▶ カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの特許一覧
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2024-02-21
(54)【発明の名称】放射線を反射する光学素子及び光学アセンブリ
(51)【国際特許分類】
G03F 7/20 20060101AFI20240214BHJP
G02B 5/08 20060101ALI20240214BHJP
【ＦＩ】
G03F7/20 503
G02B5/08 Z
【審査請求】未請求
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2023551130
(86)(22)【出願日】2021-12-06
(85)【翻訳文提出日】2023-09-26
(86)【国際出願番号】 EP2021084386
(87)【国際公開番号】W WO2022179735
(87)【国際公開日】2022-09-01
(31)【優先権主張番号】102021201715.0
(32)【優先日】2021-02-24
(33)【優先権主張国・地域又は機関】DE
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】503263355
【氏名又は名称】カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
(74)【代理人】
【識別番号】100147485
【弁理士】
【氏名又は名称】杉村 憲司
(74)【代理人】
【識別番号】230118913
【弁護士】
【氏名又は名称】杉村 光嗣
(74)【代理人】
【識別番号】100230514
【弁理士】
【氏名又は名称】泉 卓也
(72)【発明者】
【氏名】シュテファン ザルター
(72)【発明者】
【氏名】ソーレン クノール
【テーマコード（参考）】
2H042
2H197
【Ｆターム（参考）】
2H042DA12
2H042DA20
2H042DB13
2H042DC04
2H042DD05
2H042DE00
2H197CA06
2H197CA10
2H197GA01
2H197GA05
2H197GA06
2H197GA10
2H197GA11
2H197GA12
2H197GA21
(57)【要約】
本発明は、放射線を反射する、特にＥＵＶ放射線を反射する光学素子（Ｍ４）であって、界面（２７）で合体された第１部分体（２６ａ）及び第２部分体（２６ｂ）を有する基板（２５）と、第１部分体（２６ａ）の表面（２８）に塗布された反射コーティング（２９）と、反射コーティング（２９）を塗布された表面（２８）の下の界面（２７）の領域で基板（２５）内に延びる複数の冷却チャネル（３１）と、冷却剤入口（３４）を複数の冷却チャネル（３１）に接続するために基板（２５）に形成された分配部（３２）と、複数の冷却チャネル（３１）を冷却剤出口（３５）に接続するために基板（２５）に形成された回収部とを備えた光学素子（Ｍ４）に関する。分配部（３２）及び／又は回収部は、界面（２７）から始まって、基板（２５）の第１部分体（２６ａ）よりも基板（２５）の第２部分体（２６ｂ）に大きく延在する。本発明は、少なくとも１つの上記光学素子（Ｍ４）と、複数の冷却チャネル（３１）に冷却剤を流すように設計された冷却装置とを備えた光学装置、特にＥＵＶリソグラフィシステムにも関する。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
放射線を反射する、特にＥＵＶ放射線（１６）を反射する光学素子（Ｍ４）であって、界面（２７）で合体された第１部分体（２６ａ）及び第２部分体（２６ｂ）を有する基板（２５）と、
前記第１部分体（２６ａ）の表面（２８）に塗布された反射コーティング（２９）と、
該反射コーティング（２９）を塗布された前記表面（２８）の下の前記界面（２７）の領域で前記基板（２５）内に延びる複数の冷却チャネル（３１）と、
冷却剤入口（３４）を前記複数の冷却チャネル（３１）に接続するために前記基板（２５）に形成された分配部（３２）と、
前記複数の冷却チャネル（３１）を冷却剤出口（３５）に接続するために前記基板（２５）に形成された回収部（３３）と
を備えた光学素子（Ｍ４）において、
前記分配部（３２）及び／又は前記回収部（３３）は、前記界面（２７）から始まって、前記基板（２５）の前記第１部分体（２６ａ）よりも前記基板（２５）の前記第２部分体（２６ｂ）に大きく延在することを特徴とする光学素子。
【請求項2】
請求項１に記載の光学素子において、前記分配部（３２）及び／又は前記回収部（３３）は、前記第２部分体（２６ｂ）において、少なくとも前記界面（２７）から始まる部分（３９）で、前記基板（２５）の厚さ方向（Ｚ）に対して３０°以下の角度（α）に位置合わせされる光学素子。
【請求項3】
請求項１又は２に記載の光学素子において、前記分配部（３２）及び／又は前記回収部（３３）は、前記第２部分体（２６ｂ）において、少なくとも前記界面（２７）から始まる部分（３９）で、前記反射コーティング（２９）で覆われない前記表面（２８）の部分領域（３７）の下に延びる光学素子。
【請求項4】
請求項１の前文に記載の、特に請求項１～３のいずれか１項に記載の光学素子において、前記分配部（３２）は、前記冷却剤入口（３４）から広がる分配チャンバ（３２ａ）を有し、且つ／又は前記回収部（３３）は、前記冷却剤出口（３５）に向かって窄まる回収チャンバ（３３ａ）を有する光学素子。
【請求項5】
請求項４に記載の光学素子において、前記分配チャンバ（３２ａ）は、前記冷却剤入口（３３）から前記界面（２７）まで延在し、且つ／又は前記回収チャンバ（３３ａ）は、前記界面（２７）から前記冷却剤出口（３５）まで延在する光学素子。
【請求項6】
請求項１～４のいずれか１項に記載の光学素子において、前記分配部（３２）及び／又は前記回収部（３３）は、前記界面（２７）から始まって少なくとも１つの冷却チャネル（３１）それぞれを前記冷却剤入口（３４）又は前記冷却剤出口（３５）に接続する接続チャネル（４０）を有する部分（３９）を有する光学素子。
