特表 2024-516493 投影撮像システムにおけるその場光化学洗浄用の光の光路結合のためのシステム及び方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2024-04-16

(54)【発明の名称】投影撮像システムにおけるその場光化学洗浄用の光の光路結合のためのシステム及び方法

(51)【国際特許分類】

   G03F 1/82 20120101AFI20240409BHJP

   H01L 21/304 20060101ALI20240409BHJP

   H01L 21/66 20060101ALI20240409BHJP

   G03F 1/24 20120101ALN20240409BHJP

   G03F 7/20 20060101ALN20240409BHJP

【ＦＩ】

G03F1/82

H01L21/304 645D

H01L21/66 J

G03F1/24

G03F7/20 503

【審査請求】未請求

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2023555425

(86)(22)【出願日】2022-04-20

(85)【翻訳文提出日】2023-09-08

(86)【国際出願番号】 US2022025454

(87)【国際公開番号】W WO2022226007

(87)【国際公開日】2022-10-27

(31)【優先権主張番号】17/235,573

(32)【優先日】2021-04-20

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】500049141

【氏名又は名称】ケーエルエー コーポレイション

(74)【代理人】

【識別番号】110001210

【氏名又は名称】弁理士法人ＹＫＩ国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】ヒル シャノン

(72)【発明者】

【氏名】デルガド ギルダルド

【テーマコード（参考）】

2H195

2H197

4M106

5F157

【Ｆターム（参考）】

2H195BD02

2H195BD11

2H195BD13

2H195CA11

2H195CA22

2H197CA10

2H197FA02

2H197FA03

2H197GA01

2H197GA20

2H197GA23

4M106BA07

4M106CA39

4M106DB04

4M106DB07

4M106DB12

4M106DB13

4M106DB19

5F157BG03

5F157BG04

5F157BG13

5F157BG44

5F157BG73

5F157BG75

5F157BG96

(57)【要約】

オーバーレイ検査システムの光学面を洗浄するためのシステムを開示する。特に、投影撮像システムにおけるその場光化学洗浄用の光の光路結合のためのシステムを開示する。オーバーレイ検査システムの光学面を洗浄するためのシステムは、第１の照明源、検出器、１組の照明光学部品、及び１組の撮像光学部品を含む。いくつかの実施形態では、システムは、第２の照明源及び第３の照明源のうちの少なくとも１つを含んでもよく、それらのそれぞれは、システムの１つ以上の光学面からの汚染物質の除去を生じるか、又はそれを助けるように構成され得る。

【特許請求の範囲】

【請求項1】

光学システムであって、
光を生成するように構成された第１の照明源、
検出器、
１組の照明光学部品であって、前記第１の照明源からの前記光の少なくとも一部分を受け取り、前記光の少なくとも一部分を１つ以上のサンプルの１つ以上のサンプル表面へ、照明軸に沿って配向するように構成された、１組の照明光学部品、
１組の撮像光学部品であって、前記１つ以上のサンプル表面からの前記光の少なくとも一部分を受け取り、前記１つ以上のサンプル表面からの前記光の前記少なくとも一部分を前記検出器へ、撮像軸に沿って配向するように構成された、１組の撮像光学部品、
第２の照明源であって、第１の洗浄ビームを生成し、前記第１の洗浄ビームの少なくとも一部分を前記１組の照明光学部品へ、前記照明軸又は前記撮像軸のうちの少なくとも１つを介して配向するように構成された、第２の照明源、
第３の照明源であって、第２の洗浄ビームを生成し、前記第２の洗浄ビームの少なくとも一部分を前記１組の撮像光学部品又は前記検出器のうちの少なくとも１つへ、前記照明軸又は前記撮像軸のうちの少なくとも１つを介して配向するように構成された、第３の照明源、ならびに、
１つ以上のチャンバであって、ここで前記１組の照明光学部品、前記１組の撮像光学部品、及び前記検出器が前記１つ以上のチャンバ内に配置され、前記１つ以上のチャンバのそれぞれは選択されたパージガスを含むように構成され、前記選択されたパージガスは前記第１の洗浄ビーム又は前記第２の洗浄ビームの少なくとも１つと光反応を起こし、前記選択されたパージガスと前記第１の洗浄ビーム又は前記第２の洗浄ビームの少なくとも１つとの光反応は、１つ以上のイオン種又は１つ以上のフリーラジカル種のうちの少なくとも１つを形成し、１つ以上のイオン種又は１つ以上のフリーラジカル種のうちの前記少なくとも１つは、前記１組の照明光学部品、前記１組の撮像光学部品、又は前記検出器のうちの少なくとも１つの１つ以上の光学面からの汚染物質を１つ以上の揮発性種に変換できる、１つ以上のチャンバ、
を備える、光学システム。

【請求項2】

前記光学システムは、マスク検査システムとして構成される、請求項１に記載の光学システム。

【請求項3】

前記第１の洗浄ビーム及び前記第２の洗浄ビームのそれぞれは、同じ視野面を前記光として照明するように構成される、請求項１に記載の光学システム。

【請求項4】

前記第２の照明源及び前記第３の照明源のそれぞれは、前記第１の照明源の開口数と同等の開口数を有する、請求項１に記載の光学システム。

【請求項5】

前記第１の洗浄ビーム及び前記第２の洗浄ビームのそれぞれは、均一な照明又は１つ以上の走査ラスタのうちの少なくとも１つを含む、請求項３に記載の光学システム。

【請求項6】

前記第１の照明源は、広帯域照明源を含む、請求項２に記載の光学システム。

【請求項7】

前記第１の照明源は、極端紫外光、真空紫外光、深紫外光、又は紫外光のうちの少なくとも１つを生成するように構成される照明源を含む、請求項６に記載の光学システム。

【請求項8】

前記第１の照明源は、狭帯域照明源を含む、請求項２に記載の光学システム。

【請求項9】

前記第１の照明源は、約３５５ナノメートル、約２６６ナノメートル、又は約１９３ナノメートルのうちの少なくとも１つの波長を有する照明を生成するように構成されたレーザ源を含む、請求項８に記載の光学システム。

【請求項10】

前記第２の照明源及び前記第３の照明源のそれぞれは、少なくとも紫外光を生成するように構成される、請求項１に記載の光学システム。

【請求項11】

前記第１の洗浄ビームは、約２１０ナノメートル～約３００ナノメートルの間の波長を有する紫外光を含む、請求項１に記載の光学システム。

【請求項12】

前記第２の洗浄ビームは、約２１０ナノメートル～約３００ナノメートルの間の波長を有する紫外光を含む、請求項１に記載の光学システム。

【請求項13】

前記選択されたパージガスは、オゾン、フッ素、又は窒素のうちの少なくとも１つを含む、請求項１に記載の光学システム。

【請求項14】

前記１つ以上のイオン種は、酸素、窒素、又はフッ素のうちの少なくとも１つの１つ以上のイオンを含む、請求項１３に記載の光学システム。

【請求項15】

前記１つ以上のフリーラジカル種は、酸素、窒素、又はフッ素のうちの少なくとも１つの１つ以上のフリーラジカルを含む、請求項１３に記載の光学システム。

【請求項16】

前記選択されたパージガスは、２つ以上のガスの混合物を含む、請求項１に記載の光学システム。

【請求項17】

前記１つ以上のイオンは、１組の照明光学部品、前記１組の撮像光学部品、又は前記検出器のうちの少なくとも１つから前記汚染物質の１つ以上の要素を、前記汚染物質と前記第１の洗浄ビーム又は前記第２の洗浄ビームのうちの少なくとも１つとの間の１つ以上の光反応を介して除去するように構成され、ここで前記１つ以上の光反応は、前記１つ以上のチャンバ内でガス状反応生成物を形成する、請求項１４に記載の光学システム。

