラーフィルタおよび基材をさらに含み得る。
【0038】
前記ディスプレイ装置は、前記光源上に前記量子ドット含有層が位置し、前記量子ドット含有層上に前記カラーフィルタが位置し、前記カラーフィルタ上に前記基材が位置し、前記基材上に前記反射防止フィルムが位置し得る。
【0039】
前記光源は白色光源または青色光源であり得る。
【0040】
前記基材はガラス基材を含み得る。
【0041】
その他本発明の側面の具体的な事項は以下の詳細な説明に含まれている。
【発明の効果】
【0042】
青色の長波長領域および緑色の短波長領域（４００ｎｍ～５２０ｎｍ）の吸収を有し、４９０ｎｍ～５２０ｎｍ、より具体的には４９５ｎｍ～５１０ｎｍで最大吸収波長を有する化合物を使用することによって、溶解度が改善され、蛍光性がなく、ディスプレイ装置の外光による反射率を下げて耐光信頼性を改善させるだけでなく、輝度損失の改善および色再現率の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【0043】
【図1】それぞれ独立して一実施形態による反射防止フィルムを示す模式図である。
【図2】それぞれ独立して一実施形態による反射防止フィルムを示す模式図である。
【図3】それぞれ独立して一実施形態によるディスプレイ装置を示す模式図である。
【図4】それぞれ独立して一実施形態によるディスプレイ装置を示す模式図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【0044】
以下、本発明の実施形態を詳細に説明する。ただし、これは例示として提示されるものであり、本発明はこれによって制限されず、本発明は後述する特許請求の範囲の範疇によってのみ定義される。
【0045】
本明細書で特に明記しない限り、「アルキル基」とはＣ１～Ｃ２０アルキル基を意味し、「アルケニル基」とはＣ２～Ｃ２０アルケニル基を意味し、「シクロアルケニル基」とはＣ３～Ｃ２０シクロアルケニル基を意味し、「ヘテロシクロアルケニル基」とはＣ３～Ｃ２０ヘテロシクロアルケニル基を意味し、「アリール基」とはＣ６～Ｃ２０アリール基を意味し、「アリールアルキル基」とはＣ６～Ｃ２０アリールアルキル基を意味し、「アルキレン基」とはＣ１～Ｃ２０アルキレン基を意味し、「アリーレン基」とはＣ６～Ｃ２０アリーレン基を意味し、「アルキルアリーレン基」とはＣ６～Ｃ２０アルキルアリーレン基を意味し、「ヘテロアリーレン基」とはＣ３～Ｃ２０ヘテロアリーレン基を意味し、「アルコキシレン基」とはＣ１～Ｃ２０アルコキシレン基を意味する。
【0046】
本明細書で特に明記しない限り、「置換」とは少なくとも一つの水素原子がハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ）、ヒドロキシ基、Ｃ１～Ｃ２０アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミン基、イミノ基、アジド基、アミジノ基、ヒドラジノ基、ヒドラゾノ基、カルボニル基、カルバミル基、チオール基、エステル基、エーテル基、カルボキシル基またはその塩、スルホン酸基またはその塩、リン酸やその塩、Ｃ１～Ｃ２０アルキル基、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル基、Ｃ２～Ｃ２０アルキニル基、Ｃ６～Ｃ２０アリール基、Ｃ３～Ｃ２０シクロアルキル基、Ｃ３～Ｃ２０シクロアルケニル基、Ｃ３～Ｃ２０シクロアルキニル基、Ｃ２～Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基、Ｃ２～Ｃ２０ヘテロシクロアルケニル基、Ｃ２～Ｃ２０ヘテロシクロアルキニル基、Ｃ３～Ｃ２０ヘテロアリール基またはこれらの組み合わせの置換基で置換されたことを意味する。
【0047】
また、本明細書で特に明記しない限り、「ヘテロ」とは、化学式内にＮ、Ｏ、ＳおよびＰの少なくとも一つのヘテロ原子が少なくとも一つ含まれたものを意味する。
【0048】
また、本明細書で特に明記しない限り、「（メタ）アクリレート」は「アクリレート」と「メタクリレート」両方とも可能であることを意味し、「（メタ）アクリル酸」は「アクリル酸」と「メタクリル酸」両方とも可能であることを意味する。
【0049】
本明細書で特に明記しない限り、「組み合わせ」とは混合または共重合を意味する。
【0050】
本明細書内の化学式で別段の定義がない限り、化学結合が描かれるべき位置に化学結合が描かれていない場合は前記位置に水素原子が結合されていることを意味する。
【0051】
本明細書で数値範囲を記載するとき「Ｘ～Ｙ」は「Ｘ以上Ｙ以下」（Ｘ≦そして≦Ｙ）を意味する。
【0052】
本明細書で数値範囲でない記載で「Ｘ～Ｙ」は「ＸからＹまで」を意味する。
【0053】
本明細書で化合物（染料）の「最大吸収波長（λｍａｘ）」はシクロヘキサノン（Ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｏｎｅ）中の１０ｐｐｍ濃度の化合物（染料）溶液に対して吸光度を測定したときに最大吸光度が現れる波長を意味する。前記最大吸光度は当業者に知られている方法により測定されることができる。
【0054】
本明細書で「耐光信頼性」はディスプレイ装置に対してＸｅｎｏｎ Ｔｅｓｔ Ｃｈａｍｂｅｒ（Ｑ－ＳＵＮ）で［光源ランプ：Ｘｅｎｏｎランプ、照射強度：０．３５Ｗ／ｃｍ２、照射温度：６３℃、照射時間：５００時間、照射方向：反射防止フィルム側からの照射］の条件で照射する前と照射した後の染料最大吸収波長で光透過率を測定した後光透過率変化量で評価したものである。
【0055】
また、本明細書で特に明記しない限り、「＊」は同一または異なる原子または化学式と連結される部分を意味する。
【0056】
一実施形態によれば、下記化学式１で表される化合物を提供する。
【0057】
【化8】
【0058】
前記化学式１において、
Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４およびＲ６はそれぞれ独立して水素原子または置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ２０アルキル基であり、
Ｒ２およびＲ５はそれぞれ独立して水素原子、エステル基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ’、ここでＲ’は置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）またはアミド基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ’’Ｒ’’’、ここでＲ’’およびＲ’’’はそれぞれ独立して水素原子または置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）であり、Ｒ２およびＲ５の少なくとも一つ以上は必ずエステル基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ’、ここでＲ’は置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）またはアミド基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ’’Ｒ’’’、ここでＲ’’およびＲ’’’はそれぞれ独立して水素原子または置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）であり、
Ｘは水素原子、置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ２０アルキル基または置換若しくは非置換されたＣ６～Ｃ２０アリール基であり、
Ｌは２価のリガンドである。
Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４およびＲ６はそれぞれ独立して水素原子または置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ２０アルキル基であり、
Ｒ２およびＲ５はそれぞれ独立して水素原子、エステル基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ’、ここでＲ’は置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）またはアミド基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ’’Ｒ’’’、ここでＲ’’およびＲ’’’はそれぞれ独立して水素原子または置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）であり、Ｒ２およびＲ５の少なくとも一つ以上は必ずエステル基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ’、ここでＲ’は置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）またはアミド基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ’’Ｒ’’’、ここでＲ’’およびＲ’’’はそれぞれ独立して水素原子または置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）であり、
Ｘは水素原子、置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ２０アルキル基または置換若しくは非置換されたＣ６～Ｃ２０アリール基であり、
Ｌは２価のリガンドである。
【0059】
従来にも特定化合物を用いてＮｅｏｎ色を吸収させて光源の特定の波長領域を遮断してディスプレイ装置の色純度を改善しようとする試みはあったが、量子ドット含有ディスプレイ装置の場合は散乱体の使用によってその目的が相異なる。量子ドット含有ディスプレイ装置は散乱体による外光反射を改善するために反射率を下げようとし、これは装置のＢｌａｃｋの視感改善に役立つ。反射率を下げてパネルのＲＧＢ色純度の低下を最小化するために混合色（Ｖｉｏｌｅｔ／Ｃｙａｎ／Ｎｅｏｎ／Ｎｅａｒ－ＩＲ）吸収が可能な染料を使用した反射防止フィルムが効果的である。特に吸収波長領域が４８０ｎｍ～５２０ｎｍであるＣｙａｎ色と、吸収波長領域が５３０ｎｍ～６７０ｎｍであるＮｅｏｎ色の外光吸収が反射率の低減に効果的である。ただし、Ｃｙａｎ色とＮｅｏｎ色のみ吸収する染料のみを使用する場合、ディスプレイ装置のＮｅｔｒａｌ Ｂｌａｃｋの実現が難しいので、吸収波長領域が３５０ｎｍ～４５０ｎｍであるＶｉｏｌｅｔ色と吸収波長領域が６０５ｎｍ～７９０ｎｍであるＮｅａｒ－ＩＲ（Ｒｅｄ）色を吸収する染料を混合使用して反射防止フィルムとディスプレイ装置の色補正が可能である。混合色（Ｖｉｏｌｅｔ／Ｃｙａｎ／Ｎｅｏｎ／Ｎｅａｒ－ＩＲ）の吸収が可能な染料使用により反射率は下げ、Ｂｌａｃｋの視感改善が可能であり、色再現率を高めることができる。また、前記化学式１で表される化合物は従来の特定の波長領域を吸収する化合物（染料）の短所の一つである耐光信頼性の改善が可能である。すなわち、一実施形態による前記化学式１で表される化合物を反射防止フィルムに適用するとき、フィルムの耐光信頼性の確保が可能である。特に量子ドット発光体を使用するディスプレイ装置で特定の化合物を使用して混合色の吸収を図ることによって色再現率などを改善させようとする試みは現在まで知られていない。例えば、Ｃｙａｎ色の場合、吸収波長領域が４８０ｎｍ～５２０ｎｍであり、Ｎｅｏｎ色の場合、吸収波長領域が５３０ｎｍ～６７０ｎｍであり、ｎｅａｒ－ＩＲ色の場合、吸収波長領域が６０５ｎｍ～７９０ｎｍであるが、一実施形態による前記化学式１で表される化合物は、４００ｎｍ～５２０ｎｍで吸収波長を示し、前記吸収波長のうち４９０ｎｍ～５２０ｎｍ、より具体的には４９５ｎｍ～５１０ｎｍで最大吸収波長を有することができるため、前記化学式１で表される化合物を染料として含む反射防止フィルムおよびディスプレイ装置の場合、Ｂｌｕｅの輝度低下を最小化し、かつ耐光信頼性の確保が容易である。