【請求項7】
請求項６に記載の光学素子において、各接続チャネル（４０）が、少なくとも２つの、特に正確に２つの冷却チャネル（３１）に接続される光学素子。
【請求項8】
請求項６又は７に記載の光学素子において、各接続チャネル（４０）の断面（Ａ１、Ａ２）が、前記界面（２７）から特に段階的に縮小する光学素子。
【請求項9】
請求項６～８のいずれか１項に記載の光学素子において、前記分配チャンバ（３２ａ）は、前記分配部（３２）の前記接続チャネル（４０）を有する前記分配部（３２）の部分に接続され、且つ／又は前記回収チャンバ（３３ａ）は、前記回収部（３３）の前記接続チャネル（４０）を有する前記回収部（３３）の部分に接続される光学素子。
【請求項10】
請求項９に記載の光学素子において、前記分配チャンバ（３２ａ）及び／又は前記回収チャンバ（３３ａ）は、前記第２部分体（２６ｂ）と前記基板（２５）の第３部分体（２６ｃ）との間の別の界面（３８）に沿って延在し、前記第３部分体（２６ｃ）は、前記別の界面（３８）で前記第２部分体（２６ｂ）と合体される光学素子。
【請求項11】
請求項６～８のいずれか１項に記載の光学素子において、前記分配部（３２）の前記接続チャネル（４０）は、前記冷却剤入口（３４）に接続された共通の入口チャネル（４１）に通じており、且つ／又は前記回収部（３３）の前記接続チャネル（４０）は、前記冷却剤出口（３５）に接続された共通の出口チャネル（４２）に通じている光学素子。
【請求項12】
請求項１～１１のいずれか１項に記載の光学素子において、前記冷却剤入口（３４）及び／又は前記冷却剤出口（３５）は、前記基板（２５）の前記第２部分体（２６ｂ）及び／又は前記第３部分体（２６ｃ）に形成される光学素子。
【請求項13】
請求項１～１２のいずれか１項に記載の光学素子において、各冷却チャネル（３１）の前記断面は、前記第１部分体（２６ａ）と前記第２部分体（２６ｂ）との間で分割される光学素子。
【請求項14】
請求項１～１３のいずれか１項に記載の光学素子において、前記反射コーティング（２９）を塗布された前記表面（２８）は湾曲しており、且つ／又は前記冷却チャネル（３１）は湾曲しており、該湾曲した冷却チャネル（３１）は、前記湾曲した表面（２８）から一定の距離（Ｄ）にあることが好ましい光学素子。
【請求項15】
光学装置、特にＥＵＶリソグラフィシステム（１）であって、請求項１～１４のいずれか１項に記載の少なくとも１つの光学素子（Ｍ１～Ｍ６）と、
複数の冷却チャネル（３１）に冷却剤を流すように設計された冷却装置（３６）と
を備えた光学装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
［関連出願の参照］
本願は、２０２１年２月２４日の独国特許出願第１０ ２０２１ ２０１ ７１５．０号の優先権を主張し、その全開示を参照により本願に援用する。
本願は、２０２１年２月２４日の独国特許出願第１０ ２０２１ ２０１ ７１５．０号の優先権を主張し、その全開示を参照により本願に援用する。
【0002】
本発明は、放射線を反射する、特にＥＵＶ放射線を反射する光学素子であって、界面で合体される第１部分体及び第２部分体を有する基板と、第１部分体の表面に塗布された反射コーティングと、反射コーティングを塗布された表面の下の界面の領域で基板内に延びる複数の冷却チャネルと、基板に形成されて冷却剤入口を複数の冷却チャネルに接続する分配部と、基板に形成されて複数の冷却チャネルを冷却剤出口に接続する回収部とを備えた光学素子に関する。本発明は、少なくとも１つの上記光学素子と、複数の冷却チャネルに冷却剤を流すように設計された冷却装置とを備えた光学装置、特にＥＵＶリソグラフィシステムにも関する。
【背景技術】
【0003】
リソグラフィ用の、特にＥＵＶリソグラフィ用の反射光学素子が受ける熱負荷は、これらの素子の動作で用いられる放射源の高出力化により大きさを増している。これは特に、ＥＵＶリソグラフィ用の投影系のミラーに当てはまる。原理上、簡単のために以下でミラーとも称するこのタイプの反射光学素子の基板に対して、できる限り「ゼロ」に近い熱膨張係数を有する材料の利用が試みられる。実際には、ゼロクロス温度とも称する特定の温度でこの要件を満たすのが最善である。
【0004】
このような投影系のミラーは、設定又は照明状態に応じて加熱の程度が異なる結果として、ゼロクロス温度付近でしか動作することができない。これにより、ミラー、より正確には反射コーティングを有する表面が、照射中に熱負荷により変形する。熱負荷の増加に伴い、この「ミラー加熱」問題は、ミラーが配置される光学装置の性能に制限的な効果を及ぼす。
【0005】
この問題の解決にはメカトロニクス的手法がある。別の比較的単純な概念は、各ミラーを直接冷却すること、すなわちミラーの基板に、より正確には基板に形成された冷却チャネルに冷却流体を流すことにある。この概念の利点は、冷却流体の温度によりミラーの温度を比較的正確に設定可能であること、すなわちミラーが熱基準を有することにある。
【0006】
光学装置の、特にＥＵＶリソグラフィ装置のミラーの直接冷却には、最適なバランスを見出さなければならない複数の境界条件が適用される。反射コーティングを塗布された表面の下に延びる複数の略平行な冷却チャネルが基板に形成されれば好都合であることが分かった。幾何学的設計に十分な遊びを有するために、これらの冷却チャネルのチャネル形状は基板の２つ以上の部分体に形成され、これらが適当な結合方法又は場合によってはオプティカルコンタクト接合により１つ又は複数の界面で相互に接続される。基板の界面ができる限り少なければ有利である。
【0007】
さらにミラーの基板での直接接続をできる限り少なくするために、基板の冷却剤入口を複数の冷却チャネルに接続する分配部と基板の複数の冷却チャネルを冷却剤出口に接続する回収部とが必要である。
【0008】
