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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2024-05-21
(54)【発明の名称】極端紫外光源のためのメトロロジシステム
(51)【国際特許分類】
G03F 7/20 20060101AFI20240514BHJP
H05G 2/00 20060101ALI20240514BHJP
【ＦＩ】
G03F7/20 503
G03F7/20 521
H05G2/00 K
【審査請求】未請求
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2023569626
(86)(22)【出願日】2022-04-28
(85)【翻訳文提出日】2024-01-09
(86)【国際出願番号】 EP2022061382
(87)【国際公開番号】W WO2022243006
(87)【国際公開日】2022-11-24
(31)【優先権主張番号】63/191,584
(32)【優先日】2021-05-21
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】504151804
【氏名又は名称】エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
(74)【代理人】
【識別番号】100079108
【弁理士】
【氏名又は名称】稲葉 良幸
(74)【代理人】
【識別番号】100109346
【弁理士】
【氏名又は名称】大貫 敏史
(74)【代理人】
【識別番号】100117189
【弁理士】
【氏名又は名称】江口 昭彦
(74)【代理人】
【識別番号】100134120
【弁理士】
【氏名又は名称】内藤 和彦
(72)【発明者】
【氏名】ユローン，ダスティン，マイケル
(72)【発明者】
【氏名】テリオー，グレゴリー
(72)【発明者】
【氏名】ニューエン，ラム
(72)【発明者】
【氏名】マッケンジー，ポール，アレクサンダー
【テーマコード（参考）】
2H197
4C092
【Ｆターム（参考）】
2H197AA06
2H197AA09
2H197CA10
2H197DC02
2H197DC12
2H197GA01
2H197GA05
2H197GA24
2H197HA03
4C092AA06
4C092AB12
4C092AC09
(57)【要約】
メトロロジシステムが、光装置、検出装置、及び、検出装置と通信する制御装置を備える。光装置は、プローブ領域で主にＸ、Ｙ、Ｚ座標系のＸ軸に沿って延びるターゲット軸方向経路と交差するプローブ光軸に沿って伝搬する光プローブを生成するように構成される。検出装置は、それぞれがＸ、Ｙ、Ｚ座標系のＸ横断軸に沿った別個の位置と関連付けられた複数の異なる波長の生成光であって、プローブ領域における光プローブとターゲット軸方向経路に沿って進むターゲットとの相互作用から生成される生成光を検出するように構成される。制御装置は、検出した光を分析し、Ｘ、Ｙ、Ｚ座標系のＸ横断軸に沿ったターゲットに関する位置情報を決定するように構成される。
【選択図】図４Ａ
【選択図】図４Ａ
【特許請求の範囲】
【請求項1】
複数の異なる波長の光を含む光プローブであって、プローブ領域においてターゲット軸方向経路と交差するプローブ光軸に沿って伝搬する前記光の前記異なる波長を含む、光プローブを生成するように構成された光装置と、前記プローブ領域における前記光プローブと前記ターゲット軸方向経路に沿って進むターゲットとの相互作用から生成される前記複数の異なる波長の生成光を検出するように構成された検出装置と、
前記検出装置と通信する制御装置であって、検出した前記光を分析し、分析に基づいて前記ターゲット及び前記ターゲット軸方向経路のうちの１つ以上に関する１つ以上の特性を調整するように構成された、制御装置と、
を備えた、メトロロジシステム。
【請求項2】
前記光装置が、それぞれが前記ターゲット軸方向経路と交差する前記プローブ光軸に沿って伝搬し、それぞれが別個の中心波長を有する複数のプローブ光ビームを前記光プローブとして生成するように構成された１つ以上の光源
を備える、請求項１のメトロロジシステム。
【請求項3】
別個の中心波長を有する各プローブ光ビームが、前記プローブ光軸に沿った前記プローブ領域内の別個の位置に集束される、請求項２のメトロロジシステム。
【請求項4】
