特表2023-525809ウェハアライメントのためのシステム、方法、及びターゲット
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2023-06-19
(54)【発明の名称】ウェハアライメントのためのシステム、方法、及びターゲット
(51)【国際特許分類】
H01L 21/66 20060101AFI20230612BHJP
G01B 11/26 20060101ALI20230612BHJP
G01B 11/00 20060101ALI20230612BHJP
【ＦＩ】
H01L21/66 J
G01B11/26 H
G01B11/00 D
【審査請求】未請求
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2022568835
(86)(22)【出願日】2021-05-06
(85)【翻訳文提出日】2023-01-04
(86)【国際出願番号】 US2021030985
(87)【国際公開番号】W WO2021231157
(87)【国際公開日】2021-11-18
(31)【優先権主張番号】63/024,616
(32)【優先日】2020-05-14
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(31)【優先権主張番号】17/141,984
(32)【優先日】2021-01-05
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】500049141
【氏名又は名称】ケーエルエー コーポレイション
(74)【代理人】
【識別番号】110001210
【氏名又は名称】弁理士法人ＹＫＩ国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】シムキン アルカディ
【テーマコード（参考）】
2F065
4M106
【Ｆターム（参考）】
2F065AA17
2F065AA31
2F065BB02
2F065CC19
2F065DD06
2F065FF04
2F065FF61
2F065JJ19
2F065JJ26
2F065PP12
2F065QQ24
2F065QQ31
2F065QQ41
4M106AA01
4M106AA09
4M106BA04
4M106CA39
4M106DB04
4M106DJ07
(57)【要約】
ウェハアライメントシステムは、撮像サブシステムと、コントローラと、ステージとを含む。コントローラは、基準点ターゲットのための画像データを受信し、基準点ターゲットの各々についての中心位置を決定する。中心位置決定は、それぞれの基準点ターゲット内のサブパターンを識別することと、それぞれの基準点ターゲットのための複数の中心位置候補を識別することとを含む。それぞれの基準点ターゲットのための複数の中心位置候補を識別するステップは、以下を含む：それぞれの基準点ターゲットの識別された各サブパターンにモデルを適用し、モデルは、それぞれの基準点ターゲットの中心位置候補を識別する各サブパターンのホットスポットを生成する。コントローラは、複数の中心位置候補に基づいてそれぞれの基準点ターゲットの中心位置を決定し、基準点ターゲットの中心位置決定に基づいてウェハの向きを決定するようにさらに構成される。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
ウェハアライメントシステムであって、撮像サブシステムと、
ウェハを固定し作動させるように構成されたステージであって、基準点ターゲットは、前記ウェハ上に２つ以上形成され、各基準点ターゲットは、アレイ状に配置された複数のサブパターンを含み、各サブパターンは、複数の前記サブパターンのうちの他のサブパターンとは異なる、ステージと、
前記撮像サブシステムおよび前記ステージに結合されたコントローラであって、前記コントローラは、プログラム命令を実行するように構成された１つまたは複数のプロセッサを含み、１つまたは複数の前記プロセッサは、
前記撮像サブシステムから２つ以上の前記基準点ターゲットの画像データを受信し、
２つ以上の前記基準点ターゲットのそれぞれの中心位置を決定することであって、２つ以上の前記基準点ターゲットのそれぞれの中心位置を決定することは、
パターン認識プロセスを介してそれぞれの前記基準点ターゲット内の各サブパターンを識別し、
各基準点ターゲットについて複数の中心位置候補を識別することであって、それぞれの前記基準点ターゲットのための複数の中心位置候補を識別することは、それぞれの前記基準点ターゲットの識別された各サブパターンにモデルを適用し、前記モデルは、それぞれの前記基準点ターゲットの前記中心位置候補を識別する各サブパターンのホットスポットを生成し、複数の前記中心位置候補に基づいてそれぞれの前記基準点ターゲットの前記中心位置を決定するステップを備えており、
２つ以上の前記基準点ターゲットの各々について決定された前記中心位置に基づいて、前記ステージの座標系に対する前記ウェハの向きを決定し、
前記ステージに前記ウェハの回転位置を調節するように指示して、決定された前記ウェハの向きに基づいて前記ウェハをステージ座標系に位置合わせする、
ウェハアライメントシステム。
【請求項2】
複数の前記中心位置候補に基づいてそれぞれの前記基準点ターゲットの中心位置を決定するステップは、投票スキームを介して複数の前記中心位置候補に基づいてそれぞれの前記基準点ターゲットの中心位置を決定することであって、前記投票スキームは、識別された前記サブパターンの大部分によって識別された中心位置候補として中心位置を識別することを含む請求項１に記載のシステム。
【請求項3】
前記コントローラは、前記投票スキームを実行するときに選択された公差を適用するようにさらに構成され、選択された前記公差は、複数の前記中心位置候補の許容可能な分散を含む請求項２に記載のシステム。
【請求項4】
各基準点ターゲットの面積は、前記撮像サブシステムの視野に実質的に等しい請求項１に記載のシステム。
【請求項5】
第１の基準点ターゲットは第１のフィールドにあり、第２の基準点ターゲットは第２のフィールドにある請求項１に記載のシステム。
【請求項6】
２つ以上の前記基準点パターンの各サブパターンは、他のサブパターンと同じ形状及び異なる向きを有する請求項１に記載のシステム。
【請求項7】
各サブパターンは３線パターンを含み、隣接するサブパターンに対して１２度回転される請求項６に記載のシステム。
【請求項8】
各サブパターンは交差パターンを含み、隣接するサブパターンに対して９度回転される請求項６に記載のシステム。
【請求項9】
各サブパターンは三角形パターンを含み、隣接するサブパターンに対して１２度回転される請求項６に記載のシステム。
【請求項10】
２つ以上の前記基準点パターンの各サブパターンは、異なる形状を有する請求項１に記載のシステム。
【請求項11】
前記サブパターンの少なくとも１つは、交差、円形、星形、三角形、線、又は矢印の少なくとも１つを含む請求項１に記載のシステム。
【請求項12】
前記基準点ターゲットは、リソグラフィによって前記ウェハ上に形成される請求項１に記載のシステム。
【請求項13】
前記ステージは、回転ステージまたは並進ステージの少なくとも1つを含む請求項１に記載のシステム。
【請求項14】
前記撮像サブシステムは、照明源と、
光学系セットと、
カメラと、
を含む請求項１に記載のシステム。
【請求項15】
前記撮像サブシステムは、撮像オーバーレイ計測サブシステムまたは検査サブシステムのうちの少なくとも１つを備える請求項１に記載のシステム。
【請求項16】