特許文献１は、界面に沿って合体された第１材料からなる第１層及び第２材料からなる第２層を有するミラーの形態の光学素子を開示している。この光学素子は、界面の領域に延びて光学素子を冷却するよう構成された冷却装置も有する。冷却装置は、冷却剤、例えば冷却水を流すことができる複数の冷却チャネルを有し得る。冷却チャネルは、相互に平行に延在すると共に、冷却剤入口又は冷却剤出口に接続されたサイドチャネルに側方で通じることができる。
【0009】
冷却流体、特に冷却液が冷却チャネルを流れると、冷却チャネル内で、特に分配部又は回収部内で内圧が生じ、当該内圧は、反射コーティングを塗布された表面の望ましくない変形につながる可能性がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0010】
【特許文献1】独国特許出願公開第１０ ２０１９ ２１７ ５３０号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0011】
本発明の目的は、反射コーティングが施された光学素子の表面の変形を冷却流体での直接冷却により低減することを可能にする、光学素子及び光学装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0012】
一態様によれば、この目的は、前述のタイプの光学素子であって、分配部及び／又は回収部が界面から始まって基板の第１部分体よりも基板の第２部分体に大きく延在する光学素子により達成される。
【0013】
第１部分体及び第２部分体への分配部／回収部の延在範囲は、基板の厚さ方向に関係する。第１部分体への分配部／回収部の延在範囲は概して非常に小さい。界面から第１部分体への分配部／回収部の最大距離は、特に第１部分体への各冷却チャネルの最大延在範囲以下であり得る。これに対して、第２部分体への分配部／回収部の（最大）延在範囲は、概して第２部分体への各冷却チャネルの最大延在範囲よりも（大幅に）大きい。第２部分体への分配部／回収部の延在範囲は、特に第１部分体への分配部／回収部の延在範囲の５倍以上に相当し得る。分配部及び／又は回収部は、場合によっては、界面から始まって第１部分体ではなく第２部分体にのみ延び得る。
【0014】
２つの部分体間の界面に沿って延びる特許文献１に記載のサイドチャネルの場合とは異なり、本発明のこの態様の場合、分配部及び／又は回収部は主に、場合によっては完全に、第２部分体に配置され、すなわち、分配部及び／又は回収部は、界面から始まって第１部分体内よりも第２部分体内に大きく延びる。この場合、分配部及び／又は回収部は、界面に沿って延在する冷却チャネルに接続される。このようにして、分配部／回収部の領域の冷却流体の内圧により生じる可能性がある、反射コーティングを有する領域の第１部分体の表面の形状に対する基板の変形の影響を低減することが可能である。
【0015】
各冷却チャネルの断面は、２つの部分体間で分割され得る。この場合、例えば特許文献１に記載のように、第１部分体に各溝状凹部を形成することができ、第２部分体に別の溝状凹部を形成することができ、２つの部分体が界面に沿って接続されると２つの溝状凹部が接合されて単一の冷却チャネルを形成する。この場合、各溝状凹部は、第１部分体及び第２部分体の両方にフライス加工される。しかしながら、溝状凹部が第１部分体のみ又は第２部分体のみにフライス加工されて、他方の部分体が冷却チャネルの断面を形成するために蓋のように凹部を覆う可能性もある。いずれの場合も、界面が各冷却チャネルの断面内又は断面の縁上に延びる結果として、分配部／回収部が基板の第２部分体内に界面の領域まで延びていれば、各冷却チャネルを冷却剤入口又は冷却剤出口に接続するのに原理上は十分である。しかしながら、分配部／回収部は、例えば第１部分体に延在する断面部分で冷却チャネルを相互に接続するために、第１部分体にも延在することができる。
【0016】
分配部及び回収部は、原理上は同じ構成を有し得る。この場合、光学素子において分配部を回収部と区別できるのは、冷却媒体が光学素子及び／又は冷却チャネルを流れるときだけである。しかしながら、冷却媒体の流れを最適化するために、分配部及び回収部が異なる設計を有する、すなわち異なる幾何学的形状を有することも可能である。
【0017】
さらに別の実施形態において、分配部及び／又は回収部は、第２部分体において、場合によっては第１部分体においても、少なくとも界面から始まる部分で基板の厚さ方向に対して３０°以下の角度に位置合わせされる。反射コーティングを有する表面に対する分配部／回収部の内圧の効果を低減するために、少なくとも界面から始まる部分で第１部分体の表面及び／又は界面に対して分配部／回収部を傾斜させることが有利である。このように、冷却流体の内圧に起因して膨らみ得る分配部／回収部の表面域も表面に対して傾斜し、その結果として表面の幾何学的形状に対する膨らみの効果が低減される。分配部／回収部は、界面に接続された部分では、特に基板の厚さ方向に且つ／又は基板の厚さ方向と平行に、すなわち第２部分体の略平面状の底面に対して垂直に延在し得るが、これは必須ではない。
【0018】
さらに別の実施形態において、分配部及び／又は回収部は、第２部分体において、場合によっては第１部分体においても、少なくとも界面から始まる部分で、反射コーティングで覆われない表面の部分領域の下に延びる。反射コーティングを塗布された表面の領域の、又は反射コーティングの光学的利用部分領域の大きな変形を回避するために、光学的利用表面域からできる限り遠くに分配部／回収部を位置決めすることが好都合である。この実施形態では、通常は、冷却チャネルが反射コーティングで覆われない表面の部分領域にも延在する必要がある。流体圧の効果を低減するために、分配部／回収部が、反射コーティングで覆われない表面の部分領域には延在するが、反射コーティングの光学的利用部分領域には延在しないことも可能であり得る。光学装置での、例えばＥＵＶリソグラフィ装置での光学素子の照射時に、使用放射線が光学的利用部分領域に照射される。
【0019】
特に上述の態様と組み合わせることができる本発明のさらに別の態様において、分配部は、冷却剤入口から界面へ向かって広がる分配チャンバを有し、且つ／又は回収部は、界面から冷却剤出口へ向かって窄まる回収チャンバを有する。