前記光装置が、前記ターゲット軸方向経路と交差する前記プローブ光軸に沿って伝搬し、中心波長の連続スペクトルにより定義されるプローブ光ビームを前記光プローブとして生成するように構成された１つ以上の光源
を備える、請求項１のメトロロジシステム。
【請求項5】
前記光プローブが、前記プローブ光軸に沿った前記プローブ領域内に別個の焦点を有する、請求項１のメトロロジシステム。
【請求項6】
前記別個の焦点を前記プローブ光軸に垂直な方向に沿った前記光プローブの光カーテンとして形成するように構成された円筒形集束光学系を、前記光プローブの経路に更に備えた、請求項５のメトロロジシステム。
【請求項7】
前記光プローブが、前記プローブ光軸に沿ってコリメートされるか又は前記プローブ領域で結像される、請求項１のメトロロジシステム。
【請求項8】
前記検出装置が、それぞれが前記光プローブの各プローブ光ビームと前記ターゲットとの相互作用からの生成光を検出するように構成された複数の検出器
を備える、請求項１のメトロロジシステム。
【請求項9】
各検出器が、前記各プローブ光ビームの前記ターゲットに入射する部分を検出するように構成される、請求項８のメトロロジシステム。
【請求項10】
各検出器が前記各プローブ光ビームの前記ターゲットに入射する前記部分を検出するように構成されることが、各検出器が前記各プローブ光ビームの前記ターゲットから反射又は散乱される部分を検出するように構成されることを含む、請求項９のメトロロジシステム。
【請求項11】
各検出器が、他の検出器により検出される生成光の波長と異なる波長を有する生成光を検出するように構成されている、請求項８のメトロロジシステム。
【請求項12】
前記検出装置が、前記異なる波長のそれぞれの間で生成光を区別するように構成されている、請求項１のメトロロジシステム。
【請求項13】
前記生成光が、前記プローブ光軸と異なり、前記ターゲット軸方向経路とも異なる経路に沿って進む、請求項１のメトロロジシステム。
【請求項14】
前記生成光が、前記プローブ領域の下流にあるターゲット領域にある前記ターゲットと相互作用する１つ以上の動作光ビームが進む方向により定義される動作軸と平行な経路に沿って進む、請求項１のメトロロジシステム。
【請求項15】
前記生成光が、前記プローブ光ビームの前記ターゲットから反射して前記動作軸に沿って戻る部分である、請求項１４のメトロロジシステム。
【請求項16】
前記生成光が、前記１つ以上の動作光ビームが相互作用する同じ光学系の少なくとも一部と相互作用する、請求項１５のメトロロジシステム。
【請求項17】
前記ターゲット軸方向経路に沿って、前記プローブ領域が、前記ターゲットが１つ以上の動作光ビームと相互作用するターゲット領域の上流にある、請求項１のメトロロジシステム。
【請求項18】
前記ターゲット軸方向経路が、少なくともＸ軸に沿って延び、前記プローブ光軸が、前記Ｘ軸と平行でない、請求項１７のメトロロジシステム。
【請求項19】
前記制御装置が、前記Ｘ軸に垂直なＹ方向に沿った前記ターゲットの位置を決定するように構成されている、請求項１８のメトロロジシステム。
【請求項20】
前記プローブ光軸が、Ｙ軸と平行であり、前記動作光ビームが、概ねＺ軸に沿って進む、請求項１９のメトロロジシステム。
【請求項21】
前記複数の波長の前記光が、前記光の前記波長が前記Ｙ軸に沿って変化するような広がりを有する、請求項２０のメトロロジシステム。
【請求項22】
前記プローブ光軸が、前記Ｙ軸に垂直である、請求項１９のメトロロジシステム。
【請求項23】
前記複数の波長の前記光が、前記光の前記波長が前記Ｙ軸に沿って変化するように広がる、請求項２２のメトロロジシステム。
【請求項24】
前記１つ以上の動作光ビームが、前記ターゲットと相互作用して前記ターゲットの形状及び動きを修正することによって修正ターゲットを形成するように構成された第１の増幅光ビームと、前記修正ターゲットと相互作用することによって前記修正ターゲットを極端紫外光を放出するプラズマに変換するように構成された第２の増幅光ビームと、を含む、請求項１７のメトロロジシステム。
【請求項25】
前記制御装置が、前記ターゲット及び前記ターゲット軸方向経路のうちの１つ以上に関する１つ以上の特性を調整するように構成されることが、前記制御装置が、ターゲット材料供給部に前記ターゲットの生成に関する１つ以上の特徴を調整するように命令するように構成されること、及び、
前記制御装置が、動作光源に前記プローブ領域の下流のターゲット領域内の前記ターゲットと相互作用する１つ以上の動作光ビームの生成に関する１つ以上の特徴を調整するように命令するように構成されること、