【請求項18】

前記１つ以上のフリーラジカルは、１組の照明光学部品、前記１組の撮像光学部品、又は前記検出器のうちの少なくとも１つから前記汚染物質の１つ以上の要素を、前記汚染物質と前記第１の洗浄ビーム又は前記第２の洗浄ビームのうちの少なくとも１つとの間の１つ以上の光反応を介して除去するように構成され、ここで前記１つ以上の光反応は、前記１つ以上のチャンバ内でガス状反応生成物を形成する、請求項１５に記載の光学システム。

【請求項19】

前記ガス状反応生成物を前記１つ以上のチャンバから排気するように構成される１つ以上のポンプを更に備える、請求項１７に記載の光学システム。

【請求項20】

前記ガス状反応生成物を前記１つ以上のチャンバから排気するように構成される１つ以上のポンプを更に備える、請求項１８に記載の光学システム。

【請求項21】

光学システムであって、
光を生成するように構成された第１の照明源、
検出器、
１組の照明光学部品であって、前記第１の照明源からの前記光の少なくとも一部分を受け取り、前記光の少なくとも一部分を１つ以上のサンプルの１つ以上のサンプル表面へ、照明軸に沿って配向するように構成された、１組の照明光学部品、
１組の撮像光学部品であって、前記１つ以上のサンプル表面からの前記光の少なくとも一部分を受け取り、前記１つ以上のサンプル表面からの前記光の前記少なくとも一部分を前記検出器へ、撮像軸に沿って配向するように構成された、１組の撮像光学部品、
第２の照明源であって、第１の洗浄ビームを生成し、前記第１の洗浄ビームの少なくとも一部分を前記１組の照明光学部品へ、前記照明軸又は前記撮像軸のうちの少なくとも１つを介して配向するように構成された、第２の照明源、ならびに、
１つ以上のチャンバであって、ここで前記１組の照明光学部品、前記１組の撮像光学部品、及び前記検出器は、前記１つ以上のチャンバ内に配置され、前記１つ以上のチャンバのそれぞれは選択されたパージガスを含むように構成され、前記選択されたパージガスは前記第１の洗浄ビームと光反応を起こし、前記選択されたパージガスと前記第１の洗浄ビームとの光反応は、１つ以上のイオン種又は１つ以上のフリーラジカル種のうちの少なくとも１つを形成し、１つ以上のイオン種又は１つ以上のフリーラジカル種のうちの前記少なくとも１つは、前記１組の照明光学部品、前記１組の撮像光学部品、又は前記検出器のうちの少なくとも１つの１つ以上の光学面からの汚染物質を１つ以上の揮発性種に変換できる、１つ以上のチャンバ、
を備える、光学システム。

【請求項22】

第３の照明源であって、第２の洗浄ビームを生成し、前記第２の洗浄ビームの少なくとも一部分を前記１組の撮像光学部品又は前記検出器のうちの少なくとも１つへ、前記照明軸又は前記撮像軸のうちの少なくとも１つを介して配向するように構成された、第３の照明源、
を更に備える、請求項２１に記載の光学システム。

【請求項23】

前記光学システムは、マスク検査システムとして構成される、請求項２２に記載の光学システム。

【請求項24】

前記第１の洗浄ビーム及び前記第２の洗浄ビームのそれぞれは、同じ視野面を前記光として照明するように構成される、請求項２２に記載の光学システム。

【請求項25】

前記第２の照明源及び前記第３の照明源のそれぞれは、前記第１の照明源の開口数と同等の開口数を有する、請求項２２に記載の光学システム。

【請求項26】

前記第１の洗浄ビーム及び前記第２の洗浄ビームのそれぞれは、均一な照明又は１つ以上の走査ラスタのうちの少なくとも１つを含む、請求項２３に記載の光学システム。

【請求項27】

前記第１の照明源は、広帯域照明源を含む、請求項２３に記載の光学システム。

【請求項28】

前記第１の照明源は、極端紫外光、真空紫外光、深紫外光、又は紫外光のうちの少なくとも１つを生成するように構成される照明源を含む、請求項２７に記載の光学システム。

【請求項29】

前記第１の照明源は、狭帯域照明源を含む、請求項２３に記載の光学システム。

【請求項30】

前記第１の照明源は、約３５５ナノメートル、約２６６ナノメートル、又は約１９３ナノメートルのうちの少なくとも１つの波長を有する照明を生成するように構成されたレーザ源を含む、請求項２９に記載の光学システム。

【請求項31】

前記第２の照明源及び前記第３の照明源のそれぞれは、少なくとも紫外光を生成するように構成される、請求項２３に記載の光学システム。

【請求項32】

前記第１の洗浄ビームは、約２１０ナノメートル～約３００ナノメートルの間の波長を有する紫外光を含む、請求項２３に記載の光学システム。

【請求項33】

前記第２の洗浄ビームは、約２１０ナノメートル～約３００ナノメートルの間の波長を有する紫外光を含む、請求項２３に記載の光学システム。

【請求項34】

前記選択されたパージガスは、オゾン、フッ素、又は窒素のうちの少なくとも１つを含む、請求項２３に記載の光学システム。

【請求項35】

前記１つ以上のイオン種は、酸素、窒素、又はフッ素のうちの少なくとも１つの１つ以上のイオンを含む、請求項２３に記載の光学システム。

【請求項36】

前記１つ以上のフリーラジカル種は、酸素、窒素、又はフッ素のうちの少なくとも１つの１つ以上のフリーラジカルを含む、請求項２３に記載の光学システム。

【請求項37】

前記選択されたパージガスは、２つ以上のガスの混合物を含む、請求項２３に記載の光学システム。

【請求項38】

前記１つ以上のイオンは、１組の照明光学部品、前記１組の撮像光学部品、又は前記検出器のうちの少なくとも１つから前記汚染物質の１つ以上の要素を、前記汚染物質と前記第１の洗浄ビーム又は前記第２の洗浄ビームのうちの少なくとも１つとの間の１つ以上の光反応を介して除去するように構成され、ここで前記１つ以上の光反応は、前記１つ以上のチャンバ内でガス状反応生成物を形成する、請求項３５に記載の光学システム。

【請求項39】

前記１つ以上のフリーラジカルは、１組の照明光学部品、前記１組の撮像光学部品、又は前記検出器のうちの少なくとも１つから前記汚染物質の１つ以上の要素を、前記汚染物質と前記第１の洗浄ビーム又は前記第２の洗浄ビームのうちの少なくとも１つとの間の１つ以上の光反応を介して除去するように構成され、ここで前記１つ以上の光反応は、前記１つ以上のチャンバ内でガス状反応生成物を形成する、請求項３６に記載の光学システム。

【請求項40】

前記ガス状反応生成物を前記１つ以上のチャンバから排気するように構成される１つ以上のポンプを更に備える、請求項３８に記載の光学システム。

【請求項41】

前記ガス状反応生成物を前記１つ以上のチャンバから排気するように構成される１つ以上のポンプを更に備える、請求項３９に記載の光学システム。

【請求項42】

光学面を洗浄する方法であって、
選択されたパージガスを１つ以上のチャンバに提供するステップ、
１つ以上の洗浄ビームを、前記１つ以上のチャンバ内の１つ以上の光学面に配向するステップであって、ここで前記１つ以上の洗浄ビームのそれぞれは、前記選択されたパージガスと光反応を起こし、前記選択されたパージガスと前記１つ以上の洗浄ビームとの光反応は、１つ以上のイオン種又は１つ以上のフリーラジカル種のうちの少なくとも１つを形成し、１つ以上のイオン種又は１つ以上のフリーラジカル種のうちの前記少なくとも１つは、１つ以上の光学面からの汚染物質を１つ以上の揮発性種に変換して、ガス状反応生成物を形成する、ステップ、及び、
前記１つ以上のチャンバから前記ガス状反応生成物を排気するステップ、
を含む、方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、一般に、極端紫外線光学システムを有する検査システムを含んだ、検査システムの分野に関し、特に、検査システムの光学素子の洗浄に関する。