【0020】
本発明のこの態様では、分配部／回収部、より正確には分配チャンバ／回収チャンバは、分配部／回収部が第１部分体よりも第２部分体に大きく延在することなく第１部分体と第２部分体との間の界面に沿って延びることもできる。この場合、分配チャンバ／回収チャンバが界面に沿ってできる限り平坦な形態を有することが好都合である。各チャンバの流通断面が広がる又は窄まることで、流れに関して最適化された分配部／回収部の実質的に三角形の又は漏斗状の幾何学的形状が実現される。しかしながら、この幾何学的形状は、分配部／回収部の表面積を比較的大きくもする。このこと、及び界面ひいては分配部／回収部が反射コーティングを塗布された表面から概して小さな距離で延びることにより、分配チャンバ／回収チャンバの内圧で表面が膨らむ可能性もある。
【0021】
したがって、分配チャンバ／回収チャンバが２つの部分体間の界面に沿って延在する場合、反射コーティングで覆われない表面の部分領域の下にのみこれらが延びれば好都合であることが分かった（上記参照）。
【0022】
この実施形態の改良点では、分配チャンバは、冷却剤入口から界面まで延在し、且つ／又は回収チャンバは、界面から冷却剤出口まで延在する。特に、この場合、分配チャンバ／回収チャンバが、上述したように界面から始まって基板の厚さ方向に対して実質的に垂直に位置合わせされれば好都合である。
【0023】
しかしながら、この場合、分配チャンバ／回収チャンバは、冷却流体の内圧が作用し、ひいては表面の変形につながり得る大きな表面積を依然として有する。したがって、分配チャンバ／回収チャンバは、界面で横方向の大きさが最大なので、界面まで延在しないか又は界面に直接接続されなければ好都合である。
【0024】
代替的な実施形態において、分配部及び／又は回収部は、それぞれの少なくとも１つの冷却チャネルを冷却剤入口又は冷却剤出口に接続する接続チャネルを有する、界面から始まる部分を有する。この実施形態では、冷却チャネルは、界面の領域で冷却チャネルの１つ又は複数に接続された接続チャネルに続く。
【0025】
接続チャネルは、界面から始まる部分で、特に基板の厚さ方向に対して３０°以下の角度に位置合わせされ得る。このようにして、表面の光学的利用部分領域の縁付近及び／又は反射コーティングで覆われた表面の部分領域付近の冷却チャネルは、実質的に鉛直方向に変向される。このようにして、冷却チャネル及び／又は接続チャネルは、基板の表面から且つ／又は界面から厚さ方向に離間した分配部／回収部のさらに別の部分で分配するか又は合流させることができる。
【0026】
原理上、冷却チャネルを正確に１つの接続チャネルに割り当てることが可能である。この場合、接続チャネルは、冷却チャネルが基板の第２部分体に続く部分となる。接続チャネルは、通常は基板の第２部分体に穿設され、すなわち接続チャネルは穿孔である。
【0027】
概して、比較的小さな断面積をそれぞれが有する複数の、例えば１０個以上の冷却チャネルが基板に形成される。したがってさらに、概して比較的大きな長さ又は深さを有する接続チャネルの穿設時に、基板の第２部分体が穿設作業中に損傷を受けるという製造関連リスクがある。
【0028】
上記実施形態の改良点では、各接続チャネルが少なくとも２つの、特に正確に２つの冷却チャネルに接続される。このようにして、冷却チャネルに直接隣接する接続チャネルの断面積は、その断面積の少なくとも２倍に拡大され、その結果として、接続チャネルの穿設時の製造リスクを下げることができる。
【0029】
さらに別の改良点では、各接続チャネルの断面が界面から特に段階的に縮小する。隣接する接続チャネル間の距離が比較的小さく、接続チャネルの断面が比較的大きいことにより流体圧が加わる接続チャネルの表面積が比較的大きい場合、接続チャネルの孔径を変える、特に界面から縮小させることが好都合であり得る。各接続チャネルの断面は、特に段階的に縮小させることができ、すなわち接続チャネルは、接続チャネルの断面が徐々に縮小する１つ又は場合によっては複数の段階を有する。原理上、各接続チャネルの断面を連続的に変更又は縮小させることも可能である。
【0030】
さらに別の実施形態において、分配チャンバは、分配部の接続チャネルを有する分配部の部分に接続され、且つ／又は回収チャンバは、回収部の接続チャネルを有する回収部の部分に接続される。この場合、接続チャネルにより、分配チャンバ／回収チャンバは、反射コーティングを有する表面から且つ／又は２つの部分体間の界面から基板の厚さ方向に離間する。表面からの距離が大きいことで、冷却流体の圧力に起因した各チャンバの膨らみにより生じる基板の変形が表面の幾何学的形状に及ぼす効果が、分配チャンバ／回収チャンバが界面に直接接続される上述の場合よりも小さくなる。
【0031】
この実施形態の改良点では、分配チャンバ及び／又は回収チャンバは、第２部分体と基板の第３部分体との間の別の界面に沿って延在し、第３部分体はこの別の界面において第２部分体と合体される。上記別の界面は、特に第１部分体が第２部分体と合体される界面と実質的に平行に延在することができる。このようにして、分配チャンバ及び／又は回収チャンバは、界面から別の界面まで基板の厚さ方向にオフセットされる。分配チャンバ及び／又は回収チャンバを界面から厚さ方向にオフセットさせようとする場合、チャンバは漏斗状の幾何学的形状により第２部分体のみに容易に実現できないので、上記別の界面が概して必要である。
【0032】
さらに別の実施形態において、分配部の接続チャネルは、冷却剤入口に接続された共通の入口チャネルに通じており、且つ／又は回収部の接続チャネルは、冷却剤出口に接続された共通の出口チャネルに通じている。入口チャネル及び／又は出口チャネルは、通常は第２部分体の穿孔の形態である。入口チャネル及び／又は出口チャネルは、特に第２部分体及び／又は基板の底面と実質的に平行に延び得るが、これは必須ではない。入口チャネル及び／又は出口チャネルは、接続チャネルに通じる第２部分体の横孔を形成し得る。冷却剤入口及び／又は冷却剤出口は、入口チャネル及び出口チャネルそれぞれの自由端の開口の形態であり得る。