のうちの１つ以上を含む、請求項１のメトロロジシステム。
【請求項26】
前記検出装置が、ターゲットが前記プローブ領域を通過する速度と同じかそれより速い速度で前記複数の異なる波長の生成光を検出するように構成され、前記制御装置が、前記ターゲットの前記分析の基礎となる前記ターゲットに関する前記１つ以上の特性の調整に影響を与えるように構成される、請求項１のメトロロジシステム。
【請求項27】
前記制御装置が前記ターゲットに関する１つ以上の特性を調整するように構成されることが、前記制御装置が、動作光源に前記プローブ領域の下流のターゲット領域において前記ターゲットと相互作用する１つ以上の動作光ビームのポインティングを調整するように命令するように構成されることを含み、前記ポインティングの調整が、Ｘ、Ｙ、Ｚ座標系のＺ軸に対するものであり、
前記ターゲット軸方向経路が、主にＸ軸に沿って延び、
前記プローブ光軸が、前記Ｙ軸と一致するか又は前記Ｚ軸と一致する、請求項２６のメトロロジシステム。
【請求項28】
それぞれがＸ、Ｙ、Ｚ座標系の主にＸ軸に沿って延びるターゲット軸方向経路に沿って進むターゲット領域に向けられるターゲットの流れを形成するように構成されたターゲット供給装置と、前記ターゲット領域に向けられる、少なくとも１つが前記ターゲットと相互作用して修正ターゲットを形成するように構成された１つ以上の動作光ビームを生成するように構成された動作光源と、
メトロロジシステムと、
を備えた極端紫外（ＥＵＶ）光システムであって、
前記メトロロジシステムが、
プローブ領域で前記ターゲット軸方向経路と交差するプローブ光軸に沿って伝搬する光プローブを生成するように構成された光装置と、
それぞれが前記Ｘ、Ｙ、Ｚ座標系のＸ横断軸に沿った別個の位置と関連付けられた前記複数の異なる波長の生成光であって、前記プローブ領域における前記光プローブと前記ターゲット軸方向経路に沿って進むターゲットとの相互作用から生成される生成光を検出するように構成された検出装置と、
前記検出装置と通信する、検出した前記光を分析し、前記Ｘ、Ｙ、Ｚ座標系の前記Ｘ横断軸に沿った前記ターゲットに関する位置情報を決定するように構成された制御装置と、
を備える、極端紫外（ＥＵＶ）光システム。
【請求項29】
前記１つ以上の動作光ビームが、前記ターゲットと相互作用して前記ターゲットの形状及び動きを修正することによって修正ターゲットを形成するように構成された第１の増幅光ビームと、前記修正ターゲットと相互作用することによって前記修正ターゲットを極端紫外光を放出するプラズマに変換するように構成された第２の増幅光ビームと、を含む、請求項２８のＥＵＶ光システム。
【請求項30】
プローブ領域で主にＸ、Ｙ、Ｚ座標系のＸ軸に沿って延びるターゲット軸方向経路と交差するプローブ光軸に沿って伝搬する光プローブを生成するように構成された光装置と、それぞれが前記Ｘ、Ｙ、Ｚ座標系のＸ横断軸に沿った別個の位置と関連付けられた複数の異なる波長の生成光であって、前記プローブ領域における前記光プローブと前記ターゲット軸方向経路に沿って進むターゲットとの相互作用から生成される生成光を検出するように構成された検出装置と、
前記検出装置と通信する制御装置であって、検出した前記光を分析し、前記Ｘ、Ｙ、Ｚ座標系の前記Ｘ横断軸に沿った前記ターゲットに関する位置情報を決定するように構成された、制御装置と、
を備えた、メトロロジシステム。
【請求項31】
前記光プローブが、広帯域光プローブである、請求項３０のメトロロジシステム。
【請求項32】
前記制御装置が、前記検出した光の分析に基づいて、前記Ｘ、Ｙ、Ｚ座標系のＸ軸に沿った前記ターゲットに関する位置情報を決定するように構成されている、請求項３０のメトロロジシステム。【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
関連出願の相互参照
[0001] この出願は、２０２１年５月２１日出願のＭＥＴＲＯＬＯＧＹ ＳＹＳＴＥＭ ＦＯＲ ＥＸＴＲＥＭＥ ＵＬＴＲＡＶＩＯＬＥＴ ＬＩＧＨＴ ＳＯＵＲＣＥと題する米国出願第６３／１９１，５８４号の優先権を主張し、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
[0001] この出願は、２０２１年５月２１日出願のＭＥＴＲＯＬＯＧＹ ＳＹＳＴＥＭ ＦＯＲ ＥＸＴＲＥＭＥ ＵＬＴＲＡＶＩＯＬＥＴ ＬＩＧＨＴ ＳＯＵＲＣＥと題する米国出願第６３／１９１，５８４号の優先権を主張し、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