【0060】
後述するように、ディスプレイ装置に適用される光源のスペクトルを考慮すると、前記光源の青色長波長領域と緑色短波長領域（約４９０ｎｍ～５２０ｎｍ）を効果的に吸収する場合のみ、パネルの色再現率の向上を効果的に図ることができる。例えば反射防止フィルムに適用される化合物の最大吸収波長が５００ｎｍより短いか５２０ｎｍより長くて半値幅が広い場合、前記青色長波長領域および緑色短波長領域を効果的に吸収できないので、パネルの色再現率の向上効果を図ることは難しい。したがって、反射防止フィルムに適用される化合物の最大吸収波長が５００ｎｍ～５１０ｎｍの間に現れるほど、青色長波長領域および緑色短波長領域を効果的に吸収することができる。一実施形態による前記化学式１で表される化合物は、その構造的な特異性により、４９０ｎｍ～５２０ｎｍ、より具体的には４９５ｎｍ～５１０ｎｍで最大吸収波長を有し、したがって、前記青色長波長領域および緑色短波長領域を効果的に吸収して、耐光信頼性の確保およびパネルの色再現率を効果的に向上させることができる。
【0061】
前記化学式１において、Ｒ２およびＲ５の少なくとも一つ以上は必ずエステル基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ’、ここでＲ’は置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）またはアミド基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ’’Ｒ’’’、ここでＲ’’およびＲ’’’はそれぞれ独立して水素原子または置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）でなければならない。より具体的には、前記化学式１において、Ｒ２およびＲ５の少なくとも一つ以上は必ずエステル基でなければならない。
【0062】
前記化学式１において、Ｒ２およびＲ５の少なくとも一つ以上は、必ずしもエステル基またはアミド基でない場合（例えば、Ｒ２およびＲ５がそれぞれ独立して水素原子および／またはアルキル基である場合など）には優れた溶解度および耐光信頼性の確保が難しい。同様に、前記化学式１において、前記エステル基はまたはアミド基は必ず前記Ｒ２およびＲ５の少なくとも一つ以上に位置するべきであり、残りの位置（Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４およびＲ６）に前記エステル基やアミド基が位置する場合、溶解度および耐光信頼性が低下して好ましくない。特に、量子ドット適用のディスプレイの場合、前記化学式１で表される化合物が含まれた反射防止フィルムが適用されてこそ優れた溶解度および耐光信頼性の確保が可能であり、従来のＬＣＤで優れた耐光性を示す反射防止フィルム用化合物であってもこれを量子ドット適用ディスプレイにそのまま適用する場合は耐光性の低下が発生して好ましくない。
【0063】
例えば、前記化学式１において、Ｒ２およびＲ５はそれぞれ独立してエステル基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ’、ここでＲ’は置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）またはアミド基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ’’Ｒ’’’、ここでＲ’’およびＲ’’’はそれぞれ独立して水素原子または置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）であり得る。前記Ｒ２およびＲ５両方とも前記エステル基またはアミド基である場合、前記Ｒ２およびＲ５のいずれか一つのみ前記エステル基またはアミド基である場合より最大吸収波長が少し長波長の方に移動して半値幅は少し広くなるが、耐光信頼性自体が大きく向上することができる。
【0064】
例えば、前記化学式１において、Ｌはカテコール（ｃａｔｅｃｈｏｌ）系リガンド、２，３－ナフタレンジオール（２，３－Ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅｄｉｏｌ）系リガンドまたは１，１’－ビ－２－ナフトール（１，１’－Ｂｉ－２－ｎａｐｈｔｈｏｌ）系リガンドであり得る。
【0065】
前記Ｌがカテコール（ｃａｔｅｃｈｏｌ）系リガンド、２，３－ナフタレンジオール（２，３－Ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅｄｉｏｌ）系リガンドまたは１，１’－ビ－２－ナフトール（１，１’－Ｂｉ－２－ｎａｐｈｔｈｏｌ）系リガンドでない場合（例えばＦなどである場合）、蛍光特性が発現して一実施形態による反射防止フィルムに適用すること自体が不可であり得る。従来にはこのような問題を解決するために、前記リガンドとしてカテコール系リガンドを使用した。しかし、前記カテコール系リガンドを使用することによって無蛍光特性を達成することはできるが、優れた耐光信頼性を確保することはできなかった。そのため、カテコール系リガンドを使用して無蛍光特性を維持しながらも耐光信頼性を向上させようとする努力が長い間進められており、少しずつ無蛍光特性を維持し、かつ耐光信頼性が少し向上したことが報告されているが、このようなことはいずれも従来のＬＣＤでの適用を前提としたものであり、最近ディスプレイ市場のトレンドである量子ドット適用ディスプレイに上記で言及された化合物や反射防止フィルムなどを適用する場合には耐光信頼性の低下が再び現れ、量子ドット適用ディスプレイの適用を前提とした反射防止フィルム用化合物に対する要求が日を経るに従って急激に増加している傾向である。
【0066】
本発明者らは前記のような最近のトレンドおよび市場の要求を正確に認知して、従来の問題もまた、綿密に分析した後、数多くの試行錯誤を重ねた結果、量子ドット適用ディスプレイでも従来のＬＣＤディスプレイのように、４００ｎｍ～５２０ｎｍで吸収波長を示し、前記吸収波長のうち４９０ｎｍ～５２０ｎｍで最大吸収波長を有し、優れた耐光信頼性を確保することができ、溶解度もまた、優れた化合物を発明するに至った。
【0067】
例えば、前記化学式１は下記化学式１－１または化学式１－２で表されることができる。
【0068】
【化9】
【0069】
前記化学式１－１および化学式１－２において、
Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４およびＲ６はそれぞれ独立して水素原子または置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ２０アルキル基であり、
Ｒ２およびＲ５はそれぞれ独立して水素原子、エステル基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ’、ここでＲ’は置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）またはアミド基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ’’Ｒ’’’、ここでＲ’’およびＲ’’’はそれぞれ独立して水素原子または置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）であり、Ｒ２およびＲ５の少なくとも一つ以上は必ずエステル基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ’、ここでＲ’は置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）またはアミド基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ’’Ｒ’’’、ここでＲ’’およびＲ’’’はそれぞれ独立して水素原子または置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）であり、
Ｘは水素原子、置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ２０アルキル基または置換若しくは非置換されたＣ６～Ｃ２０アリール基であり、
Ｃ１およびＣ２はそれぞれ独立して芳香族環である。
Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４およびＲ６はそれぞれ独立して水素原子または置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ２０アルキル基であり、
Ｒ２およびＲ５はそれぞれ独立して水素原子、エステル基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ’、ここでＲ’は置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）またはアミド基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ’’Ｒ’’’、ここでＲ’’およびＲ’’’はそれぞれ独立して水素原子または置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）であり、Ｒ２およびＲ５の少なくとも一つ以上は必ずエステル基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ’、ここでＲ’は置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）またはアミド基（＊－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ’’Ｒ’’’、ここでＲ’’およびＲ’’’はそれぞれ独立して水素原子または置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１５アルキル基である）であり、
Ｘは水素原子、置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ２０アルキル基または置換若しくは非置換されたＣ６～Ｃ２０アリール基であり、
Ｃ１およびＣ２はそれぞれ独立して芳香族環である。
【0070】
例えば、前記Ｘは「非置換されたＣ１～Ｃ１０アルキル基、ハロゲン原子で置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１０アルキル基、Ｃ１～Ｃ５アルキル基で置換されたＣ１～Ｃ１０アルキル基、非置換されたＣ１～Ｃ１０アルコキシ基またはこれらの組み合わせ」で置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ２０アルキル基または「非置換されたＣ１～Ｃ１０アルキル基、ハロゲン原子で置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ１０アルキル基、Ｃ１～Ｃ５アルキル基で置換されたＣ１～Ｃ１０アルキル基、非置換されたＣ１～Ｃ１０アルコキシ基またはこれらの組み合わせ」で置換若しくは非置換されたＣ６～Ｃ２０アリール基であり得る。
【0071】
例えば、前記Ｘは非置換されたＣ１～Ｃ２０アルキル基、非置換されたＣ６～Ｃ２０アリール基、「非置換されたＣ１～Ｃ１０アルキル基」で置換されたＣ６～Ｃ２０アリール基、「ハロゲン原子で置換されたＣ１～Ｃ１０アルキル基」で置換されたＣ６～Ｃ２０アリール基または「非置換されたＣ１～Ｃ１０アルコキシ基」で置換されたＣ６～Ｃ２０アリール基であり得る。
【0072】
