知財求人 - 知財ポータルサイト「IP Force」
特表2024-509550Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを調製する方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2024-03-04
(54)【発明の名称】Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを調製する方法
(51)【国際特許分類】
C07D 211/58 20060101AFI20240226BHJP
B01J 23/42 20060101ALI20240226BHJP
B01J 23/44 20060101ALI20240226BHJP
B01J 23/755 20060101ALI20240226BHJP
C08G 73/06 20060101ALI20240226BHJP
C07B 61/00 20060101ALN20240226BHJP
【ＦＩ】
C07D211/58
B01J23/42 Z
B01J23/44 Z
B01J23/755 Z
C08G73/06
C07B61/00 300
【審査請求】未請求
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2023553562
(86)(22)【出願日】2022-02-10
(85)【翻訳文提出日】2023-09-04
(86)【国際出願番号】 EP2022053192
(87)【国際公開番号】W WO2022184399
(87)【国際公開日】2022-09-09
(31)【優先権主張番号】21161133.0
(32)【優先日】2021-03-05
(33)【優先権主張国・地域又は機関】EP
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】508020155
【氏名又は名称】ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア
【氏名又は名称原語表記】ＢＡＳＦ ＳＥ
【住所又は居所原語表記】Ｃａｒｌ－Ｂｏｓｃｈ－Ｓｔｒａｓｓｅ ３８， ６７０５６ Ｌｕｄｗｉｇｓｈａｆｅｎ ａｍ Ｒｈｅｉｎ， Ｇｅｒｍａｎｙ
(74)【代理人】
【識別番号】110002572
【氏名又は名称】弁理士法人平木国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】ハイドル，アレクサンダー ミヒャエル
(72)【発明者】
【氏名】シュミット，ミヒャエル
(72)【発明者】
【氏名】カピート，エレナ
【テーマコード（参考）】
4G169
4H039
4J043
【Ｆターム（参考）】
4G169AA03
4G169BA01B
4G169BA08B
4G169BC29A
4G169BC31A
4G169BC31B
4G169BC67A
4G169BC67B
4G169BC68A
4G169BC68B
4G169BC70A
4G169BC72A
4G169BC72B
4G169BC75A
4G169BC75B
4G169CB02
4G169DA06
4H039CA71
4H039CB30
4J043PA04
4J043QB16
4J043QB52
4J043RA02
4J043SA06
4J043SA08
4J043SA32
4J043SA44
4J043SB01
4J043TA43
4J043TA51
4J043TA66
4J043TB01
4J043UA392
4J043UA791
4J043ZB60
(57)【要約】
本発明は、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを調製する方法に関する。本発明は、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンの使用であって、ポリ［［６－［（１，１，３，３－テトラメチルブチル）アミノ］－ｓ－トリアジン－２，４－ジイル］－［（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ］－ヘキサメチレン－［（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ］、１，６－ヘキサンジアミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジン－イル）、２，４，６－トリクロロ－１，３，５－トリアジン、Ｎ－ブチル－１－ブチルアミン、及びＮ－ブチル－２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジンアミンの反応材料、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）－Ｎ，Ｎ’－ジホルミルヘキサメチレンジアミン、及び１，６－ヘキサンジアミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジニル）－、２，４－ジクロロ－６－（４－モルホリニル）－１，３，５－トリアジンとのポリマーを調製するための使用に更に関する。
【選択図】なし
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを調製する方法であって、前記方法が：ｉ． ２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－オンを１，６－ヘキサメチレンジアミンでイミン化して、Ｎ，Ｎ’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を含む第１の混合物を得るステップ；
ｉｉ． 第１の混合物のＮ，Ｎ’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を水素化して、５０～９９．５重量％のＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを含む水素化した第２の混合物を得るステップ；及び
ｉｉｉ． 第２の混合物を固定床反応器で連続的水素化して、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを得るステップ
を備える方法。
【請求項2】
前記ステップ（ｉ）で調製される第１の混合物が、３～７重量％の範囲の含水量を含む請求項１に記載の方法。
【請求項3】
２重量％未満の含水量を有するように第１の混合物から水を除去するステップを更に備える請求項１又は２に記載の方法。
【請求項4】
２重量％未満の含水量を有するように第２の混合物から水を除去するステップを更に備える請求項１～３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項5】
前記ステップ（ｉｉ）において、第２の混合物が、６５～９５重量％のＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを含む請求項１～４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項6】
前記ステップ（ｉｉ）における前記水素化が、少なくとも１つの第１の遷移金属を用いて触媒される請求項１～５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項7】
第１の遷移金属が、銅、ニッケル、コバルト、ルテニウム、プラチナ、及びパラジウムから選択される請求項６に記載の方法。
【請求項8】
第１の遷移金属が、プラチナである請求項６又は７に記載の方法。
【請求項9】
前記ステップ（ｉｉｉ）の前記連続的水素化が、少なくとも１つの第２の遷移金属を用いて触媒される請求項１～４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項10】
第２の遷移金属が、銅、ニッケル、コバルト、ルテニウム、プラチナ、及びパラジウムから選択される請求項９に記載の方法。
【請求項11】
前記遷移金属が、パラジウムである請求項９又は１０に記載の方法。
【請求項12】
前記水素化ステップ（ｉｉ）及びステップ（ｉｉｉ）における水素の圧力が、１～２００バールの範囲である請求項１～１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項13】
前記ステップ（ｉ）～前記ステップ（ｉｉｉ）の温度が、６０～２００℃の範囲である請求項１～１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項14】
ステップ（ｉｉｉ）において得られるＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンが、９０～４００の範囲のＡＰＨＡ値を有する請求項１～１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項15】
１，６－ヘキサメチレンジアミンの２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－オンに対するモル比が、０．１：５～５：０．１の範囲である請求項１～１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項16】
ステップ（ｉｉｉ）における水素のＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンに対するモル比が、０．５：０．１～４０：５の範囲である請求項１～１５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項17】
請求項１～１６のいずれか１項に記載の方法により得られるＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンの使用であって、ポリ［［６－［（１，１，３，３－テトラメチルブチル）アミノ］－ｓ－トリアジン－２，４－ジイル］－［（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ］－ヘキサメチレン－［（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ］、１，６－ヘキサンジアミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジン－イル）、２，４，６－トリクロロ－１，３，５－トリアジン、Ｎ－ブチル－１－ブチルアミン、及びＮ－ブチル－２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジンアミンの反応材料、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）－Ｎ，Ｎ’－ジホルミルヘキサメチレンジアミン、及び１，６－ヘキサンジアミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジニル）－、２，４－ジクロロ－６－（４－モルホリニル）－１，３，５－トリアジンとのポリマーを調製するための使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを調製する方法に関する。本発明は、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンの使用であって、ポリ［［６－［（１，１，３，３－テトラメチルブチル）アミノ］－ｓ－トリアジン－２，４－ジイル］－［（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ］－ヘキサメチレン－［（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ］、１，６－ヘキサンジアミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジン－イル）、２，４，６－トリクロロ－１，３，５－トリアジン、Ｎ－ブチル－１－ブチルアミン、及びＮ－ブチル－２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジンアミンの反応材料、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）－Ｎ，Ｎ’－ジホルミルヘキサメチレンジアミン、及び１，６－ヘキサンジアミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジニル）－、２，４－ジクロロ－６－（４－モルホリニル）－１，３，５－トリアジンとのポリマーを調製するための使用に更に関する。