【0033】
さらに別の実施形態において、冷却剤入口及び／又は冷却剤出口は、基板の第２部分体及び／又は第３部分体に形成される。冷却剤入口及び／又は冷却剤出口は、例えば第２部分体及び／又は第３部分体の側面に開口を形成し得るが、冷却剤入口及び／又は冷却剤出口を基板の下側に、すなわち基板のうち界面及び／又は別の界面とは反対側の表面に形成することも可能である。冷却剤入口及び／又は冷却剤出口の領域では、基板は、通常は冷却剤ラインを冷却剤入口及び／又は冷却剤出口に容易に接続できるような形状である。
【0034】
さらに別の実施形態において、複数の冷却チャネルの各冷却チャネルの断面は、第１部分体と第２部分体との間で分割される。上述したように、冷却チャネルの又は冷却チャネルの１つ又は複数の断面積を２つの部分体間で分割することが可能である。この場合、冷却チャネルは、略平面状の界面内に又はこれと平行に延びない。
【0035】
さらに別の実施形態において、反射コーティングを塗布された基板の表面が湾曲しており、且つ／又は冷却チャネル自体が（基板の厚さ方向に）湾曲しており、湾曲した冷却チャネルは、湾曲した表面から一定の距離を有することが好ましい。このタイプの基板の場合、２つの部分体間の冷却チャネルの断面の上記分割は、特に界面自体が表面の曲率に従わずに例えば平面形態を有する場合に好都合である。この場合、２つの部分体間の断面の分割により、平面状の界面にもかかわらず、湾曲した冷却チャネルが湾曲した表面に従う結果として冷却チャネルが湾曲した表面から一定の距離で延びることが確実になる。この場合、表面の曲率に従う曲率を有する溝状凹部が、概して第１部分体だけでなく第２部分体にも導入される。この場合、冷却チャネルは、第１部分体の対応する湾曲した溝状凹部と第２部分体の溝状凹部とを界面に沿って合体させることにより形成される。これにより、湾曲した冷却チャネルがその長さにわたって一定のチャネル断面を有するようにすることができる。
【0036】
本発明のさらに別の態様は、上述のように形成された少なくとも１つの光学素子と、複数の冷却チャネルに冷却剤を流すように設計された冷却装置とを備えた、光学装置、例えばＥＵＶリソグラフィシステムに関する。ＥＵＶリソグラフィシステムは、ウェハの露光用のＥＵＶリソグラフィ装置であってもよく、又はＥＵＶ放射線を用いる他の何らかの光学装置、例えばＥＵＶリソグラフィで用いられるマスク、ウェハ等の検査用のＥＵＶ検査システムであってもよい。反射光学素子は、特にＥＵＶリソグラフィ装置の投影系のミラーであり得る。例として、冷却装置は、冷却流体の形態の冷却剤、例えば、例えば冷却水等の形態の冷却液を冷却チャネルに流すように設計され得る。この目的で、冷却装置は、ポンプと、適当な供給及び排出ラインとを任意に有し得る。光学装置は、別の波長域用、例えばＤＵＶ波長域用のリソグラフィシステム、例えばＤＵＶリソグラフィシステム、又はマスク、ウェハ等の検査用の検査システムであってもよい。
【0037】
本発明のさらに他の特徴及び利点は、本発明に必須の詳細を示す図面の図を参照した本発明の以下の例示的な実施例の説明から、また特許請求の範囲から明らかになる。個々の特徴のそれぞれを、単独で又は本発明の一変形形態において複数の任意の組み合わせで実施することができる。
【0038】
例示的な実施形態を概略図に示し、以下の説明で説明する。
【図面の簡単な説明】
【0039】
【図1】ＥＵＶ投影リソグラフィ用の投影露光装置の概略子午線断面を示す。
【図2】基板の２つの部分体間の界面に沿って延びる複数の冷却チャネル並びに分配チャンバ及び回収チャンバを有するミラーの概略図を示す。
【発明を実施するための形態】
【0040】
以下の図面の説明において、同じ又は同じ機能を有するコンポーネントには同一の参照符号を用いる。
【0041】
マイクロリソグラフィ投影露光装置１の形態のＥＵＶリソグラフィ用の光学装置の必須構成要素について、図１を参照して例として以下で説明する。投影露光装置１及びその構成要素の基本構成の説明は、この場合は制限的な効果を有すると理解すべきでない。
【0042】
投影露光装置１の照明系２の一実施形態は、光源又は放射源３に加えて、物体面６の物体視野５の照明用の照明光学ユニット４を有する。代替的な実施形態において、光源３は、残りの照明系とは別個のモジュールとして設けることもできる。この場合、照明系は放射源３を含まない。
【0043】
物体視野５に配置されたレチクル７が照明される。レチクル７は、レチクルホルダ８により保持される。レチクルホルダ８は、レチクル変位ドライブ９により特に走査方向に変位可能である。
【0044】
投影露光装置１の照明系２の一実施形態は、光源又は放射源３に加えて、物体面６の物体視野５の照明用の照明光学ユニット４を有する。代替的な実施形態において、放射源３は、残りの照明系とは別個のモジュールとして設けることもできる。この場合、照明系は放射源３を含まない。
【0045】
【0046】
投影露光装置１は、投影系１０を備える。投影系１０は、物体視野５を像面１２の像視野１１に結像する働きをする。レチクル７上の構造が、像面１２の像視野１１の領域に配置されたウェハ１３の感光層に結像される。ウェハ１３は、ウェハホルダ１４により保持される。ウェハホルダ１４は、ウェハ変位ドライブ１５により特にｙ方向に沿って変位可能である。一方ではレチクル変位ドライブ９によるレチクル７の変位と、他方ではウェハ変位ドライブ１５によるウェハ１３の変位とは、相互に同期され得る。
【0047】
放射源３は、ＥＵＶ放射源である。放射源３は、特に以下で使用放射線、照明放射線、又は照明光とも称するＥＵＶ放射線１６を出射する。特に、使用放射線は、５ｎｍ～３０ｎｍの範囲の波長を有する。放射源３は、プラズマ源、例えばＬＰＰ（レーザ生成プラズマ）源又はＧＤＰＰ（ガス放電プラズマ）源であり得る。これは、シンクロトロンベースの放射源でもあり得る。同様に、放射源３は自由電子レーザ（ＦＥＬ）であり得る。
【0048】