【0002】
[0002] 開示される主題は、ターゲット軸方向経路に沿って進むターゲットの位置情報を決定するためのメトロロジシステムに関する。
【背景技術】
【0003】
[0003] 極端紫外（ＥＵＶ）光、例えば、約５０ｎｍ以下の波長を有する電磁放射（軟Ｘ線と称されることもある）、及び約１３ｎｍの波長の光を含む光が、基板、例えばシリコンウェーハに極小のフィーチャを生成するフォトリソグラフィプロセスで使用される可能性がある。
【0004】
[0004] ＥＵＶ光を生成する方法は、ＥＵＶ領域の輝線を有する元素、例えばキセノン、リチウム、又はスズを有する材料をプラズマ状態に変換することを含むが、必ずしもこれに限定されない。レーザ生成プラズマ（「ＬＰＰ」）と呼ばれることが多いそのような１つの方法では、必要なプラズマは、例えば、材料の液滴、プレート、テープ、ストリーム、又はクラスタの形態のターゲット材料を、ドライブレーザと称され得る増幅光ビームで照射することによって生成される可能性がある。このプロセスでは、プラズマは、典型的には密閉容器、例えば、真空チャンバ内で生成され、様々なタイプのメトロロジ装置を使用してモニタされる。
【0005】
[0005] リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板に、通常は基板のターゲット部分に付ける機械である。リソグラフィ装置は、例えば集積回路（ＩＣ）の製造に使用可能である。このような場合、同義でマスク又はレチクルと称されるパターニングデバイスを使用して、形成中のＩＣの個々の層上に形成すべき回路パターンを生成することができる。このパターンは、基板（例えば、シリコンウェーハ）上のターゲット部分（例えば、１つ又はいくつかのダイの一部を含む）に転写することができる。パターンの転写は、典型的には基板に設けた放射感応性材料（例えば、レジスト）の層への結像により行われる。一般的に、単一の基板は、順次パターンが付与される隣接したターゲット部分のネットワークを含むことになる。従来のリソグラフィ装置は、パターン全体をターゲット部分に１回で露光することによって各ターゲット部分が照射される、いわゆるステッパと、ターゲット部分を所与の方向（「スキャン」方向）と平行又は逆平行に同期的にスキャンしながら、パターンを所与の方向に放射ビームでスキャンすることによって、各ターゲット部分が照射される、いわゆるスキャナと、を含む。パターンを基板にインプリントすることによって、パターニングデバイスから基板にパターンを転写することも可能である。
【0006】
[0006] 極端紫外（ＥＵＶ）光、例えば、約５０ナノメートル（ｎｍ）以下の波長を有し（軟Ｘ線と称されることもある）、約１３ｎｍの波長の光を含む電磁放射が、基板、例えばシリコンウェーハに極小のフィーチャを生成するために、リソグラフィ装置内で又はリソグラフィ装置と共に使用される可能性がある。ＥＵＶ光を生成する方法は、ＥＵＶ領域の輝線を有する元素、例えばキセノン（Ｘｅ）、リチウム（Ｌｉ）、又はスズ（Ｓｎ）を有する材料をプラズマ状態に変換することを含むが、必ずしもこれに限定されない。例えば、レーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）と呼ばれる１つのそのような方法では、プラズマは、例えば、材料の液滴、プレート、テープ、ストリーム、又はクラスタの形態の、ＬＰＰ源に関連して同義で燃料と称されるターゲット材料を、ドライブレーザと称され得る増幅光ビームで照射することによって生成される可能性がある。このプロセスでは、プラズマは、典型的には密閉容器、例えば、真空チャンバ内で生成され、様々なタイプのメトロロジ装置を使用してモニタされる。
【発明の概要】
【0007】
[0007] 一部の一般的態様では、メトロロジシステムが、光装置、検出装置、及び検出装置と通信する制御装置を備える。光装置は、複数の異なる波長の光を含む光プローブを生成するように構成される。光プローブは、プローブ領域でターゲット軸方向経路と交差するプローブ光軸に沿って伝搬する光の異なる波長を含む。検出装置は、複数の異なる波長の生成光を検出するように構成される。生成光は、プローブ領域における光プローブとターゲット軸方向経路に沿って進むターゲットとの相互作用から生成される。制御装置は、検出した光を分析し、その分析に基づいて、ターゲット及びターゲット軸方向経路のうちの１つ以上に関する１つ以上の特性を調整するように構成される。