【背景技術】
【0002】
イミン化反応とそれに続く水素化を含む工業規模でのアミンの合成はよく知られており、バッチプロセスによるか又はその後の連続プロセスによるかのどちらかで４－アミノピペリジンの合成に関して過去に記載されている。両方の技術は、水又はルイス酸及び／又はブレンステッド酸により触媒されるイミンの形成で始まり、その後、加圧水素を用いる遷移金属触媒による還元的アミノ化によって、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを粗化合物（９４～９７％）として得た後、それを減圧下で蒸留により精製するか、又は更に精製せずに使用する。
【0003】
欧州特許第０５０８９４０号明細書は、高圧（５０バール）水素でＰｔ／Ｃを用いて、単一のバッチサイクルとして、９０Ｃで、４時間で実施されるバッチの触媒反応を開示する。これは、収率の低下をもたらす蒸留の精製プロセスを回避するために行われる。この記載のプロセスにおける主な欠点は、かなり高い水素圧（５０バール）が必要なこと、特定の装置とその後の特別な安全対策の必要性、廃気流に排出される過剰な水素の使用、サイクル数の制限による触媒の寿命低下（通常、バッチの触媒当たり最大１０～２０サイクルのみ）、主に得られるＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン１，６ジアミンの色の不安定（熱ストレス下、例えば６０℃で高いＡＰＨＡ値をもたらす観点から）、及び色自体の欠点（蒸留がないため）であり、それは、バリューチェーンの下流にある製品の透過率（Ｔ％）値を妨げ、製品の品質低下をもたらす。
【0004】
連続的に行われるＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンプロセスは、欧州特許第０８５７７１９号明細書及び米国特許第５９４５５３６号明細書において、管状反応器における固定床触媒（遷移金属触媒、固体担体、例えばＡｌ２Ｏ３又はＳｉＯ２上の［Ｐｄ］、［Ｐｔ］又は［Ｃｏ］）により非常に高い水素圧（２８５バール）、昇温（９０～１９０℃）で進行するワンポットのイミン化／水素化処理としても以前に報告されている。このプロセスを用いて、９４％までの非常に高い選択率のＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンが獲得されるが、（ライトボイラー（ｌｉｇｈｔ－ｂｏｉｌｅｒｓ）を取り除いた後）残渣をバリューチェーンの下流で製品の調製に直接使用することができる、バッチ反応で得られるＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンと比較すると、報告されている連続セットアップで得られる未精製の材料は、その材料の色が欠けている（ＡＰＨＡ値７０３）ため、厳しい蒸留条件（蒸留後にＡＰＨＡ値９０～１９０を有するＨＭＢＴＡＤが得られる６ミリバールで沸点２２５℃）での追加の精製ステップが必要である。
【0005】
蒸留した４－アミノピペリジンの品質、特に長期安定性を確保するためにその色品質を向上させるために、蒸留した４－アミノピペリジンを添加剤（例えば欧州特許第０９０６２８１号明細書及び独国特許第１９６２２２６９号明細書ではＮａＢＨ４で）で処理する手順が知られている。しかしながら、この処理には、この精製コンセプトのために予め蒸留した材料が必要であることに加えて、別の反応器のセットアップに依存する追加のステップが必要であるという欠点がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
したがって、本発明の目的は、高い選択率でＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを調製するプロセスを提供することである。
【0007】
本発明の別の目的は、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを調製する簡潔で実利的なプロセスを提供することである。
【0008】
本発明の更に別の目的は、安定なＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを調製するプロセスを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0009】
驚くべきことに、バッチ式水素化処理を連続的ポスト水素化処理と組み合わせることにより、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンをより高い選択率で得ることが判明した。更に、バッチ式水素化を連続的ポスト水素化と組み合わせることで、精製ステップを省いて、その下流製品の透過率（Ｔ％）の値を改善した安定なＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン４－イル）ヘキサン１，６ジアミンを生成することにより、技術的且つ経済的に実現可能なプロセス条件を提供する。
【0010】
透過率（Ｔ％）は、Ｔ＝ｅ＾（－Ｔ）＝１０＾（－Ａ）のように光学深度と吸光度に相関しており、ここで、Ｔは光学深度であり、Ａは吸光度である。
【0011】
したがって、一態様においては、現在請求されている発明は、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを調製するプロセスに関し、そのプロセスは：
ｉ． ２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－オンを１，６－ヘキサメチレンジアミンでイミン化して、Ｎ，Ｎ’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を含む第１の混合物を得るステップ；
ｉｉ． 第１の混合物のＮ，Ｎ’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を水素化して、５０～９９．５重量％のＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを含む水素化した第２の混合物を得るステップ；及び
ｉｉｉ． 第２の混合物を固定床反応器で連続的水素化して、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを得るステップ
を備える。
ｉ． ２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－オンを１，６－ヘキサメチレンジアミンでイミン化して、Ｎ，Ｎ’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を含む第１の混合物を得るステップ；
ｉｉ． 第１の混合物のＮ，Ｎ’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を水素化して、５０～９９．５重量％のＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを含む水素化した第２の混合物を得るステップ；及び
ｉｉｉ． 第２の混合物を固定床反応器で連続的水素化して、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを得るステップ
を備える。
【0012】
別の態様においては、現在請求されている発明は、既述のプロセスにより得られるＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンの使用であって、ポリ［［６－［（１，１，３，３－テトラメチルブチル）アミノ］－ｓ－トリアジン－２，４－ジイル］－［（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ］－ヘキサメチレン－［（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ］、１，６－ヘキサンジアミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジン－イル）、２，４，６－トリクロロ－１，３，５－トリアジン、Ｎ－ブチル－１－ブチルアミン、及びＮ－ブチル－２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジンアミンの反応材料、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）－Ｎ，Ｎ’－ジホルミルヘキサメチレンジアミン、及び１，６－ヘキサンジアミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジニル）－、２，４－ジクロロ－６－（４－モルホリニル）－１，３，５－トリアジンとのポリマーを調製するための使用に関する。
【発明を実施するための形態】
【0013】
本発明の組成物及び製剤を説明する前に、このような組成物及び製剤は勿論変化することがあるので、本発明は記載した特定の組成物及び製剤に限定されないことを理解するべきである。同様に、現在請求されている発明の範囲は、添付の請求項によってのみ限定されることとなるので、本明細書で使用される専門用語は、限定されないものとすることを理解すべきである。
【0014】
以下において、ある群が少なくともある決まった数の実施形態を含むと定義される場合、これは、これらの実施形態のみからなる好ましい群も包含することを意味する。更に、本明細書及び特許請求の範囲における「第１の」、「第２の」、「第３の」又は「（ａ）」、「（ｂ）」、「（ｃ）」、「（ｄ）」などの用語は、類似の構成要素を区別するために使用されるものであり、必ずしも連続した順番又は時系列順を説明するものではない。そのように使用される用語は、適切な状況下において交換可能であることと、本明細書に記載される本発明の実施形態は、本明細書に記載又は図示する順序以外の順序で実施することが可能であることとが理解されるべきである。「第１の」、「第２の」、「第３の」又は「（Ａ）」、「（Ｂ）」及び「（Ｃ）」又は「（ａ）」、「（ｂ）」、「（ｃ）」、「（ｄ）」、「ｉ」、「ｉｉ」などの用語が、方法若しくは使用又はアッセイのステップに関する場合、本出願で別段の指定がない限り、本明細書において前述又は後述するように、このステップ間に時間を置かないか、又は時間間隔の一貫性がなく、すなわち、このステップは、同時に実施され得るか、又はこのようなステップ間に数秒間、数分間、数時間、数日間、数週間、数ヶ月間若しくは更に数年間の時間間隔があり得る。
【0015】
以下の文章においては、本発明の様々な態様が、更に詳細に定義される。そのように定義された各態様は、反対のことが明記されていない限り、任意の他の１つ又は複数の態様と組み合わせてもよい。特に、好ましい又は有利であると示唆される任意の特徴は、好ましい又は有利であると示唆される任意の他の１つ又は複数の特徴と組み合わせてもよい。
【0016】
「一実施形態」又は「好ましい一実施形態」に対する本明細書全体にわたる関連は、その実施形態に関連して記載される特定の特徴、構造又は特性が、現在請求されている発明の少なくとも１つの実施形態に含まれることを意味する。したがって、本明細書全体にわたる様々な場合における句「一実施形態においては」又は「好ましい一実施形態においては」又は「別の実施形態においては」の出現は、必ずしも全て同じ実施形態について言及しているわけではないが、全て同じ実施形態について言及していることもある。更に、特定の特徴、構造又は特性は、１つ又は複数の実施形態においては、本開示から当業者に明らかになるであろう任意の好適な手法に組み合わせてもよい。更に、本明細書に記載されるいくつかの実施形態が、他の実施形態に含まれる他の特徴でないものを含む一方、異なる実施形態の特徴の組み合わせが本発明の範囲内であることを意味し、当業者には理解されるであろう異なる実施形態を形成する。例えば、添付の特許請求の範囲において、特許請求の範囲に記載の任意の実施形態は、任意の組み合わせで使用することができる。