放射源３から出る照明放射線１６は、コレクタミラー１７により集束される。コレクタミラー１７は、１つ又は複数の楕円反射面及び／又は双曲反射面を有するコレクタミラーであり得る。照明放射線１６は、コレクタミラー１７の少なくとも１つの反射面に斜入射（ＧＩ）で、すなわち４５°よりも大きな入射角で、又は垂直入射（ＮＩ）で、すなわち４５°よりも小さな入射角で入射し得る。コレクタミラー１７は、第１に使用放射線に対する反射率を最適化するために、第２に外来光を抑制するために構造化且つ／又はコーティングされ得る。
【0049】
照明放射線１６は、コレクタミラー１７の下流で中間焦点面１８の中間焦点を伝播する。中間焦点面１８は、放射源３及びコレクタミラー１７を有する放射源モジュールと照明光学ユニット４とを分離し得る。
【0050】
照明光学ユニット４は、偏向ミラー１９と、ビーム経路でその下流に配置された第１ファセットミラー２０とを備える。偏向ミラー１９は、平面偏向ミラーであり得るか、あるいは純粋な偏向効果を超えたビーム影響効果を有するミラーであり得る。代替として又は追加として、偏向ミラー１９は、照明放射線１６の使用光波長をそこから逸脱する波長の迷光から分離する分光フィルタの形態であり得る。第１ファセットミラー２０は、以下で視野ファセットとも称する複数の個別の第１ファセット２１を含む。図１は、当該ファセット２１のいくつかのみを例として示す。照明光学ユニット４のビーム経路で、第１ファセットミラー２０の下流に第２ファセットミラー２２が配置される。第２ファセットミラー２２は、複数の第２ファセット２３を含む。
【0051】
照明光学ユニット４は、結果として二重ファセットシステムを形成する。この基本原理は、フライアイコンデンサ（フライアイインテグレータ）とも称する。個々の第１ファセット２１は、第２ファセットミラー２２を用いて物体視野５に結像される。第２ファセットミラー２２は、物体視野５の上流のビーム経路で最後のビーム整形ミラー又は実際に照明放射線１６に対する最終ミラーである。
【0052】
投影系１０は、複数のミラーＭｉを含み、これらには投影露光装置１のビーム経路におけるそれらの配置に従って連続して番号を付す。
【0053】
図１に示す例において、投影系１０は、６個のミラーＭ１～Ｍ６を含む。４個、８個、１０個、１２個、又は任意の他の数のミラーＭｉでの代替も同様に可能である。最後から２番目のミラーＭ５及び最終ミラーＭ６はそれぞれ、照明放射線１６の通過開口を有する。投影系１０は、二重遮蔽光学ユニットである。投影系１０は、０．４又は０．５よりも大きく、０．６よりも大きくてもよく、例えば０．７又は０．７５であり得る像側開口数を有する。
【0054】
照明光学ユニット４のミラーと同様に、ミラーＭｉは、照明放射線１６に対して高反射コーティングを有することができる。
【0055】
図２は、第１部分体２６ａ及び第２部分体２６ｂから形成された基板２５を含む、投影系１０のミラーＭ４を例として示す。図示の例では板状である第１部分体２６ａと、基板２５の本体を形成する第２部分体２６ｂとは、図示の例では平面である共通の界面２７で合体又は相互に接続されるが、これは必須ではない。２つの部分体２６ａ、２６ｂ間の接続は、従来の接合又は結合プロセスにより、例えば高温若しくは低温接合により、又はオプティカルコンタクト接合により設けられる。第１部分体２６ａ及び第２部分体２６ｂの材料は同一であり得るが、異なる材料を含んでもよい。図示の例では、第１部分体２６ａの材料及び第２部分体２６ｂの材料の両方が、超低膨張ガラス（ＵＬＥ（登録商標））である。基板２５又は２つの部分体２６ａ、２６ｂは、熱膨張係数ができる限り小さい別の材料、例えばガラスセラミック、例えばＺｅｒｏｄｕｒ（登録商標）からできていてもよい。
【0056】
反射コーティング２９が、界面２７とは反対側の第１部分体２６ａの露出表面２８に塗布される。反射コーティング２９内に位置付けられた表面２８の部分領域３０に、投影系１０のＥＵＶ放射線１６が当たり、部分領域３０は、反射コーティング２９の光学的利用部分領域を形成する。反射コーティング２９は、例えば、屈折率の実部が異なる材料からなる複数の層対を含むことができ、層は、ＥＵＶ放射線１６の波長が１３．５ｎｍの場合は例えばＳｉ及びＭｏから形成され得る。第１部分体２６ａの表面２８は、図２では平面として表されるが、曲率を有することもできる。
【0057】
図２に示す例では、反射コーティング２９が塗布された表面２８の下に延びる複数の冷却チャネル３１が、界面２７の領域で基板２５に形成される。図２に示す例では、約２０個の冷却チャネル３１があり、これらは、反射コーティング２９の光学的利用部分領域３０の両側にある分配部３２と回収部３３との間で表面２８の下に延在する。図２に示す例では、冷却チャネル３１は、相互に平行に位置合わせされる。図２の例では、分配部３２は、複数の冷却チャネル３１を共通の冷却剤入口３４に接続する分配チャンバ３２ａを有し、冷却剤入口３４は、第２部分体２９ｂの開口を形成する。これに対応して、回収部３３は、複数の冷却チャネル３１を共通の冷却剤出口３５に接続する回収チャンバを形成し、冷却剤出口３５も同様に、第２部分体２９ｂの開口の形態である。
【0058】
図２に見られるように、分配チャンバ３２ａは、冷却剤入口３４から分配チャンバ３２ａに通じる冷却チャネル３１の端まで漏斗状に広がっている。これに対応して、回収チャンバ３３ａは、冷却チャネル３３の端から冷却剤入口３５まで漏斗状に窄まっている。分配チャンバ３２ａ及び回収チャンバ３３ａは、界面２７に沿って延在し、基板２５の厚さ方向にできる限り平坦に形成される。図２に示す例では、分配チャンバ３２ａ及び回収チャンバ３３ａは、第１部分体２６ａ及び第２部分体２６ｂの両方に延在する。分配チャンバ３２ａ及び回収チャンバ３３ａは、全ての冷却剤チャネル３１間での分配をできる限り均等にすると共に冷却水の流れによる動的励振をできる限り小さくするために、流れに関して最適化された実質的に三角形の幾何学的形状を有する。
【0059】