【背景技術】

【0002】

より小型のフィーチャを有するリソグラフィベースのデバイス構造に対する要求が増加し続けるにつれて、改良された照明源が、リソグラフィに用いるために、かつこれらの縮小し続けるデバイスをリソグラフィ印刷する関連するレチクルの検査に用いるために、必要とされ続けている。リソグラフィ及び検査システムで利用される特定のそのような照明源は、極端紫外線（ＥＵＶ）、真空紫外（ＶＵＶ）光、深紫外（ＤＵＶ）光、又は紫外（ＵＶ）光を利用する検査システムとなる。

【0003】

多くの場合、検査システム、特にその光学部品は、清潔な真空環境において動作する必要がある。しかし、真空環境を汚す傾向のある汚染物質は、システムから完全に除去され得ない。例えば、特定の光学面などの検査システムの構成部品が避けることのできない汚染物質を含む場合である。その結果、検査システムの光学部品（多くの場合、真空チャンバ内に位置する）は、炭化水素及び気相Ｈ_２Ｏなどの汚染物質の分圧に曝される。これらの汚染物質は、システム内の放射線に曝されると（例えば、照明プロセス中の場合であり得る）、システムの光学面、例えば鏡に炭素及び／又は酸化物の成長を引き起こす。鏡の場合、汚染が反射率の低下を引き起こし、その結果、所与の鏡に入射する光に位相変化を引き起こす。これらの影響はどちらもチェックされていないと、時間の経過とともに光学部品の劣化を引き起こし、光学システムの故障につながる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開平０６－０９３４７７号公報

【特許文献2】米国特許出願公開第２０１２／０２２３２５６号

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

したがって、上記で特定した従来技術の欠陥を解決する方法及びシステムを提供することが望ましい。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本開示の１つ以上の実施形態により、光学システムが開示される。光学システムは、光を生成するように構成された第１の照明源を含み得る。別の実施形態では、光学システムは検出器を含み得る。別の実施形態では、光学システムは、１組の照明光学部品を含み得て、その照明光学部品は、第１の照明源からの光の少なくとも一部分を受け取り、その光の少なくとも一部分を１つ以上のサンプルの１つ以上のサンプル表面へ、照明軸に沿って配向するように構成される。別の実施形態では、光学システムは、１組の撮像光学部品を含み得て、それは１つ以上のサンプル表面からの光の少なくとも一部分を受け取り、１つ以上のサンプル表面からの光の少なくとも一部分を検出器へ、撮像軸に沿って配向するように構成される。別の実施形態では、光学システムは、第２の照明源を含み得て、それは、第１の洗浄ビームを生成し、第１の洗浄ビームの少なくとも一部分を１組の照明光学部品へ、照明軸又は撮像軸のうちの少なくとも１つを介して配向するように構成される。別の実施形態では、光学システムは、第３の照明源を含み得て、それは、第２の洗浄ビームを生成し、第２の洗浄ビームの少なくとも一部分を１組の撮像光学部品又は検出器のうちの少なくとも１つへ、照明軸又は撮像軸のうちの少なくとも１つを介して配向するように構成される。別の実施形態では、光学システムは、１つ以上のチャンバを含み得て、ここで１組の照明光学部品、１組の撮像光学部品、及び検出器は、１つ以上のチャンバ内に配置され、１つ以上のチャンバのそれぞれは選択されたパージガスを含むように構成され、選択されたパージガスは第１の洗浄ビーム又は第２の洗浄ビームの少なくとも１つと光反応を起こし、選択されたパージガスと第１の洗浄ビーム又は第２の洗浄ビームの少なくとも１つとの光反応は、１つ以上のイオン種又は１つ以上のフリーラジカル種のうちの少なくとも１つを形成し、１つ以上のイオン種又は１つ以上のフリーラジカル種のうちの少なくとも１つは、１組の照明光学部品、１組の撮像光学部品、又は検出器のうちの少なくとも１つの１つ以上の光学面からの汚染物質を１つ以上の揮発性種に変換できる。

【0007】

本開示の１つ以上の実施形態により、光学システムが開示される。光学システムは、光を生成するように構成された第１の照明源を含み得る。別の実施形態では、光学システムは検出器を含み得る。別の実施形態では、光学システムは、１組の照明光学部品を含み得て、その照明光学部品は、第１の照明源からの光の少なくとも一部分を受け取り、その光の少なくとも一部分を１つ以上のサンプルの１つ以上のサンプル表面へ、照明軸に沿って配向するように構成される。別の実施形態では、光学システムは、１組の撮像光学部品を含み得て、それは１つ以上のサンプル表面からの光の少なくとも一部分を受け取り、１つ以上のサンプル表面からの光の少なくとも一部分を検出器へ、撮像軸に沿って配向するように構成される。別の実施形態では、光学システムは、第２の照明源を含み得て、それは、第１の洗浄ビームを生成し、第１の洗浄ビームの少なくとも一部分を１組の照明光学部品へ、照明軸又は撮像軸のうちの少なくとも１つを介して配向するように構成される。別の実施形態では、光学システムは、１つ以上のチャンバを含み得て、ここで１組の照明光学部品、１組の撮像光学部品、及び検出器は、１つ以上のチャンバ内に配置され、１つ以上のチャンバのそれぞれは選択されたパージガスを含むように構成され、選択されたパージガスは第１の洗浄ビームと光反応を起こし、選択されたパージガスと第１の洗浄ビームとの光反応は、１つ以上のイオン種又は１つ以上のフリーラジカル種のうちの少なくとも１つを形成し、１つ以上のイオン種又は１つ以上のフリーラジカル種のうちの少なくとも１つは、１組の照明光学部品、１組の撮像光学部品、又は検出器のうちの少なくとも１つの１つ以上の光学面からの汚染物質を１つ以上の揮発性種に変換できる。

【0008】

本開示の１つ以上の実施形態により、光学面を洗浄する方法が開示される。一実施形態では、方法は、選択されたパージガスを１つ以上のチャンバに提供することを含む。別の実施形態では、方法は、１つ以上の洗浄ビームを、１つ以上のチャンバ内の１つ以上の光学面に配向することを含み、ここで１つ以上の洗浄ビームのそれぞれは、選択されたパージガスと光反応を起こし、選択されたパージガスと１つ以上の洗浄ビームとの光反応は、１つ以上のイオン種又は１つ以上のフリーラジカル種のうちの少なくとも１つを形成し、１つ以上のイオン種又は１つ以上のフリーラジカル種のうちの少なくとも１つは、１つ以上の光学面からの汚染物質を１つ以上の揮発性種に変換して、ガス状反応生成物を形成する。別の実施形態では、方法は、１つ以上のチャンバからガス状反応生成物を排気することを含む。

【0009】

前述の一般的な説明と以下の詳細な説明の両方は、例示的かつ説明的なものにすぎず、特許請求される本発明を必ずしも限定するものではないことを理解されたい。明細書に援用され、その一部を構成する添付の図面は、本発明の実施形態を示し、一般的な説明とともに、本発明の原理を説明するのに役立つ。