前記Ｘが非置換されたアルキル基である場合より特定の置換基で置換されたアルキル基である場合がより優れた耐光信頼性を確保することができる。
【0073】
前記Ｘが非置換されたアリール基である場合より特定の置換基で置換されたアリール基である場合がより優れた耐光信頼性を確保することができる。
【0074】
前記Ｃ１およびＣ２はそれぞれ独立してベンゼン環またはナフタレン環であり得るが、必ずしもこれに限定されるものではない。
【0075】
例えば、前記化学式１で表される化合物は下記化学式１－１－１ないし化学式１－１－９および化学式１－２－１からなる群より選ばれたいずれか一つで表されるが、必ずしもこれに限定されるものではない。
【0076】
【化10】
【0077】
【化11】
【0078】
【化12】
【0079】
【化13】
【0080】
【化14】
【0081】
前記化学式１で表される化合物は４００ｎｍ～５２０ｎｍで吸収波長を示し、前記吸収波長のうち４９０ｎｍ～５２０ｎｍ、より具体的には４９５ｎｍ～５１０ｎｍで最大吸収波長を有することができる。前述したように、前記化学式１で表される化合物が前記範囲の最大吸収波長を有する場合、青色長波長領域および緑色短波長領域を効果的に吸収して、耐光信頼性およびパネルの色再現率を効果的に向上させることができる。
【0082】
例えば、前記化学式１で表される化合物は染料であり得る。
【0083】
他の一実施形態は前記化合物を含む反射防止フィルムを提供する。
【0084】
前記反射防止フィルムは前記化学式１で表される化合物を固形分を基準として０．０１重量％～０．５重量％で含むことができる。前記化学式１で表される化合物が前記含有量範囲で含まれてこそ前記反射防止フィルムが適用されたディスプレイ装置のパネル色感を調整して黒色視感（Ｎｅｕｔｒａｌ Ｂｌａｃｋ）の改善に効果的である。
【0085】
前記反射防止フィルムは粘着層および前記粘着層上に形成された反射防止層を含み、前記化学式１で表される化合物は前記粘着層に含まれ得る。
【0086】
また、前記反射防止フィルムは粘着層、染料含有層および前記染料含有層上に形成された反射防止層を含み、前記化学式１で表される化合物は前記染料含有層に含まれることもできる。
【0087】
【0088】
前記反射防止層は低屈折層のみからなるか、低屈折層を含むことができる。
【0089】
前記低屈折層は後述する基材および／または後述する高屈折層との屈折率差によって反射防止フィルムの反射率を低くすることができる。
【0090】
前記低屈折層は硬化型バインダ樹脂、フッ素原子含有モノマーおよび平均粒子直径５ｎｍ～３００ｎｍの微粒子（例えば、中空シリカなど）を含有しており、前記低屈折層の厚さは０．０１μｍ～０．１５μｍであり得る。低屈折層の屈折率は１．２０～１．４０であり得る。
【0091】
前記低屈折層の一面、すなわち、前記低屈折層の上部面には機能性コート層がさらに形成されることによって反射防止フィルムに追加的な機能を提供することができる。前記機能性コート層は耐指紋性層、帯電防止層、ハードコート層、アンチグレア層、バリア層などを含み得るが、これに制限されない。
【0092】
前記反射防止層は高屈折層をさらに含むことができる。
【0093】
前記高屈折層は後述する基材と前記低屈折層の間に形成され、前記基材と前記低屈折層の間の屈折率を有することによって反射防止層の反射率を下げることができる。前記高屈折層は基材および前記低屈折層とそれぞれ直接形成されている。前記「直接形成」とは層と層の間に任意の他の層がないことを意味する。
【0094】
前記高屈折層は厚さが０．０５μｍ～２０μｍで屈折率が１．４５～２であり、ＪＩＳ－Ｋ７３６１に規定されるヘイズ値が基材のヘイズ値と同じであるかまたは基材のヘイズ値との差が１０％以下であるものが透明性に優れ、反射防止性に優れる。
【0095】
前記ハードコート層は前記反射防止層の硬度を高めることによって反射防止層をディスプレイ装置の最外側に使用してもスクラッチなどの発生が無いようにすることができる。前記ハードコート層は必ずしも備えなければならないものではない。前記高屈折層または低屈折層で目標とする硬度を確保することができればハードコート層は省略することができる。
【0096】
前記ハードコート層は基材と前記高屈折層の間または基材と前記低屈折層の間に形成される。
【0097】
前記ハードコート層は平均粒子直径が１ｎｍ～３０ｎｍで粒度分布範囲が平均粒子直径±５ｎｍ以下の範囲にある金属酸化物超微粒子が硬化したバインダのうち均一に混合されてなる硬化層であり得る。前記ハードコート層は厚さが１μｍ～１５μｍであり得、前記ハードコート層の屈折率は１．５４以上であり得る。
【0098】
前記反射防止層は厚さが５０μｍ～５００μｍ、例えば５０μｍ～３００μｍ、例えば５０μｍ～１５０μｍであり得る。前記反射防止層が前記範囲の厚さを有する場合、ディスプレイ装置への適用に容易である。
【0099】
前記粘着層は前記反射防止層の下部面に形成されてディスプレイなどの光学部材をパネルなどに粘着させることができる。前記粘着層は前述したように前記化学式１で表される化合物（染料）を含むことができる。
【0100】
前記粘着層はガラス転移温度が－７０℃～０℃、例えば－６５℃～－２０℃であり得る。前記粘着層のガラス転移温度が前記範囲を有する場合、パネルに対する接着力に優れる。
【0101】
前記粘着層は熱硬化性粘着層または光硬化性粘着層になる。好ましくは粘着層は熱硬化性粘着層になることで前記化学式１で表される化合物（染料）の吸収波長による紫外線の影響を考慮する必要がなく、粘着層の製造を容易にすることができる。前記「熱硬化性粘着層」は４０℃～１００℃の所定の熱処理により硬化する粘着層だけでなく、室温（例えば２０℃～３０℃）で硬化する粘着層も含むことができる。
【0102】
前記粘着層は粘着樹脂および硬化剤を含む粘着層用組成物で形成される。
【0103】
前記粘着樹脂は前記粘着層のガラス転移温度を確保できれば種類に制限はない。例えば、前記粘着樹脂はシリコン系、ウレタン系、（メタ）アクリル系などであり得るが、好ましくは（メタ）アクリル系粘着樹脂を使用することができる。
【0104】
前記粘着樹脂はガラス転移温度が－７０℃～０℃、好ましくは－６５℃～－２０℃であり得る。前記粘着樹脂のガラス転移温度が前記範囲を有する場合、パネルに対する接着力に優れる。
【0105】
前記粘着樹脂は重量平均分子量が５００，０００ｇ／ｍｏｌ～２，０００，０００ｇ／ｍｏｌ、例えば８００，０００ｇ／ｍｏｌ～１，５００，０００ｇ／ｍｏｌであり得る。前記粘着樹脂の重量平均分子量が前記範囲を有する場合、パネルに対する接着力に優れる。
【0106】
前記粘着樹脂はアルキル基を有する（メタ）アクリル系単量体；水酸基を有する（メタ）アクリル系単量体；および芳香族基を有する（メタ）アクリル系単量体、脂環族を有する（メタ）アクリル系単量体、ヘテロ脂環族基を有する（メタ）アクリル系単量体のうち１種以上の混合物の共重合体、好ましくはランダム共重合体を含むことができる。
【0107】
前記アルキル基を有する（メタ）アクリル系単量体は非置換されたＣ１～Ｃ１０アルキル基を有する（メタ）アクリル酸エステルを含むことができる。具体的には、アルキル基を有する（メタ）アクリル系単量体はメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、ｔ－ブチル（メタ）アクリレート、ｉｓｏ－ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ｉｓｏ－オクチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレートのうち一つ以上を含み得るが、これに制限されない。これらは単独または２種以上混合して含まれ得る。前記アルキル基を有する（メタ）アクリル系単量体は単量体混合物中の６０重量％～９９．９９重量％、例えば６０重量％～９０重量％、例えば８０重量％～９９．９重量％で含まれ得る。
【0108】
前記水酸基を有する（メタ）アクリル系単量体は一つ以上の水酸基を有するＣ１～Ｃ２０アルキル基を有する（メタ）アクリル系単量体、一つ以上の水酸基を有するＣ３～Ｃ２０シクロアルキル基を有する（メタ）アクリル系単量体、一つ以上の水酸基を有するＣ６～Ｃ２０芳香族基を有する（メタ）アクリル系単量体のうち一つ以上を含むことができる。具体的には、水酸基を有する（メタ）アクリル系単量体は一つ以上の水酸基を有するＣ１～Ｃ２０アルキル基を有する（メタ）アクリル系単量体が好ましく、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、６－ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、１－クロロ－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートのうち一つ以上を含むことができる。これらは単独または２種以上混合して含まれ得る。前記水酸基を有する（メタ）アクリル系単量体は単量体混合物中の０．０１重量％～２０重量％、例えば０．１重量％～１０重量％で含まれ得る。
【0109】
前記芳香族基を有する（メタ）アクリル系単量体はＣ６～Ｃ２０アリール基またはＣ７～Ｃ２０アリールアルキル基を有する（メタ）アクリル酸エステルを含むことができる。具体的には芳香族基を有する（メタ）アクリル系単量体はフェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレートなどを含み得るがこれに制限されない。前記芳香族基を有する（メタ）アクリル系単量体は単量体混合物中の０重量％～５０重量％、例えば０重量％～２０重量％で含まれ得る。
【0110】
本明細書で単量体のうち脂環族基とアルキル基が混在する場合、脂環族基を有する（メタ）アクリル単量体に分類した。
【0111】
前記脂環族基を有する（メタ）アクリル系単量体はＣ５～Ｃ２０単環または複素環の脂環族基を有する（メタ）アクリル酸エステルとしてシクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレートのうち一つ以上を含むことができる。前記脂環族基を有する（メタ）アクリル系単量体は単量体混合物中の０重量％～５０重量％、例えば１重量％～３０重量％、１重量％～２０重量％で含まれ得る。
【0112】
前記ヘテロ脂環族基を有する（メタ）アクリル系単量体は窒素、酸素または硫黄のうち一つ以上を含有するＣ４～Ｃ９ヘテロ脂環族基を有する（メタ）アクリル酸エステルを含むことができる。具体的には、ヘテロ脂環族基を有する（メタ）アクリル系単量体は（メタ）アクリロイルモルホリンを含み得るが、これに制限されない。前記ヘテロ脂環族基を有する（メタ）アクリル系単量体は単量体混合物中の０重量％～５０重量％、例えば０重量％～１０重量％で含まれ得る。
【0113】
前記粘着樹脂は前記アルキル基を有する（メタ）アクリル系単量体７０重量％～９９．９９重量％、例えば９０重量％～９９．５重量％、前記水酸基を有する（メタ）アクリル系単量体０．０１重量％～３０重量％、例えば０．５重量％～１０重量％を含む単量体混合物の（メタ）アクリル系共重合体を含むことができる。前記粘着樹脂を構成するそれぞれの単量体が前記範囲を有する場合、粘着力の確保が容易である。
【0114】
前記硬化剤はイソシアネート系硬化剤を含むことができる。前記硬化剤は前記粘着樹脂１００重量部に対して０．０１重量部～２０重量部、例えば０．０１重量部～１０重量部、例えば０．１重量部～４重量部で含まれ得る。前記硬化剤が前記範囲を有する場合、組成物を架橋させて粘着層を形成し、過量使用による透明性の低下および信頼性の不良などを防止することができる。
【0115】
前記組成物はシランカップリング剤、酸化防止剤、粘着付与樹脂、可塑剤、帯電防止剤、リワーク剤、硬化触媒などの通常の添加剤をさらに含むことができる。前記シランカップリング剤は前記粘着樹脂１００重量部に対して０．０１重量部～２０重量部、例えば０．０１重量部～１０重量部、例えば０．１重量部～４重量部で含まれ得る。前記シランカップリング剤が前記範囲を有する場合、粘着力の調節と信頼性の不良現象などを防止することができる。