【0017】
更に、本明細書を通じて定義される範囲には、最終値も含まれ、つまり、１～１０の範囲は、１と１０の両方が範囲に含まれることを含意する。疑義を避けるため、出願人は、適用される法律に従って、あらゆる等価物を得る権利を有するものとする。
【0018】
本開示をより容易に理解できるように、特定の用語を最初に定義する。他に定義しない限り、本明細書で使用する全ての技術及び科学用語は、本発明の実施形態が関係する当業者が一般に理解する意味と同義である。
【0019】
一態様においては、現在請求されている発明は、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを調製するプロセスに関し、そのプロセスは、：
ｉ． ２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－オンを１，６－ヘキサメチレンジアミンでイミン化して、Ｎ，Ｎ’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を含む第１の混合物を得るステップ；
ｉｉ． 第１の混合物のＮ，Ｎ’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を水素化して、５０～９９．５重量％のＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを含む水素化した第２の混合物を得るステップ；及び
ｉｉｉ． 第２の混合物を固定床反応器で連続的水素化して、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを得るステップ
を備える。
ｉ． ２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－オンを１，６－ヘキサメチレンジアミンでイミン化して、Ｎ，Ｎ’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を含む第１の混合物を得るステップ；
ｉｉ． 第１の混合物のＮ，Ｎ’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を水素化して、５０～９９．５重量％のＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを含む水素化した第２の混合物を得るステップ；及び
ｉｉｉ． 第２の混合物を固定床反応器で連続的水素化して、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを得るステップ
を備える。
【0020】
一実施形態においては、現在請求されている発明は、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを調製するプロセスに関し、そのプロセスは：
ｉ． ２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－オンを１，６－ヘキサメチレンジアミンでイミン化して、Ｎ，Ｎ’－ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を含む第１の混合物を得るステップ；
ｉａ．第１の混合物を脱水して、Ｎ，Ｎ’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を含む水を無含有の第１の混合物を得るステップ：
ｉｉ． 第１の混合物のＮ，Ｎ’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を水素化して、５０～９９．５重量％のＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを含む水素化した第２の混合物を得るステップ；及び
ｉｉｉ． 第２の混合物を固定床反応器で連続的水素化して、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを得るステップ
を備える。
ｉ． ２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－オンを１，６－ヘキサメチレンジアミンでイミン化して、Ｎ，Ｎ’－ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を含む第１の混合物を得るステップ；
ｉａ．第１の混合物を脱水して、Ｎ，Ｎ’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を含む水を無含有の第１の混合物を得るステップ：
ｉｉ． 第１の混合物のＮ，Ｎ’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を水素化して、５０～９９．５重量％のＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを含む水素化した第２の混合物を得るステップ；及び
ｉｉｉ． 第２の混合物を固定床反応器で連続的水素化して、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを得るステップ
を備える。
【0021】
一実施形態においては、現在請求されている発明は、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを調製するプロセスに関し、そのプロセスは：
ｉ． ２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－オンを１，６－ヘキサメチレンジアミンでイミン化して、Ｎ，Ｎ’－ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を含む第１の混合物を得るステップ；
ｉｉ． 第１の混合物のＮ，Ｎ’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を水素化して、５０～９９．５重量％のＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを含む水素化した第２の混合物を得るステップ；
ｉｉａ． 第２の混合物を脱水して、Ｎ，Ｎ’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を含む水を無含有の第２の混合物を得るステップ；及び
ｉｉｉ． 第２の混合物を固定床反応器で連続的水素化して、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを得るステップ
を備える。
ｉ． ２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－オンを１，６－ヘキサメチレンジアミンでイミン化して、Ｎ，Ｎ’－ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を含む第１の混合物を得るステップ；
ｉｉ． 第１の混合物のＮ，Ｎ’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を水素化して、５０～９９．５重量％のＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを含む水素化した第２の混合物を得るステップ；
ｉｉａ． 第２の混合物を脱水して、Ｎ，Ｎ’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を含む水を無含有の第２の混合物を得るステップ；及び
ｉｉｉ． 第２の混合物を固定床反応器で連続的水素化して、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを得るステップ
を備える。
【0022】
一実施形態においては、現在請求されている発明は、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを調製するプロセスに関し、そのプロセスは：
ｉ． ２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－オンを１，６－ヘキサメチレンジアミンでイミン化して、Ｎ，Ｎ’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を含む第１の混合物を得るステップ；
ｉａ．第１の混合物を脱水して、Ｎ，Ｎ’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を含む水無含有の第１の混合物を得るステップ：
ｉｉ． 第１の混合物のＮ，Ｎ’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を水素化して、５０～９９．５重量％のＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを含む水素化した第２の混合物を得るステップ；
ｉｉａ． 第２の混合物を脱水して、Ｎ，Ｎ’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を含む水を無含有の第２の混合物を得るステップ；及び
ｉｉｉ． 第２の混合物を固定床反応器で連続的水素化して、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを得るステップ
を備える。
ｉ． ２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－オンを１，６－ヘキサメチレンジアミンでイミン化して、Ｎ，Ｎ’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を含む第１の混合物を得るステップ；
ｉａ．第１の混合物を脱水して、Ｎ，Ｎ’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を含む水無含有の第１の混合物を得るステップ：
ｉｉ． 第１の混合物のＮ，Ｎ’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を水素化して、５０～９９．５重量％のＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを含む水素化した第２の混合物を得るステップ；
ｉｉａ． 第２の混合物を脱水して、Ｎ，Ｎ’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を含む水を無含有の第２の混合物を得るステップ；及び
ｉｉｉ． 第２の混合物を固定床反応器で連続的水素化して、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを得るステップ
を備える。
【0023】
Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを調製するプロセスが、以下の本明細書において詳細に検討される。
【0024】
ステップ（ｉ）：２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－オンを１，６－ヘキサメチレンジアミンでイミン化して、Ｎ，Ｎ’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を含む第１の混合物を得る
一実施形態においては、１，６－ヘキサメチレンジアミンの２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－オンに対するモル比が、０．１：５～５：０．１、好ましくは１：５～５：１、より好ましくは１：２～２：１、及び最も好ましくは１：１．９の範囲である。
一実施形態においては、１，６－ヘキサメチレンジアミンの２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－オンに対するモル比が、０．１：５～５：０．１、好ましくは１：５～５：１、より好ましくは１：２～２：１、及び最も好ましくは１：１．９の範囲である。
【0025】