【図面の簡単な説明】

【0010】

本開示の多くの利点は、添付の図面を参照することにより、当業者によってよりよく理解されるであろう。

【図1A】本開示の１つ以上の実施形態による、光学システムの概念図を示す。

【図1B】本開示の１つ以上の実施形態による、光学システムの概念図を示す。

【図1C】本開示の１つ以上の実施形態による、光学システムのブロックダイアグラム図を示す。

【図2】本開示の１つ以上の実施形態による、光学面を洗浄する方法を示す。

【図3】本開示の１つ以上の実施形態による、光学面を洗浄する方法のステップを説明するフローチャートを示す。

【発明を実施するための形態】

【0011】

本開示は、特定の実施形態及びその特定の特徴に関して特に示し、説明している。本明細書に記載される実施形態は、限定的なものではなく例示的なものであるとみなされる。形態及び詳細における様々な変更及び修正は、本開示の趣旨及び範囲から逸脱することなく行い得ることが、当業者には容易に明らかである。ここで開示された主題を詳細に言及し、それは添付の図面に示される。

【0012】

本開示の実施形態は、オーバーレイ検査システムの光学面を洗浄するためのシステム及び方法に関する。特に、投影撮像システムにおけるその場光化学洗浄用の光の光路結合のためのシステム及び方法が開示される。

【0013】

本明細書では、検査システム内の光学面の汚染は、揮発性有機汚染物質種が光学面に吸着する場合に発生する可能性があり、それらはエネルギー放射線（例えば、ＥＵＶ光又はＶＵＶ光）と相互作用して、エネルギー放射線に曝された領域に炭素質堆積物を生成する場合があることが認識されている。微量の堆積物（例えば、わずか数ナノメートルの高さの堆積物）の存在が、検査システムの光学素子の性能に重大な低下を引き起こす可能性がある。

【0014】

検査システムの光学面に蓄積した汚染物質は、１つ以上の光化学反応によって除去され得る。例えば、蓄積した炭素質堆積物は、イオン種又はフリーラジカル種（例えば、酸素（１Ｄ）及び酸素の他の励起状態、ならびに窒素、フッ素などの励起状態）との１つ以上の反応を介して除去され得る。イオン種又はフリーラジカル種は、前駆体ガス（例えば、オゾン）が十分なエネルギーの光子（例えば、ＥＵＶ、ＶＵＶ、ＤＵＶ、又はＵＶ光子）と反応するときに生成され得る。このように、前駆体ガスの存在下で十分なエネルギーの照明による光学面の照射は、光学面上に蓄積した汚染物質の除去を引き起し得る。

【0015】

図１Ａ～図１Ｃは、本開示の１つ以上の実施形態による、光学システム１００の実施形態を全体的に示す。図１Ａは、本開示の１つ以上の実施形態による、光学システム１００の概念図を示す。

【0016】

一実施形態では、システム１００は、光１１０を生成するように構成された第１の照明源１０２を含む。別の実施形態では、システム１００は、１組の照明光学部品１０６を含み、それは光の少なくとも一部分を１つ以上のサンプル１２０の１つ以上のサンプル表面１１６に配向するように構成される。例えば、第１の照明源１０２は、限定するものではないが、広帯域光源（例えば、ＥＵＶ、ＶＵＶ、ＤＵＶ、及び／又はＵＶ光を生成するのに適した光源）、又は狭帯域照明源（例えば、レーザ光源）を含み得る。第１の照明源１０２は、約３５５ナノメートル、約２６６ナノメートル、又は約１９３ナノメートルのうちの少なくとも１つの波長を有する照明を生成するように構成されたレーザ源を含み得る。

【0017】

一実施形態では、照明光学部品１０６は、第１の照明源１０２から発せられる照明１１０を、ステージ１１８上に配置された１つ以上のサンプル１２０に、照明軸１１２（例えば、照明経路）に沿って配向するように構成され得る。１つ以上のサンプル１２０は、限定するものではないが、ウェハ（例えば、半導体ウェハ）又はレチクルを含み得る。

【0018】

別の実施形態では、システム１００は、撮像素子１０８の組を含み得て、それは１つ以上のサンプル１２０の表面から照明を受け取り、１つ以上のサンプル１２０からの照明を検出器１０４へ、撮像軸１１４（例えば、照明収集経路）を介して配向するように構成される。例えば、撮像光学部品１０８は、１つ以上の投影光学部品を含み得て、それは散乱、反射、回折、あるいはサンプル１２０から発せられる光を収集し、その光を１つ以上の検出器１０４（例えば、ＣＣＤ、ＴＤＩ－ＣＣＤ、及びＰＭＴなど）に配向するのに適する。別の実施形態では、システム１００は、コントローラ（図１Ｃに示すような）を含み、撮像光学部品１０８及び検出器１０４を介してサンプル１２０から収集された照明を示す信号を受信及び／又は分析する。

【0019】

図１Ａに示すように、本開示の実施形態は、１つ以上の検査プロセス及び１つ以上の洗浄プロセスを実行するように構成され得ることに留意されたい。例えば、図１Ａに示すように、光学システム１００は、サンプル１２０の１つ以上の検査プロセスを実行するように構成され得る。別の例として、図１Ｂに示すように、光学システム１００は、１つ以上の洗浄プロセスを光学システム１００の１つ以上の光学面に対して実行するように構成され得る。

【0020】

図１Ｂは、１つ以上の洗浄プロセスを実行するように構成された光学システム１００の一実施形態を示す。

【0021】

いくつかの実施形態では、光学システム１００は、第１の洗浄ビーム１２４を生成するように構成された第２の照明源１２２を含んでもよい。第２の照明源１２２は、限定するものではないが、ＥＵＶ、ＶＵＶ、ＤＵＶ、及び／又はＵＶ光を生成するように構成された任意の照明源を含み得る。これに関して、第１の洗浄ビーム１２４は、限定するものではないが、ＥＵＶ、ＶＵＶ、ＤＵＶ、及び／又はＵＶビームを含み得る。

【0022】

第２の照明源１２２は、第１の洗浄ビーム１２４を照明光学部品１０６に配向するように構成され得る。例えば、図示されていないが、第２の照明源１２２は、第１の洗浄ビーム１２４を照明光学部品１０６の１つ以上の光学面へ、１つ以上の第１の洗浄光学素子を介して配向するように構成され得る。第２の照明源１２２（及び、いくつかの実施形態では、１つ以上の第１の洗浄光学素子）は、第１の洗浄ビーム１２４をマスク表面１１６に対応する空間内の点に配向するように構成され得る。例えば、図１Ｂに示すように、洗浄用に構成された場合、光学システム１００はサンプル１２０を含まなくてもよい。しかしながら、第２の照明源１２２（及び、該当する場合には、１つ以上の第１の洗浄光学素子）は、第１の洗浄ビーム１２４をシステム１００内の点に配向するように構成され得て、そこへは照明光学部品１０６が光１１０を配向するように構成され得る。この意味で、第１の洗浄ビーム１２４は、照明軸１１２に沿って伝播するように構成され得て、それは照明軸１１２に沿った（ただし反対方向への）光１１０の伝播と同じ方法である。第１の洗浄ビーム１２４は、照明軸１１２に沿って、その全体的に（例えば、第１の洗浄ビーム１２４が第１の照明源１０２に到達するまで）伝播するように構成され得ることに留意されたい。

【0023】

第２の照明源１２２は、第１の洗浄ビーム１２４を生成するように構成され得て、第１の洗浄ビーム１２４は均一な照射照明となる。別の実施形態では、第２の照明源１２２は、第１の洗浄ビーム１２４を生成するように構成されて、第１の洗浄ビーム１２４が１つ以上の走査ラスタを含むようにしてもよい。第１の洗浄ビーム１２４は、（例えば、第２の照明源１２２が第１の照明源１０２の開口数と同等の開口数を有する結果として）光１１０と同じ視野面を照明するように構成され得る。