【0116】
前記粘着層用組成物は無溶剤型であるか通常の有機溶媒をさらに含むことによってコーティング性を高めることができる。
【0117】
前記粘着層は厚さが１μｍ～５０μｍ、例えば５μｍ～２５μｍであり得る。前記粘着層が前記範囲の厚さを有する場合、ディスプレイ装置に容易に使用することができる。
【0118】
また他の一実施形態によれば、前記反射防止フィルムを含むディスプレイ装置を提供する。例えば前記反射防止フィルムおよび量子ドット含有層を含むディスプレイ装置を提供することができる。
【0119】
例えば、前記ディスプレイ装置は光源、カラーフィルタおよび基材をさらに含むことができる。
【0120】
例えば、前記ディスプレイ装置は、前記光源上に前記量子ドット含有層が位置し、前記量子ドット含有層上に前記カラーフィルタが位置し、前記カラーフィルタ上に前記基材が位置し、前記基材上に前記反射防止フィルムが位置する積層構造を有することができる（図３および図４参照）。
【0121】
例えば、前記光源は青色光源であり得る。
【0122】
例えば、前記基材はガラス基材であり得る。
【0123】
一般に光源が短波長に移動するか拡張される場合、吸光度が高くなり、蛍光が増加すると知られており、このような理由により量子ドットの蛍光収率を高めるために光源を短波長に移動または拡張する方法を用いる。しかし、青色（Ｂｌｕｅ）光源を使用する場合、色再現率低下の原因となり得、特にＢｌｕｅ ＯＬＥＤ光源の場合は移動などに困難性がある。
【0124】
しかし、一実施形態によるディスプレイ装置は、前記化学式１で表される化合物を用いて青色領域の光源を増大させ、そのため量子ドット吸収が可能な波長の光が強くなるので、最終的には量子ドットの発光効率が高くなる効果を期待することができる。さらに、青色光源の短波長領域の光を吸収（Ｃｕｔｔｉｎｇ）することでパネルの色再現率の改善を図ることができ、パネルに適用される光源の変更が必要なく、ディスプレイ装置に含まれる量子ドット使用量を減少させることができ、価格競争力の側面からも有利である。
【0125】
さらに、一実施形態によるディスプレイ装置は、前記化学式１で表される化合物含有反射防止フィルムの位置を前記ガラス基材の上に特定することによって、前記化学式１で表される化合物含有反射防止フィルムを含むことによる量子ドットの効率増大を極大化することができる。
【0126】
前記量子ドット含有層を構成する構成成分は量子ドットの他にバインダ樹脂、反応性不飽和化合物、光重合開始剤、拡散剤およびその他添加剤などをさらに含み得、これについては後述する。
【0127】
前記量子ドットは３５０ｎｍ～５５０ｎｍの波長領域のうち４００ｎｍ～５００ｎｍで最大蛍光発光波長（ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｃｅλｍａｘ）を有することができる。
【0128】
前記量子ドットは２０ｎｍ～１００ｎｍ、例えば２０ｎｍ～５０ｎｍの半値幅（Ｆｕｌｌ ｗｉｄｔｈ ａｔ ｈａｌｆ ｍａｘｉｍｕｍ；ＦＷＨＭ）を有することができる。前記量子ドットが前記範囲の半値幅を有する場合、色純度が高くなることによって、カラーフィルタ内の色材料として使用時色再現率が高くなる効果がある。
【0129】
前記量子ドットはそれぞれ独立して有機物や無機物または有機物と無機物のハイブリッド（混成物）であり得る。
【0130】
前記量子ドットはそれぞれ独立してコアおよび前記コアを包むシェルで構成され、前記コアおよびシェルはそれぞれ独立してＩＩ－ＩＶ族、ＩＩＩ－Ｖ族などからなるコア、コア／シェル、コア／第１シェル／第２シェル、合金、合金／シェルなどの構造を有することができ、これに限定されるものではない。
【0131】
例えば、前記コアはＣｄＳ、ＣｄＳｅ、ＣｄＴｅ、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｎＴｅ、ＨｇＳ、ＨｇＳｅ、ＨｇＴｅ、ＧａＮ、ＧａＰ、ＧａＡｓ、ＩｎＰ、ＩｎＡｓおよびこれらの合金からなる群より選ばれた少なくとも一つ以上の物質を含み得るが、必ずしもこれに限定されるものではない。前記コアを囲むシェルはＣｄＳｅ、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、ＺｎＴｅ、ＣｄＴｅ、ＰｂＳ、ＴｉＯ、ＳｒＳｅ、ＨｇＳｅおよびこれらの合金からなる群より選ばれた少なくとも一つ以上の物質を含み得るが、必ずしもこれに限定されるものではない。
【0132】
一実施形態では、最近、世界的に環境への関心が大きく増加し、かつ有毒性物質に対する規制が強化されているので、カドミウム系コアを有する発光物質に代わって、量子効率（ｑｕａｎｔｕｍ ｙｉｅｌｄ）は多少低いが、環境に優しい非カドミウム系発光素材（ＩｎＰ／ＺｎＳ）を使用したが、必ずしもこれに限定されるものではない。
【0133】
前記量子ドットの構造は特に限定されないが、前記コア／シェル構造の量子ドットの場合、シェルを含む全体量子ドットそれぞれの大きさ（平均粒径）は１ｎｍ～１５ｎｍ、例えば５ｎｍ～１５ｎｍであり得る。
【0134】
例えば、前記量子ドットは赤色量子ドット、緑色量子ドットまたはこれらの組み合わせを含むことができる。例えば、前記量子ドットは緑色量子ドットおよび赤色量子ドットをすべて含むことができる。この時、前記緑色量子ドットは前記赤色量子ドットより多い含有量で含まれ得る。前記赤色量子ドットは１０ｎｍ～１５ｎｍの平均粒径を有することができる。前記緑色量子ドットは５ｎｍ～８ｎｍの平均粒径を有することができる。
【0135】
一方、前記量子ドットの分散安定性のために、分散剤が共に使用されることもできる。前記分散剤は量子ドットのような光変換物質が硬化性組成物内で均一に分散するように助け、非イオン性、アニオン性またはカチオン性分散剤をいずれも使用することができる。具体的にはポリアルキレングリコールまたはそのエステル類、ポリオキシアルキレン、多価アルコールエステルアルキレンオキシド付加物、アルコールアルキレンオキシド付加物、スルホン酸エステル、スルホン酸塩、カルボン酸エステル、カルボン酸塩、アルキルアミドアルキレンオキシド付加物、アルキルアミンなどを使用することができ、これらは単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。前記分散剤は量子ドットのような光変換物質の固形分に対して０．１重量％～１００重量％、例えば１０重量％～２０重量％で使用することができる。
【0136】
前記量子ドットは量子ドット含有層を構成する構成成分１００重量部に対して１重量部～４０重量部、例えば１重量部～１０重量部で含まれ得る。前記量子ドットが前記範囲内で含まれる場合、光変換率に優れ、パターン特性と現像特性を阻害せず、優れた工程性を有することができる。
【0137】
前記バインダ樹脂はアクリル系樹脂、エポキシ樹脂またはこれらの組み合わせを含むことができる。
【0138】
前記アクリル系樹脂は第１エチレン性不飽和単量体およびこれと共重合可能な第２エチレン性不飽和単量体の共重合体であって、一つ以上のアクリル系繰り返し単位を含む樹脂であり得る。
【0139】
前記第１エチレン性不飽和単量体は一つ以上のカルボキシ基を含有するエチレン性不飽和単量体であり、その具体的な例としてはアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸、フマル酸またはこれらの組み合わせが挙げられる。
【0140】
前記第１エチレン性不飽和単量体は前記アクリル系バインダ樹脂総量に対して５重量％～５０重量％、例えば１０重量％～４０重量％で含まれ得る。
【0141】
前記第２エチレン性不飽和単量体はスチレン、α－メチルスチレン、ビニルトルエン、ビニルベンジルメチルエーテルなどの芳香族ビニル化合物；メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレートなどの不飽和カルボン酸エステル化合物；２－アミノエチル（メタ）アクリレート、２－ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレートなどの不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル化合物；酢酸ビニル、安息香酸ビニルなどのカルボン酸ビニルエステル化合物；グリシジル（メタ）アクリレートなどの不飽和カルボン酸グリシジルエステル化合物；（メタ）アクリロニトリルなどのシアン化ビニル化合物；（メタ）アクリルアミドなどの不飽和アミド化合物；などが挙げられ、これらを単独でまたは二つ以上混合して使用することができる。
【0142】
前記アクリル系樹脂の具体的な例としてはポリベンジルメタクリレート、（メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート／スチレン共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート／２－ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート／スチレン／２－ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体などが挙げられるが、これに限定されるものではなく、これらを単独または２種以上を配合して使用することもできる。
【0143】
前記アクリル系樹脂の重量平均分子量は１，０００ｇ／ｍｏｌ～１５，０００ｇ／ｍｏｌであり得る。前記アクリル系樹脂の重量平均分子量が前記範囲内である場合、基板との密着性に優れ、物理的、化学的物性が良く、粘度が適切である。
【0144】
前記エポキシ樹脂は熱によって重合され得るモノマー（ｍｏｎｏｍｅｒ）またはオリゴマー（ｏｌｉｇｏｍｅｒ）として、炭素－炭素不飽和結合および炭素－炭素環状結合を有する化合物などを含むことができる。
【0145】
前記エポキシ樹脂としてはビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、環状脂肪族エポキシ樹脂および脂肪族ポリグリシジルエーテルなどがさらに含まれ得る。
【0146】
このような化合物の市販品として、油化シェルエポキシ（株）のＹＸ４０００、ＹＸ４０００Ｈ、ＹＬ６１２１Ｈ、ＹＬ６６４０、ＹＬ６６７７；日本化薬（株）のＥＯＣＮ－１０２、ＥＯＣＮ－１０３Ｓ、ＥＯＣＮ－１０４Ｓ、ＥＯＣＮ－１０２０、ＥＯＣＮ－１０２５、ＥＯＣＮ－１０２７および油化シェルエポキシ（株）のエピコート１８０Ｓ７５；ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂には油化シェルエポキシ（株）のエピコート１００１、１００２、１００３、１００４、１００７、１００９、１０１０および８２８；ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂には油化シェルエポキシ（株）のエピコート８０７および８３４；フェノールノボラック型エポキシ樹脂には油化シェルエポキシ（株）のエピコート１５２、１５４、１５７Ｈ６５および日本化薬（株）のＥＰＰＮ ２０１、２０２；その他の環状脂肪族エポキシ樹脂にはＣＩＢＡ－ＧＥＩＧＹ Ａ．Ｇ社のＣＹ１７５、ＣＹ１７７およびＣＹ１７９、Ｕ．Ｃ．Ｃ社のＥＲＬ－４２３４、ＥＲＬ－４２９９、ＥＲＬ－４２２１およびＥＲＬ－４２０６、昭和電工（株）のショーダイン５０９、ＣＩＢＡ－ＧＥＩＧＹ Ａ．Ｇ社のアラルダイトＣＹ－１８２、ＣＹ－１９２およびＣＹ－１８４、大日本インキ工業（株）のエピクロン２００および４００、油化シェルエポキシ（株）のエピコート８７１、８７２およびＥＰ１０３２Ｈ６０、セラニーズコーティング（株）のＥＤ－５６６１およびＥＤ－５６６２；脂肪族ポリグリシジルエーテルには油化シェルエポキシ（株）のエピコート１９０Ｐおよび１９１Ｐ、共栄社油脂化学工業（株）のエポライト１００ＭＦ、日本油脂（株）のエピオールＴＭＰなどが挙げられる。