前記コントローラは、少なくとも３つの前記基準点ターゲットを利用する２フェイズ取得プロセスを実施するようにさらに構成され、各基準点ターゲットの中心サブパターンは、各基準点ターゲットの外側サブパターンとは異なる請求項１に記載のシステム。
【請求項17】
ウェハアライメント方法であって、サブパターンの集合を含む基準点ターゲットの画像データを取得するステップと、
各基準点ターゲットの中心位置を決定することであって、２つ以上の前記基準点ターゲットのそれぞれの中心位置を決定することは、
パターン認識プロセスを介してそれぞれの前記基準点ターゲット内の各サブパターンを識別するステップと、
各基準点ターゲットに対して複数の中心候補を特定することであって、それぞれの基準点ターゲットのための複数の中心点候補を識別することは、それぞれの前記基準点ターゲットの識別された各サブパターンにモデルを適用して、それぞれの前記基準点ターゲットの中心位置候補を識別するステップであって、前記モデルは、それぞれの前記基準点ターゲットに関連付けられた中心位置候補を識別する各サブパターンに対するホットスポットを生成し、複数の前記中心位置候補に基づいて、それぞれの前記基準点ターゲットの中心位置を決定するステップを備え、
２つ以上の前記基準点ターゲットの各々について決定された中心位置に基づいて、ステージの座標系に対するウェハの向きを決定するステップと、
前記ウェハの回転位置を調節するように前記ステージに指示して、決定された前記ウェハの向きに基づいて前記ウェハをステージ座標系に位置合わせするステップと、
を含む方法。
【請求項18】
複数の前記中心位置候補に基づいてそれぞれの前記基準点ターゲットの中心位置を決定するステップは、投票スキームを介して複数の前記中心位置候補に基づいてそれぞれの前記基準点ターゲットの中心位置を決定することであって、前記投票スキームは、識別された前記サブパターンの大部分によって識別された中心位置候補として中心位置を識別することを含む請求項１７に記載の方法。
【請求項19】
前記投票スキームを実行するときに選択された公差を適用するステップをさらに含み、選択された前記公差は、前記中心位置候補の許容可能な分散を含む請求項１８に記載の方法。
【請求項20】
各基準点ターゲットの面積は、撮像サブシステムの視野に実質的に等しい請求項１７に記載の方法。
【請求項21】
第１の基準点ターゲットは前記ウェハの第１のフィールド内にあり、第２の基準点ターゲットは前記ウェハの第２のフィールド内にある請求項１７に記載の方法。
【請求項22】
２つ以上の前記基準点パターンの各サブパターンは、他のサブパターンと同じ形状及び異なる向きを有する請求項１７に記載の方法。
【請求項23】
各サブパターンは３線パターンを含み、隣接するサブパターンに対して１２度回転される請求項２２に記載の方法。
【請求項24】
各サブパターンは交差パターンを含み、隣接するサブパターンに対して９度回転される請求項２２に記載の方法。
【請求項25】
各サブパターンは三角形パターンを含み、隣接するサブパターンに対して１２度回転される請求項２２に記載の方法。
【請求項26】
２つ以上の前記基準点パターンの各サブパターンは、異なる形状を有する請求項１７に記載の方法。
【請求項27】
前記サブパターンの少なくとも1つは、交差、円形、星形、三角形、線、又は矢印の少なくとも１つを含む請求項１７に記載の方法。
【請求項28】
前記基準点ターゲットは、リソグラフィによって前記ウェハ上に形成される請求項１７に記載の方法。
【請求項29】
少なくとも３つの基準点ターゲットを利用する２フェイズ取得プロセスを実装し、前記基準点ターゲットの各々の中心サブパターンは、前記基準点ターゲットの各々の外側サブパターンとは異なるステップをさらに含む請求項１７に記載の方法。
【請求項30】
ウェハアライメントシステムで使用するための基準点ターゲットであって、アレイ状に配置された複数のサブパターンであって、各サブパターンは、複数の前記サブパターンのうちの他のサブパターンとは異なり、各サブパターンのサイズは、ウェハアライメント系の視野（ＦＯＶ）とほぼ同じサイズであり、各サブパターンは、基準点ターゲットの中心位置候補を識別するように構成される基準点ターゲット。
【請求項31】
アレイはｍ×ｎアレイを含み、ｍ及びｎは１以上である請求項３０に記載のターゲット。
【請求項32】
前記アレイは、２×２アレイ、３×３アレイ、または４×４アレイのうちの少なくとも１つを含む請求項３１に記載のターゲット。
【請求項33】
各サブパターンは、他のサブパターンと同じ形状及び異なる向きを有する請求項３０に記載のターゲット。
【請求項34】
各サブパターンは３線パターンを含み、隣接するサブパターンに対して１２度回転される請求項３３に記載のターゲット。
【請求項35】
各サブパターンは交差パターンを含み、隣接するサブパターンに対して９度回転される請求項３３に記載のターゲット。
【請求項36】
各サブパターンは三角形パターンを含み、隣接するサブパターンに対して１２度回転される請求項３３に記載のターゲット。
【請求項37】
各サブパターンは異なる形状を有する請求項３０に記載のターゲット。
【請求項38】
前記サブパターンの少なくとも1つは、交差、円形、星形、三角形、線、又は矢印の少なくとも１つを含む請求項３７に記載のターゲット。
【請求項39】
複数の前記サブパターンは、前記ウェハ上にリソグラフィにより形成される請求項３０に記載のターゲット。【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、概してウェハアライメントに関し、より詳細には、ウェハアライメントを改善し、ウェハアライメントプロセスを実行するのに必要な時間を短縮するターゲット及びプロセスに関する。
【背景技術】
【0002】
関連出願の参照
本出願は、本発明者のArkady Simkinの米国仮出願６３／０２４，６１６（２０２０年５月１４日）の米国特許法１１９条（ｅ）の利益を主張し、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
本出願は、本発明者のArkady Simkinの米国仮出願６３／０２４，６１６（２０２０年５月１４日）の米国特許法１１９条（ｅ）の利益を主張し、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
【0003】
高解像度カメラを使用するウェハアライメントは、基準点(すなわち、視野において特有のウェハ上に印刷されたパターンである)の取得を含む。この目的のために、「正方形内の交差」のような単純なパターンが現在使用されている。現在実施されている手法では、ターゲット取得プロセスは、基準点パターン(RPP)上でのカメラ位置決めの精度に非常に敏感である。パターンが視野内に部分的に見られる場合、パターンの取得スコアは低く、パターンの取得失敗につながる可能性がある。ウェハ位置のシフトが充分に大きく、基準点パターンが視野内で見られない場合、オーバーレイツールを使用して、予想される位置の周りを走査して基準点を見つけることができる。走査は、画像のうちの１つが基準点を完全に含むことを確実にするために、重複画像を取得することを必要とする。このプロセスは時間がかかり、スループットに影響を与える。正確な位置決めを保証するために、現在のアプローチは、高解像度カメラアライメントステップの前に予備アライメントステップを実行することを含む。この予備ステップは、高解像度カメラよりも視野が大きい低解像度カメラを用いて行われる。そのようなアプローチは、所与のツールおよび衝撃に対する追加の光学および構成要素を必要とする。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】米国特許第８，３３９，６０５号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