一実施形態においては、ステップ（ｉ）の温度は、６０℃～２００℃、好ましくは８０℃～１８０℃の範囲である。
【0026】
一実施形態においては、ステップ（ｉ）で調製した第１の混合物は、３～７重量％の範囲の含水量を含む。
【0027】
ステップ（ｉａ）：第１の混合物を脱水して、Ｎ，Ｎ’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を含む水を無含有の第１の混合物を得る
用語「水を無含有」は、水の量が第１の混合物の総重量を基準として２重量％未満であることを意味する。
用語「水を無含有」は、水の量が第１の混合物の総重量を基準として２重量％未満であることを意味する。
【0028】
一実施形態においては、水は、３０ミリバール～６０ミリバール、好ましくは４０ミリバール～５０ミリバールの範囲の圧力で第１の混合物から除去される。
【0029】
一実施形態においては、水は、２重量％未満、好ましく１重量％未満の含水量を有するように第１の混合物から除去される。
【0030】
ステップ（ｉｉ）：第１の混合物のＮ，Ｎ’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を水素化して、５０～９９．５重量％のＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを含む水素化した第２の混合物を得る
一実施形態においては、ステップ（ｉｉ）での水素化は、バッチ技術を用いて実施される。
一実施形態においては、ステップ（ｉｉ）での水素化は、バッチ技術を用いて実施される。
【0031】
バッチ技術では、等温加熱式及び撹拌加圧オートクレーブ反応器などのバッチ式反応器が使用される。
【0032】
一実施形態においては、ステップ（ｉｉ）で、第２の混合物は、６５～９５重量％のＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを含む。
【0033】
一実施形態においては、ステップ（ｉｉ）での水素化は、少なくとも１つの第１の遷移金属を用いて触媒される。
【0034】
一実施形態においては、第１の遷移金属は、銅、ニッケル、コバルト、ルテニウム、プラチナ、及びパラジウムから選択され、好ましくはプラチナである。
【0035】
少なくとも１つの第１の遷移金属触媒は、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、二酸化チタン（ＴｉＯ２）、二酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、及び炭素の固体担体上に置かれる。
【0036】
固体担体上の第１の遷移金属触媒は、固体担体の総重量の０．１～１．０重量％の範囲の量、好ましくは固体担体の総重量の０．７重量％の量で存在する。
【0037】
更に、ステップ（ｉｉ）での水素化は、固体担体なしで、少なくとも１つの第１の遷移金属を用いて触媒することができる。
【0038】
一実施形態においては、水素化ステップ（ｉｉ）における水素の圧力は、１～２００バール、好ましくは５～１００バール、及びより好ましくは５～３５バールの範囲である。
【0039】
一実施形態においては、ステップ（ｉｉ）での水素化は、６０℃～２００℃の範囲、好ましくは８０℃～１８０℃の範囲の温度で実施される。
【0040】
一実施形態においては、水素化のステップ（ｉｉ）は、１時間～６時間の時間帯で実施される。
【0041】
ステップ（ｉｉａ）：第２の混合物を脱水して、Ｎ，Ｎ’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を含む水を無含有の第２の混合物を得る
本明細書における用語「水を無含有」は、第２の混合物の総重量を基準として２重量％未満の含水量を含意する。
本明細書における用語「水を無含有」は、第２の混合物の総重量を基準として２重量％未満の含水量を含意する。
【0042】
水は、６０℃～８０℃、好ましくは６０℃～７０℃の範囲の温度で、及び１００ミリバール～１２ミリバールの範囲の圧力で蒸留及びライトボイラーのプロセスにより、第２の混合物から除去される。
【0043】
水、アセトン、及び微量の２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－オンを含有する出発材料の３～２０重量％の質量は、除去される。
【0044】
第１の混合物及び第２の混合物から水を除去するステップ（ｉａ）及びステップ（ｉｉａ）は、それぞれ任意である。
【0045】
ステップ（ｉｉｉ）：第２の混合物を固定床反応器で連続的水素化して、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを得る
連続的水素化のステップは、予熱器を備えた断熱式管状反応器又は内部サーモウェルを備えた等温管状反応器を用い、両方とも固体担体上に固定床触媒を充填して実施される。
連続的水素化のステップは、予熱器を備えた断熱式管状反応器又は内部サーモウェルを備えた等温管状反応器を用い、両方とも固体担体上に固定床触媒を充填して実施される。
【0046】
一実施形態においては、ステップ（ｉａ）又はステップ（ｉｉａ）が回避される場合に第２の混合物は水を含む。
【0047】
別の実施形態においては、ステップ（ｉａ）又はステップ（ｉｉａ）を用いて水を除去するならば、第２の混合物は、水を含まない。用語「水を無含有」は、水が２重量％未満、好ましくは水が０．５重量％であることを含意する。
【0048】
一実施形態においては、ステップ（ｉｉｉ）の連続的水素化は、少なくとも１つの第２の遷移金属を用いて触媒される。
【0049】
一実施形態においては、少なくとも１つの第２の遷移金属が、銅、ニッケル、コバルト、ルテニウム、プラチナ、及びパラジウムから選択され、好ましくはパラジウムである。
【0050】
少なくとも１つの第２の遷移金属触媒は、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、二酸化チタン（ＴｉＯ２）、二酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、及び炭素の固体担体上に置かれる。
【0051】
固体担体上の第２の遷移金属触媒は、固体担体の総重量の０．１～１．０重量％の範囲の量、好ましくは固体担体の総重量の０．７重量％の量で存在する。
【0052】
更に、ステップ（ｉｉ）での水素化は、固体担体なしで、少なくとも１つの第２の遷移金属を用いて触媒することができる。
【0053】
一実施形態においては、水素化ステップ（ｉｉｉ）における水素の圧力は、１～２００バール、好ましくは５～１００バール、及びより好ましくは５～３５バールの範囲である。
【0054】
一実施形態においては、ステップ（ｉｉｉ）の温度は、６０℃～２００℃、好ましくは８０℃～１８０℃、及びより好ましくは１００℃～１５０℃の範囲である。
【0055】
一実施形態においては、ステップ（ｉｉｉ）における水素のＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンに対するモル比は、０．５：０．１～４０：５、好ましくは１：１～４０：１、及びより好ましくは１．５：１～３５：１の範囲である。
【0056】
一実施形態においては、第２の混合物は、０．５～２．０ｋｇＦｅｅｄ／Ｌｃａｔ＊ｈ、好ましくは０．５～１．６ｋｇＦｅｅｄ／Ｌｃａｔ＊ｈの範囲の液空間速度（ＬＨＳＶ）で反応器に供給される。
【0057】
ＬＨＳＶは液空間速度であり、１時間当たりの液体体積流量の触媒体積に対する比である。
【0058】
一実施形態においては、ステップ（ｉｉｉ）で得られるＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンは、９０～４００の範囲のＡＰＨＡ値を有する。
【0059】
このＡＰＨＡ値は、光又は熱への露出、不純物の存在、及び加工の悪影響による製品の劣化の視覚的指標である、微量の黄色みの出現を定量化する役割を果たす。
【0060】
ＡＰＨＡ値は、直径１．２ｃｍ、及び高さ８．２ｃｍの丸形キュベットを用いて比色計（Ｈａｃｈ Ｌａｎｇｅ社製のＬＩＣＯ６２０型）で国際標準法ＤＩＮ－ＩＳＯ６２７１を使用して求められる。溶融材料（５ｍＬ）をキュベットに充填し、そのＡＰＨＡ値を測定した。
【0061】
ポスト水素化処理は、中断したバッチ式水素化で生じる供給水溶液と水を無含有の供給液の両方に使用できる。
【0062】
中断されるバッチ式水素化は、水素化時間がＨＭＢＴＡＤへの完全な変換に必要である時間の５０％削減される不完全な水素化反応である。通常は、水素化反応は、水素化処理が遅くなり最終の水素圧力に達する前の時点で中断される。
【0063】
別の態様においては、現在請求されている発明は、既述のプロセスにより得られるＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンの使用であって、ポリ［［６－［（１，１，３，３－テトラメチルブチル）アミノ］－ｓ－トリアジン－２，４－ジイル］－［（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ］－ヘキサメチレン－［（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ］、１，６－ヘキサンジアミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジン－イル）、２，４，６－トリクロロ－１，３，５－トリアジン、Ｎ－ブチル－１－ブチルアミン、及びＮ－ブチル－２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジンアミンの反応材料、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）－Ｎ，Ｎ’－ジホルミルヘキサメチレンジアミン、及び１，６－ヘキサンジアミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジニル）－、２，４－ジクロロ－６－（４－モルホリニル）－１，３，５－トリアジンとのポリマーを調製するための使用に関する。
【0064】
現在請求されている発明は、以下の利点のうち１つ又は複数を提供する：
１．連続的ポスト水素化を伴うバッチ式水素化は、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを９４％までの高い選択率で生じる。
２．ポスト水素化は、変換が６５～９９．５％である、中断されたバッチ式水素化から生じる供給水溶液と水を無含有の供給液の両方に使用できる。
３．更に、バッチ式水素化と連続的ポスト水素化との組み合わせは、精製ステップ（例えば、蒸留）を省いて、技術的且つ経済的に実現可能なプロセス条件を可能にし、その下流製品の透過率（Ｔ％）の値を改善した安定なＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン４－イル）ヘキサン１，６ジアミンを生成する。
４．更に、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンの製造プロセスは、供給材料の融点が部分的にかなり低い（即ち、中断された水性のＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミン供給材料では室温以下）ため、チュープ反応器の目詰まりが回避され、簡単で安全な水素化処理を実施することができるので、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンの従来の合成と比較するとかなり実現可能である。
１．連続的ポスト水素化を伴うバッチ式水素化は、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを９４％までの高い選択率で生じる。
２．ポスト水素化は、変換が６５～９９．５％である、中断されたバッチ式水素化から生じる供給水溶液と水を無含有の供給液の両方に使用できる。
３．更に、バッチ式水素化と連続的ポスト水素化との組み合わせは、精製ステップ（例えば、蒸留）を省いて、技術的且つ経済的に実現可能なプロセス条件を可能にし、その下流製品の透過率（Ｔ％）の値を改善した安定なＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン４－イル）ヘキサン１，６ジアミンを生成する。