【0147】
前記バインダ樹脂は量子ドット含有層を構成する構成成分１００重量部に対して１重量部～４０重量部、例えば、５重量部～２０重量部で含まれ得る。バインダ樹脂が前記範囲内で含まれる場合、優れた感度、現像性、解像度およびパターンの直進性を得ることができる。
【0148】
前記反応性不飽和化合物は従来の光硬化性組成物および熱硬化性組成物に一般に使用されるモノマーまたはオリゴマーを混合して使用することができる。
【0149】
前記反応性不飽和化合物はアクリレート系化合物であり得る。例えば、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，４－ブタンジオールジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ビスフェノールＡジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ノボラックエポキシアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、１，４－ブタンジオールジメタクリレート、１，６－ヘキサンジオールジメタクリレートなどから１種以上を選択または混合して使用することができる。
【0150】
前記反応性不飽和化合物はより優れた現像性を付与するために酸無水物で処理して使用することもできる。
【0151】
前記反応性不飽和化合物は量子ドット含有層を構成する構成成分１００重量部に対して１重量部～１０重量部、例えば１重量部～５重量部で含まれ得る。反応性不飽和化合物が前記範囲内で含まれる場合、パターン形成工程で露光時の硬化が十分に起きて信頼性に優れ、パターンの耐熱性、耐光性、耐化学性、解像度および密着性もまた優れる。
【0152】
前記光重合開始剤はアセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物、ベンゾイン系化合物、トリアジン系化合物、オキシム系化合物などを使用することができる。
【0153】
前記アセトフェノン系化合物の例としては、２，２’－ジエトキシアセトフェノン、２，２’－ジブトキシアセトフェノン、２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオフェノン、ｐ－ｔ－ブチルトリクロロアセトフェノン、ｐ－ｔ－ブチルジクロロアセトフェノン、４－クロロアセトフェノン、２，２’－ジクロロ－４－フェノキシアセトフェノン、２－メチル－１－（４－（メチルチオ）フェニル）－２－モルホリノプロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタン－１－オンなどが挙げられる。
【0154】
前記ベンゾフェノン系化合物の例としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４－フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、４，４’－ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’－ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’－ジクロロベンゾフェノン、３，３’－ジメチル－２－メトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。
【0155】
前記チオキサントン系化合物の例としては、チオキサントン、２－メチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４－ジエチルチオキサントン、２，４－ジイソプロピルチオキサントン、２－クロロチオキサントンなどが挙げられる。
【0156】
前記ベンゾイン系化合物の例としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタールなどが挙げられる。
【0157】
前記トリアジン系化合物の例としては、２，４，６－トリクロロ－ｓ－トリアジン、２－フェニル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（３’，４’－ジメトキシスチリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４’－メトキシナフチル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（ｐ－メトキシフェニル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（ｐ－トリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－ビフェニル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、ビス（トリクロロメチル）－６－スチリル－ｓ－トリアジン、２－（ナフト－１－イル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４－メトキシナフト－１－イル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－４－ビス（トリクロロメチル）－６－ピペロニル－ｓ－トリアジン、２－４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシスチリル）－ｓ－トリアジンなどが挙げられる。
【0158】
前記オキシム系化合物の例としてはＯ－アシルオキシム系化合物、２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）－１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－１，２－オクタンジオン、１－（Ｏ－アセチルオキシム）－１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］エタノン、Ｏ－エトキシカルボニル－α－オキシアミノ－１－フェニルプロパン－１－オンなどを使用することができる。前記Ｏ－アシルオキシム系化合物の具体的な例としては、１，２－オクタンジオン、２－ジメチルアミノ－２－（４－メチルベンジル）－１－（４－モルホリン－４－イル－フェニル）－ブタン－１－オン、１－（４－フェニルスルファニルフェニル）－ブタン－１，２－ジオン－２－オキシム－Ｏ－ベンゾエート、１－（４－フェニルスルファニルフェニル）－オクタン－１，２－ジオン－２－オキシム－Ｏ－ベンゾエート、１－（４－フェニルスルファニルフェニル）－オクタン－１－オンオキシム－Ｏ－アセテート、１－（４－フェニルスルファニルフェニル）－ブタン－１－オンオキシム－Ｏ－アセテートなどが挙げられる。
【0159】
前記光重合開始剤は前記化合物以外にもカルバゾール系化合物、ジケトン類化合物、スルホニウムボレート系化合物、ジアゾ系化合物、イミダゾール系化合物、ビイミダゾール系化合物、フルオレン系化合物などを使用することができる。
【0160】
前記光重合開始剤は光を吸収して励起状態になった後そのエネルギを伝達することによって化学反応を起こす光増感剤とともに使用されることもできる。
【0161】
前記光増感剤の例としては、テトラエチレングリコールビス－３－メルカプトプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス－３－メルカプトプロピオネート、ジペンタエリスリトールテトラキス－３－メルカプトプロピオネートなどが挙げられる。
【0162】
前記光重合開始剤は量子ドット含有層を構成する構成成分１００重量部に対して０．１重量部～１０重量部、例えば０．１重量部～５重量部で含まれ得る。光重合開始剤が前記範囲内で含まれる場合、露光時感度と現像性のバランスに優れ、残膜なしの優れた解像度のパターンを得ることができる。
【0163】
前記量子ドット含有層は拡散剤をさらに含むことができる。
【0164】
例えば、前記拡散剤は硫酸バリウム（ＢａＳＯ４）、炭酸カルシウム（ＣａＣＯ３）、二酸化チタン（ＴｉＯ２）、ジルコニア（ＺｒＯ２）またはこれらの組み合わせを含むことができる。
【0165】
前記拡散剤は前述した量子ドットに吸収されなかった光を反射させ、前記反射した光を量子ドットが再び吸収できるようにする。すなわち、前記拡散剤は量子ドットに吸収される光の量を増加させ、硬化性組成物の光変換効率を増加させることができる。
【0166】
前記拡散剤は平均粒径（Ｄ５０）が１５０ｎｍ～２５０ｎｍであり得、具体的には１８０ｎｍ～２３０ｎｍであり得る。前記拡散剤の平均粒径が前記範囲内である場合、より優れた光拡散効果を有することができ、光変換効率を増加させることができる。
【0167】
前記拡散剤は量子ドット含有層を構成する構成成分１００重量部に対して固形分を基準として０．１重量％～２０重量％、例えば０．１重量％～５重量％で含まれ得る。前記拡散剤が量子ドット含有層を構成する構成成分１００重量部に対して０．１重量％未満で含まれる場合、拡散剤の使用による光変換効率の向上効果を期待することが難しく、２０重量％を超えて含む場合はパターン特性が低下する恐れがある。
【0168】
前記量子ドットの安定性および分散性の向上のために、前記量子ドット含有層はチオール（ｔｈｉｏｌ）系添加剤をさらに含むことができる。
【0169】
前記チオール系添加剤は前記量子ドットのシェル表面に置換され、溶媒に対する量子ドットの分散安定性を向上させて、量子ドットを安定化させることができる。
【0170】
前記チオール系添加剤はその構造によって末端に２個～１０個、例えば２個～４個のチオール基（－ＳＨ）を有することができる。
【0171】
例えば、前記チオール系添加剤は末端に下記化学式２で表される官能基を少なくとも２個以上含むことができる。
【0172】
【化15】
【0173】
前記化学式２において、
Ｌ７およびＬ８はそれぞれ独立して単結合、置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ２０アルキレン基、置換若しくは非置換されたＣ３～Ｃ２０シクロアルキレン基、置換若しくは非置換されたＣ６～Ｃ２０アリーレン基または置換若しくは非置換されたＣ２～Ｃ２０ヘテロアリーレン基である。
Ｌ７およびＬ８はそれぞれ独立して単結合、置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ２０アルキレン基、置換若しくは非置換されたＣ３～Ｃ２０シクロアルキレン基、置換若しくは非置換されたＣ６～Ｃ２０アリーレン基または置換若しくは非置換されたＣ２～Ｃ２０ヘテロアリーレン基である。
【0174】
例えば、前記チオール系添加剤は下記化学式３で表されることができる。
【0175】
【化16】
【0176】
前記化学式３において、
Ｌ７およびＬ８はそれぞれ独立して単結合、置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ２０アルキレン基、置換若しくは非置換されたＣ３～Ｃ２０シクロアルキレン基、置換若しくは非置換されたＣ６～Ｃ２０アリーレン基または置換若しくは非置換されたＣ２～Ｃ２０ヘテロアリーレン基であり、
ｕ１およびｕ２はそれぞれ独立して０または１の整数である。
Ｌ７およびＬ８はそれぞれ独立して単結合、置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ２０アルキレン基、置換若しくは非置換されたＣ３～Ｃ２０シクロアルキレン基、置換若しくは非置換されたＣ６～Ｃ２０アリーレン基または置換若しくは非置換されたＣ２～Ｃ２０ヘテロアリーレン基であり、
ｕ１およびｕ２はそれぞれ独立して０または１の整数である。
【0177】