したがって、上述の現在使用されているアプローチの欠点を解決するシステムおよび方法を提供することが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本開示の1つ以上の例示的な実施形態に従って、ウェハアライメントシステムが開示される。１つの例示的な実施形態では、システムは撮像サブシステムを含む。別の例示的な実施形態では、システムは、ウェハを固定し作動させるように構成されたステージを含み、２つ以上の基準点ターゲットがウェハ上に形成され、各基準点ターゲットは、アレイ状に配置された複数のサブパターンを含み、各サブパターンは、複数のサブパターンの他のサブパターンとは異なる。別の例示的な実施形態では、システムは、撮像サブシステムおよびステージに結合されたコントローラを含み、コントローラは、１つまたは複数のプロセッサに以下を行わせるプログラム命令を実行するように構成された1つまたは複数のプロセッサを含む：撮像サブシステムから２つ以上の基準点ターゲットの画像データを受信する；２つ以上の基準点ターゲットのそれぞれの中心位置を決定するステップであって、２つ以上の基準点ターゲットのそれぞれの中心位置を決定するステップは、パターン認識プロセスを介してそれぞれの基準点ターゲット内の各サブパターンを識別するステップと、それぞれの基準点ターゲットのための複数の中心位置候補を識別するステップであって、それぞれの基準点ターゲットのための複数の中心位置候補を識別するステップは、それぞれの基準点ターゲットの識別された各サブパターンにモデルを適用するステップであって、モデルは、それぞれの基準点ターゲットの中心位置候補を識別する各サブパターンのホットスポットを生成する、ステップと、そして、複数の中心位置候補に基づいて、それぞれの基準点ターゲットの中心位置を決定する。コントローラは、以下を行うようにさらに構成される：２つ以上の基準点ターゲットの各々について決定された中心位置に基づいて、ステージの座標系に対するウェハの向きを決定するステップと、そして、決定されたウェハの向きに基づいてウェハをステージ座標系に位置合わせするようにウェハの位置を調整するようにステージに指示する。
【0007】
本開示の1つ以上の例示的な実施形態に従って、ウェハアライメントの方法が開示される。例示的な一実施形態では、方法は、サブパターンのセットを含む基準点ターゲットの画像データを取得することを含む。別の例示的な実施形態では、方法は、基準点ターゲットの各々の中心位置を決定することを含み、2つ以上の基準点ターゲットの各々の中心位置を決定することは、以下を含む：それぞれの基準点内の各サブパターンを識別するステップは、パターン認識プロセスを介する；それぞれの基準点ターゲットのための複数の中心点候補を識別するステップであって、それぞれの基準点ターゲットのための複数の中心点候補を識別するステップは、それぞれの基準点ターゲットの識別された各サブパターンにモデルを適用して、それぞれの基準点ターゲットの中心位置候補を識別するステップであって、モデルは、それぞれの基準点ターゲットに関連付けられた中心位置候補を識別する各サブパターンに対するホットスポットを生成する、ステップと、そして、複数の中心候補に基づいて、それぞれの基準点ターゲットの中心位置を決定する。別の例示的な実施形態では、この方法は、２つ以上の基準点ターゲットの各々について決定された中心位置に基づいてステージの座標系に対するウェハの向きを決定することを含む。別の例示的な実施形態では、方法は、決定されたウェハの向きに基づいてウェハをステージ座標系と位置合わせするようにウェハの位置を調整するようにステージに指示することを含む。
【0008】
前述の概要および以下の詳細な説明の両方は、例示的および説明的なものにすぎず、特許請求される本発明を必ずしも限定するものではないことを理解されたい。明細書に組み込まれ、明細書の一部を構成する添付の図面は、本発明の実施形態を示し、全般的な説明とともに、本発明の原理を説明するのに役立つ。
【図面の簡単な説明】
【0009】
本開示の多数の利点は、添付の図面を参照することによって当業者によってよりよく理解され得る。
【図1A】本開示の1つまたは複数の実施形態によるウェハアライメントシステムの概念図である。
【図1B】本開示の1つまたは複数の実施形態による、ウェハ配向測定プロセスの概念図である。
【図2A】本開示の1つまたは複数の実施形態による、ウェハアライメントシステムとともに使用するのに適した基準点ターゲットの上面図を示す。
【図2B】本開示の1つまたは複数の代替実施形態による、ウェハアライメントシステムとともに使用するのに適した基準点ターゲットの上面図を示す。
【図2C】本開示の1つまたは複数の代替実施形態による、ウェハアライメントシステムとともに使用するのに適した基準点ターゲットの上面図を示す。
【図2D】本開示の1つまたは複数の代替実施形態による、ウェハアライメントシステムとともに使用するのに適した基準点ターゲットの上面図を示す。
【図3】本開示の1つまたは複数の実施形態による、基準点ターゲットのサブパターンによって識別される中心位置候補の位置を示す基準点ターゲットの上面図を示す。
【図4】本開示の1つまたは複数の実施形態による、基準点ターゲットが視野（ＦＯＶ）内に部分的にのみ位置するときの基準点ターゲットの上面図を示す。
【図5】本開示の1つまたは複数の実施形態による、基準点ターゲットの一部ではない異物/パターンがＦＯＶ内に位置するときの基準点ターゲットの上面図を示す。
【図6】本開示の1つまたは複数の実施形態による、検索時間および画像グラブの数を減らすように構成された一連の基準点ターゲットの上面図を示す。
【図7】本開示の1つまたは複数の実施形態によるウェハアライメントシステムの簡略化された概略図である。
【図8】本開示の1つまたは複数の実施形態によるウェハアライメントの方法を示す流れ図である。
【発明を実施するための形態】
【0010】
ここで、添付の図面に示される開示された主題を詳細に参照する。本開示は、特定の実施形態およびその特定の特徴に関して具体的に示され、説明されてきた。本明細書に記載される実施形態は、限定的ではなく例示的であると解釈される。本開示の精神および範囲から逸脱することなく、形態および詳細における種々の変更および修正が行われ得ることが、当業者に容易に明白となるはずである。
【0011】
本開示の実施形態は、ウェハアライメントシステム及びプロセス内での実装に適した基準点ターゲットを対象とする。基準点ターゲットは、複数の固有のサブパターン(すなわち、異なる向きおよび/または形状である)を含む。本開示の実施形態は、これらのサブパターンを識別し、各サブパターンについて、中心位置候補に対応するホットスポットを識別するモデルを利用する。次に、サブパターンに関連付けられた複数の中心位置候補に基づいて、基準点ターゲットの中心位置が決定される。本開示の実施形態は、複数の基準点ターゲットについて中心位置を取得することによってウェハの向きを決定する。本開示の実施形態は、自動ウェハアライメントを提供するように実装することができ、様々なオーバーレイツール(例えば、同じ設計基準パターンターゲット設計が、高解像度測定カメラと中解像度カメラの両方で使用され得る)に対するウェハアライメントプロセスのロバスト性を高めることができる。本開示の実施形態は、ロバストなトレインレスウェハアライメントを可能にし得る。レシピセットアップ中、ユーザは、パターンのタイプおよび位置を指定するだけで、本開示のウェハアライメントシステムおよびプロセスを実施することができる。
【0012】