冷却剤を冷却剤入口３４に供給し、冷却剤を冷却剤出口３５から排出するために、投影露光装置１は、図１に概略的に表す冷却装置３６を備える。図示の例では、冷却装置３６は、冷却水の形態の冷却剤を冷却チャネル３１又はミラーＭ４に供給する働きをし、この目的で、冷却剤入口３４に液密に接続される不図示の供給ラインを含む。冷却装置３６は、冷却水を冷却剤出口３５から排出するために、不図示の排出ラインも含む。冷却目的で、投影系１０の他のミラーＭ１～Ｍ３、Ｍ５、Ｍ６も、冷却装置３６に、又は場合によってはこの目的で設けられたさらに他の冷却装置に接続することができる。
【0060】
分配チャンバ３２ａ又は回収チャンバ３３ａを流れる冷却水の圧力により、基板２５が膨らむ結果として、表面２８の幾何学的形状が変わる可能性がある。分配チャンバ３２ａ及び／又は回収チャンバ３３ａが、表面２８の光学的利用部分領域３０に相対的に近接していることにより、光学的利用部分領域３０の望ましくない変形がこのように起こり得る。
【0061】
反射コーティング２９の光学的利用部分領域３０に対する分配チャンバ３２ａ及び／又は回収チャンバ３３ａの膨らみの効果を低減するために、図３ａ、図３ｂに示すミラーＭ４の場合、分配部３２又は分配チャンバ３２ａ及び回収部３３又は回収チャンバ３３ａは、界面２７から基板の第２部分体２６ａのみに延在する。原理上、第１部分体２６ａでも冷却チャネル３１の端同士をさらに接続するために、分配チャンバ３２ａ及び／又は回収チャンバ３２ｂが界面２７から第１部分体２６ａに延在することが可能である。図３ａに見られるように、分配チャンバ３２ａは、基板２５の下側に形成された冷却材入口３４から界面２７まで延在する。これに対応して、図３ａ、図３ｂには図示しない回収チャンバ３３ａも、界面２７から同様に基板２５の下側に形成された冷却剤出口３５まで延在する。
【0062】
分配チャンバ３２ａ、より正確には分配チャンバ３２ａの中心面Ｍは、この点で、基板２５の厚さ方向Ｚと平行に位置合わせされる。図３ａの部分断面に見られるように、中心面Ｍは、Ｚ方向及びＸ方向に延びる。分配チャンバ３２ａは、中心面Ｍに対して実質的に鏡面対称である。中心面Ｍは、第２部分体２６ｂの下側の開口を形成する冷却剤入口３４も通って延びる。この場合、第２部分体２６ｂの下側は、厚さ方向に対して垂直にＸＹＺ座標系のＸＹ平面に延在する。これにより、ミラーＭ４の表面２８又は表面２８の光学的利用部分領域３０と平行な流体圧により膨らみ得る分配チャンバ３２ａの表面積が大幅に小さくなる。したがって、分配部３２及び／又は回収部３３を第２部分体２６ｂにかけて傾斜させることで、ミラーＭ４の表面２８の光学的利用部分領域３０の変形を低減することが可能となる。
【0063】
分配チャンバ３２ａが基板２５の厚さ方向Ｚに延びることは必須ではなく、分配チャンバ３２ａ、より正確にはその中心面Ｍは、厚さ方向Ｚに対して概して約３０°以下であるべき角度αに位置合わせすることもできる。図３ａの部分断面で見ることができる回収部３３又は回収チャンバ３３ａは、図示の例では、基板２５の表面２８の光学的活性部分領域３０のうちＹ方向で反対側に位置する側で、分配部３２又は分配チャンバ３２ａと同一の構造を有する。しかしながら、構造的に同一の設計は必須ではない。例えば流れに関する理由から、分配部３２及び／又は分配チャンバ３２ａ及び回収部３３及び／又は回収チャンバ３３ａが異なる幾何学的形状を有すれば有利であり得る。
【0064】
特に図３ｂに見られるように、分配チャンバ３２ａ及び回収チャンバ３３ａの両方が、反射コーティング２９で覆われない表面２８の部分領域３７の下で、特に表面２８の光学的利用部分領域３０の下ではない部分でも、Ｚ方向に延びる。これにより、図３ａで見える、圧力を受け、分配チャンバ３２ａ内に形成され、且つ膨らみ得る三角形表面域の、表面２８の光学有効部分領域３０からの距離が大きくなる。分配チャンバ３２ａ及び回収チャンバ３３ａが２つの部分体２６ａ、２６ｂ間で界面２７に沿って延在する図２に示すミラーＭ４の場合の横方向の構造空間は、これに十分なので、このような配置は、図２に示すミラーＭ４の場合にも基本的に可能である。
【0065】
図４ａ、図４ｂに示すミラーＭ４の場合、基板２５は、第１及び第２部分体２６ａ、２６ｂに加えて第３部分体２６ｃを有する。第３部分体２６ｃは、別の界面３８で第２部分体２６ｂと接続又は合体され、同様にＵＬＥ（登録商標）からなる。接続は、第１及び第２部分体２６ａ、２６ｂ間の界面２７における上述の接続のように形成することができる。図４ａ、図４ｂに示す回収部３２は、第１及び第２部分体２６ａ、２６ｂ間の界面２７に接続されて界面２７から基板２５の第２部分体２６ｂに延在する部分３９を有する。基板２５の厚さ方向Ｚに延在する接続チャネル４０は、界面２７に接続された分配部３２の部分３９に形成される。
【0066】
図３ａ、図３ｂに示す例の場合のように、図４ａ、図４ｂでも、接続チャネル４０を基板２５の厚さ方向に位置合わせすることは必須ではなく、図３ａ、図３ｂのように、厚さ方向Ｚに対して通常は３０°以下の角度αに接続チャネル４０を位置合わせすることが可能である。原理上、接続チャネル４０を基板２５の厚さ方向Ｚに対して位置合わせする角度αが、基板２５において変わっても有利であり得る。
【0067】
図４ａ、図４ｂに示す例では、各接続チャネル４０が正確に１つの冷却チャネル３１に接続され、下向きに第２部分体２６ｂに続く。換言すれば、各冷却チャネル３１は、それに割り当てられた接続チャネル４０により、界面２７と平行な配列から第２部分体２６ｂへ変向される。図４ａ、図４ｂに示す例では、接続チャネル４０は、光学的活性部分領域３０で覆われない表面２８の部分領域の下に延びる。
【0068】
図４ａ、図４ｂに示す例では、冷却剤は、冷却チャネル４０に接続された分配チャンバ３２ａを介して個々の冷却チャネル３１間に分配される。接続チャネル４０は分配チャンバ３２ａに通じ、分配チャンバ３２ａは接続チャネル４０を冷却剤入口３４に接続する。図４ａ、図４ｂに示す例では、分配チャンバ３２ａは、基板２５の第２及び第３部分体２６ｂ、２６ｃ間の別の界面３８に沿って延在する。図示の例では、別の界面３８は、第３部分体２６ｃの底面と平行な平面に延在するが、そのような配列は必須ではない。冷却剤入口３４は、第３部分体２６ｃを通って延びて基板２５の下側で終わる開口を形成する。代替として、冷却剤入口３４は、第２部分体２６ｃに形成され得る。図４ａ、図４ｂに示すミラーＭ４の場合、漏斗状の分配チャンバ３２ａの表面域は、図３ａ、図３ｂに示すミラーＭ４の場合よりも基板２５の表面２８から大きく離間し得る。回収部３３は、分配部３２と同様の形態を有する。