４．更に、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンの製造プロセスは、供給材料の融点が部分的にかなり低い（即ち、中断された水性のＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミン供給材料では室温以下）ため、チュープ反応器の目詰まりが回避され、簡単で安全な水素化処理を実施することができるので、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンの従来の合成と比較するとかなり実現可能である。
【0065】
以下において、現在請求されている発明の具体的な実施形態を説明する：
１．Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを調製するプロセスであって、そのプロセスは：
ｉ． ２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－オンを１，６－ヘキサメチレンジアミンでイミン化して、Ｎ，Ｎ’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を含む第１の混合物を得るステップ；
ｉｉ． 第１の混合物のＮ，Ｎ’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を水素化して、５０～９９．５重量％のＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを含む水素化した第２の混合物を得るステップ；及び
ｉｉｉ． 第２の混合物を固定床反応器で連続的水素化して、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを得るステップ
を備える。
２．ステップ（ｉ）で調製した第１の混合物が、３～７重量％の範囲の含水量を含む実施形態１に記載のプロセス。
３．２重量％未満の含水量を有するように、第１の混合物から水を除去するステップを更に備える実施形態１又は２に記載のプロセス。
４．１重量％未満の含水量を有するように、第１の混合物から水を除去するステップを更に備える実施形態１～３のいずれか１つに記載のプロセス。
５．２重量％未満の含水量を有するように、第２の混合物から水を除去するステップを更に備える実施形態１～４のいずれか１つに記載のプロセス。
６．１重量％未満の含水量を有するように、第２の混合物から水を除去するステップを更に備える実施形態１～５のいずれか１つに記載のプロセス。
７．ステップ（ｉｉ）での水素化が、バッチ技術を用いて実施される実施形態１～６のいずれか１つに記載のプロセス。
８．ステップ（ｉｉ）において、第２の混合物が、６５～９５重量％のＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを含む実施形態１～７のいずれか１つに記載のプロセス。
９．ステップ（ｉｉ）での水素化が、少なくとも１つの第１の遷移金属を用いて触媒される実施形態１～８のいずれか１つに記載のプロセス。
１０．第１の遷移金属が、銅、ニッケル、コバルト、ルテニウム、プラチナ、及びパラジウムから選択される実施形態９に記載のプロセス。
１１．第１の遷移金属がプラチナである実施形態８又は１０に記載のプロセス。
１２．ステップ（ｉｉｉ）の連続的水素化が、少なくとも１つの第２の遷移金属を用いて触媒される実施形態１～６のいずれか１つに記載のプロセス。
１３．第２の遷移金属が、銅、ニッケル、コバルト、ルテニウム、プラチナ、及びパラジウムから選択される実施形態１２に記載のプロセス。
１４．遷移金属が、パラジウムである実施形態１２又は１３に記載のプロセス。
１５．水素化ステップ（ｉｉ）及びステップ（ｉｉｉ）における水素の圧力が、１～２００バールの範囲である実施形態１～１４のいずれか１つに記載のプロセス。
１６．水素化ステップ（ｉｉ）及びステップ（ｉｉｉ）における水素の圧力が、５～１００バールの範囲である実施形態１～１５のいずれか１つに記載のプロセス。
１７．水素化ステップ（ｉｉ）及びステップ（ｉｉｉ）における水素の圧力が、５～３５バールの範囲である実施形態１～１６のいずれか１つに記載のプロセス。
１８．ステップ（ｉ）～ステップ（ｉｉｉ）の温度が、６０～２００℃の範囲である実施形態１～１７のいずれか１つに記載のプロセス。
１９．ステップ（ｉ）～ステップ（ｉｉｉ）の温度が、８０～１８０℃の範囲である実施形態１～１８のいずれか１つに記載のプロセス。
２０．ステップ（ｉｉｉ）で得られるＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンが、９０～４００の範囲のＡＰＨＡ値を有する実施形態１～１９のいずれか１つに記載のプロセス。
２１．１，６－ヘキサメチレンジアミンの２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－オンに対するモル比が、０．１：５～５：０．１の範囲である実施形態１～２０のいずれか１つに記載のプロセス。
２２．１，６－ヘキサメチレンジアミンの２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－オンに対するモル比が、１：５～５：１の範囲である実施形態１～２１のいずれか１つに記載のプロセス。
２３．１，６－ヘキサメチレンジアミンの２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－オンに対するモル比が、１：２～２：１の範囲である実施形態１～２２のいずれか１つに記載のプロセス。
２４．１，６－ヘキサメチレンジアミンの２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－オンに対するモル比が、１：１．９８の範囲である実施形態１～２３のいずれか１つに記載のプロセス。
２５．ステップ（ｉｉｉ）において水素のＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンに対するモル比が、０．５：０．１～４０：５の範囲である実施形態１～２４のいずれか１つに記載のプロセス。
２６．ステップ（ｉｉｉ）において水素のＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンに対するモル比が、１：１～４０：１の範囲である実施形態１～２５のいずれか１つに記載のプロセス。
２７．ステップ（ｉｉｉ）において水素のＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンに対するモル比が、１．５：１～３５：１の範囲である実施形態１～２６のいずれか１つに記載のプロセス。
２８．実施形態１～２７のいずれか１つに記載のプロセスにより得られたＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンの使用であって、ポリ［［６－［（１，１，３，３－テトラメチルブチル）アミノ］－ｓ－トリアジン－２，４－ジイル］－［（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ］－ヘキサメチレン－［（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ］、１，６－ヘキサンジアミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジン－イル）、２，４，６－トリクロロ－１，３，５－トリアジン、Ｎ－ブチル－１－ブチルアミン、及びＮ－ブチル－２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジンアミンの反応材料、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）－Ｎ，Ｎ’－ジホルミルヘキサメチレンジアミン、及び１，６－ヘキサンジアミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジニル）－、２，４－ジクロロ－６－（４－モルホリニル）－１，３，５－トリアジンとのポリマーを調製するための使用。
１．Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを調製するプロセスであって、そのプロセスは：
ｉ． ２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－オンを１，６－ヘキサメチレンジアミンでイミン化して、Ｎ，Ｎ’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を含む第１の混合物を得るステップ；
ｉｉ． 第１の混合物のＮ，Ｎ’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を水素化して、５０～９９．５重量％のＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを含む水素化した第２の混合物を得るステップ；及び
ｉｉｉ． 第２の混合物を固定床反応器で連続的水素化して、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを得るステップ
を備える。
２．ステップ（ｉ）で調製した第１の混合物が、３～７重量％の範囲の含水量を含む実施形態１に記載のプロセス。
３．２重量％未満の含水量を有するように、第１の混合物から水を除去するステップを更に備える実施形態１又は２に記載のプロセス。
４．１重量％未満の含水量を有するように、第１の混合物から水を除去するステップを更に備える実施形態１～３のいずれか１つに記載のプロセス。
５．２重量％未満の含水量を有するように、第２の混合物から水を除去するステップを更に備える実施形態１～４のいずれか１つに記載のプロセス。
６．１重量％未満の含水量を有するように、第２の混合物から水を除去するステップを更に備える実施形態１～５のいずれか１つに記載のプロセス。
７．ステップ（ｉｉ）での水素化が、バッチ技術を用いて実施される実施形態１～６のいずれか１つに記載のプロセス。
８．ステップ（ｉｉ）において、第２の混合物が、６５～９５重量％のＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを含む実施形態１～７のいずれか１つに記載のプロセス。
９．ステップ（ｉｉ）での水素化が、少なくとも１つの第１の遷移金属を用いて触媒される実施形態１～８のいずれか１つに記載のプロセス。
１０．第１の遷移金属が、銅、ニッケル、コバルト、ルテニウム、プラチナ、及びパラジウムから選択される実施形態９に記載のプロセス。
１１．第１の遷移金属がプラチナである実施形態８又は１０に記載のプロセス。
１２．ステップ（ｉｉｉ）の連続的水素化が、少なくとも１つの第２の遷移金属を用いて触媒される実施形態１～６のいずれか１つに記載のプロセス。
１３．第２の遷移金属が、銅、ニッケル、コバルト、ルテニウム、プラチナ、及びパラジウムから選択される実施形態１２に記載のプロセス。
１４．遷移金属が、パラジウムである実施形態１２又は１３に記載のプロセス。
１５．水素化ステップ（ｉｉ）及びステップ（ｉｉｉ）における水素の圧力が、１～２００バールの範囲である実施形態１～１４のいずれか１つに記載のプロセス。
１６．水素化ステップ（ｉｉ）及びステップ（ｉｉｉ）における水素の圧力が、５～１００バールの範囲である実施形態１～１５のいずれか１つに記載のプロセス。
１７．水素化ステップ（ｉｉ）及びステップ（ｉｉｉ）における水素の圧力が、５～３５バールの範囲である実施形態１～１６のいずれか１つに記載のプロセス。
１８．ステップ（ｉ）～ステップ（ｉｉｉ）の温度が、６０～２００℃の範囲である実施形態１～１７のいずれか１つに記載のプロセス。
１９．ステップ（ｉ）～ステップ（ｉｉｉ）の温度が、８０～１８０℃の範囲である実施形態１～１８のいずれか１つに記載のプロセス。
２０．ステップ（ｉｉｉ）で得られるＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンが、９０～４００の範囲のＡＰＨＡ値を有する実施形態１～１９のいずれか１つに記載のプロセス。