【0008】
[0008] 実装形態（implementation）が、以下の特徴のうちの１つ以上を備える可能性がある。例えば、制御装置は光装置と通信する可能性もある。
【0009】
[0009] 光装置は、光プローブとして複数のプローブ光ビームを生成するように構成された１つ以上の光源を含む可能性があり、各プローブ光ビームは、ターゲット軸方向経路と交差するプローブ光軸に沿って伝搬し、各プローブ光ビームは別個の中心波長を有する。各プローブ光ビームは、プローブ光軸に沿ったプローブ領域内の別個の位置に集束する別個の中心波長を有する可能性がある。光装置は、光プローブとしてプローブ光ビームを生成するように構成された１つ以上の光源を備える可能性があり、プローブ光ビームは、ターゲット軸方向経路と交差するプローブ光軸に沿って伝搬し、中心波長の連続スペクトルによって定義される。
【0010】
[0010] 光プローブは、プローブ光軸に沿ったプローブ領域内に別個の焦点を有する可能性がある。メトロロジシステムは、光プローブの経路に円筒形集束光学系を備える可能性もあり、円筒形集束光学系は、プローブ光軸に垂直な方向に沿った光プローブの光カーテンとして別個の焦点を形成するように構成される。
【0011】
[0011] 光プローブは、プローブ光軸に沿ってコリメートされる可能性があるか又はプローブ領域で結像される可能性がある。
【0012】
[0012] 検出装置は、複数の検出器を含む可能性があり、各検出器は、光プローブの各プローブ光ビームとターゲットとの相互作用からの生成光を検出するように構成される。各検出器は、各プローブ光ビームのターゲットに入射する部分を検出するように構成される可能性がある。各検出器が各プローブ光ビームのターゲットに入射する部分を検出するように構成されることは、各検出器が各プローブ光ビームのターゲットから反射又は散乱される部分を検出するように構成されることを含む可能性がある。各検出器は、他の検出器により検出される生成光の波長と異なる波長を有する生成光を検出するように構成される可能性がある。検出装置は、生成光を異なる波長のそれぞれの間で区別するように構成される可能性がある。
【0013】
[0013] 生成光は、プローブの光軸と異なり、ターゲット軸方向経路とも異なる経路に沿って進むことができる。
【0014】
[0014] 生成光は、動作軸と平行な経路に沿って進むことができ、動作軸は、１つ以上の動作光ビームが進む方向により定義され、１つ以上の動作光ビームは、プローブ領域の下流にあるターゲット領域内のターゲットと相互作用する。生成光は、プローブ光ビームのターゲットから反射して動作軸に沿って戻る部分であるか又はそれを含む可能性がある。生成光は、１つ以上の動作光ビームが相互作用する同じ光学系の少なくとも一部と相互作用することができる。
【0015】
[0015] ターゲット軸方向経路に沿って、プローブ領域は、ターゲットが１つ以上の動作光ビームと相互作用するターゲット領域の上流にある可能性がある。ターゲット軸方向経路は、少なくともＸ軸に沿って延びる可能性があり、プローブ光軸はＸ軸と平行でない可能性がある。制御装置は、Ｘ軸に垂直なＹ方向に沿ったターゲットの位置を決定するように構成される可能性がある。プローブ光軸はＹ軸と平行である可能性があり、動作光ビームは概ねＺ軸に沿って進む可能性がある。複数の波長の光は、Ｙ軸に沿って光の波長が変化する広がりを有する可能性がある。プローブ光軸はＹ軸に垂直である可能性がある。複数の波長の光は、光の波長がＹ軸に沿って変化するように広がる可能性がある。
【0016】
[0016] １つ以上の動作光ビームは、ターゲットと相互作用してターゲットの形状及び動きを修正することによって修正ターゲットを形成するように構成された第１の増幅光ビームと、修正ターゲットと相互作用することによって修正ターゲットを極端紫外光を放出するプラズマに変換するように構成された第２の増幅光ビームと、を含む可能性がある。
【0017】
[0017] 制御装置がターゲット及びターゲット軸方向経路のうちの１つ以上に関する１つ以上の特性を調整するように構成されることは、制御装置がターゲット材料供給部にターゲットの生成に関する１つ以上の特徴を調整するように命令するように構成されること、及び、制御装置が、動作光源にプローブ領域の下流のターゲット領域内のターゲットと相互作用する１つ以上の動作光ビームの生成に関する１つ以上の特徴を調整するように命令するように構成されること、のうちの１つ以上を含む可能性がある。