【0024】

いくつかの実施形態では、光学システム１００は、第２の洗浄ビーム１２８を生成するように構成された第３の照明源１２６を含んでもよい。第３の照明源１２６は、限定するものではないが、ＥＵＶ、ＶＵＶ、ＤＵＶ、及び／又はＵＶ光を生成するように構成された任意の照明源を含み得る。これに関して、第２の洗浄ビーム１２８は、限定するものではないが、ＥＵＶ、ＶＵＶ、ＤＵＶ、及び／又はＵＶビームを含み得る。

【0025】

第３の照明源１２６は、第２の洗浄ビーム１２８を撮像光学部品１０８に配向するように構成され得る。例えば、図示されていないが、第３の照明源１２６は、第２の洗浄ビーム１２８を撮像光学部品１０８の１つ以上の光学面へ、１つ以上の第２の洗浄光学素子を介して配向するように構成され得る。第３の照明源１２６（及び、いくつかの実施形態では、１つ以上の第２の洗浄光学素子）は、第２の洗浄ビーム１２８をマスク表面１１６に対応する空間内の点に配向するように構成され得る。例えば、図１Ｂに示すように、洗浄用に構成された場合、光学システム１００はサンプル１２０を含まなくてもよい。しかしながら、第３の照明源１２６（及び、該当する場合には、１つ以上の第２の洗浄光学素子）は、第２の洗浄ビーム１２８をシステム１００内の点に配向するように構成され得て、そこから照明光学部品１０６がサンプル１２０からの光１１０を受け取るように構成され得る。この意味で、第２の洗浄ビーム１２４は、撮像軸１１４に沿って伝播するように構成され得て、それは撮像軸１１４に沿った光１１０の伝播と同じ方法である。第２の洗浄ビーム１２８は、撮像軸１１４に沿って、その全体的に（例えば、第２の洗浄ビーム１２８が検出器１０４に到達するまで）伝播するように構成され得ることに留意されたい。

【0026】

第３の照明源１２６は、第２の洗浄ビーム１２８を生成するように構成され得て、第２の洗浄ビーム１２８は均一な照射照明となる。別の実施形態では、第３の照明源１２６は、第２の洗浄ビーム１２８が１つ以上の走査ラスタを含むように、第２の洗浄ビーム１２８を生成するように構成されてもよい。第２の洗浄ビーム１２８は、（例えば、第３の照明源１２６が第１の照明源１０２の開口数と同等の開口数を有する結果として）光１１０と同じ視野面を照明するように構成され得る。

【0027】

第２の照明源１２２及び第３の照明源１２６のそれぞれは、照明（例えば、場合によっては第１の洗浄ビーム１２４及び／又は第２の洗浄ビーム１２８）をマスク表面１１６にシステム１００の共通アパーチャ（例えば、ビューポート）を介して配向するように構成され得ることに留意されたい。

【0028】

本開示の実施形態は、洗浄光が、汚染されている光学面の領域にのみに限定される方法で、洗浄光（例えば、第１の洗浄ビーム１２４及び／又は第２の洗浄ビーム１２８）を供給するよう構成されることが特に企図される。例えば、本開示の実施形態が構成されることで、第１の洗浄ビーム１２４が光１１０と同じように照明軸１１２に沿って伝播するように構成される。この点に関して、第１の洗浄ビーム１２４は、当然のことながら、（例えば、検査動作において光１１０によって触媒される堆積を介して）汚染される可能性がある領域上でのみ汚染物質と相互作用するように構成される。同様に、第２の洗浄ビーム１２８は、光１１０と同様の方法で撮像軸１１４に沿って伝播するように構成される。この点に関して、第２の洗浄ビーム１２８は、当然のことながら、（例えば、検査動作において光１１０によって触媒される堆積を介して）汚染される可能性がある領域上でのみ汚染物質と相互作用するように構成される。このアプローチは、光学システム１００内の追加の操縦光学部品、アパーチャ、又はビームダンプの必要性を低減及び／又は排除する。更に、シールドの必要性（例えば、周囲の構成要素を洗浄光から保護するため）が軽減される。この意味で、洗浄光による光学面の照射はまた、光１１０の分布と同等の方法で分布され、その結果、炭素質化合物の汚染率が光１１０の放射照度に比例する条件では、光学面の過剰洗浄又は洗浄不足のリスクが最小限に抑えられる。

【0029】

本開示の実施形態は更に、システム１００のすべての光学面を洗浄するのに必要な洗浄光の量を減少するように構成される。例えば、洗浄光は照明軸１１２及び撮像軸１１４のそれぞれの全体に沿って伝播するため、洗浄光は各軸内で各軸に沿って反射され、洗浄光が複数の光学面を洗浄するために使用されるのを可能にする（単一の表面を洗浄するために使用されて、光学システム１００の外に放散するのを可能にされるというのではない）。

【0030】

いくつかの実施形態では、システム１００は、１つ以上のチャンバ１１８を含み得る。１つ以上のチャンバ１１８は、限定するものではないが、１つ以上の真空チャンバを含み得る。システム１００の１つ以上の要素は、１つ以上のチャンバ１１８内に配置され得る。例えば、第１の照明源１０３、第２の照明源１２２、第１の洗浄光学素子、第３の照明源１２６、第２の洗浄光学素子、検出器１０４、照明光学部品１０６、撮像光学部品１０８、サンプル１２０、及び／又はステージ１１８は、１つ以上のチャンバ１１８内に配置され得る。本開示の実施形態は、単一のチャンバ１１８に限定されないことに留意されたい。例えば、図示されていないが、システム１００の様々な要素は共通のチャンバ内に配置され得るが、一方で、システムの別の要素は別個のチャンバ１１８内に配置されてもよい。別の例として、いくつかの実施形態では、本開示の特定の要素はチャンバ１１８内に配置されなくてもよい。

【0031】

１つ以上のチャンバは、選択されたパージガス２０２（図２に示すように）を含むように構成され得る。選択されたパージガス（又はパージガスの少なくとも成分）は、第１の洗浄ビーム１２８又は第２の洗浄ビーム１２４のうちの少なくとも１つの存在下でイオン化又はラジカル化を受け得る。

【0032】

選択されたパージガス２０２は、本開示の１つ以上の光学素子を洗浄するのに適していることが当技術分野で周知の任意のパージガスを含み得る。例えば、選択されたパージガスは、限定するものではないが、オゾン、酸素、窒素、フッ素、水素、又はガス状水を任意の割合で含んでいる任意のガスを含み得る。一実施形態では、パージガスは、第１の洗浄ビーム１２４及び／又は第２の洗浄ビーム１２８（例えば、ＥＵＶ光、ＶＵＶ光、ＤＵＶ光、ＵＶ光など）によってイオン化可能な当技術分野で周知の任意のガスを含む。別の実施形態では、パージガスは、任意の１つ以上のガスの混合物を含んでもよい。

【0033】

ここで、選択されたパージガスは、システム１００の光学面上の汚染物質の光解離を生じるか、又は光解離を助けるように構成され得ることに留意されたい。例えば、選択されたパージガスは、第１の洗浄ビーム１２４又は第２の洗浄ビーム１２８のうちの少なくとも１つとの光反応において、１つ以上のイオン種又はフリーラジカル種が形成されるように構成され得て、ここで１つ以上のラジカル種は、１つ以上の光学面上の汚染物質を、システム１００から排気され得る揮発性（例えば、ガス状）反応生成物に変換するように構成される。