２１．１，６－ヘキサメチレンジアミンの２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－オンに対するモル比が、０．１：５～５：０．１の範囲である実施形態１～２０のいずれか１つに記載のプロセス。
２２．１，６－ヘキサメチレンジアミンの２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－オンに対するモル比が、１：５～５：１の範囲である実施形態１～２１のいずれか１つに記載のプロセス。
２３．１，６－ヘキサメチレンジアミンの２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－オンに対するモル比が、１：２～２：１の範囲である実施形態１～２２のいずれか１つに記載のプロセス。
２４．１，６－ヘキサメチレンジアミンの２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－オンに対するモル比が、１：１．９８の範囲である実施形態１～２３のいずれか１つに記載のプロセス。
２５．ステップ（ｉｉｉ）において水素のＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンに対するモル比が、０．５：０．１～４０：５の範囲である実施形態１～２４のいずれか１つに記載のプロセス。
２６．ステップ（ｉｉｉ）において水素のＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンに対するモル比が、１：１～４０：１の範囲である実施形態１～２５のいずれか１つに記載のプロセス。
２７．ステップ（ｉｉｉ）において水素のＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンに対するモル比が、１．５：１～３５：１の範囲である実施形態１～２６のいずれか１つに記載のプロセス。
２８．実施形態１～２７のいずれか１つに記載のプロセスにより得られたＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンの使用であって、ポリ［［６－［（１，１，３，３－テトラメチルブチル）アミノ］－ｓ－トリアジン－２，４－ジイル］－［（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ］－ヘキサメチレン－［（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ］、１，６－ヘキサンジアミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジン－イル）、２，４，６－トリクロロ－１，３，５－トリアジン、Ｎ－ブチル－１－ブチルアミン、及びＮ－ブチル－２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジンアミンの反応材料、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）－Ｎ，Ｎ’－ジホルミルヘキサメチレンジアミン、及び１，６－ヘキサンジアミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジニル）－、２，４－ジクロロ－６－（４－モルホリニル）－１，３，５－トリアジンとのポリマーを調製するための使用。
【0066】
以下の実施例は、本発明をより詳細に例証する。全ての百分率及び部は、特に明記しない限り、重量によるものである。
【実施例】
【0067】
略語
２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－オンを「ＴＡＡ」と略記する；
Ｎ，Ｎ’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を「ＨＭＢＴＡＤジイミン」と略記する；
Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを「ＨＭＢＴＡＤアミン又はＨＭＢＴＡＤ」と略記する；
Ｎ－（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを「ＨＭＴＡＤ」と略記する；
Ｎ－イソプロピル－Ｎ’－（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを「ＩＰＨＭＴＡＤ」と略記する；
１，６－ヘキサメチレンジアミンを「ＨＭＤＡ」と略記する；及び
ＬＨＳＶは、液空間速度を略記したものであり、ｋｇＦｅｅｄ／Ｌｃａｔ＊ｈで示される。
２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－オンを「ＴＡＡ」と略記する；
Ｎ，Ｎ’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イミン）を「ＨＭＢＴＡＤジイミン」と略記する；
Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを「ＨＭＢＴＡＤアミン又はＨＭＢＴＡＤ」と略記する；
Ｎ－（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを「ＨＭＴＡＤ」と略記する；
Ｎ－イソプロピル－Ｎ’－（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンを「ＩＰＨＭＴＡＤ」と略記する；
１，６－ヘキサメチレンジアミンを「ＨＭＤＡ」と略記する；及び
ＬＨＳＶは、液空間速度を略記したものであり、ｋｇＦｅｅｄ／Ｌｃａｔ＊ｈで示される。
【0068】
分析方法
選択率をＧＣ面積％として求め、ＭＳにより確認し、更に１Ｈ－又は１３Ｃ－ＮＭＲ解析からも取得した。
選択率をＧＣ面積％として求め、ＭＳにより確認し、更に１Ｈ－又は１３Ｃ－ＮＭＲ解析からも取得した。
【0069】
実施例１：本発明のプロセスを用いるＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミン（ＨＭＢＴＡＤ）の調製
ステップ（ｉ）及び（ｉｉ）：ケチミン生成及び中断されるバッチ式水素化
１，６－ヘキサンジアミン（１５７ｇ、１．３５モル、１．０当量）を、６０℃で撹拌した２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジン（４２３ｇ、２．６８モル、１．９８当量）に１０分以内に添加した。次に溶液を８０℃まで加熱し、その温度で反応の水（５５～７５重量％）を減圧（５０ミリバール）で除去した。次に、ケチミン溶液をオートクレーブバッチ反応器に移し、Ｐｔ／Ｃ触媒（１．１ｇ）を加えた。水素化は、８０℃で実施し、５～３０バールの最大圧力の水素ランプで、最大１０５℃まで上昇させた。ＧＣ又は１Ｈ－ＮＭＲ又は水素の消費によりモニターしながら、６５～９９．５％の変換に到達するまで反応時間を１～６時間維持した。次に、熱時濾過により触媒を生成物から単離した。
ステップ（ｉ）及び（ｉｉ）：ケチミン生成及び中断されるバッチ式水素化
【化1】
【0070】
解析的分析：
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝３．３１（ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ，２Ｈ），２．７７－２．７４（ｍ，１Ｈ），２．６３－２．５７（ｍ，４Ｈ），２．２８－２．１８（ｍ，６Ｈ），１．８３－１．８０（ｍｃ，２Ｈ），１．７５－１．０１（ｍ，２８Ｈ），０．８７（ｍｃ，３Ｈ）ｐｐｍ．
１３Ｃ－ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１６９．９，５４．０，５３．９，５１．８，５０．９，５０．７，４９．９，４６．７，４６．２，４１．７，３５．１，３１．７，３１．５，３１．０，３０．５，２８．６，２７．６，２７．４ ｐｐｍ
ＧＣ－分析（３０ｍ×０．３２ｍｍ×１．５μｍのＲＴＸ５アミンカラム；注入温度１２０℃で、その後１０℃／分で２８０℃まで加熱して、この温度で４４分保持した）：Ｒｔ＝７．２０（ＨＭＤＡ）、７．７５（ＴＡＡ）、１６．６５（ＨＭＴＡＤ）、１８．２７（ＩＰＨＭＴＡＤ）及び３５．０６（ＨＭＢＴＡＤ）ミン（ｍｉｎ）、ＭＳにより確認
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝３．３１（ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ，２Ｈ），２．７７－２．７４（ｍ，１Ｈ），２．６３－２．５７（ｍ，４Ｈ），２．２８－２．１８（ｍ，６Ｈ），１．８３－１．８０（ｍｃ，２Ｈ），１．７５－１．０１（ｍ，２８Ｈ），０．８７（ｍｃ，３Ｈ）ｐｐｍ．
１３Ｃ－ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１６９．９，５４．０，５３．９，５１．８，５０．９，５０．７，４９．９，４６．７，４６．２，４１．７，３５．１，３１．７，３１．５，３１．０，３０．５，２８．６，２７．６，２７．４ ｐｐｍ
ＧＣ－分析（３０ｍ×０．３２ｍｍ×１．５μｍのＲＴＸ５アミンカラム；注入温度１２０℃で、その後１０℃／分で２８０℃まで加熱して、この温度で４４分保持した）：Ｒｔ＝７．２０（ＨＭＤＡ）、７．７５（ＴＡＡ）、１６．６５（ＨＭＴＡＤ）、１８．２７（ＩＰＨＭＴＡＤ）及び３５．０６（ＨＭＢＴＡＤ）ミン（ｍｉｎ）、ＭＳにより確認
【0071】
ポスト水素化のための無水のＨＭＢＴＡＤ供給材料の調製
ＨＭＢＴＡＤアミンを６０％の量で含有する上述の中断されたバッチ式水素化（ステップ（ｉ）及び（ｉｉ））からの暗黄色材料を、蒸留（３０理論段階の１００×３ｃｍのＳｕｌｚｅｒ ＤＸカラム）を介して、６０～７０℃で、圧力を１００ミリバールから１２ミリバールに上昇させながら、水及びライトボイラーから除去した。水、アセトン及び微量のＴＡＡを含有する出発材料の質量の３～２０重量％を除去し、更なる反応に使用する淡黄色の残留物を残した。
ＨＭＢＴＡＤアミンを６０％の量で含有する上述の中断されたバッチ式水素化（ステップ（ｉ）及び（ｉｉ））からの暗黄色材料を、蒸留（３０理論段階の１００×３ｃｍのＳｕｌｚｅｒ ＤＸカラム）を介して、６０～７０℃で、圧力を１００ミリバールから１２ミリバールに上昇させながら、水及びライトボイラーから除去した。水、アセトン及び微量のＴＡＡを含有する出発材料の質量の３～２０重量％を除去し、更なる反応に使用する淡黄色の残留物を残した。
【0072】
ステップ（ｉｉｉ）：水性及び無水ＨＭＢＴＡＤ供給材料による中断したバッチのポスト水素化
異なるＨＭＢＴＡＤアミン供給材料及び異なる遷移金属触媒（固体担体上の固定床）を用いて、異なる圧力及び特定の温度範囲内で、ポスト水素化を実施した。
異なるＨＭＢＴＡＤアミン供給材料及び異なる遷移金属触媒（固体担体上の固定床）を用いて、異なる圧力及び特定の温度範囲内で、ポスト水素化を実施した。
【0073】
ステップ（ｉｉｉａ）：水性ＨＭＢＴＡＤ供給材料及び［Ｐｄ］触媒でのポスト水素化
内部サーモウェルを備えたモノライナー反応器において、水性ＨＭＢＴＡＤアミン供給材料（１２重量％ＨＭＢＴＡＤアミン及び５重量％Ｈ２Ｏを含む）を水素ガスと共に、活性金属としてＰｄ（通常は０．１～１．０、本明細書においては０．７％）からなる固体担体（例えば：Ａｌ２Ｏ３など）上の固定床触媒（１１４ｇ）上に連続的に導いた。圧力は、３０バールで、温度は、１００℃～１８０℃の間で変わり、好ましくは１５０℃であった。ＨＭＢＴＡＤアミン供給材料を０．５～１．０ｋｇＦｅｅｄ／Ｌｃａｔ＊ｈのＬＨＳＶで反応器に供給した。反応器の後で粗生成物を回収し、純液体として得た。続いて、混合物中の残留揮発性物質を１８０℃及び１０ミリバールで除去して淡黄色の液体を得て、室温で静置すると結晶化してオフホワイトの固体生成物となり、ＡＰＨＡ値は２６２（ＤＩＮ－ＩＳＯ６２７１）であった。生成物混合物中のＨＭＢＴＡＤ及び副成分の選択性は、ＧＣで分析され、面積％で示され、更に条件に依存する。生成物混合物中のＨＭＢＴＡＤ及び副成分の量を表１、２、３及び４に示す。