【0069】
【0070】
図５ａ～図５ｃに示すミラーＭ４の場合、分配部３２の接続チャネル４０は、共通の入口チャネル４１に接続される。図５ａ～図５ｃに示すミラーＭ４の場合、入口チャネル４１は、第２部分体２６ｂにおける横孔又は盲孔の形態である。接続チャネル４０は、共通の入口チャネル４１から上方（Ｚ方向）に第１部分体２６ａの表面２８向かって分岐する。図５ａ～図５ｃに示す例の場合、冷却剤入口４１は、基板２５の第２部分体２６ｂの側面に形成された入口チャネル４１の開口を形成する。回収部３３は、分配部３２と構造的に同一であり、共通の出口チャネル４２に通じる接続チャネル４０を同様に有するが、共通の出口チャネル４２は図５ａ～図５ｃでは基板２５で隠れており、冷却剤出口３５に接続される。
【0071】
図４ａ、図４ｂに示すミラーＭ４及び図５ａ～図５ｃに示すミラーＭ４の両方の場合に、接続チャネル４０は、基板２５の第２部分体２６ｂの穿孔の形態である。図４ａ、図４ｂ及び図５ａ～図５ｃのように、第２部分体２６ｂ内に比較的深く延在する多くの接続チャネル４０がある場合、穿設作業中に、接続チャネル４０の作製時に第２部分体２６ｂが損傷を受けるか又は最悪の場合は破壊される可能性があるという製造リスクが少なからずある。
【0072】
このリスクを低減するために、図５ｂに示す例では、各接続チャネル４０が１つではなく２つの隣接する冷却チャネル３１それぞれに接続される。このようにして、接続チャネル４０を、図５ａに示す例の場合よりも大きな断面で製造することができる。場合によっては、製造リスクをさらに低減するために、３つ以上の概ね隣接する冷却チャネル３１を同一の接続チャネル４０に接続することも可能である。
【0073】
圧力を受ける接続チャネル４０の断面積が大きすぎ、且つ／又は基板２５の接続チャネル４０間のリブ小さすぎる場合、図５ｃに示すように接続チャネル４０を段付き孔の形態にすることが好都合である。この場合、接続チャネル４０は、界面２７に直接隣接して、各接続チャネル４０を２つの冷却チャネル３１それぞれに接続するのに十分な第１断面積Ａ１を有する。一段階で、第１断面積Ａ１はより小さな第２断面積Ａ２に縮小され、その結果として２つの隣接する接続チャネル４０それぞれの間の距離が大きくなる。各接続チャネル４０は、界面２７から入口チャネル４１までの断面積Ａ１、Ａ２等を縮小するために、場合によっては２つ以上の段を有することもできる。界面２７から分配チャンバ３２ａまでの各接続チャネル４０の断面積Ａ１、Ａ２等の縮小は、図４ａ、図４ｂに示すミラーＭ４の場合にも可能である。
【0074】
図６ａ、図６ｂは、分配部３２及び回収部３３が図５ａのように設計されるミラーＭ４の基板２５の断面を示す。図６ａ、図６ｂのミラーＭ４の場合、分配部の各接続チャネル４０が共通の入口チャネル４１に接続され、そこから第１部分体２６ａの表面２８に向かって分岐する。入口チャネル４１は、図６ａ、図６ｂに示さない冷却剤入口に接続される。回収部は、構造的に同一であり、冷却チャネル３１に対する接続チャネル４０を有し、接続チャネル４０は、図６ａ、図６ｂに示さない冷却剤出口に接続された共通の出口チャネル４２に通じる。
【0075】
図５ａに示すミラーＭ４とは異なり、図６ａ、図６ｂに示す例の場合の冷却チャネル３１は、２つの部分体２６ａ、２６ｂ間で分割される断面を有し、すなわち、２つの部分体２６ａ、２６ｂ間の平面状の界面２７は、冷却チャネル３１の断面又は断面積ＡＫを通って延びる。したがって、冷却チャネル３１は、第１部分体２６ａに形成された第１溝状凹部４３ａと、第２部分体２６ｂに形成された第２溝状凹部４３ｂとからなる。２つの部分体２６ａ、２６ｂ間での冷却チャネル３１の断面のこのような分割は、図６ａ、図６ｂの場合のように基板２５の表面２８が湾曲している場合に特に好都合である。
【0076】
この場合も、湾曲した表面２８からの冷却チャネル３１の距離Ｄは、冷却チャネル３１の長さにわたって実質的に一定とすべきである。これには、冷却チャネル３１の曲率を表面２８の曲率に従わせて又は対応させて冷却チャネル３１を湾曲させる必要がある。２つの部分体２６ａ、２６ｂ間の界面２７は平面なので、冷却チャネル３１の長さにわたって一定の断面積ＡＫを有する冷却チャネル３１は、この場合、図６ａ、図６ｂに示すように、湾曲した第１溝状凹部４３ａが第１部分体２６ａに形成されるだけでなく湾曲した第２溝状凹部４３ｂも第２部分体２６ｂに形成される場合にのみ実現できる。言うまでもなく、図２、図３ａ、図３ｂ、図４ａ、図４ｂ、及び図５ｂに関連して上述したミラーＭ４の冷却チャネル３１も、対応する設計を有することができ、すなわちそれらの断面を２つの部分体２６ａ、２６ｂ間で分割することができる。
【0077】
単一の分配部３２及び／又は単一の回収部３３の代わりに、反射コーティング２９を有する表面２８の下に延びる複数の冷却チャネル３１それぞれを冷却剤入口３４及び冷却剤出口３５それぞれに接続するために、複数の分配部３２及び／又は回収部３３を基板２５に形成することも任意に可能である。しかしながら、原理上は、単一の冷却剤入口３４及び単一の冷却剤出口３５のみが基板２５に形成されれば好都合である。
【0078】
ＥＵＶ放射線１６用の反射コーティング２９の代わりに、異なる波長域の放射線用の、例えばＥＵＶ波長域用の反射コーティングを上述の光学素子に塗布してもよい。一般に、このような反射光学素子に対する基板２５の熱膨張に関する要件はあまり厳しくないので、上述のものとは異なる基板材料、例えば従来の石英ガラスを利用することができる。
【図1】
【図2】
【図3a】
【図3b】
【図4a】
【図4b】
【図5a】
【図5b】
【図5c】
【図6a】
【図6b】
【国際調査報告】