【0034】

図１Ｃは、本開示の１つ以上の実施形態による、光学システム１００のブロック図を示す。いくつかの実施形態では、システム１００は、システム１００の１つ以上の他の要素（例えば、第１の照明源１０２、検出器１０４、ポンプ１３６、第２の照明源１２２、及び／又は第３の照明源１２６）に通信可能に結合されたコントローラ１３０を含み得る。コントローラ１３０は、１つ以上のメモリユニット１３４に通信可能に結合された１つ以上のプロセッサ１３２を含み得る。１つ以上のプロセッサ１３２は、１つ以上のメモリユニット１３４に格納された１組のプログラム命令を実行して、システム１００の１つ以上の構成要素（例えば、検出器１０４）から検査及び／又は測定データを取得し、及び／又はシステム１００の１つ以上の部分（例えば、第１の照明源１０２、第２の照明源１２２、第３の照明源１２６、ポンプ１３６など）を制御するように構成され得る。

【0035】

図２は、本開示の１つ以上の実施形態による、光学面を洗浄する方法を示す。

【0036】

前述したように、光学面上の汚染物質の堆積物は、１つ以上の光化学反応によって除去され得る。例えば、堆積した炭素質堆積物は、イオン種又はフリーラジカル種（例えば、酸素（１Ｄ）及び酸素の他の励起状態、ならびに窒素、フッ素などの励起状態）との１つ以上の反応を介して除去され得る。イオン種又はフリーラジカル種は、前駆体ガス（例えば、オゾン）が十分なエネルギーの光子（例えば、ＥＵＶ、ＶＵＶ、ＤＵＶ、又はＵＶ光子）と反応するときに生成され得る。このように、前駆体ガスの存在下で十分なエネルギーの照明による光学面の照射は、光学面上に蓄積した汚染物質の除去を引き起し得る。

【0037】

第２の照明源１２２は、第１の洗浄ビーム１２４を生成し、第１の洗浄ビーム１２４をシステム１００の１つ以上のチャンバ１１８の中へ配向するように構成され得る。図２の目的のために、本開示の実施形態は、それに含まれる概念図に限定されないことに留意されたい。例えば、特に、図２に示される本開示の実施形態は、図１Ｂに示し、図１Ｂを参照して説明された第１の洗浄ビーム１２４の照射及び伝播（例えば、洗浄光学素子を介したマスク表面１１６への伝播、照明軸に沿った伝播など）を含み得ることが考えられる。

【0038】

１つ以上のチャンバ１１８は、選択されたパージガス２０２を含み得る。１つ以上のチャンバ１１８を照射すると、選択されたパージガス２０２は、１つ以上の光化学反応２０８を起こし、そこでは、第１の洗浄ビーム１２４は、選択されたパージガス２０２の１つ以上の成分の励起を引き起こし、その結果、１つ以上のイオン種又はフリーラジカル２０９が生成される。

【0039】

１つ以上のイオン種又はフリーラジカル２０９は、第１の洗浄ビーム１２４と選択されたパージガス２０２の１つ以上の成分との間の光化学反応によって生成されたもので、１つ以上の化学反応を介して、システム１００の光学面２１０上に存在する１つ以上の汚染物質２０４を変換することができる場合がある。例えば、選択されたパージガス２０２の１つ以上の成分は、１つ以上の汚染物質と反応して、揮発性反応生成物２０６を形成する可能性があり、それは１つ以上のチャンバ１１８内にガス状態で存在する。

【0040】

システムの１つ以上の光学面２１０は、システム１００の任意の光学素子の任意の部分を含み得ることに留意されたい。例えば、１つ以上の光学面２１０は、限定するものではないが、第１の照明源１０３、第２の照明源１２２、第１の洗浄光学素子、第３の照明源１２６、第２の洗浄光学素子、検出器１０４、照明光学部品１０６、及び／又は撮像光学部品１０８の任意の部分を含み得る。

【0041】

反応生成物２０６は、１つ以上のチャンバ１１８から排気され得る。例えば、洗浄プロセスの完了時に、システム１００は、１つ以上のポンプ１３６に、１つ以上のチャンバ１１８から反応生成物２０６を除去させ得る。

【0042】

１つ以上のポンプ１３６は、パージガス２０２のイオン種及び／又はラジカル種２０９と１つ以上の汚染物質２０４との相互作用から形成されるガス状反応生成物（複数可）を除去するのに適している、当技術分野で周知の任意のポンプを含み得る。例えば、１つ以上のポンプ１３６は、限定するものではないが、１つ以上の真空ポンプを含み得る。

【0043】

別の実施形態では、１つ以上のポンプ１３６は、１つ以上のチャンバ１１８内に低圧又は真空環境を確立及び維持するのに適したポンプシステムを含み得る。例えば、１つ以上のポンプ１３６は、ターボポンプ及び／又はルーツポンプを、ドライポンプユニットと併用し、かつ排気システム（図示せず）を備えて含み得る。

【0044】

図２の目的のために、第２の照明源１２２のみが示されていることに留意されたい。しかし、本開示の実施形態は、第２の照明源１２２に限定されない。例えば、本明細書に開示される洗浄プロセス及び付随する光化学反応は、第２の照明源１２２及び／又は第３の照明源１２６のいずれか１つ、又はそれらの任意の組み合わせを使用して実行され得ることが特に企図される。

【0045】

図３は、本開示の１つ以上の実施形態による、光学面を洗浄する方法のステップを説明するフローチャートを示す。

【0046】

ステップ３０２では、選択されたパージガスは、１つ以上のチャンバに供給される。例えば、選択されたパージガス２０２は、１つ以上のチャンバ１１８に供給され得る。選択されたパージガス２０２は、本開示の１つ以上の光学素子を洗浄するのに適している、当技術分野で周知の任意のパージガスを含み得る。例えば、選択されたパージガスは、限定するものではないが、オゾン、酸素、窒素、フッ素、水素、又はガス状水を任意の割合で含んでいる任意のガスを含み得る。一実施形態では、パージガスは、第１の洗浄ビーム１２４及び／又は第２の洗浄ビーム１２８（例えば、ＥＵＶ光、ＶＵＶ光、ＤＵＶ光、ＵＶ光など）によってイオン化可能な当技術分野で周知の任意のガスを含む。別の実施形態では、パージガスは、任意の１つ以上のガスの混合物を含み得る。

【0047】

ステップ３０４では、１つ以上の洗浄ビームは、１つ以上のチャンバ内の１つ以上の光学面に配向され、ここで１つ以上の洗浄ビームは選択されたパージガスと光反応を起こす。例えば、第２の照明源１２２及び／又は第３の照明源１２６は、第１の洗浄ビーム１２４又は第２の洗浄ビーム１２８を、場合に応じて、光学システム１００の１つ以上の構成要素に配向し得る。別の例として、第２の照明源１２２は、第１の洗浄ビーム１２４を照明軸１１２に沿って配向し得る。更に別の例として、第３の照明源１２６は、第２の洗浄ビーム１２８を撮像軸１１４に沿って配向し得る。

【0048】

１つ以上の洗浄ビームをシステム１００の１つ以上の光学面に向けることで、選択されたパージガス２０２は、１つ以上の光化学反応２０８を起こす可能性があり、それにより第１の洗浄ビーム１２４及び／又は第２の洗浄ビーム１２８は選択されたパージガス２０２の１つ以上の成分の励起を引き起こし得て、その結果、１つ以上のイオン種又はフリーラジカル２０９が生成される。１つ以上のイオン種又はフリーラジカル２０９は、第１の洗浄ビーム１２４と選択されたパージガス２０２の１つ以上の成分との間の光化学反応によって生成されたものであり、システム１００の光学面２１０上に存在する１つ以上の汚染物質２０４を変換し得る。例えば、選択されたパージガス２０２の１つ以上の成分は、１つ以上の汚染物質と反応して、揮発性反応生成物２０６を形成する可能性があり、それは１つ以上のチャンバ１１８内にガス状態で存在する。