内部サーモウェルを備えたモノライナー反応器において、水性ＨＭＢＴＡＤアミン供給材料（１２重量％ＨＭＢＴＡＤアミン及び５重量％Ｈ２Ｏを含む）を水素ガスと共に、活性金属としてＰｄ（通常は０．１～１．０、本明細書においては０．７％）からなる固体担体（例えば：Ａｌ２Ｏ３など）上の固定床触媒（１１４ｇ）上に連続的に導いた。圧力は、３０バールで、温度は、１００℃～１８０℃の間で変わり、好ましくは１５０℃であった。ＨＭＢＴＡＤアミン供給材料を０．５～１．０ｋｇＦｅｅｄ／Ｌｃａｔ＊ｈのＬＨＳＶで反応器に供給した。反応器の後で粗生成物を回収し、純液体として得た。続いて、混合物中の残留揮発性物質を１８０℃及び１０ミリバールで除去して淡黄色の液体を得て、室温で静置すると結晶化してオフホワイトの固体生成物となり、ＡＰＨＡ値は２６２（ＤＩＮ－ＩＳＯ６２７１）であった。生成物混合物中のＨＭＢＴＡＤ及び副成分の選択性は、ＧＣで分析され、面積％で示され、更に条件に依存する。生成物混合物中のＨＭＢＴＡＤ及び副成分の量を表１、２、３及び４に示す。
【0074】
【表1】
【0075】
【表2】
【0076】
【表3】
【0077】
【表4】
【0078】
ステップ（ｉｉｉｂ）：無水ＨＭＢＴＡＤ供給材料及び［Ｐｄ］触媒でのポスト水素化
内部サーモウェルを備えたモノライナー反応器において、無水のＨＭＢＴＡＤアミン供給材料（６８重量％のＨＭＢＴＡＤアミン及び０．５重量％のＨ２Ｏを含む）を水素ガスと共に、活性金属としてＰｄ（通常は０．１～１．０、本明細書においては０．７％）からなる固体担体（例えば、Ａｌ２Ｏ３など）上の固定床触媒（１１５ｇ）上に連続的に導いた。圧力は、１０～８０バールの範囲、好ましくは３０バールで、温度は、１００℃～１８０℃の間で変わり、好ましくは１３０℃であった。ＨＭＢＴＡＤアミン供給材料を１．０～１．６ｋｇＦｅｅｄ／Ｌｃａｔ＊ｈのＬＨＳＶで反応器に供給した。反応器の後で粗生成物を回収し、純液体として得た。続いて、混合物中の残留揮発性物質を１８０℃及び１０ミリバールで除去して淡黄色の液体を得て、室温で静置すると結晶化してＡＰＨＡ値１２６（ＤＩＮ－ＩＳＯ６２７１）を有するオフホワイトの固体生成物となった。生成物混合物中のＨＭＢＴＡＤ及び副成分の選択性は、ＧＣで分析され、面積％で示され、更に条件に依存する。生成物混合物中のＨＭＢＴＡＤ及び副成分の量を表５、６、７及び８に示す。
内部サーモウェルを備えたモノライナー反応器において、無水のＨＭＢＴＡＤアミン供給材料（６８重量％のＨＭＢＴＡＤアミン及び０．５重量％のＨ２Ｏを含む）を水素ガスと共に、活性金属としてＰｄ（通常は０．１～１．０、本明細書においては０．７％）からなる固体担体（例えば、Ａｌ２Ｏ３など）上の固定床触媒（１１５ｇ）上に連続的に導いた。圧力は、１０～８０バールの範囲、好ましくは３０バールで、温度は、１００℃～１８０℃の間で変わり、好ましくは１３０℃であった。ＨＭＢＴＡＤアミン供給材料を１．０～１．６ｋｇＦｅｅｄ／Ｌｃａｔ＊ｈのＬＨＳＶで反応器に供給した。反応器の後で粗生成物を回収し、純液体として得た。続いて、混合物中の残留揮発性物質を１８０℃及び１０ミリバールで除去して淡黄色の液体を得て、室温で静置すると結晶化してＡＰＨＡ値１２６（ＤＩＮ－ＩＳＯ６２７１）を有するオフホワイトの固体生成物となった。生成物混合物中のＨＭＢＴＡＤ及び副成分の選択性は、ＧＣで分析され、面積％で示され、更に条件に依存する。生成物混合物中のＨＭＢＴＡＤ及び副成分の量を表５、６、７及び８に示す。
【0079】
【表5】
【0080】
【表6】
【0081】
【表7】
【0082】
【表8】
【0083】
ステップ（ｉｉｉｃ）：無水ＨＭＢＴＡＤ供給材料及び他の遷移金属触媒でのポスト水素化
内部サーモウェルを備えた管型反応器において、無水ＨＭＢＴＡＤアミン供給材料（６８重量％のＨＭＢＴＡＤアミン及び０．５重量％のＨ２Ｏを含む）を水素ガスと共に、活性金属としてＣｏ、Ｎｉ及びＣｕからなる固体担体（Ａｌ２Ｏ３）上の固定床触媒（５００ｍＬ）上に連続的に導いた。圧力は、３０バールで、温度は、１３０℃～１５０℃の間で変わる。ＨＭＢＴＡＤアミン供給材料を０．５５～０．８ｋｇＦｅｅｄ／Ｌｃａｔ＊ｈのＬＨＳＶで反応器に供給した。反応器の後で粗生成物を回収し、純液体として得た。続いて、混合物中の残留揮発性物質を１８０℃及び１０ミリバールで除去して淡黄色の液体を得て、ＡＰＨＡ値（ＤＩＮ－ＩＳＯ６２７１）１８１及び３７９を有するオフホワイトの固体生成物を得た。生成物混合物中のＨＭＢＴＡＤ及び副成分の選択性は、ＧＣで分析され、面積％で示され、更に条件に依存する。ＨＭＢＴＡＤアミン供給材料が活性金属種としてＡｌ２Ｏ３担体上に［Ｎｉ］及び［Ｃｏ］を含有する固定床触媒上を通過した場合の生成物混合物中のＨＭＢＴＡＤ及び副成分の量を表９に示す。
内部サーモウェルを備えた管型反応器において、無水ＨＭＢＴＡＤアミン供給材料（６８重量％のＨＭＢＴＡＤアミン及び０．５重量％のＨ２Ｏを含む）を水素ガスと共に、活性金属としてＣｏ、Ｎｉ及びＣｕからなる固体担体（Ａｌ２Ｏ３）上の固定床触媒（５００ｍＬ）上に連続的に導いた。圧力は、３０バールで、温度は、１３０℃～１５０℃の間で変わる。ＨＭＢＴＡＤアミン供給材料を０．５５～０．８ｋｇＦｅｅｄ／Ｌｃａｔ＊ｈのＬＨＳＶで反応器に供給した。反応器の後で粗生成物を回収し、純液体として得た。続いて、混合物中の残留揮発性物質を１８０℃及び１０ミリバールで除去して淡黄色の液体を得て、ＡＰＨＡ値（ＤＩＮ－ＩＳＯ６２７１）１８１及び３７９を有するオフホワイトの固体生成物を得た。生成物混合物中のＨＭＢＴＡＤ及び副成分の選択性は、ＧＣで分析され、面積％で示され、更に条件に依存する。ＨＭＢＴＡＤアミン供給材料が活性金属種としてＡｌ２Ｏ３担体上に［Ｎｉ］及び［Ｃｏ］を含有する固定床触媒上を通過した場合の生成物混合物中のＨＭＢＴＡＤ及び副成分の量を表９に示す。
【0084】
【表9】
【0085】
【表10】
【0086】
ＨＭＢＴＡＤアミン供給材料が活性金属種としてＡｌ２Ｏ３担体上に［Ｃｕ］を含有する固定床触媒上を通過した場合の生成物混合物中のＨＭＢＴＡＤ及び副成分の量を表１１に示す。
【0087】
【表11】
【0088】
【表12】
【0089】
ステップ（ｉｉｉｄ）：［Ｐｄ］触媒を用い、欧州特許第０５０８９４０号明細書により調製した蒸留ＨＭＢＴＡＤのポスト水素化
内部サーモウェルを備えた管型反応器において、欧州特許第０５０８９４０号明細書により調製した、事前蒸留したＨＭＢＴＡＤアミン（９１重量％のＨＭＢＴＡＤアミン及び０．１重量％未満のＨ２Ｏを含む）を１５０ＮＬ／時（Ｈ２のＨＭＢＴＡＤに対するモル比１７：１）の水素ガスと共に、活性金属としてＰｄ（０．３％）及びＡｇ（０．１％）からなる固体担体（Ａｌ２Ｏ３）上の固定床触媒（５００ｍＬ）上に連続的に導いた。圧力は３０バールで、温度は、１１５℃の間であった。ＨＭＢＴＡＤアミン供給材料を０．３－０．４ｋｇＦｅｅｄ／Ｌｃａｔ＊ｈのＬＨＳＶで反応器に供給した。反応器の後で粗生成物を回収して無色の純液体として取得し、これを室温で静置して、ＧＣ面積％９３超のＨＭＢＴＡＤ、ＧＣ面積％１のＨＭＴＡＤ、及びＧＣ面積％４のＩＰＨＭＴＡＤを含むＡＰＨＡ値１５３（ＤＩＮ－ＩＳＯ６２７１）を有するオフホワイトの固体生成物に結晶化した。
内部サーモウェルを備えた管型反応器において、欧州特許第０５０８９４０号明細書により調製した、事前蒸留したＨＭＢＴＡＤアミン（９１重量％のＨＭＢＴＡＤアミン及び０．１重量％未満のＨ２Ｏを含む）を１５０ＮＬ／時（Ｈ２のＨＭＢＴＡＤに対するモル比１７：１）の水素ガスと共に、活性金属としてＰｄ（０．３％）及びＡｇ（０．１％）からなる固体担体（Ａｌ２Ｏ３）上の固定床触媒（５００ｍＬ）上に連続的に導いた。圧力は３０バールで、温度は、１１５℃の間であった。ＨＭＢＴＡＤアミン供給材料を０．３－０．４ｋｇＦｅｅｄ／Ｌｃａｔ＊ｈのＬＨＳＶで反応器に供給した。反応器の後で粗生成物を回収して無色の純液体として取得し、これを室温で静置して、ＧＣ面積％９３超のＨＭＢＴＡＤ、ＧＣ面積％１のＨＭＴＡＤ、及びＧＣ面積％４のＩＰＨＭＴＡＤを含むＡＰＨＡ値１５３（ＤＩＮ－ＩＳＯ６２７１）を有するオフホワイトの固体生成物に結晶化した。
【0090】
比較例１：ＴＡＡ及びＨＭＤＡから出発する完全な連続的水素化処理（欧州特許第０８５７７１９号明細書及び米国特許５９４５５３６号明細書による）並びに続いての蒸留によるＨＭＢＴＡＤの調製
欧州特許第０８５７７１９号明細書及び米国特許５９４５５３６号明細書に記載されるように、ＴＡＡ及びＨＭＤＡ（５０重量％のＴＨＦ溶液として）を、内部サーモウェルを備えた管型反応器における１００ＮＬ／時の水素ガスと共に、２：１のモル比で、活性金属としてＰｄ（０．７％）からなる固体担体（Ａｌ２Ｏ３）上の固定床触媒（５００ｍＬ）上に連続的に導いた。圧力は１８０バールで、温度は、１１５℃であった。ＨＭＢＴＡＤアミン供給材料を０．３～０．４ｋｇＦｅｅｄ／Ｌｃａｔ＊ｈのＬＨＳＶで反応器に供給した。反応器の後で粗生成物を回収して濃橙色の液体として取得し、これを室温で静置して、ＧＣ面積％８７．８のＨＭＢＴＡＤ、ＧＣ面積％３．２のＨＭＴＡＤ、及びＧＣ面積％０．４のＩＰＨＭＴＡＤを含むＡＰＨＡ値７０３（ＤＩＮ－ＩＳＯ６２７１）を有する橙色固体生成物に結晶化した。粗生成物を、水の除去のために９０℃で開始し圧力を１００ミリバールから６ミリバールに傾斜させながら、温度を２４０℃まで上昇させた分別蒸留（２５～３０理論段階を有する１００×４．２ｃｍのＳｕｌｚｅｒ ＤＸカラム）により粗生成物を精製した。ＡＰＨＡ値１９０（ＤＩＮ－ＩＳＯ６２７１）を有する標的分子ＨＭＢＴＡＤアミン（６ミリバールでの沸点２２５℃）を８４％の収量において９９％超の純度で得た。
欧州特許第０８５７７１９号明細書及び米国特許５９４５５３６号明細書に記載されるように、ＴＡＡ及びＨＭＤＡ（５０重量％のＴＨＦ溶液として）を、内部サーモウェルを備えた管型反応器における１００ＮＬ／時の水素ガスと共に、２：１のモル比で、活性金属としてＰｄ（０．７％）からなる固体担体（Ａｌ２Ｏ３）上の固定床触媒（５００ｍＬ）上に連続的に導いた。圧力は１８０バールで、温度は、１１５℃であった。ＨＭＢＴＡＤアミン供給材料を０．３～０．４ｋｇＦｅｅｄ／Ｌｃａｔ＊ｈのＬＨＳＶで反応器に供給した。反応器の後で粗生成物を回収して濃橙色の液体として取得し、これを室温で静置して、ＧＣ面積％８７．８のＨＭＢＴＡＤ、ＧＣ面積％３．２のＨＭＴＡＤ、及びＧＣ面積％０．４のＩＰＨＭＴＡＤを含むＡＰＨＡ値７０３（ＤＩＮ－ＩＳＯ６２７１）を有する橙色固体生成物に結晶化した。粗生成物を、水の除去のために９０℃で開始し圧力を１００ミリバールから６ミリバールに傾斜させながら、温度を２４０℃まで上昇させた分別蒸留（２５～３０理論段階を有する１００×４．２ｃｍのＳｕｌｚｅｒ ＤＸカラム）により粗生成物を精製した。ＡＰＨＡ値１９０（ＤＩＮ－ＩＳＯ６２７１）を有する標的分子ＨＭＢＴＡＤアミン（６ミリバールでの沸点２２５℃）を８４％の収量において９９％超の純度で得た。
【0091】
比較例２：蒸留しないで、バッチ式水素化（欧州特許第０５０８９４０号明細書）によるＨＭＢＴＡＤの調製
欧州特許第０５０８９４０号明細書によると、１，６－ヘキサンジアミン（１５７ｇ、１．３５モル、１．０当量）を、撹拌した２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジン（４２３ｇ、２．６８モル、１．９８当量）に６０℃で１０分以内に添加した。次に溶液を８０℃まで加熱して、その温度で反応水（５５～７５重量％）を減圧（５０ミリバール）で除去した。次に、ケチミン溶液をオートクレーブバッチ反応器に移し、Ｐｔ／Ｃ触媒（１．１ｇ）を加えた。水素化は、８０℃で実施し、５～３０バールの最大圧力の水素ランプで、最大１０５℃まで上昇させた。ＧＣ又は１Ｈ－ＮＭＲ又は水素の消費によりモニターして、９９．５％の変換に達するまで反応時間を１２時間維持した。次に、熱時濾過により触媒を生成物から単離した。続いて、混合物中の残留揮発性物質を１８０℃及び１０ミリバールで除去して淡黄色の液体を得て、室温で静置すると結晶化してＡＰＨＡ値２２０（ＤＩＮ－ＩＳＯ６２７１）を有するオフホワイトの固体生成物となった。