図１Ａは、本開示の1つ以上の実施形態によるウェハアライメントシステム１００の概念図である。システム１００は、撮像サブシステム１０２を含んでもよいが、これに限定されない。システム１００は、コントローラ１０４をさらに含み得るが、これに限定されない。コントローラ１０４は、1つまたは複数のプロセッサ１０６およびメモリ媒体１０８を含むことができる。実施形態では、撮像サブシステム１０２は、基準点ターゲット１１０の画像を取得するように構成されてもよい。例えば、撮像サブシステム１０２は、ステージ１１４上に配置されたウェハ１１２に照明１０３を向けることができる。撮像サブシステム１０２は、ウェハ１１２(例えば、半導体ウェハ)および基準点ターゲット１１０から発する(例えば、反射、散乱、または回折される)放射を(例えば、カメラを介して)収集し、基準点ターゲット１１０の画像を生成することができる。ウェハ１１２上に配置された基準点ターゲット１１０は、ウェハ１１２をステージ１１４の座標系と位置合わせするために、(ステージ１１４を介して)ウェハ１１２に対して回転調整を行うために使用され得る。本開示の焦点はウェハアライメントであるが、本開示の範囲はウェハのみのアライメントに限定されないことに留意されたい。この意味で、本開示の実施形態は、レチクル、フォトマスク、またはセンサアレイなどであるがこれらに限定されない、当技術分野で知られている任意のサンプルに拡張され得る。
【0013】
実施形態では、コントローラ１０４は、撮像サブシステム１０２に通信可能に結合される。コントローラ１０４の1つまたは複数のプロセッサ１０６は、本開示全体にわたって説明される様々なプロセスステップのいずれかを実行し得る。実施形態では、コントローラ１０４は、ステージ１１４の1つ以上の調整を実行してウェハ１１２の位置／向きを調整するように構成された１つ以上の制御信号を生成し、提供するように構成される。
【0014】
撮像サブシステム１０２は、当技術分野で知られている任意の光学サブシステム１０２を含むことができる。この意味で、撮像サブシステム１０２及びコントローラ１０４は、ウェハアライメントシステム１００(又はウェハアライメントツール)を形成することができる。ウェハアライメントシステム１００は、当技術分野で知られている任意の特性評価システム／ツールと統合され得ることに留意されたい。例えば、ウェハアライメントシステム１００の機能は、画像化オーバーレイ計測システムまたは光学検査システムと統合されえる。この意味で、ウェハアライメントシステム１００のコントローラ１０４は、そのような特徴付けシステム／ツールのカメラ及び光学系と統合されてもよい。
【0015】
図１Ｂは、本開示の１つまたは複数の実施形態による、ウェハ１１２を位置合わせするための基準点ターゲット１１０の使用の概念図を示す。実施形態では、２つ以上の基準点ターゲット１１０ａ、１１０ｂは、ウェハ１１２上に配置される。図１Ｂに示すように、基準点ターゲット１１０ａ、１１０ｂは、直線に沿ってウェハの異なるフィールド内に配置することができる。基準点ターゲット１１０ａ、１１０ｂは、当技術分野で知られている任意の方法でウェハ１１２上に形成され得る。例えば、基準点ターゲット１１０ａ、１１０ｂは、リソグラフィ印刷によって形成されてもよい。
【0016】
実施形態では、ウェハアライメントシステム１００は、ステージ１１４の座標系に対するウェハ１１２の角度方向（すなわち、角度）を測定する。次に、ウェハアライメントシステム１００のコントローラ１０４は、選択された角度だけウェハ１１２を回転させるようにステージ１１４に指示して、ウェハ１１２をステージ１１４の座標系と位置合わせすることができる。
【0017】
実施形態では、ウェハアライメントシステム１００は、ウェハ１１２上に位置する２つ以上の基準点ターゲット１１０ａ、１１０ｂの位置を取得する。実施形態では、コントローラ１０４は、基準点ターゲット１１０ａ、１１０ｂ間のベクトル１１８とステージ移動角の方向に関連するベクトル１２０とによって定義され得るウェハ角度１２２を計算する。実施形態では、ウェハアライメントシステム１００のコントローラ１０４は、計算された角度だけウェハ１１２を回転させるようにステージ１１４に指示する。ウェハ回転の精度が正確な位置合わせを可能にしないとき、ベクトル１２０と１１８との間の残りのウェハ角度を補償するために、ウェハ１１２の測定された角度を数学的にさらなる移動に適用することができることに留意されたい。
【0018】
実施形態では、コントローラ１０４は、プロセスステップを実行して、基準点ターゲット１１０ａ、１１０ｂの位置を決定することができる。本開示の目的のために、コントローラ１０４は、基準点ターゲットの中心位置を決定し、その中心位置をそれぞれの基準点ターゲットの位置として利用する。この意味で、基準点ターゲットの「中心位置」および「位置」は、交換可能であると解釈されるべきである。
【0019】
コントローラ１０４は、本開示で説明するターゲットのターゲット設計を使用して、基準点ターゲット１１０ａ、１１０ｂの各々の中心位置を決定することができる。基準点ターゲット設計の例は、本開示を通して説明される。
【0020】
図２Ａは、本開示の１つまたは複数の実施形態による、ウェハアライメントシステム１００とともに使用するのに適した基準点ターゲット１１０の上面図を示す。実施形態では、各基準点ターゲット１１０は、サブパターンのセットで形成される。例えば、図２Ａに示すように、基準点ターゲット１１０は、サブパターン２０２ａ～２０２ｉを含むことができるが、これに限定されない。実施形態では、サブパターン２０２ａ～２０２ｉは、アレイ（例えば、セルの３×３アレイ）に配置されてもよい。実施形態では、基準点ターゲット１１０のサイズは、撮像サブシステム１０２のカメラシステムの視野（ＦＯＶ）のサイズに適合するように選択され得る。例えば、サブパターン２０２ａ～２０２ｉのサイズおよび間隔は、撮像サブシステム１０２のカメラシステムのＦＯＶ（例えば、６０μｍ）のサイズに合致するように選択されてもよい。本開示の例は、９つのサブパターンを含む基準点ターゲットに焦点を当てているが、これは、本開示の範囲に対する限定として解釈されるべきではないことに留意されたい。むしろ、本開示の基準点ターゲットは、任意のサイズのアレイ（例えば、２×２、３×３、４×４などである。）内の任意の数のサブパターンを含み得ることに留意されたい。
【0021】
実施形態では、各サブパターンは、サブパターンのアレイの他のサブパターンとは異なる。例えば、サブパターン２０２ａは２０２ｂ～２０２ｉと異なり、サブパターン２０２ｂは２０２ａ及び２０２ｃ～２０２ｉと異なり、以下同様である。この意味で、３×３アレイの場合、所与の基準点ターゲット１１０は、基準点ターゲット１１０全体にわたって均等に分散された９つの固有のサブパターンを含み得る。サブパターン間の差は、サブパターン取得／測定プロセスにおける曖昧さの可能性を低減するのに役立つことに留意されたい。
【0022】
所与の基準点ターゲット１１０内のサブパターン間の差は、各サブパターンの向きおよび／または形状を変化させることによって達成され得る。
【0023】
実施形態では、所与の基準点パターン１１０のサブパターン２０２ａ～２０２ｉは、同じ形状および異なる配向を有する。例えば、図２Ａに示すように、サブパターン２０２ａ～２０２ｉのそれぞれは、３線形状を有する。この例では、各３線パターンは、その最も近い隣接するサブパターンに対して１２°回転される。例えば、サブパターン２０２ｂはサブパターン２０２ａに対して １２°（時計回り）だけ回転し、サブパターン２０２ｃはサブパターン２０２ｂに対して １２°（時計回り）だけ回転し、サブパターン２０２ｄはサブパターン２０２ｃに対して １２°（時計回り）だけ回転し、以下同様である。別の例として、図２Ｂに示すように、サブパターン２０２ａ～２０２ｉのそれぞれは、断面形状を有する。この例では、各断面形状は、その最も近い隣接するサブパターンに対して９°回転される。別の例として、図２Ｃに示すように、サブパターン２０２ａ～２０２ｉの各々は三角形（例えば、開放角三角形）を有する。この例では、各三角形形状は、その最も近い隣接するサブパターンに対して１２°回転される。なお、本開示の基準点ターゲット１１０のサブパターンは、図２Ａ～図２Ｃに示す３線形状、断面形状、または三角形状に限定されない。むしろ、本開示の範囲は、当技術分野で知られており、画像キャプチャプロセスにおけるサブパターン間の曖昧さを低減することが可能な任意の形状に拡張され得ることに留意されたい。
