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特表2023-545694マイクロリソグラフィ用適応光学素子
発明の名称 マイクロリソグラフィ用適応光学素子
出願人 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー （識別番号 503263355）
特許公開件数ランキング 467 位（21件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 662 位（11件）（共同出願を含む）
公報番号 特表-2023-545694
公報発行日 2023年10月31
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_P1-2023-545694
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