【0018】
[0018] 検出装置は、ターゲットがプローブ領域を通過する速度と同じかそれより速い速度で複数の異なる波長の生成光を検出するように構成される可能性がある。制御装置は、ターゲットの分析の基礎となるターゲットに関する１つ以上の特性の調整を実行するように構成される可能性がある。制御装置がターゲットに関する１つ以上の特性を調整するように構成されることは、制御装置が、動作光源にプローブ領域の下流のターゲット領域においてターゲットと相互作用する１つ以上の動作光ビームのポインティングを調整するように命令するように構成されることを含む可能性があり、ポインティングの調整は、Ｘ、Ｙ、Ｚ座標系のＺ軸に対するものであり、ターゲット軸方向経路は主にＸ軸に沿って延び、プローブ光軸はＹ軸と一致するか又はＺ軸と一致する。
【0019】
[0019] 他の一般的態様では、極端紫外（ＥＵＶ）光システムが、それぞれがＸ、Ｙ、Ｚ座標系の主にＸ軸に沿って延びるターゲット軸方向経路に沿って進むターゲット領域に向けられるターゲットの流れを形成するように構成されたターゲット供給装置と、ターゲット領域に向けられる、少なくとも１つがターゲットと相互作用して修正ターゲットを形成するように構成された１つ以上の動作光ビームを生成するように構成された動作光源と、メトロロジシステムと、を備える。メトロロジシステムは、光装置、検出装置、及び検出装置と通信する制御装置を備える。光装置は、プローブ領域でターゲット軸方向経路と交差するプローブ光軸に沿って伝搬する光プローブを生成するように構成される。検出装置は、複数の異なる波長の生成光を検出するように構成され、各波長は、Ｘ、Ｙ、Ｚ座標系のＸ横断軸に沿った別個の位置と関連付けられ、生成光は、プローブ領域における光プローブとターゲット軸方向経路に沿って進むターゲットとの相互作用から生成される。制御装置は、検出した光を分析し、Ｘ、Ｙ、Ｚ座標系のＸ横断軸に沿ったターゲットに関する位置情報を決定するように構成される。
【0020】
[0020] 実装形態が、以下の特徴のうちの１つ以上を含む可能性がある。例えば、１つ以上の動作光ビームは、ターゲットと相互作用してターゲットの形状及び動きを修正することによって修正ターゲットを形成するように構成された第１の増幅光ビームと、修正ターゲットと相互作用することによって修正ターゲットを極端紫外光を放出するプラズマに変換するように構成された第２の増幅光ビームと、を含む可能性がある。
【0021】
[0021] 他の一般的態様では、メトロロジシステムが、光装置、検出装置、及び検出装置と通信する制御装置を備える。光装置は、プローブ領域でターゲット軸方向経路と交差するプローブ光軸に沿って伝搬する光プローブを生成するように構成され、ターゲット軸方向経路はＸ、Ｙ、Ｚ座標系の主にＸ軸に沿って延びる。検出装置は、複数の異なる波長の生成光を検出するように構成され、各波長は、Ｘ、Ｙ、Ｚ座標系のＸ横断軸に沿った別個の位置と関連付けられ、生成光は、プローブ領域における光プローブとターゲット軸方向経路に沿って進むターゲットとの相互作用から生成される。制御装置は、検出した光を分析し、Ｘ、Ｙ、Ｚ座標系のＸ横断軸に沿ったターゲットに関する位置情報を決定するように構成される。
【0022】
[0022] 実装形態が、以下の特徴のうちの１つ以上を備える可能性がある。例えば、光プローブは広帯域光プローブである可能性がある。制御装置は、検出した光の分析に基づいて、Ｘ、Ｙ、Ｚ座標系のＸ軸に沿ったターゲットに関する位置情報を決定するように構成される可能性がある。
【図面の簡単な説明】
【0023】
【図1】[0023] ターゲットが通過するプローブ領域に向けられる光プローブを生成する光装置と、プローブ領域からの生成光を検出する検出装置と、生成光からターゲットの位置情報を決定するように構成された制御装置と、を備えたメトロロジシステムのブロック図である。
【図2D】[0027] 図２Ｃの検出装置のセンサ装置であって、それぞれが異なる波長λ１、λ２、λ３のうちのいずれかの生成光を検出するように構成された複数の検出器を備えたセンサ装置の実装形態の正面図である。
【図3B】[0032] ターゲットが－Ｘ方向に沿って進み、Ｙ＝０からオフセットされておらず、光プローブがＹ軸に沿った横断方向の広がりを有し、更にこの横断方向の広がりに沿って色変化が存在する、図３Ａのメトロロジシステムのプローブ領域を示す概念図である。