【0024】
実施形態では、所与の基準点パターン１１０のサブパターン２０２ａ～２０２ｉは、異なる形状を有する。例えば、図２Ｄに示すように、サブパターン２０２ａ～２０２ｉのそれぞれは、異なる形状を有する。この例では、サブパターン２０２ａ～２０２ｉの様々な形状は、交差、円形、星形、三角形、線、又は矢印を含み得るが、これらに限定されない。本開示の基準点ターゲット１１０のサブパターンは、図２Ｄに示される形状に限定されないことに留意されたい。むしろ、本開示の範囲は、当技術分野で公知であり、画像捕捉プロセスにおけるサブパターン対サブパターンの曖昧性を低減させることができる、任意の形状セットに拡張され得ることに留意されたい。
【0025】
再び図１Ａを参照すると、実施形態では、コントローラ１０４は、撮像サブシステム１０２から２つ以上の基準点ターゲット１１０ａ、１１０ｂの画像データを受信する。次に、コントローラ１０４は、２つ以上の基準点ターゲットのそれぞれの中心位置を決定することができる。実施形態では、コントローラ１０４は、以下の手順を使用して２つ以上の基準点ターゲットの各々の中心位置を決定する。実施形態では、コントローラ１０４は、パターン認識プロセスを介して、それぞれの基準点ターゲット内の各サブパターンを識別することができる。例えば、任意のパターン認識アルゴリズム／ソフトウェアが、基準点ターゲット１１０ａ、１１０ｂの各々内のサブパターン２０２ａ～２０２ｉを識別するためにコントローラ１０４によって使用され得る。たとえば、コントローラ１０４は、当技術分野で知られている任意の相関または幾何学的モデルファインダ（ＧＭＦ）を適用することができる。
【0026】
実施形態では、それぞれの基準点ターゲット１１０のサブパターン２０２ａ～２０２ｉが識別されると、コントローラ１０４は、それぞれの基準点ターゲット１１０の中心位置候補を識別することができる。それぞれの基準点ターゲット１１０についての中心位置候補を識別するステップは、それぞれの基準点ターゲット１１０の各サブパターン２０２ａ～２０２ｉについて取得された画像データにモデルを適用することを含み得る。このモデルは、それぞれの基準点ターゲット１１０の中心位置候補を識別する各サブパターンのホットスポットを生成する。これに関して、コントローラ１０４によって実行されるモデル／モデルは、基準点ターゲット１１０のサブパターン２０２ａ～２０２ｉのデジタル表現である。モデルは、モデル化されたサブパターン情報と相関するホットスポット情報を含む。したがって、コントローラ１０４が所与のサブパターン（２０２ａ～２０２ｉのうちの１つ）を識別すると、モデルは、特定のサブパターン（２０２ａ～２０２ｉのうちの１つ）に関連付けられたホットスポット位置を識別する。このホットスポット位置は、特定のサブパターンの中心位置候補に対応する。
【0027】
実施形態では、コントローラ１０４が（各サブパターンのホットスポット位置識別を介して）中心位置候補の各々を識別すると、コントローラ１０４は、識別された中心位置候補に基づいて、それぞれの基準点ターゲット１１０の中心位置を決定する。実施形態では、コントローラ１０４は、投票スキームを実行してもよい。この場合、コントローラ１０４は、それぞれの基準点ターゲット１１０の中心位置を、識別されたサブパターン２０２ａ～２０２ｉの大部分によって識別された中心位置候補として識別することができる。例えば、図３に示すように、サブパターン２０２ａ～２０２ｉの各々についてのホットスポット情報は、中心位置候補を指し得る。中心位置候補は、図３の交差３０１で表される。コントローラ１０４は、サブパターン２０２ａ～２０２ｉのホットスポットによって最も識別される中心位置候補を、基準点ターゲット１１０の複雑なパターン全体の中心位置として指定することができる。
【0028】
なお、図３における交差３０１の位置の僅かなばらつきは、サブパターン毎のパターン認識処理のばらつきを表している。これらの変動に起因して、コントローラ１０４によって適用される分析は、中心位置候補の許容可能な分散を提供する選択された公差を適用し得る。この例では、同じ選択された許容エリア内に入る中心位置候補は、「同じ」中心位置候補として扱われるべきである。この場合、制御部１０４は、見つかった位置の平均として最終位置を算出してもよい。
【0029】
実施形態では、基準点ターゲット１１０ａ、１１０ｂのそれぞれの中心位置が取得された後、コントローラ１０４は、前述のように、２つ以上の基準点ターゲットのそれぞれについて決定された中心位置に基づいて、ステージ１１４の座標系に対するウェハ１１２の向きを決定することができる（図１Ｂ参照）。実施形態では、ウェハ配向が決定されると、コントローラ１０４は、ウェハ１１２の決定された配向に基づいて、ウェハ１１２をステージ座標系と整列させるようにウェハ１１２の位置（例えば、回転位置）を調整するようにステージ１１４に指示する。
【0030】
図４は、本開示の１つまたは複数の実施形態による、基準点ターゲットがＦＯＶ内に部分的にのみ位置する基準点ターゲット１１０の上面図を示す。基準点ターゲット１１０がＦＯＶ４０４内に部分的にしか観察されないが、２０２ｃ、２０２ｆ、および２０２ｉなどのいくつかのサブパターンが依然として完全にＦＯＶ４０４内に含まれる場合、本開示の実施形態は成功した取得につながる。例えば、ＦＯＶ４０４の２／３だけｘ方向にシフトすると、基準点ターゲット１１０の１／３のみがＦＯＶ４０４内に存在することになる。この例では、３つのサブパターン２０２ｃ、２０２ｆ、および２０２ｉのみが完全にＦＯＶ４０４内に存在する。実施形態では、これらの３つのサブパターン２０２ｃ、２０２ｆ、および２０２ｉは、コントローラ１０４によって取得され、３つのサブパターン２０２ｃ、２０２ｆ、および２０２ｉと関連付けられるホットスポット情報は、基準点ターゲット１１０の中心がＦＯＶ外にあるにもかかわらず、基準点ターゲット１１０のための正しい中心位置４０１を指すであろう。
【0031】
図５は、本開示の１つまたは複数の実施形態による、基準点ターゲット１１０の一部ではない異物／パターンがＦＯＶ内に位置する基準点ターゲット１１０の上面図を示す。この場合、異物／パターン５０４ａ、５０４ｂは、撮像サブシステム１０２によって取得され、コントローラ１０４によって分析されてもよい。しかしながら、取得プロセス中、異物／パターン５０４ａ、５０４ｂの各々について取得されるホットスポット情報は、異なる中心点位置５０５ａ、５０５ｂを指すことになる。同時に、実際のサブパターン２０２ａ～２０２ｉの取得はすべて、（選択された許容範囲内で）同じ位置５０１を指し示し、基準点ターゲット１１０の中心位置の正しい中心位置として選択される。図５に示す例では、基準点ターゲット１１０は、ＦＯＶ５０２内に部分的にのみ見られ、９つのセルのうちの４つがＦＯＶ５０２内に含まれている。加えて、２つの異物／パターン５０４ａ、５０４ｂが基準点１１０の近くに存在し、これはノイズをもたらす。交差５０１は、正しい検出を表し、交差５０５ａ、５０５ｂは、誤って検出されたパターンによって指し示される場所を表す。この場合、４つの発見されたパターンは、それぞれが異なる場所を指し示す２つの外来パターンと比較して、同じ場所を指し示す（選択された許容レベル内にある）ので、基準点中心が正しく見出される。