【0049】

ステップ３０６では、ガス状反応生成物は、１つ以上のチャンバから排気される。例えば、反応生成物２０６は、１つ以上のチャンバ１１８から排気され得る。例えば、洗浄プロセスの完了時に、システム１００は、１つ以上のポンプ１３６に、１つ以上のチャンバ１１８から（例えば、コントローラ１３０を介して）反応生成物２０６を除去させ得る。

【0050】

本開示の範囲は光学システム１００に限定されないことに留意されたい。むしろ、本開示の様々な態様を組み込んだシステムは、当技術分野で周知の別の光学システム、例えば、特徴付けシステム、計測システム、及び／又はリソグラフィシステムを含み得る。

【0051】

例えば、一実施形態では、光学システム１００は、ウェハ検査システム又はレチクル検査システムとして構成される。これに関して、光学システム１００は、ＥＵＶ及び／又はＶＵＶスペクトル範囲で動作するのに適した、当技術分野で周知の任意のウェハ又はレチクル検査光学アーキテクチャを含み得る。更に、光学システム１００は、ＥＵＶマスクブランク検査システムとして構成され得ることが認識される。ＥＵＶベースのマスクブランク検査は、２０１４年４月２９日に発行されたＳｔｏｋｏｗｓｋｉの米国特許第８，７１１，３４６号に一般的に記載され、その全体が参照により本明細書に援用される。ＥＵＶベースのマスクブランク検査は、２０１２年３月１２日に出願されたＸｉｏｎｇらの米国特許出願第１３／４１７，９８２号に一般的に記載され、その全体が参照により本明細書に援用される。ＥＵＶベースのレチクル検査は、２０１３年５月３０日に出願されたＮａｓｓｅｒ－Ｇｈｏｄｓｉらの米国特許出願第１３／９０５，４４９号に一般的に記載され、その全体が参照により本明細書に援用される。

【0052】

別の例として、別の実施形態では、図示されていないが、光学システム１００は、ＥＵＶリソグラフィシステムとして構成され得る。一実施形態では、光リソグラフィシステム（図示せず）は、１組の照明光学部品を含み得て、それは光源１００からの出力光をＥＵＶ互換リソグラフィマスク（例えば、ＥＵＶ反射マスク）に配向するように構成される。別の実施形態では、リソグラフィシステムは、１組の投影光学部品を含み得て、それはマスクから反射された照明を受け取り、マスクからの反射照明をウェハステージ上に配置された１つ以上のウェハに配向するように構成される。光リソグラフィシステムは、当技術分野で周知の任意のＥＵＶリソグラフィシステムを含み得る。ＥＵＶベースのリソグラフィは、２０１２年３月１３日に出願されたＷａｎｇの米国特許出願第１３／４１９，０４２号に一般的に記載され、その全体が参照により本明細書に援用される。

【0053】

本明細書では、本発明の様々な実施形態が連携して又は独立して実施され得ることが企図される。例えば、図１Ａ～図２に示される実施形態は、互いに組み合わせて適用可能であると解釈されるべきである。

【0054】

コントローラ１３０の１つ以上のプロセッサ１３２は、当技術分野で周知の任意のプロセッサ又は処理素子を含み得る。本開示の目的上、用語「プロセッサ」又は「処理素子」は、１つ以上の処理素子又は論理素子（例えば、１つ以上のマイクロプロセッサデバイス、１つ以上の用途特化集積回路（ＡＳＩＣ）デバイス、１つ以上のフィールドプログラマブルゲートアレイ（ＦＰＧＡｓ）、又は１つ以上のディジタル信号プロセッサ（ＤＳＰｓ））を有する任意のデバイスを包括するよう、広く定義され得る。この意味において、１つ以上のプロセッサ１３２は、アルゴリズム及び／又は命令群（例えば、メモリ内に格納されたプログラム命令）を実行するよう構成された任意のデバイスを含み得る。一実施形態では、１つ以上のプロセッサ１３２は、デスクトップコンピュータ、メインフレームコンピュータシステム、ワークステーション、画像コンピュータ、並列プロセッサ、ネットワーク接続コンピュータ、又は任意の他のコンピュータシステムであって、本開示を通じて説明されたように、計量システム１００を動作させ又はそれと連携して動作するよう構成されたプログラムを実行するように構成されるコンピュータシステム、として具体化され得る。

【0055】

更に、システム１００の異なるサブシステム、例えばデバイス１０２、１０４、１２２、１２６、及び１３６は、本開示で説明されるステップの少なくとも一部分を実行するのに適したプロセッサ又は論理素子を含み得る。したがって、上記の説明は、本開示の実施形態を限定するものとして解釈されるべきではなく、単なる例示として解釈されるべきである。更に、本開示を通じて説明されるステップは、単一のコントローラ１３０によって実行されてもよく、あるいは、複数のコントローラによって実行されてもよい。加えて、コントローラ１３０は、共通のハウジング内又は複数のハウジング内に収容された１つ以上のコントローラを含み得る。このように、任意のコントローラ又はコントローラの組み合わせは、計測システム１００への統合に適したモジュールとして個別にパッケージされてもよい。更に、コントローラ１３０は、検出器１０４から受信したデータを分析し、そのデータをシステム１００内又はシステム１００の外部の更なる構成要素に供給し得る。

【0056】

メモリ１３４は、関連する１つ以上のプロセッサ１３２によって実行可能なプログラム命令を格納するのに適した、当技術分野で周知の任意の記憶媒体を含み得る。例えば、メモリ１３４は、非一時的メモリ媒体を含めることができる。別の例として、メモリ１３４は、限定するものではないが、読み出し専用メモリ（ＲＯＭ）、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）、磁気又は光学メモリデバイス（例えば、ディスク）、磁気テープ、固体ドライブなどを含み得る。メモリ１３４は、１つ以上のプロセッサ１３２と共に、共通のコントローラハウジング内に収容され得ることに更に留意されたい。一実施形態では、メモリ１３４は、１つ以上のプロセッサ１３２及びコントローラ１３０の物理的位置に対して遠隔に配置され得る。例えば、コントローラ１３０の１つ以上のプロセッサ１３２は、ネットワーク（例えば、インターネット、イントラネットなど）を介してアクセス可能なリモートメモリ（例えば、サーバ）にアクセスし得る。

【0057】

一実施形態では、図示されていないが、ユーザインタフェース１３５がコントローラ１３０に通信可能に結合され得る。一実施形態では、ユーザインタフェース１３５は、限定するものではないが、１つ以上のデスクトップ、ラップトップ、タブレットなどを含み得る。別の実施形態では、ユーザインタフェース１３５は、ディスプレイを含み、それを用いてシステム１００のデータをユーザに表示する。ユーザインタフェース１３５のディスプレイは、当技術分野で周知の任意のディスプレイを含み得る。例えば、ディスプレイは、限定するものではないが、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）ベースのディスプレイ、又はＣＲＴディスプレイを含み得る。当業者は、ユーザインタフェース１３５と統合可能な任意のディスプレイデバイスが本開示の実装に適していることを認識するであろう。別の実施形態では、ユーザは、ユーザインタフェース１３５のユーザ入力デバイスを介して、ユーザに表示されたデータに応答して選択及び／又は命令を入力し得る。

【0058】

別の実施形態では、コントローラ１３０は、システム１００の１つ以上の要素に通信可能に結合される。これに関して、コントローラ１３０は、システム１００の任意の構成要素からデータを送信及び／又は受信し得る。更に、コントローラ１３０は、関連する構成要素に対する１つ以上の制御信号を生成することによって、システム１００の任意の構成要素を指示又は制御し得る。例えば、コントローラ１３０は、検出器１０４に通信可能に結合されて、検出器１０４から１つ以上の画像を受信し得る。