【図4A-4C】[0034] ターゲットがＹ軸に沿った異なる位置で光プローブと相互作用し、検出装置がＹ軸に沿ったこれらの位置の差を捕捉するように構成されている、図３Ａから図３Ｃのメトロロジシステムのプローブ領域のビューの概念図である。
【図5】[0035] 光プローブ（集合的にプローブ光ビーム）が、プローブ領域において、１つ以上の動作光ビームがターゲット領域内を進む方向により定義される動作軸と平行な経路に沿って進む、図３Ａのメトロロジ装置の実装形態の概念図である。
【発明を実施するための形態】
【0024】
[0038] 図１を参照すると、メトロロジシステム１００は、ターゲット領域１１５に向かってターゲット軸方向経路１１０に沿って進むターゲット１０５の位置情報を決定するように構成されている。ターゲット領域１１５において、ターゲット１０５は、１つ以上の動作光ビーム１２０と相互作用する。ターゲット軸方向経路１１０は、概ねＸ、Ｙ、Ｚ座標系の－Ｘ方向に沿って延び、そのような座標系は、ターゲット領域１１５を取り囲むチャンバによって画定され（チャンバ６７３の一例を図６に示す）、１つ以上の動作光ビーム１２０は、概ねこのＸ、Ｙ、Ｚ座標系のＺ軸に沿って延びる。したがって、ターゲット１０５は、概ねターゲット領域１１５に向かう途中で－Ｘ方向に沿って進む。しかしながら、チャンバ内の様々な外乱又はターゲット１０５の流れ物理特性によって、ターゲット１０５は、Ｘ軸に垂直な１つ以上の方向に沿った動きも含む可能性があり、そのような動きはＹＺ平面内にある。メトロロジシステム１００は、Ｘ軸に沿った、またＸ軸に垂直又はＸ軸を横断する方向（Ｘ横断軸）に沿ったターゲット１０５の位置情報を決定するように構成される。そして、一部の実装形態では、メトロロジシステム１００は、Ｙ軸に沿ったターゲット１０５の位置情報を決定するのに特に有用であり、そのようなＹ軸は、１つ以上の動作光ビームが進むＺ軸に対して概ね垂直である（図２Ａ及び図３Ａ）。
【0025】
[0039] メトロロジシステム１００は、光装置１２５、検出装置１３５、及び制御装置１５０を備える。光装置１２５は、ターゲット軸方向経路１１０とプローブ領域１３１で交差するプローブ光軸１３０ＯＡに沿って伝搬する光プローブ１３０を生成するように構成される。検出装置１３５は、生成光１３６を検出するように構成される。生成光１３６は、プローブ領域１３１における光プローブ１３０とターゲット軸方向経路１１０に沿って進んでいる（プローブ領域１３１内の）ターゲット１０５との相互作用から生成される。例えば、生成光１３６は、光プローブ１３０のターゲット１０５に反射した部分である可能性があり、そのような信号は、ターゲット１０５が最初に光プローブ１３０に到達し、ターゲット１０５が光プローブ１０３の厚み内に完全に含まれ、信号が最大値に達するまで増加し、そして信号はターゲット１０５が光プローブ１３０を出るときに減少する。
【0026】
[0040] 生成光１３６は、いずれかの時点で、複数の異なる波長から選択された特定の波長を有する可能性がある。検出装置１３５は、これらの異なる波長のいずれかの光を検出できるように構成される。更に、各波長は、Ｘ、Ｙ、Ｚ座標系のＸ横断軸に沿った別個の位置と関連付けられ、Ｘ横断軸は、Ｘ、Ｙ、Ｚ座標系のＹ軸又はＺ軸のいずれかである。以下の一部の具体的な例では、Ｘ横断軸はＹ軸である。
【0027】
[0041] 制御装置１５０は検出装置１３５と通信する。制御装置１５０は、光装置１２５と通信することもできる。制御装置１５０は、検出した生成光１３６を分析し、Ｘ、Ｙ、Ｚ座標系のＸ軸とＸ横断軸の両方に沿ったターゲット１０５に関する位置情報を決定するように構成される。したがって、ターゲット１０５が光プローブ１３０と相互作用する時刻を決定することに加えて、制御装置１５０は、生成光１３６の波長が変化するのと同じ方向に沿った、つまりＸ横断軸に沿ったターゲット１０５についての位置情報を決定することができる。制御装置１５０は更に、Ｘ軸及びＸ横断軸に沿ったターゲット１０５の決定した位置情報（検出した生成光１３６の分析に基づく）に基づいて、ターゲット１０５及びターゲット軸方向経路１１０のうちの１つ以上に関する１つ以上の特性の調整１６０を実行することができる。例えば、調整１６０は、ターゲット１０５に対する動作光ビーム１２０の１つ以上の特徴を変更するための１つ以上の動作光ビーム１２０の調整である可能性がある。別の例として、動作光ビーム１２０のポインティング及び／又はそのパルスのタイミングを調整することができる。更に別の例として、調整１６０は、ターゲット１０５を生成するターゲット供給装置（図２及び図３）の調整であり、それによってターゲット１０５の生成方法に関する特徴を調整することができる。このように、制御装置１５０は、ターゲット１０５の軌道とターゲット領域１１５に到達するタイミングを制御し、その結果、動作光ビーム１０５のパルスはターゲット領域１１５にあるターゲット１０５を照射する。