【0032】
本開示の参照パターンターゲットの複雑さおよび性質は非常に独特であり、他のパターンの誤取得のリスクを著しく低減することに留意されたい。ユニーク性を高める主な要因は、非直交線の包含と、基準点ターゲットが、指定された順序で編成された複数の独立したユニークなサブパターンから構築されるという事実である。
【0033】
実施形態では、基準点ターゲット１１０は、ＦＯＶ内で全く観察されないことがある。この場合、基準点ターゲット１１０を見つけるために重複なしにスキャンが実行され得る。重複が必要とされないので、必要とされる画像グラブの数が低減され、検索時間がより短くなる。例えば、ＦＯＶサイズがＸμｍであり、基準点ターゲットがＸ×Ｘμｍである場合、スキャンステップをＸμｍとしてもよい。すなわち、走査ステップサイズは、ＦＯＶのサイズと同程度に大きくすることができる。
【0034】
図６は、本開示の１つまたは複数の実施形態による、検索時間および画像グラブの数を減らすように構成された一連の基準点ターゲット１１０ａ～１１０ｃの平面図６００を示す。例えば、基準点位置に到達する前の大きなナビゲーション距離が必要とされる場合、一連の基準点ターゲット１１０ａ～１１０ｃをウェハのスクライブラインに印刷して、軸の１つに沿って探索する必要がなくなる。この手法は、両方の軸に沿って探索するのに必要なグラブの平方根として、探索プロセス中の画像グラブの数を減らす。
【0035】
実施形態では、各基準点ターゲット１１０ａ～１１０ｃは修正されたパターンを含み、中央サブパターン６０２ａ～６０２ｃは異なるパターンで置き換えられる。例えば、図６に示されるように、本開示全体を通して使用されるような中心３線サブパターンは、交差６０２ａ～６０２ｃによって置き換えられている。実施形態では、中央サブパターン６０２ａ～６０２ｃは、異なる角度で配向される。実施形態では、２フェイズ取得を適用して、３つの基準点ターゲット１１０ａ～１１０ｃのブロックの中心位置を表すブロック中心位置６０４を識別することができる。２フェイズ取得は、ＦＯＶ内にある８つの非中心サブパターンを使用して所与の基準点ターゲット（１１０ａ～１１０ｃのうちの１つ）の中心位置を取得することを含み得る。次いで、ＦＯＶは、所与の基準点ターゲットの中心位置を中心とすることができ、取得プロセスを中央サブパターン６０２ａ～６０２ｃに適用することができ、それによって、コントローラ１０４は、適用されたモデルからのホットスポットが中央サブパターン６０２ａ～６０２ｃを３つの基準点ターゲット１１０ａ～１１０ｃのブロックの中心位置６０４に向けるようにプログラムされる。この第２の取得フェイズは、ホットスポット情報が個々の基準ターゲット中心位置ではなくブロック中心位置を指し示す状態で、本開示全体にわたって説明される取得プロセスと同じ方法で動作することに留意されたい。
【0036】
図６の例では、一連の基準パターンターゲット１１０ａ～１１０ｃは、（Ｘ方向に沿った）ＦＯＶ幅の３倍に等しい距離をカバーし、この範囲内のナビゲーション誤差についてＸ方向に沿って探索することを排除することを可能にする。したがって、Ｙ方向に沿った探索のみが必要とされる。Ｙ方向に沿ったそのような走査中に、いったん基準点ターゲット１１０ａ～１１０ｃのいずれかが捕捉されると、上述のようにＸ位置が見出される。
【0037】
図７は、本開示の１つまたは複数の実施形態によるウェハアライメントシステム１００の簡略化された概略図である。システム１００は、当技術分野で知られている任意の方法を使用して、少なくとも１つのカメラ７０４上でウェハ１１２の１つまたは複数の画像を生成することができる。実施形態では、システム１００は、撮像サブシステム１０２およびコントローラ１０４を含む。
【0038】
撮像サブシステム１０２は、照明ビーム７１１を生成するための照明源７０２を含む。照明源７０２は、当技術分野で知られている任意の照明源を含むことができる。例えば、照明源７０２は、広帯域（例えば、プラズマ広帯域源）または狭帯域（例えば、１つ以上のレーザ）を含んでもよい。照明ビーム７１１は、限定はしないが、真空紫外（ＶＵＶ）光、深紫外（ＤＵＶ）光、紫外（ＵＶ）光、可視光、または赤外（ＩＲ）光を含む１つまたは複数の選択された波長の光を含むことができる。照明源７０２は、任意の時間プロファイルを有する照明ビーム７１１をさらに生成することができる。例えば、照明源７０２は、連続照明ビーム７１１、パルス照明ビーム７１１、又は変調照明ビーム７１１を生成することができる。加えて、照明ビーム７１１は、自由空間伝搬または誘導光（例えば、光ファイバ、ライトパイプ等である）を介して照明源７０２から送達されてもよい。
【0039】
実施形態では、撮像サブシステム１０２は、光学系７０３のセットを含む。照明源７０２は、照明経路７０７を介してウェハ１１２に照明ビーム７１１を向ける。照明経路７１０は、照明ビーム７１１を修正および／または調整するのに適した１つまたは複数の光学構成要素７１５を含むことができる。例えば、１つ以上の照明光学構成要素７１５は、１つ以上のレンズ、１つ以上のミラー、１つ以上の偏光子、１つ以上のフィルタ、１つ以上のビームスプリッタ、１つ以上の拡散器、１つ以上のホモジナイザ、１つ以上のアポダイザ、または１つ以上のビーム整形器を含んでもよいが、それらに限定されない。実施形態では、撮像サブシステム１０２は、照明ビーム７１１をウェハ１１２上に集束させるための対物レンズ７０５を含む。
【0040】
実施形態では、ウェハ１１２はウェハステージ１１４上に配置される。ウェハステージ１１４は、システム１００内でウェハ１１２を位置決め／回転させるのに適した任意のデバイスを含むことができる。例えば、ウェハステージ１１４は、直線並進ステージ、回転ステージ、先端／傾斜ステージなどの任意の組み合わせを含むことができる。
【0041】
実施形態では、カメラ７０４（または検出器／センサ）は、収集経路７０９を通してウェハ１１２および基準点ターゲット１１０から発する照明を捕捉するように構成される。収集経路７０９は、対物レンズ７０５によって収集された照明を方向付け、かつ／または修正するための任意の数の収集光学構成要素７１３を含んでもよく、１つ以上のレンズ、１つ以上のミラー、１つ以上の偏光子、１つ以上のフィルタ、１つ以上のビームスプリッタ、１つ以上の拡散器、１つ以上のホモジナイザ、１つ以上のアポダイザまたは１つ以上のビーム整形器を含むが、それらに限定されない。
【0042】
カメラ７０４は、ウェハ１１２および基準点ターゲット１１０から受けた照明を測定および／または撮像するのに適した、当技術分野で知られている任意のカメラまたは検出器システムを含むことができる。例えば、カメラ７０４は、限定はしないが、電荷結合素子（ＣＣＤ）、相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）センサ、光電子増倍管（ＰＭＴ）アレイ、またはアバランシェフォトダイオード（ＡＰＤ）アレイなど、ウェハ１１２および基準点ターゲット１１０の１つまたは複数の画像を生成するのに適した１つまたは複数のセンサを含むことができる。別の例として、検出器７０４は、ウェハ１１２および基準点ターゲット１１０の１つまたは複数の画像を動かす（たとえば、走査動作モード）のに適したセンサを含むことができる。たとえば、カメラ７０４は、ピクセルの行を含むラインセンサを含み得る。この点に関して、システム１００は、測定視野を通してピクセル行に垂直な走査方向にウェハ１１２を平行移動させ、連続露光ウィンドウ中にラインセンサを連続的に計時することによって、一度に１行の連続画像（例えば、ストリップ画像）を生成することができる。別の例では、カメラ７０４は、複数のピクセル行および読み出し行を含むＴＤＩセンサを含み得る。ＴＤＩセンサは、クロッキング信号が、電荷が画像の行が生成される読み出し行に到達するまで、あるピクセル行から次のピクセル行に電荷を連続的に移動させ得ることを除いて、ラインセンサと同様に動作し得る。電荷転送（例えば、クロック信号に基づく）を走査方向に沿ったサンプルの動きに同期させることによって、電荷は、画素行にわたって蓄積し続けて、ラインセンサと比較して比較的高い信号対雑音比を提供することができる。