例えば、前記化学式２および化学式３において、前記Ｌ７およびＬ８はそれぞれ独立して単結合または置換若しくは非置換されたＣ１～Ｃ２０アルキレン基であり得る。
【0178】
前記チオール系添加剤の具体的な例としては、下記化学式２ａで表されるペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）（ｐｅｎｔａｅｒｙｔｈｒｉｔｏｌ ｔｅｔｒａｋｉｓ（３－ｍｅｒｃａｐｔｏｐｒｏｐｉｏｎａｔｅ））、下記化学式２ｂで表されるトリメチロールプロパントリス（３－メルカプトプロピオネート）（ｔｒｉｍｅｔｈｙｌｏｌｐｒｏｐａｎｅ ｔｒｉｓ（３－ｍｅｒｃａｐｔｏｐｒｏｐｉｏｎａｔｅ））、下記化学式２ｃで表されるペンタエリスリトールテトラキス（メルカプトアセテート）Ｐｅｎｔａｅｒｙｔｈｒｉｔｏｌ ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｍｅｒｃａｐｔｏａｃｅｔａｔｅ）、下記化学式２ｄで表されるトリメチロールプロパントリス（２－メルカプトアセテート）（ｔｒｉｍｅｔｈｙｌｏｌｐｒｏｐａｎｅ ｔｒｉｓ（２－ｍｅｒｃａｐｔｏａｃｅｔａｔｅ））、下記化学式２ｅで表されるグリコールジ－３－メルカプトプロピオネート（Ｇｌｙｃｏｌ ｄｉ－３－ｍｅｒｃａｐｔｏｐｒｏｐｉｏｎａｔｅ）およびこれらの組み合わせからなる群より選ばれたいずれか一つが挙げられる。
【0179】
【化17】
【0180】
【化18】
【0181】
前記チオール系添加剤は量子ドット含有層を構成する構成成分１００重量部に対して０．１重量部～１０重量部、例えば０．１重量部～５重量部で含まれ得る。チオール系添加剤が前記範囲内で含まれる場合、量子ドットなどの光変換物質の安定性を向上させることができ、成分内のチオール基が樹脂または単量体のアクリル基と反応して共有結合を形成することによって量子ドットのような光変換物質の耐熱性向上効果も有することができる。前記量子ドット含有層はヒドロキノン系化合物、カテコール系化合物またはこれらの組み合わせを含む重合抑制剤をさらに含むことができる。
【0182】
前記量子ドット含有層は前記ヒドロキノン系化合物、カテコール系化合物またはこれらの組み合わせをさらに含むことにより、量子ドットなどを含む組成物を印刷（コーティング）した後、露光する間常温架橋を防止することができる。
【0183】
例えば、前記ヒドロキノン系化合物、カテコール系化合物またはこれらの組み合わせはヒドロキノン、メチルヒドロキノン、メトキシヒドロキノン、ｔ－ブチルヒドロキノン、２，５－ジ－ｔ－ブチルヒドロキノン、２，５－ビス（１，１－ジメチルブチル）ヒドロキノン、２，５－ビス（１，１，３，３－テトラメチルブチル）ヒドロキノン、カテコール、ｔ－ブチルカテコール、４－メトキシフェノール、ピロガロール、２，６－ジ－ｔ－ブチル－４－メチルフェノール、２－ナフトール、トリス（Ｎ－ヒドロキシ－Ｎ－ニトロソフェニルアミナト－Ｏ、Ｏ’）アルミニウム（Ｔｒｉｓ（Ｎ－ｈｙｄｒｏｘｙ－Ｎ－ｎｉｔｒｏｓｏｐｈｅｎｙｌａｍｉｎａｔｏ－Ｏ、Ｏ’）ａｌｕｍｉｎｉｕｍ）またはこれらの組み合わせを含み得るが、必ずしもこれに限定されるものではない。
【0184】
前記ヒドロキノン系化合物、カテコール系化合物またはこれらの組み合わせは分散液の形態で使用することができ、前記分散液形態の重合抑制剤は量子ドットおよび蛍光染料含有層または量子ドット含有層（蛍光染料非含有）を構成する構成成分１００重量部に対して０．００１重量部～１重量部、例えば０．０１重量部～０．１重量部で含まれ得る。安定剤が前記範囲内で含まれる場合、常温経時の問題を解決すると同時に、感度低下および表面剥離現象を防止することができる。
【0185】
前記量子ドット含有層は前記チオール系添加剤、重合抑制剤の他にマロン酸；３－アミノ－１，２－プロパンジオール；シラン系カップリング剤；レベリング剤；フッ素系界面活性剤；またはこれらの組み合わせをさらに含むことができる。
【0186】
例えば、前記量子ドット含有層は基板との密着性などを改善するためにビニル基、カルボキシル基、メタクリルオキシ基、イソシアネート基、エポキシ基などの反応性置換基を有するシラン系カップリング剤をさらに含むことができる。
【0187】
前記シラン系カップリング剤の例としては、トリメトキシシリル安息香酸、γメタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γイソシアネートプロピルトリエトキシシラン、γグリシドキシプロピルトリメトキシシラン、βエポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランなどが挙げられ、これらを単独または２種以上を混合して使用することができる。
【0188】
前記シラン系カップリング剤は量子ドット含有層を構成する構成成分１００重量部に対して０．０１重量部～１０重量部で含まれ得る。シラン系カップリング剤が前記範囲内で含まれる場合、密着性、貯蔵性などに優れる。
【0189】
また、前記量子ドット含有層は必要に応じてコーティング性の向上および欠点生成の防止効果のために界面活性剤、例えばフッ素系界面活性剤をさらに含むことができる。
【0190】
前記フッ素系界面活性剤としては、ＢＭ Ｃｈｅｍｉｅ社のＢＭ－１０００(登録商標)、ＢＭ－１１００(登録商標)など；大日本インキ化学工業（株）のメガファックＦ １４２Ｄ(登録商標)、同Ｆ １７２(登録商標)、同Ｆ １７３(登録商標)、同Ｆ １８３(登録商標)など；住友スリーエム（株）のフロラードＦＣ－１３５(登録商標)、同ＦＣ－１７０Ｃ(登録商標)、同ＦＣ－４３０(登録商標)、同ＦＣ－４３１(登録商標)など；旭硝子（株）のサーフロンＳ－１１２(登録商標)、同Ｓ－１１３(登録商標)、同Ｓ－１３１(登録商標)、同Ｓ－１４１(登録商標)、同Ｓ－１４５(登録商標)など；東レシリコーン（株）のＳＨ－２８ＰＡ(登録商標)、同－１９０(登録商標)、同－１９３(登録商標)、ＳＺ－６０３２(登録商標)、ＳＦ－８４２８(登録商標)など；ＤＩＣ（株）のＦ－４８２、Ｆ－４８４、Ｆ－４７８、Ｆ－５５４などの名称で市販されているフッ素系界面活性剤を使用することができる。
【0191】
前記フッ素系界面活性剤は前記量子ドット含有層を構成する構成成分１００重量部に対して０．００１重量部～５重量部で使用することができる。前記フッ素系界面活性剤が前記範囲内で含まれる場合、コーティング均一性が確保され、シミが発生しなく、ガラス基板に対する湿潤性（ｗｅｔｔｉｎｇ）に優れる。
【0192】
また、前記量子ドット含有層は物性を阻害しない範囲内で酸化防止剤、安定剤などのその他添加剤が一定量さらに添加されることもできる。
【0193】
前記量子ドット含有層それぞれの製造方法は前述した構成成分などを含む硬化性組成物を基板の上にインクジェット噴射方法で塗布してパターンを形成する段階（Ｓ１）；および前記パターンを硬化する段階（Ｓ２）を含む。
【0194】
（Ｓ１）パターンを形成する段階
前記硬化性組成物はインクジェット噴射方式で０．５～１０μｍの厚さで基板の上に塗布することが好ましい。前記インクジェット噴射は単一カラーのみ噴射して必要な色の数に応じて繰り返し噴射することによってパターンを形成することができ、工程を減らすために必要な色の数を同時に噴射する方式でパターンを形成することもできる。
前記硬化性組成物はインクジェット噴射方式で０．５～１０μｍの厚さで基板の上に塗布することが好ましい。前記インクジェット噴射は単一カラーのみ噴射して必要な色の数に応じて繰り返し噴射することによってパターンを形成することができ、工程を減らすために必要な色の数を同時に噴射する方式でパターンを形成することもできる。
【0195】
（Ｓ２）硬化する段階
前記収得されたパターンを硬化させて硬化樹脂膜を得ることができる。この時、硬化させる方法としては熱硬化工程が好ましい。前記熱硬化工程は約１００℃以上の温度で約３分間加熱して硬化性組成物内の溶媒を先に除去した後、引き続き１６０℃～３００℃の温度で加熱して硬化させる工程であり得、より好ましくは１８０℃～２５０℃の温度で約３０分間加熱して硬化させる工程であり得る。
前記収得されたパターンを硬化させて硬化樹脂膜を得ることができる。この時、硬化させる方法としては熱硬化工程が好ましい。前記熱硬化工程は約１００℃以上の温度で約３分間加熱して硬化性組成物内の溶媒を先に除去した後、引き続き１６０℃～３００℃の温度で加熱して硬化させる工程であり得、より好ましくは１８０℃～２５０℃の温度で約３０分間加熱して硬化させる工程であり得る。
【0196】
また、前記量子ドット含有層それぞれはインクジェットなしに製造することもできる。この場合の製造方法は前述した構成成分などを含む硬化性組成物を所定の前処理をした基板上にスピン塗布、ローラ塗布、スプレー塗布などの適当な方法を用いて、例えば、０．５μｍ～１０μｍの厚さで塗布して、カラーフィルタに必要なパターンを形成するように光を照射する。照射に使用される光源としてはＵＶ、電子線またはＸ線を使用することができ、例えば、１９０ｎｍ～４５０ｎｍ、具体的には２００ｎｍ～４００ｎｍ領域のＵＶを照射することができる。前記照射する工程でフォトレジストマスクをさらに使用して実施することもできる。このように照射する工程を実施した後、前記光源が照射された組成物層を現像液で処理する。この時、組成物層で非露光部分は溶解することによってカラーフィルタに必要なパターンが形成される。このような工程を必要な色の数に応じて繰り返すことによって所望するパターンを有するカラーフィルタを収得することができる。また、前記工程で現像によって収得された画像パターンを再び加熱または活性線照射などによって硬化させると耐クラック性、耐溶剤性などを向上させることができる。
【0197】
前記硬化性組成物は溶媒をさらに含むことができる。
【0198】
前記溶媒としてはメタノール、エタノールなどのアルコール類；エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルなどのグリコールエーテル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチルセロソルブアセテートなどのセロソルブアセテート類；メチルエチルカルビトール、ジエチルカルビトール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなどのカルビトール類；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテートなどのプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン、メチル－ｎ－プロピルケトン、メチル－ｎ－ブチルケトン、メチル－ｎ－アミルケトン、２－ヘプタノンなどのケトン類；酢酸エチル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソブチルなどの飽和脂肪族モノカルボン酸アルキルエステル類；メチルラクテート、エチルラクテートなどの乳酸アルキルエステル類；メチルヒドロキシアセテート、エチルヒドロキシアセテート、ブチルヒドロキシアセテートなどのヒドロキシ酢酸アルキルエステル類；メトキシメチルアセテート、メトキシエチルアセテート、メトキシブチルアセテート、エトキシメチルアセテート、エトキシエチルアセテートなどの酢酸アルコキシアルキルエステル類；メチル３－ヒドロキシプロピオネート、エチル３－ヒドロキシプロピオネートなどの３－ヒドロキシプロピオン酸アルキルエステル類；メチル３－メトキシプロピオネート、エチル３－メトキシプロピオネート、エチル３－エトキシプロピオネート、メチル３－エトキシプロピオネートなどの３－アルコキシプロピオン酸アルキルエステル類；メチル２－ヒドロキシプロピオネート、エチル２－ヒドロキシプロピオネート、プロピル２－ヒドロキシプロピオネートなどの２－ヒドロキシプロピオン酸アルキルエステル類；メチル２－メトキシプロピオネート、エチル２－メトキシプロピオネート、エチル２－エトキシプロピオネート、メチル２－エトキシプロピオネートなどの２－アルコキシプロピオン酸アルキルエステル類；メチル２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオネート、エチル２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオネートなどの２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオン酸アルキルエステル類；メチル２－メトキシ－２－メチルプロピオネート、エチル２－エトキシ－２－メチルプロピオネートなどの２－アルコキシ－２－メチルプロピオン酸アルキルエステル類；２－ヒドロキシエチルプロピオネート、２－ヒドロキシ－２－メチルエチルプロピオネート、ヒドロキシエチルアセテート、メチル２－ヒドロキシ－３－メチルブタノエートなどのエステル類；またはピルビン酸エチルなどのケトン酸エステル類の化合物があり、また、Ｎ－メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ－メチルホルムアニリド、Ｎ－メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセチルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１－オクタノール、１－ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ－ブチロラクトン、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、フェニルセロソルブアセテート、ジメチルアジペートなどを使用できるが、これに限定されるものではない。
【0199】
例えば、前記溶媒はエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレンジグリコールメチルエチルエーテルなどのグリコールエーテル類；エチルセロソルブアセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類；２－ヒドロキシプロピオン酸エチルなどのエステル類；ジエチレングリコールモノメチルエーテルなどのカルビトール類；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテートなどのプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類；エタノールなどのアルコール類またはこれらの組み合わせを使用することが好ましい。
【0200】
例えば、前記溶媒はプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、エタノール、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレンジグリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジメチルアセトアミド、２－ブトキシエタノール、Ｎ－メチルピロリジン、Ｎ－エチルピロリジン、プロピレンカーボネート、γ－ブチロラクトン、ジメチルアジペートまたはこれらの組み合わせを含む溶媒であり得る。
【0201】
前記溶媒は前記硬化性組成物総量に対して残部量で含まれ得る。
【発明を実施するための形態】
【0202】
以下、本発明の好ましい実施例を記載する。ただし、下記の実施例は本発明の好ましい一実施例だけであり、本発明は下記実施例によって限定されるものではない。
【0203】
（実施例）
（合成例）
下記合成例での化合物それぞれをメチルエチルケトン（ＭＥＫ）溶媒で１０ｐｐｍの濃度に希釈した後、ＵＶ／ＶＩＳ分光光度計（Ｐｅｒｋｉｎｅｌｍｅｒ，Ｌａｍｄａ２５）で最大吸収波長を測定した。また、ベール（Ｂｅｅｒ）の法則により吸光係数を計算した。また、それぞれの最大吸収波長での吸収が半分になる領域である半値幅（ｎｍ）を測定した。
（合成例）
下記合成例での化合物それぞれをメチルエチルケトン（ＭＥＫ）溶媒で１０ｐｐｍの濃度に希釈した後、ＵＶ／ＶＩＳ分光光度計（Ｐｅｒｋｉｎｅｌｍｅｒ，Ｌａｍｄａ２５）で最大吸収波長を測定した。また、ベール（Ｂｅｅｒ）の法則により吸光係数を計算した。また、それぞれの最大吸収波長での吸収が半分になる領域である半値幅（ｎｍ）を測定した。
【0204】
合成例１：化学式１－１－１で表される化合物の合成
【0205】
【化19】
【0206】
２Ｌ丸底フラスコにＥｔｈｙｌ ２，４－Ｄｉｍｅｔｈｙｌｐｙｒｒｏｌｅ－３－ｃａｒｂｏｘｙｌａｔｅ ５０．０ｇ（２９９ｍｍｏｌ）、Ｂｅｎｚａｌｄｅｈｙｄｅ １５．８７ｇ（１５０ｍｍｏｌ）およびジクロロメタン（ＤＣＭ）１０００ｍｌを入れて常温で３０分間攪拌した。Ｔｒｉｆｌｕｏｒｏａｃｅｔｉｃ Ａｃｉｄ １ｍｌを滴加した後１６時間の間常温で攪拌した。２，３－Ｄｉｃｈｌｏｒｏ－５，６－ｄｉｃｙａｎｏ－１，４－ｂｅｎｚｏｑｕｉｎｏｎｅ（ＤＤＱ）３３．８ｇ（１５０ｍｍｏｌ）をＴｏｌｕｅｎｅ ５０ｍｌに溶かした溶液を滴加した後、４時間の間追加攪拌した。溶媒を除去した後、Ｅｔｈｙｌａｃｅｔａｔｅ／Ｈｅｘａｎｅ／ＴＥＡ（２０％／８０％／０．２％）混合溶液を使用してカラムクロマトグラフィーを用いて精製した後に乾燥した。（収率４０％、２５ｇ）
【0207】
【化20】
【0208】
２Ｌ丸底フラスコに反応式１の生成物２５ｇ（５９ｍｍｏｌ）、Ｔｏｌｕｅｎｅ １０００ｍｌおよびトリエチルアミン２５ｍｌ（１７８ｍｍｏｌ）を順次投入した後に攪拌する。ＢＦ３・Ｅｔ２Ｏ ３７ｍｌ（２９７ｍｍｏｌ）を投入して１００℃上で４時間の間攪拌する。溶媒を除去した後Ｍｅｔｈｙｌｅｎｅ Ｃｈｌｏｒｉｄｅ／Ｈｅｘａｎｅ／ＴＥＡ（８０％／２０％／０．２％）混合溶液を使用してカラムクロマトグラフィーを用いて精製した後に乾燥した。（収率８０％、２２ｇ）
【0209】
【化21】
【0210】
２Ｌ丸底フラスコに反応式２の生成物２２ｇ（４７ｍｍｏｌ）とＭｅｔｈｙｌｅｎｅ Ｃｈｌｏｒｉｄｅ １０００ｍｌを投入して攪拌する。アルミニウムクロリド１６ｇ（１１８ｍｍｏｌ）を投入して５分間攪拌する。Ｃａｔｅｃｈｌｏｌ ２０．７ｇ（１８８ｍｍｏｌ）をアセトニトリル１００ｍｌに溶解した溶液を反応物に投入して常温で３０分間攪拌する。反応物を水洗した後に溶媒を除去してメタノールを投入して攪拌する。析出した固体を濾過した後に乾燥して下記化学式１－１－１で表される化合物を得る。（収率５０％、１２．５ｇ）
【0211】
【化22】
【0212】
合成例２：化学式１－１－２で表される化合物の合成
【0213】
【化23】
【0214】
２Ｌ丸底フラスコにＥｔｈｙｌ ２，４－Ｄｉｍｅｔｈｙｌｐｙｒｒｏｌｅ－３－ｃａｒｂｏｘｙｌａｔｅ ５０．０ｇ（２９９ｍｍｏｌ）、Ａｃｅｔｙｌｃｈｌｏｒｉｄｅ １１．７ｇ（１５０ｍｍｏｌ）およびトルエン１０００ｍｌを入れて６０℃で４時間の間攪拌した。攪拌した後に常温に冷ます。
【0215】
【化24】
【0216】
反応式４の生成物にＩｎ－ｓｉｔｕで反応する。常温でトリエチルアミン３７ｍｌ（２６７ｍｍｏｌ）、ＢＦ３・Ｅｔ２Ｏを５５ｍｌ（４４５ｍｍｏｌ）を入れて１００℃で加熱する。反応は４時間の間実施する。溶媒を除去した後Ｍｅｔｈｙｌｅｎｅ Ｃｈｌｏｒｉｄｅ／Ｈｅｘａｎｅ／ＴＥＡ（８０％／１９．８％／０．２％）混合溶液を使用してカラムクロマトグラフィーを用いて精製した後に乾燥した。（収率８３％、３０ｇ）
【0217】
【化25】
【0218】
２Ｌ丸底フラスコに反応式５の生成物３６ｇ（８９ｍｍｏｌ）とアルミニウムクロリド３０ｇ（２２２．５ｍｍｏｌ）をＭｅｔｈｙｌｅｎｅ Ｃｈｌｏｒｉｄｅ １０００ｍｌに入れて攪拌する。Ｃａｔｅｃｈｌｏｌ ４０ｇ（３５６ｍｍｏｌ）をアセトニトリル１００ｍｌに溶かして溶液を準備する。準備したＣａｔｅｃｈｏｌ溶液を反応物に投入して常温で３０分間反応する。反応物を水洗した後に溶媒を除去してメタノールを投入して攪拌する。析出した固体を濾過した後に乾燥して下記化学式１－１－２で表される化合物を得る。（収率４７％、２０ｇ）
【0219】
【化26】
【0220】
合成例３：化学式１－１－３で表される化合物の合成
Ｂｅｎｚａｌｄｅｈｙｄｅの代わりに２，４，６－Ｔｒｉｍｅｔｈｙｌｂｅｎｚａｌｄｅｈｙｄｅを使用したことを除いては、合成例１と同じ合成方法を用いて、下記化学式１－１－３で表される化合物を合成した。
Ｂｅｎｚａｌｄｅｈｙｄｅの代わりに２，４，６－Ｔｒｉｍｅｔｈｙｌｂｅｎｚａｌｄｅｈｙｄｅを使用したことを除いては、合成例１と同じ合成方法を用いて、下記化学式１－１－３で表される化合物を合成した。
【0221】
【化27】
【0222】
合成例４：化学式１－１－４で表される化合物の合成
Ｂｅｎｚａｌｄｅｈｙｄｅの代わりに４－（Ｔｒｉｆｌｕｏｒｏｍｅｔｈｙｌ）ｂｅｎｚａｌｄｅｈｙｄｅを使用したことを除いては、合成例１と同じ合成方法を用いて、下記化学式１－１－４で表される化合物を合成した。
Ｂｅｎｚａｌｄｅｈｙｄｅの代わりに４－（Ｔｒｉｆｌｕｏｒｏｍｅｔｈｙｌ）ｂｅｎｚａｌｄｅｈｙｄｅを使用したことを除いては、合成例１と同じ合成方法を用いて、下記化学式１－１－４で表される化合物を合成した。
【0223】
【化28】
【0224】
合成例５：化学式１－１－５で表される化合物の合成
Ｂｅｎｚａｌｄｅｈｙｄｅの代わりにＥｔｈｙｌ ４－Ｆｏｒｍｙｌｂｅｎｚｏａｔｅを使用したことを除いては、合成例１と同じ合成方法を用いて、下記化学式１－１－５で表される化合物を合成した。
Ｂｅｎｚａｌｄｅｈｙｄｅの代わりにＥｔｈｙｌ ４－Ｆｏｒｍｙｌｂｅｎｚｏａｔｅを使用したことを除いては、合成例１と同じ合成方法を用いて、下記化学式１－１－５で表される化合物を合成した。
【0225】
【化29】
【0226】
合成例６：化学式１－１－６で表される化合物の合成
Ｂｅｎｚａｌｄｅｈｙｄｅの代わりに４－Ｅｔｈｏｘｙｂｅｎｚａｌｄｅｈｙｄｅを使用したことを除いては、合成例１と同じ合成方法を用いて、下記化学式１－１－６で表される化合物を合成した。
Ｂｅｎｚａｌｄｅｈｙｄｅの代わりに４－Ｅｔｈｏｘｙｂｅｎｚａｌｄｅｈｙｄｅを使用したことを除いては、合成例１と同じ合成方法を用いて、下記化学式１－１－６で表される化合物を合成した。
【0227】
【化30】
【0228】
合成例７：化学式１－１－７で表される化合物の合成
【0229】
【化31】
【0230】
Ｃａｔｅｃｈｏｌの代わりに２，３－Ｄｉｈｙｄｒｏｘｙｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅを使用したことを除いては、合成例１と同じ合成方法を用いて、下記化学式１－１－７で表される化合物を合成した。
【0231】
【化32】
【0232】
合成例８：化学式１－２－１で表される化合物の合成
【0233】
【化33】
【0234】
Ｃａｔｅｃｈｏｌの代わりに１，１’－Ｂｉ－２－ｎａｐｈｔｈｏｌを使用したことを除いては、合成例１と同じ合成方法を用いて、下記化学式１－２－１で表される化合物を合成した。
【0235】
【化34】
【0236】
比較合成例１：化学式Ｃ－１で表される化合物の合成
【0237】
【化35】
【0238】
Ｅｔｈｙｌ ２，４－Ｄｉｍｅｔｈｙｌｐｙｒｒｏｌｅ－３－ｃａｒｂｏｘｙｌａｔｅの代わりに２，４－Ｄｉｍｅｔｈｙｌｐｙｒｒｏｌｅを使用したことを除いては、合成例１と同じ合成方法を用いて、下記化学式Ｃ－１で表される化合物を合成した。
【0239】
【化36】
【0240】
比較合成例２：化学式Ｃ－２で表される化合物の合成
【0241】
【化37】
【0242】
Ｅｔｈｙｌ ２，４－Ｄｉｍｅｔｈｙｌｐｙｒｒｏｌｅ－３－ｃａｒｂｏｘｙｌａｔｅの代わりに３－Ｅｔｈｙｌ－２，４－ｄｉｍｅｔｈｙｌｐｙｒｒｏｌｅを使用したことを除いては、合成例２と同じ合成方法を用いて、下記化学式Ｃ－２で表される化合物を合成した。
【0243】
【化38】