【0059】

本明細書に記載のすべての方法は、方法の実施形態の１つ以上のステップの結果をメモリ１３４に格納することを含んでもよい。結果は、本明細書に記載の任意の結果を含み得て、当技術分野で周知の任意の方法に格納し得る。メモリは、本明細書に記載の任意のメモリ、又は当技術分野で周知の任意の他の好適な格納媒体を含み得る。結果が格納された後に、その結果は、メモリ内でアクセスされ、本明細書に記載の方法又はシステムの実施形態のいずれかによって使用され、ユーザに表示するためにフォーマット化され、別のソフトウェアモジュール、方法、又はシステムなどによって使用され得る。更に、結果は、「永久的に」、「半永久的に」、「一時的に」、又は一定期間、格納され得る。例えば、メモリはランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）であってもよく、結果は必ずしもメモリ内で無期限に持続する必要はない。

【0060】

上述された方法の実施形態のそれぞれは、本明細書で説明される任意の別の方法（複数可）の任意の別のステップ（複数可）を含んでよいことが更に意図される。加えて、上述された方法の実施形態のそれぞれは、本明細書で説明されるシステムのいずれかによって実行されてもよい。

【0061】

当業者は、本明細書に記載の構成要素、操作、デバイス、物体、及びそれらに付随する説明が、概念を明確にするための例として使用され、様々な構成の修正が企図されることを認識するであろう。したがって、本明細書で使用されるように、記載された特定の実施例及び付随する議論は、それらのより一般的な分類を代表することを意図する。一般に、特定の実施例の使用は、その分類を表すことを意図しており、特定の構成要素、操作、デバイス、及び物体を含まないことを限定するものと見なすべきではない。

【0062】

本明細書で使用される場合、「上部(top)」、「下部(bottom)」、「上に(over)」、「下に(under)」、「上方(upper)」、「上向き(upward)」、「下方(lower)」、「下へ(down)」、及び「下向き(downward)」などの方向用語は、説明の目的で相対位置を提供することを意図しており、絶対的な基準フレームを指定することを意図するものではない。説明された実施形態に対する様々な修正は、当業者には明らかであり、本明細書で定義された一般原理は、別の実施形態に適用され得る。

【0063】

本明細書における複数形及び／又は単数形の用語の使用に関して、当業者は、複数形から単数形へ、及び／又は単数形から複数形へ、文脈及び／又は用途に適切であるように解釈し得る。様々な単数形／複数形の順列は、明確にするために、本明細書では明示的に記載されていない。

【0064】

本明細書に記載の主題は、他の構成要素内に含有される、又は他の構成要素と接続される異なる構成要素を示す場合がある。そのような描写されたアーキテクチャは単なる例示であり、実際に、同じ機能を実現する他の多くのアーキテクチャが実装され得ることが理解されるべきである。概念的な意味では、同じ機能を実現するための構成要素の任意の配置は、効果的に「関連付け」られて、所望の機能が実現される。したがって、特定の機能を実現するために組み合わされた本明細書の任意の２つの構成要素は、互いに「関連付けられている」と見なすことができ、その結果、所望の機能はアーキテクチャ又は中間構成要素に関係なく実現される。同様に、そのように関連付けられた任意の２つの構成要素はまた、互いに「接続」又は「結合」されて所望の機能を実現すると見なされることができ、かつそのように関連付けられている可能性がある任意の２つの構成要素は、互いに「結合可能」であると見なされて、所望の機能を実現し得る。結合可能な特定の例には、限定するものではないが、物理的に嵌合可能及び／又は物理的に相互作用する構成要素、及び／又は無線的に相互作用可能及び／又は無線的に相互作用する構成要素、及び／又は論理的に相互作用する及び／又は論理的に相互作用可能な構成要素を含む。

【0065】

更に、本明細書に開示され説明される本発明は、添付の特許請求の範囲によって定められることが理解されるべきである。一般に、本明細書で、特に添付の特許請求の範囲（例えば、添付の特許請求の範囲の本文）で使用される用語は、一般的に「開放(open)」用語として意図されていることが当業者によって理解されるであろう（例えば、「含んでいる(including)」という用語は「含んでいるがこれに限定されない」と解釈されるべきであり、「有している(having)」という用語は「少なくとも有している」と解釈されるべきであり、「含む(includes)」という用語は「含むが、それに限定されない」と解釈されるべきであるなど）。特定数の導入された請求項の記載（claim recitation）が意図されている場合、そのような意図は特許請求の範囲に明示的に記載され、そのような記載がない場合、そのような意図は存在しないことが当業者によって更に理解されるであろう。例えば、理解を助けるために、以下の添付の特許請求の範囲には、導入句「少なくとも１つ」及び「１つ以上」の使用を含んで、請求項の記載を導入してもよい。しかしながら、そのような句の使用は、不定冠詞「ａ」又は「ａｎ」による請求項の記載の導入が、そのように導入された請求項の記載を含む任意の特定の請求の範囲を、そのような記載を１つのみ含む発明に限定することを意味すると解釈されるべきではなく、たとえ同じ請求項が導入句「１つ以上」又は「少なくとも１つ」と不定冠詞「ａ」又は「ａｎ」（例えば、「ａ」及び／又は「ａｎ」は通常、「少なくとも１つ」又は「１つ以上」を意味すると解釈されるべきである）を含む場合であっても同様であり、同じことが請求項の記載を導入するために用いられる定冠詞の使用に対しても当てはまる。加えて、導入された請求項の記載の特定数が明示的に記載されている場合でも、当業者は、そのような記載は通常、少なくとも記載された数を意味すると解釈されるべきであることを認識するであろう（例えば、他の修飾語がない「２つの記載」のみの記載は、通常、少なくとも２つの記載、又は２つ以上の記載を意味する）。更に、「Ａ、Ｂ及びＣの少なくとも１つ、など」に類似した慣用語が用いられる例において、一般に、そのような構成は、当業者がその慣用語を理解するであろう意味に意図されている（例えば、「Ａ、Ｂ及びＣの少なくとも１つを有するシステム」は、限定するものではないが、Ａのみ、Ｂのみ、Ｃのみ、ＡとＢを一緒に、ＡとＣを一緒に、ＢとＣを一緒に、及び／又はＡとＢとＣを一緒に有するシステムを含む、など）。「Ａ、Ｂ又はＣの少なくとも１つ、など」に類似した慣用語が用いられる例において、一般に、そのような構成は、当業者がその慣用語を理解するであろう意味に意図されている（例えば、「Ａ、Ｂ又はＣの少なくとも１つを有するシステム」は、限定するものではないが、Ａのみ、Ｂのみ、Ｃのみ、ＡとＢを一緒に、ＡとＣを一緒に、ＢとＣを一緒に、及び／又はＡとＢとＣを一緒に有するシステムを含む、など）。２つ以上の代替用語を表す実質的に任意の離接語及び／又は句は、説明、特許請求の範囲又は図面においても、用語の１つ、用語のいずれか、又は両方の用語を含む可能性を考慮するように理解すべきであることは、当業者によって更に理解されるであろう。例えば句「Ａ又はＢ」は、「Ａ」又は「Ｂ」又は「Ａ及びＢ」の可能性を含むと理解されるであろう。

【0066】

本開示及びその付随する利点の多くは、前述の説明によって理解されると考えられ、開示された主題から逸脱することなく、又はその重要な利点のすべてを犠牲にすることなく、構成要素の形態、構造、及び配置に様々な変更を加え得ることは明らかであろう。説明される形式は単なる説明であり、以下の特許請求の範囲の意図はそのような変更を包含及び含むことである。更に、本発明は、添付の特許請求の範囲によって定義されることが理解されるべきである。

【図1A】

【図1B】

【図1C】

【図2】

【図3】

【国際調査報告】