【0043】
別の実施形態では、システム１００はコントローラ１３０を含む。別の実施形態では、コントローラ１３０は、メモリ媒体１３４上に維持されるプログラム命令を実行するように構成された１つまたは複数のプロセッサ１３２を含む。この点に関して、コントローラ１３０の１つまたは複数のプロセッサ１３２は、本開示全体にわたって説明される様々なプロセスステップのいずれかを実行し得る。さらに、コントローラ１３０は、検出器７０４からウェハ１１２の画像を含むがこれに限定されないデータを受信するように構成されてもよい。
【0044】
コントローラ１０４の１つまたは複数のプロセッサ１０６は、当技術分野で知られている任意のプロセッサまたは処理要素を含むことができる。本開示の目的のために、「プロセッサ」または「処理要素」という用語は、１つまたは複数の処理または論理要素（例えば、１つ以上のマイクロプロセッサデバイス、１つ以上の特定用途向け集積回路（ＡＳＩＣ）デバイス、１つ以上のフィールドプログラマブルゲートアレイ（ＦＰＧＡ）、または１つ以上のデジタル信号プロセッサ（ＤＳＰ））を有する任意のデバイスを包含するように広く定義され得る。この意味で、１つまたは複数のプロセッサ１０６は、アルゴリズムおよび／または命令（たとえば、メモリに記憶されたプログラム命令）を実行するように構成された任意のデバイスを含み得る。実施形態では、１つまたは複数のプロセッサ１０６は、デスクトップコンピュータ、メインフレームコンピュータシステム、ワークステーション、画像コンピュータ、並列プロセッサ、ネットワークコンピュータ、または本開示全体にわたって説明されるように、システム１００とともに動作または動作するように構成されたプログラムを実行するように構成された任意の他のコンピュータシステムとして具現化され得る。さらに、システム１００の異なるサブシステムは、本開示で説明するステップの少なくとも一部を実行するのに適したプロセッサまたは論理要素を含むことができる。したがって、上記の説明は、本開示の実施形態に対する限定として解釈されるべきではなく、単なる例示として解釈されるべきである。さらに、本開示全体にわたって説明されるステップは、単一のコントローラによって、または代替として、複数のコントローラによって実行され得る。さらに、コントローラ１０４は、共通のハウジングまたは複数のハウジング内に収容された１つまたは複数のコントローラを含むことができる。このようにして、任意のコントローラまたはコントローラの組合せを、システム１００への統合に適したモジュールとして別々にパッケージ化することができる。さらに、コントローラ１０４は、検出器７０４から受信したデータを分析し、システム１００内またはシステム１００の外部の追加の構成要素にデータを供給することができる。
【0045】
メモリ媒体１０８は、関連する１つまたは複数のプロセッサ１０６によって実行可能なプログラム命令を記憶するのに適した、当技術分野で知られている任意の記憶媒体を含み得る。例えば、記憶媒体１０８は、非一時的な記憶媒体を含んでもよい。別の例として、記憶媒体１０８は、読取り専用メモリ（ＲＯＭ）、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）、磁気または光メモリデバイス（たとえば、ディスク）、磁気テープ、ソリッドステートドライブなどを含み得るが、それらに限定されない。さらに、記憶媒体１０８は、１つまたは複数のプロセッサ１０６とともに共通のコントローラハウジング内に収容され得ることに留意されたい。実施形態では、メモリ媒体１０８は、１つ以上のプロセッサ１０６およびコントローラ１０４の物理的位置に対して遠隔に位置してもよい。たとえば、コントローラ１０４の１つまたは複数のプロセッサ１０６は、ネットワーク（例えば、インターネット、イントラネットなど）を介してアクセス可能なリモートメモリ（たとえば、サーバ）にアクセスすることができる。
【0046】
図８は、本開示の１つまたは複数の実施形態による、ウェハアライメントの方法を示す流れ図８００を示す。出願人は、本明細書においてウェハアライメントシステム１００の文脈で先に説明した実施形態及び技術は、方法２００にまで及ぶと解釈されるべきであることに留意する。しかしながら、方法８００は、ウェハアライメントシステム１００のアーキテクチャに限定されないことにさらに留意されたい。ステップ８０２では、複数の基準点ターゲットの画像データを取得する。例えば、図１Ａ－図７に示されるように、撮像サブシステム１０２は、２つ以上の基準点ターゲット１１０ａ、１１０ｂのための画像データを捕捉し、画像データをコントローラ１０４に伝送してもよい。ステップ８０４において、Ｎ番目の基準点ターゲット内のサブパターンが識別される。例えば、図１Ａ－図７に示すように、コントローラ１０４は、パターン認識プロセスを実行して、Ｎ番目の基準点ターゲット１１０を有するサブパターンを識別することができる。ステップ８０６では、各サブパターンのホットスポット取得に基づいて、Ｎ番目の基準点ターゲット１１０の中心位置候補が特定される。例えば、図１Ａ－図７に示すように、コントローラ１０４は、Ｎ番目の基準点ターゲット１１０の各サブパターン（例えば、２０２ａ～２０２ｉ）にモデルを適用することができ、それにより、モデルは、各サブパターン（例えば、２０２ａ～２０２ｉ）の中心位置候補に対応するホットスポットを識別する。ステップ８０８では、Ｎ番目の基準点ターゲット１１０の中心位置が、ステップ８０６で見つけられた中心位置ターゲットに基づいて決定される。例えば、図１Ａ－図７に示されるように、コントローラ１０４は、（モデルのホットスポットを介して）サブパターンの大部分によって識別される中心位置候補に基づいて、Ｎ番目の反射ターゲット１１０の中心位置を識別する投票方式を適用してもよい。ステップ８１０において、コントローラ１０４は、分析すべき追加の基準点ターゲットがあるかどうかを判定する。分析すべき追加の基準点ターゲットがある場合、方法８００は、全ての基準点ターゲットが分析されるまでステップ８０２～８１０を繰り返す。分析するいかなる追加の基準点ターゲットもない場合、方法８００はステップ８１２に移動する。ステップ８１２において、コントローラ１０４は、１～Ｎ個の基準点ターゲット１１０の中心位置（ステップ８０２～８１０において特定された）に基づいてウェハの向きを決定する。ステップ８１４において、コントローラ１０４は、ステップ８１２で決定された向きに基づいてウェハの角度位置を調整するようにステージに指示する。
【0047】
本明細書で説明する方法のすべては、方法の実施形態の１つまたは複数のステップの結果をメモリに記憶することを含み得る。結果は、本明細書で説明される結果のいずれかを含んでもよく、当技術分野で公知の任意の様式で記憶されてもよい。メモリは、本明細書で説明される任意のメモリ、または当技術分野で知られている任意の他の好適な記憶媒体を含み得る。結果が記憶された後、結果は、メモリ内にアクセスされ、本明細書に説明される方法またはシステム実施形態のうちのいずれかによって使用され、ユーザへの表示のためにフォーマットされ、別のソフトウェアモジュール、方法、またはシステムによって使用される等することができる。さらに、結果は、「永続的に」、「半永続的に」、「一時的に」、またはある期間にわたって記憶され得る。例えば、メモリは、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）であってもよく、結果は、必ずしもメモリ内に無期限に持続しなくてもよい。