【0244】
比較合成例３：化学式Ｃ－３で表される化合物の合成
【0245】
【化39】
【0246】
窒素雰囲気下で化学式Ｃ－１で表される化合物５０ｇ（１２６ｍｍｏｌ）をメチレンクロリド１０００ｍｌに溶かす。Ｎ－Ｃｈｌｏｒｏｓｕｃｃｉｎｉｍｉｄｅ ３３．９ｇ（２５４ｍｍｏｌ）を投入した後に常温で４時間の間反応をする。蒸留した後にカラムにより分離をする。分離により下記化学式Ｃ－３で表される化合物を得る。
【0247】
【化40】
【0248】
（評価１：波長整合性）
合成例１ないし合成例８および比較合成例１ないし比較合成例３による化合物の最大吸収波長および半値幅を下記表１に示した。下記表１から、合成例１ないし合成例８および比較合成例１による化合物は比較合成例２および比較合成例３による化合物とは異なり、４９５ｎｍ～５１０ｎｍの間で最大吸収波長を有し、同時に３０ｎｍ以下の半値幅を有して、波長整合性に優れることがわかる。
合成例１ないし合成例８および比較合成例１ないし比較合成例３による化合物の最大吸収波長および半値幅を下記表１に示した。下記表１から、合成例１ないし合成例８および比較合成例１による化合物は比較合成例２および比較合成例３による化合物とは異なり、４９５ｎｍ～５１０ｎｍの間で最大吸収波長を有し、同時に３０ｎｍ以下の半値幅を有して、波長整合性に優れることがわかる。
【0249】
【表1】
【0250】
（反射防止フィルムの製造）
実施例１
窒素ガスが還流して温度調節が容易なように冷却装置が設けられた１Ｌの反応器にｎ－ブチルアクリレート９９重量部、２－ヒドロキシエチルアクリレート１重量部を含む単量体混合物１００重量部、酢酸エチル１５０重量部を投入して攪拌しながら窒素ガスを１時間の間投入して反応器内の酸素を窒素に置換させた後反応器の温度を７０℃に維持した。開始剤として２，２’－アゾビスイソブチロニトリル０．０６重量部を投入して８時間の間反応させて（メタ）アクリル系共重合体含有溶液を製造した。前記（メタ）アクリル系共重合体はＴｇが－４６℃、重量平均分子量は１，１００，０００ｇ／ｍｏｌであった。酢酸エチルを添加して１９．４重量％の（メタ）アクリル系共重合体溶液を製造した。前記（メタ）アクリル系共重合体１００重量部の固形分を基準としてＸＤＩ系イソシアネート系架橋剤（ＴＤ－７５，固形分７５％、綜研社）０．１９３重量部、シランカップリング剤である３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ－４０３，ＳｈｉｎＥｔｓｕ社）０．１５４重量部および前記合成例１（化学式１－１－１で表示）の化合物０．０６重量部をそれぞれ混合した。その後、メチルエチルケトン２５重量部を投入して粘着層組成物を製造した。
実施例１
窒素ガスが還流して温度調節が容易なように冷却装置が設けられた１Ｌの反応器にｎ－ブチルアクリレート９９重量部、２－ヒドロキシエチルアクリレート１重量部を含む単量体混合物１００重量部、酢酸エチル１５０重量部を投入して攪拌しながら窒素ガスを１時間の間投入して反応器内の酸素を窒素に置換させた後反応器の温度を７０℃に維持した。開始剤として２，２’－アゾビスイソブチロニトリル０．０６重量部を投入して８時間の間反応させて（メタ）アクリル系共重合体含有溶液を製造した。前記（メタ）アクリル系共重合体はＴｇが－４６℃、重量平均分子量は１，１００，０００ｇ／ｍｏｌであった。酢酸エチルを添加して１９．４重量％の（メタ）アクリル系共重合体溶液を製造した。前記（メタ）アクリル系共重合体１００重量部の固形分を基準としてＸＤＩ系イソシアネート系架橋剤（ＴＤ－７５，固形分７５％、綜研社）０．１９３重量部、シランカップリング剤である３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ－４０３，ＳｈｉｎＥｔｓｕ社）０．１５４重量部および前記合成例１（化学式１－１－１で表示）の化合物０．０６重量部をそれぞれ混合した。その後、メチルエチルケトン２５重量部を投入して粘着層組成物を製造した。
【0251】
反射防止層（ＰＥＴフィルム上部面にハードコート層、高屈折層、低屈折層が順次積層された反射防止層、反射率：０．２％、ＤＮＰ社）の基材フィルムであるＰＥＴフィルムの下部面にバーコーターで前記粘着層組成物を直接塗布して９０℃オーブンで４分の間乾燥させて厚さ２０μｍの反射防止フィルムを製造した。
【0252】
実施例２
実施例１の合成例１の化合物（化学式１－１－１で表示）の代わりに合成例２の化合物（化学式１－１－２で表示）を使用したことを除いては実施例１と同様にして、反射防止フィルムを製造した。
実施例１の合成例１の化合物（化学式１－１－１で表示）の代わりに合成例２の化合物（化学式１－１－２で表示）を使用したことを除いては実施例１と同様にして、反射防止フィルムを製造した。
【0253】
実施例３
実施例１の合成例１の化合物（化学式１－１－１で表示）の代わりに合成例３の化合物（化学式１－１－３で表示）を使用したことを除いては実施例１と同様にして、反射防止フィルムを製造した。
実施例１の合成例１の化合物（化学式１－１－１で表示）の代わりに合成例３の化合物（化学式１－１－３で表示）を使用したことを除いては実施例１と同様にして、反射防止フィルムを製造した。
【0254】
実施例４
実施例１の合成例１の化合物（化学式１－１－１で表示）の代わりに合成例４の化合物（化学式１－１－４で表示）を使用したことを除いては実施例１と同様にして、反射防止フィルムを製造した。
実施例１の合成例１の化合物（化学式１－１－１で表示）の代わりに合成例４の化合物（化学式１－１－４で表示）を使用したことを除いては実施例１と同様にして、反射防止フィルムを製造した。
【0255】
実施例５
実施例１の合成例１の化合物（化学式１－１－１で表示）の代わりに合成例５の化合物（化学式１－１－５で表示）を使用したことを除いては実施例１と同様にして、反射防止フィルムを製造した。
実施例１の合成例１の化合物（化学式１－１－１で表示）の代わりに合成例５の化合物（化学式１－１－５で表示）を使用したことを除いては実施例１と同様にして、反射防止フィルムを製造した。
【0256】
実施例６
実施例１の合成例１の化合物（化学式１－１－１で表示）の代わりに合成例６の化合物（化学式１－１－６で表示）を使用したことを除いては実施例１と同様にして、反射防止フィルムを製造した。
実施例１の合成例１の化合物（化学式１－１－１で表示）の代わりに合成例６の化合物（化学式１－１－６で表示）を使用したことを除いては実施例１と同様にして、反射防止フィルムを製造した。
【0257】
実施例７
実施例１の合成例１の化合物（化学式１－１－１で表示）の代わりに合成例７の化合物（化学式１－１－７で表示）を使用したことを除いては実施例１と同様にして、反射防止フィルムを製造した。
実施例１の合成例１の化合物（化学式１－１－１で表示）の代わりに合成例７の化合物（化学式１－１－７で表示）を使用したことを除いては実施例１と同様にして、反射防止フィルムを製造した。
【0258】
実施例８
実施例１の合成例１の化合物（化学式１－１－１で表示）の代わりに合成例８の化合物（化学式１－２－１で表示）を使用したことを除いては実施例１と同様にして、反射防止フィルムを製造した。
実施例１の合成例１の化合物（化学式１－１－１で表示）の代わりに合成例８の化合物（化学式１－２－１で表示）を使用したことを除いては実施例１と同様にして、反射防止フィルムを製造した。
【0259】
比較例１
実施例１の合成例１の化合物（化学式１－１－１で表示）の代わりに比較合成例１の化合物（化学式Ｃ－１で表示）を使用したことを除いては実施例１と同様にして、反射防止フィルムを製造した。
実施例１の合成例１の化合物（化学式１－１－１で表示）の代わりに比較合成例１の化合物（化学式Ｃ－１で表示）を使用したことを除いては実施例１と同様にして、反射防止フィルムを製造した。
【0260】
比較例２
実施例１の合成例１の化合物（化学式１－１－１で表示）の代わりに比較合成例３の化合物（化学式Ｃ－３で表示）を使用したことを除いては実施例１と同様にして、反射防止フィルムを製造した。
実施例１の合成例１の化合物（化学式１－１－１で表示）の代わりに比較合成例３の化合物（化学式Ｃ－３で表示）を使用したことを除いては実施例１と同様にして、反射防止フィルムを製造した。
【0261】
（評価３：耐光信頼性）
量子ドットが適用されたパネル用フィルムの耐光信頼性改善の有無を確認するために、光学部材（一面に量子ドット含有層が位置したグラスの他の一面に前記反射防止フィルムを合紙して製造）を製造した後、前記光学部材に対してＸｅｎｏｎ Ｔｅｓｔ Ｃｈａｍｂｅｒ（Ｑ－ＳＵＮ）で［光源ランプ：Ｘｅｎｏｎランプ、照射強度：０．３５Ｗ／ｃｍ２、照射温度：６３℃、照射時間：５００時間、照射方向：反射防止フィルム側からの照射］の条件で照射する前と照射した後の波長５５０ｎｍで光透過率を測定した後光透過率変化量で耐光信頼性を評価して、その結果を下記表２に示した。光透過率変化量は照射前の光透過率変化量と照射後の光透過率変化量の差の絶対値である。
量子ドットが適用されたパネル用フィルムの耐光信頼性改善の有無を確認するために、光学部材（一面に量子ドット含有層が位置したグラスの他の一面に前記反射防止フィルムを合紙して製造）を製造した後、前記光学部材に対してＸｅｎｏｎ Ｔｅｓｔ Ｃｈａｍｂｅｒ（Ｑ－ＳＵＮ）で［光源ランプ：Ｘｅｎｏｎランプ、照射強度：０．３５Ｗ／ｃｍ２、照射温度：６３℃、照射時間：５００時間、照射方向：反射防止フィルム側からの照射］の条件で照射する前と照射した後の波長５５０ｎｍで光透過率を測定した後光透過率変化量で耐光信頼性を評価して、その結果を下記表２に示した。光透過率変化量は照射前の光透過率変化量と照射後の光透過率変化量の差の絶対値である。
【0262】
【表2】
【0263】
前記表１および表２から、実施例１ないし実施例８の場合、比較例１および比較例２より耐光信頼性が改善された結果を確認することができる。特に比較例１に使用された化合物である比較合成例１による化合物は化合物自体の波長整合性は優れるが、これを反射防止フィルムに適用した場合、一実施形態による化合物（化学式１で表される化合物）を反射防止フィルムに適用した場合と比較して、耐光信頼性が大きく低下することを確認することができる。すなわち、一実施形態による染料化合物が適用された反射防止フィルムおよび量子ドット含有ディスプレイ装置は青色長波長領域および緑色短波長領域を効果的に吸収することによって、量子ドット適用パネルの色再現率を向上させることができることを確認することができる。より具体的には、従来のＬＣＤパネルの場合、耐光性テストのための一定条件で一定時間経過後に最大吸収波長での色素残留率を測定して耐光性を確認したが、耐光性テストのための一定条件で一定時間が経過すると、最大吸収波長自体が変化するので、前記色素残留率が耐光性を担保するバロメーターにならないという意見が多く、これを考慮して本願では照射前後の特定波長での光透過率変化量により耐光信頼性を確認した。
【0264】
本発明は前記実施例に限定されるものではなく、互いに異なる多様な形態で製造することができ、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者は、本発明の技術的思想はや必須の特徴を変更せず他の具体的な形態で実施できることを理解することができる。したがって、上記一実施例はすべての面で例示的なものであり、限定的なものではないと理解しなければならない。
【符号の説明】
【0265】
１０ 青色光源
２０ 量子ドット含有層
３０ カラーフィルタ
４０ 基材
５０ 粘着層
６０ 染料含有層
７０ 反射防止層
８０ 反射防止フィルム
１００ ディスプレイ装置
２０ 量子ドット含有層
３０ カラーフィルタ
４０ 基材
５０ 粘着層
６０ 染料含有層
７０ 反射防止層
８０ 反射防止フィルム
１００ ディスプレイ装置
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【国際調査報告】