欧州特許第０５０８９４０号明細書によると、１，６－ヘキサンジアミン（１５７ｇ、１．３５モル、１．０当量）を、撹拌した２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジン（４２３ｇ、２．６８モル、１．９８当量）に６０℃で１０分以内に添加した。次に溶液を８０℃まで加熱して、その温度で反応水（５５～７５重量％）を減圧（５０ミリバール）で除去した。次に、ケチミン溶液をオートクレーブバッチ反応器に移し、Ｐｔ／Ｃ触媒（１．１ｇ）を加えた。水素化は、８０℃で実施し、５～３０バールの最大圧力の水素ランプで、最大１０５℃まで上昇させた。ＧＣ又は１Ｈ－ＮＭＲ又は水素の消費によりモニターして、９９．５％の変換に達するまで反応時間を１２時間維持した。次に、熱時濾過により触媒を生成物から単離した。続いて、混合物中の残留揮発性物質を１８０℃及び１０ミリバールで除去して淡黄色の液体を得て、室温で静置すると結晶化してＡＰＨＡ値２２０（ＤＩＮ－ＩＳＯ６２７１）を有するオフホワイトの固体生成物となった。
【0092】
温度上昇でのＨＭＢＴＡＤを保管する前後の品質と色のアッセイ
ＤＩＮ－ＩＳＯ６２７１に従って、生成物の色指数をキュベット内のＨａｃｈ Ｌｉｃｏ６２０装置によりそのままで溶解せずに測定した。生成物を６０℃、窒素下で数日保管し、特定の期間内に色指数を検出した。結果を以下の表１３にそれらのＡＰＨＡ値で示す：
ＤＩＮ－ＩＳＯ６２７１に従って、生成物の色指数をキュベット内のＨａｃｈ Ｌｉｃｏ６２０装置によりそのままで溶解せずに測定した。生成物を６０℃、窒素下で数日保管し、特定の期間内に色指数を検出した。結果を以下の表１３にそれらのＡＰＨＡ値で示す：
【0093】
【表13】
【0094】
表１３から、欧州特許第０５０８９４０号明細書のバッチプロセスに従って調製したＨＭＢＴＡＤが長期間安定ではなく、僅か２０日以内に非常に急速に暗くなる傾向があることは明らかであるが、本発明のプロセスに従って調製したＨＭＢＴＡＤは、同等の色指数又はかなり良好な色指数で得られ、時間の経過と共に僅かに劣化しただけである。昇温で長期間にもかかわらず、本出願のＨＭＢＴＡＤは、水性供給材料で開始した場合、及び非水性供給材料で開始した場合、その品質が非常に安定している。
【0095】
実施例２：ポリ［［６－［（１，１，３，３－テトラメチルブチル）アミノ］－ｓ－トリアジン－２，４－ジイル］－［（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ］－ヘキサメチレン－［（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ］の調製及びその透過率（Ｔ％）のアッセイ
１リットルのガラス反応器において、ＨＭＢＴＡＤアミン（１８６ｇ、０．４７モル、１．１当量）を８０℃で溶融した。ＮａＯＨ（Ｈ２Ｏ中で３０％、６７ｇ、０．５０モル、１．１５当量）を３０ｇの水と共に加えた。ＣＮ１０８６２３５６６号明細書又は米国特許第６４０７２５４号明細書により調製しキシレンに溶解した２，４－ジクロロ－６－（１，１，３，３－テトラメチルブチルアミノ）－１，３，５－トリアジン（２８２ｇ、０．４３モル、１．０当量）を９０℃で温度を維持し１時間以内に、滴下ロートを介して投入した。反応混合物を９５℃で３０分間撹拌した。反応が完了した後、水性相を分離して反応をクエンチした。次に、キシレン溶液を１リットルのオートクレーブに移し、ＮａＯＨ（Ｈ２Ｏ中で３０％、６９ｇ、０．４９モル、１．１３当量）で処理し、９バールの圧力で１８０℃まで加熱して、この温度で４時間保った。その後、１時間以内にスラリーを８５℃まで冷却した。次に、反応混合物をグラスライニング反応器に移し、キシレン（１３４ｇ）で希釈し、ＮａＨＣＯ３水溶液（Ｈ２Ｏ中で１０％、７０ｇ）で洗浄した。混合物を９５℃で０．５時間撹拌して、水性相を分離し、有機相を９０℃で濾過した。溶媒を減圧下、２００℃で除去して、白色又は淡黄色の固体生成物を得た。透過率の値を１０重量％のトルエン溶液として４２５ｎｍで検出し、以下の表１４で示す：
１リットルのガラス反応器において、ＨＭＢＴＡＤアミン（１８６ｇ、０．４７モル、１．１当量）を８０℃で溶融した。ＮａＯＨ（Ｈ２Ｏ中で３０％、６７ｇ、０．５０モル、１．１５当量）を３０ｇの水と共に加えた。ＣＮ１０８６２３５６６号明細書又は米国特許第６４０７２５４号明細書により調製しキシレンに溶解した２，４－ジクロロ－６－（１，１，３，３－テトラメチルブチルアミノ）－１，３，５－トリアジン（２８２ｇ、０．４３モル、１．０当量）を９０℃で温度を維持し１時間以内に、滴下ロートを介して投入した。反応混合物を９５℃で３０分間撹拌した。反応が完了した後、水性相を分離して反応をクエンチした。次に、キシレン溶液を１リットルのオートクレーブに移し、ＮａＯＨ（Ｈ２Ｏ中で３０％、６９ｇ、０．４９モル、１．１３当量）で処理し、９バールの圧力で１８０℃まで加熱して、この温度で４時間保った。その後、１時間以内にスラリーを８５℃まで冷却した。次に、反応混合物をグラスライニング反応器に移し、キシレン（１３４ｇ）で希釈し、ＮａＨＣＯ３水溶液（Ｈ２Ｏ中で１０％、７０ｇ）で洗浄した。混合物を９５℃で０．５時間撹拌して、水性相を分離し、有機相を９０℃で濾過した。溶媒を減圧下、２００℃で除去して、白色又は淡黄色の固体生成物を得た。透過率の値を１０重量％のトルエン溶液として４２５ｎｍで検出し、以下の表１４で示す：
【0096】
【表14】
【0097】
実施例３：Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）－Ｎ，Ｎ’－ジホルミルヘキサメチレンジアミンの調製及びその色指数（ＡＰＨＡ）のアッセイ
米国特許第２０１００１６０６３７号明細書（実施例６）に従って、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）－Ｎ，Ｎ’－ジホルミルヘキサメチレンジアミンを調製した。４０ｍｌのホルムアミドと１７０ｇのＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンとを６０ｍｌのキシレンに加えた。２０ｍｌの酢酸を加え、混合物を不活性雰囲気下で還流温度まで加熱した。１０時間の反応時間後、反応混合物をおよそ９０℃～９５℃まで冷却し、４０ｍｌの水を撹拌しながら流入させた。その後、更なる撹拌をしながら、過剰なホルムアルデヒドをクエンチするのに十分な水酸化ナトリウム水溶液を添加した。反応混合物を再び還流して、キシレンを共沸留去した。その後、混合物をおよそ６０℃まで冷却し、水を加え、得られた固体生成物の残渣を分離した。生成物の残渣を水で十分に洗浄した後、乾燥させた。乾燥することにより、表１５に示すように、出発材料ＨＭＢＴＡＤの品質に応じて、特定の収率、化学純度及び色指数における生成物を得る。色指数の仕様は、最大で２００ＡＰＨＡであった。
米国特許第２０１００１６０６３７号明細書（実施例６）に従って、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）－Ｎ，Ｎ’－ジホルミルヘキサメチレンジアミンを調製した。４０ｍｌのホルムアミドと１７０ｇのＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサン－１，６－ジアミンとを６０ｍｌのキシレンに加えた。２０ｍｌの酢酸を加え、混合物を不活性雰囲気下で還流温度まで加熱した。１０時間の反応時間後、反応混合物をおよそ９０℃～９５℃まで冷却し、４０ｍｌの水を撹拌しながら流入させた。その後、更なる撹拌をしながら、過剰なホルムアルデヒドをクエンチするのに十分な水酸化ナトリウム水溶液を添加した。反応混合物を再び還流して、キシレンを共沸留去した。その後、混合物をおよそ６０℃まで冷却し、水を加え、得られた固体生成物の残渣を分離した。生成物の残渣を水で十分に洗浄した後、乾燥させた。乾燥することにより、表１５に示すように、出発材料ＨＭＢＴＡＤの品質に応じて、特定の収率、化学純度及び色指数における生成物を得る。色指数の仕様は、最大で２００ＡＰＨＡであった。
【0098】
【表15】
【0099】
実施例４：１，６－ヘキサンジアミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジン－イル）、２，４，６－トリクロロ－１，３，５－トリアジン、Ｎ－ブチル－１－ブチルアミン、及びＮ－ブチル－２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジンアミンの反応材料の調製及び透過率（Ｔ％）のアッセイ
欧州特許第０７８２９９４号明細書（実施例１０）に記載される手順に従って、Ｎ－ブチル－４，６－ジクロロ－Ｎ－（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）－１，３，５－トリアジン－２－アミンのキシレン溶液（３８７ｇ、０．３２モル、それは、前述の特許文献又は米国特許第４０８６２０４号明細書又はＣＮ１０７０３３１２７号明細書に従って調製される、純度９９％を超える市販の塩化シアヌル）を５０℃で１リットルのガラス反応器内で撹拌した。溶融したＮ，Ｎ’－ビス［２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル］ヘキサメチレンジアミン（ＨＭＢＴＡＤ）（６６．８ｇ、０．１７モル）と水（４５ｇ）との混合物を滴下ロートを用いてゆっくり添加した。２０％の混合物を添加したら、別の滴下ロートを用いて３０％のＮａＯＨ（４５．６ｇ、０．３４モル）溶液を投入した。２つの滴下は同時に終了した。全体の手順は２時間で行われ、その際、温度は８０℃まで上昇した。この後、反応混合物を８５℃で更に３０分間攪拌した。その後、攪拌機を停止し、水相を分離した。およそ５０％（３４４ｇ、０，１７モル）の濃度に達するように、キシレン溶液をロータリーエバポレーター（８０℃、８０ミリバール）で濃縮した。その後、混合物をＨＭＢＴＡＤ（１２６ｇ、０，３２モル）、ＮａＯＨの３０％溶液（４６ｇ、０．３４モル）及び水（１８ｇ）と共にオートクレーブに移した。反応生成物を１７５℃及び９バールの圧力まで加熱して、この温度を４時間保持した後、１時間で８５℃まで冷却した。反応混合物をガラス反応器に移し、キシレン（１５２ｇ）で希釈して、洗浄用に１０％のＮａＨＣＯ３溶液（６３ｇ）を添加した。９５℃で撹拌の１５分後、混合物を８５℃まで冷却し、水性相を分離した。反応は、以下のステップにおいて標準の手順に従って進行する。透過率の値は、１０％のトルエン溶液において４２５ｎｍで検出され、以下の表１６に示す：
欧州特許第０７８２９９４号明細書（実施例１０）に記載される手順に従って、Ｎ－ブチル－４，６－ジクロロ－Ｎ－（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）－１，３，５－トリアジン－２－アミンのキシレン溶液（３８７ｇ、０．３２モル、それは、前述の特許文献又は米国特許第４０８６２０４号明細書又はＣＮ１０７０３３１２７号明細書に従って調製される、純度９９％を超える市販の塩化シアヌル）を５０℃で１リットルのガラス反応器内で撹拌した。溶融したＮ，Ｎ’－ビス［２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル］ヘキサメチレンジアミン（ＨＭＢＴＡＤ）（６６．８ｇ、０．１７モル）と水（４５ｇ）との混合物を滴下ロートを用いてゆっくり添加した。２０％の混合物を添加したら、別の滴下ロートを用いて３０％のＮａＯＨ（４５．６ｇ、０．３４モル）溶液を投入した。２つの滴下は同時に終了した。全体の手順は２時間で行われ、その際、温度は８０℃まで上昇した。この後、反応混合物を８５℃で更に３０分間攪拌した。その後、攪拌機を停止し、水相を分離した。およそ５０％（３４４ｇ、０，１７モル）の濃度に達するように、キシレン溶液をロータリーエバポレーター（８０℃、８０ミリバール）で濃縮した。その後、混合物をＨＭＢＴＡＤ（１２６ｇ、０，３２モル）、ＮａＯＨの３０％溶液（４６ｇ、０．３４モル）及び水（１８ｇ）と共にオートクレーブに移した。反応生成物を１７５℃及び９バールの圧力まで加熱して、この温度を４時間保持した後、１時間で８５℃まで冷却した。反応混合物をガラス反応器に移し、キシレン（１５２ｇ）で希釈して、洗浄用に１０％のＮａＨＣＯ３溶液（６３ｇ）を添加した。９５℃で撹拌の１５分後、混合物を８５℃まで冷却し、水性相を分離した。反応は、以下のステップにおいて標準の手順に従って進行する。透過率の値は、１０％のトルエン溶液において４２５ｎｍで検出され、以下の表１６に示す：
【0100】
【表16】
【国際調査報告】