【0048】
上述の方法の実施形態の各々は、本明細書に記載される任意の他の方法の任意の他のステップを含み得ることがさらに企図される。加えて、上述の方法の実施形態の各々は、本明細書に記載のシステムのいずれかによって実行することができる。
【0049】
当業者は、本明細書で説明される構成要素動作、デバイス、オブジェクト、およびそれらに付随する議論が、概念的明確性のために例として使用されること、および種々の構成修正が検討されることを認識するであろう。したがって、本明細書で使用されるように、記載される特定の例および付随する議論は、それらのより一般的なクラスの代表であることが意図される。概して、任意の特定の例の使用は、そのクラスを表すことが意図され、特定の構成要素、動作、デバイス、およびオブジェクトの非包含は、限定として解釈されるべきではない。
【0050】
本明細書で使用するとき、「上」、「下」、「上」、「下」、「上」、「上方」、「下方」、「下方」などの方向を示す用語は、説明の目的で相対的な位置を提供することを意図しており、絶対的な基準系を示すことを意図していない。説明された実施形態に対する様々な修正は、当業者には明らかであり、本明細書で定義された一般的な原理は、他の実施形態に適用され得る。
【0051】
本明細書における実質的に任意の複数形および／または単数形の用語の使用に関して、当業者は、文脈および／または用途に適切であるように、複数形から単数形に、および／または単数形から複数形に変換することができる。様々な単数形／複数形の置き換えは、理解しやすいように、本明細書で明確に記載されない。
【0052】
本明細書で説明される主題は、場合によっては、他の構成要素内に含まれる、または他の構成要素と接続される、異なる構成要素を図示する。そのような描写されたアーキテクチャは、単なる例示であり、実際には、同じ機能性を達成する多くの他のアーキテクチャが実装され得ることを理解されたい。概念的な意味では、同じ機能を達成するための構成要素の任意の配置は、所望の機能が達成されるように効果的に「関連付けられる」。したがって、特定の機能を達成するために組み合わされた本明細書の任意の２つの構成要素は、アーキテクチャまたは中間構成要素にかかわらず、所望の機能が達成されるように互いに「関連付けられる」と見なすことができる。同様に、そのように関連付けられた任意の２つの構成要素はまた、所望の機能性を達成するために、相互に「接続」または「結合」されていると見なされることができ、そのように関連付けられることが可能な任意の２つの構成要素はまた、所望の機能性を達成するために、相互に「結合可能」であると見なされることができる。結合可能な特定の例は、物理的に結合可能及び／又は物理的に相互作用する構成要素及び／又は無線で相互作用可能及び／又は無線で相互作用する構成要素及び／又は論理的に相互作用及び／又は論理的に相互作用可能な構成要素を含むが、これらに限定されない。
【0053】
さらに、本発明は添付の特許請求の範囲によって定義されることを理解されたい。一般に、本明細書および特に添付の特許請求の範囲（例えば、添付の特許請求の範囲の本体）で使用される用語は一般に「オープン」用語（例えば、「含む（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」という用語は、「含む（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）がこれに限定されない」と解釈されるべきであり、「有する（ｈａｖｉｎｇ）」という用語は「少なくとも有する（ｈａｖｉｎｇ）」と解釈されるべきであり、「含む（ｉｎｃｌｕｄｅｓ）」という用語は「含む（ｉｎｃｌｕｄｅｓ）がこれに限定されない」と解釈されるべきである等である）として意図されることが当業者には理解されよう。導入される請求項の記載の具体的な数が意図される場合、そのような意図は、その請求項において明示的に記載されることになり、そのような記載がない場合、そのような意図は存在しないことが、当業者にはさらに理解されよう。例えば、理解の助けとして、以下の添付の特許請求の範囲は、導入句「少なくとも１つの（ａｔ ｌｅａｓｔ ｏｎｅ）」および「１つまたは複数の（ｏｎｅ ｏｒ ｍｏｒｅ）」を使用して請求項の記載を導くことを含むことができる。しかしながら、そのような語句の使用は、不定冠詞「ａ」または「ａｎ」による請求項の記載の導入が、そのような導入された請求項の記載を含む任意の特定の請求項を、１つのそのような記載のみを含む発明に限定することを意味すると解釈されるべきではない。同じ請求項が「１つ以上」または「少なくとも１つ」という導入句および「ａ」または「ａｎ」（例えば、「ａ」および／または「ａｎ」は、典型的には、「少なくとも１つ」または「１つ以上」を意味すると解釈されるべきである）などの不定冠詞を含む場合でも、同じことが、請求項の記載を紹介するために使用される明確な記事の使用にも当てはまる。また、導入される請求項の記載の具体的な数が明示的に列挙されている場合でも、そのような記載は、典型的には少なくとも列挙された数（例えば、他の修飾因子を伴わない「２つの列挙」の裸の列挙は、典型的には、少なくとも２つの列挙、または２つ以上の列挙を意味する）を意味すると解釈されるべきであることを、当業者は認識されよう。さらに、「Ａ、Ｂ、およびＣのうちの少なくとも１つなど」に類似する慣例表現が使用される事例では、概して、そのような構成は、当業者が慣例表現（例えば、「Ａ、Ｂ、およびＣのうちの少なくとも１つを有するシステム」は、Ａのみ、Ｂのみ、Ｃのみ、ＡおよびＢを共に、ＡおよびＣを共に、ＢおよびＣを共に、および／またはＡ、Ｂ、およびＣを共に有するシステムを含むが、それらに限定されない）を理解するであろう意味で意図される。「Ａ、Ｂ、またはＣのうちの少なくとも１つなど」に類似する慣例表現が使用される事例では、概して、そのような構成は、当業者が慣例表現（例えば、「Ａ、Ｂ、またはＣのうちの少なくとも１つを有するシステム」は、Ａのみ、Ｂのみ、Ｃのみ、ＡおよびＢを共に、ＡおよびＣを共に、ＢおよびＣを共に、および／またはＡ、Ｂ、およびＣを共に有するシステムを含むが、それらに限定されない）を理解するであろう意味で意図される。２つ以上の代替用語を提示する事実上いかなる離接する語および／または句も、説明、特許請求の範囲、または図面のどこにあっても、その用語の一方（ｏｎｅ ｏｆ ｔｈｅ ｔｅｒｍｓ）、その用語のいずれか（ｅｉｔｈｅｒ ｏｆ ｔｈｅ ｔｅｒｍｓ）、または両方の用語（ｂｏｔｈ ｔｅｒｍｓ）を含む可能性を企図すると理解されるべきであることが、当業者にはさらに理解されよう。例えば、「ＡまたはＢ」という語句は、「Ａ」または「Ｂ」または「ＡおよびＢ」の可能性を含むと理解されるであろう。
【0054】
本開示およびその付随する利点の多くは、前述の説明によって理解されるであろうと考えられ、開示される主題から逸脱することなく、またはその物質的利点の全てを犠牲にすることなく、構成要素の形態、構造、および配置において種々の変更が行われ得ることが明白となるであろう。説明される形態は単なる説明であり、そのような変更を包含し、含むことが以下の特許請求の範囲の意図である。さらに、本発明は添付の特許請求の範囲によって定義されることを理解されたい。
【図1A】
【図1B】
【図2A】
【図2B】
【図2C】
【図2D】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【国際調査報告】