【0028】
[0042] ターゲット１０５は、ターゲット材料と、場合により非ターゲット粒子などの不純物と、を含むターゲット混合物である。ターゲット１０５は、例えば、液体又は溶融金属の液滴、液体流の一部、固体粒子又はクラスタ、液滴中に含まれる固体粒子、ターゲット材料の発泡体、又は液体流の一部に含まれる固体粒子である可能性がある。ターゲット１０５は、例えば、水、スズ、リチウム、キセノン、又はプラズマ状態に変換されるときにＥＵＶ範囲の輝線を有する任意の材料を含む可能性がある。例えば、ターゲット１０５は、純スズ（Ｓｎ）として、ＳｎＢｒ４、ＳｎＢｒ２、ＳｎＨ４などのスズ化合物として、スズ－ガリウム合金、スズ－インジウム合金、スズ－インジウム－ガリウム合金、又はこれらの合金の任意の組み合わせなどのスズ合金として使用され得る元素スズを含む可能性がある。ターゲット１０５は、ターゲット領域１１５に向けられ、プローブ領域１３１を通過するターゲット１０５の流れとして形成される。ターゲット１０５が生成される速度、及びターゲット１０５がプローブ領域１３１を通過する速度は、例えば、少なくとも５０ｋＨｚ及び最大１００ｋＨｚ若しくは１００ｋＨｚ超など、数キロヘルツ（ｋＨｚ）又は数十キロヘルツ（ｋＨｚ）程度である可能性がある。ターゲット１０５がどのように生成されるかについての詳細は、図６を参照して以下に提供される。
【0029】
[0043] 光装置１２５は、複数の異なる波長を同時に有する光を含む光プローブ１３０を生成するように構成される可能性がある。更に、別個の波長を有する光プローブ１３０内の光の各成分は、プローブ領域１３１内のＸ横断軸に沿った別個の位置でターゲット１０５と相互作用する可能性がある。したがって、光プローブ１３０はＸ横断軸に沿った色変化を有する。例えば、光プローブ１３０は、Ｘ横断軸に沿った第１の位置で生成される第１の波長、Ｘ横断軸に沿った第２の位置で生成される第２の波長、及びＸ横断軸に沿った第３の位置で生成される第３の波長を含む可能性がある。別の例として、光プローブ１３０は、ターゲット１０５のターゲット軸方向経路１１０を横切る光ビームである光カーテン又は他のビーム形状として生成される。一部の実装形態では、光プローブ１３０は連続波光ビームである。一部の実装形態では、光プローブ１３０が十分に高い周波数（例えば、ターゲット１０５が生成される速度よりも高い）でパルス化される場合、光プローブ１３０がパルス光ビームである可能性がある。一部の実装形態では、光プローブ１３０は１つ以上のレーザビームで構成される。一方、他の実装形態では、光プローブ１３０は、レーザビームでない場合がある１つ以上の光ビームで構成される。
【0030】
[0044] 光プローブ１３０内のこのＸ横断方向の色変化によって、検出装置１３５及び制御装置１５０は、Ｘ横断軸に沿ったターゲット１０５の位置の変動性を測定することができる。これは、検出装置１３５がこのＸ横断軸に沿った波長分布の変化を感知するように構成されているためである。光装置１２５及び光プローブ１３０の様々な実装形態について、図２Ａ、図３Ａ、及び図５を参照して説明する。
【0031】
[0045] 検出装置１３５は、ストリーム内の各ターゲット１０５を（生成光１３６を介して）検出するのに十分に高い帯域幅で動作するフォトダイオードなどの１つ以上の光センサを含む可能性がある。したがって、ターゲット１０５が５０ｋＨｚの速度で生成される場合、検出装置１３５内の光センサは、生成光１３６を（エイリアシングなしで）５０ｋＨｚの速度で検出及び処理するほど十分高速である。検出装置１３５は、生成光１３６の波長分布を検知するように構成されている。これは、検出装置１３５が光プローブ１３０内のＸ横断方向の色変化に起因した、生成光１３６内の様々な波長の光を区別できることを意味する。検出装置１３５の詳細について、図２Ａ、図３Ａ、及び図５を参照して以下で説明する。
【0032】
[0046] 制御装置１５０は、電子プロセッサ及び電子ストレージを備える。プロセッサは、任意のタイプの電子プロセッサである可能性があり、２つ以上の電子プロセッサである可能性がある。プロセッサは、汎用又は専用マイクロプロセッサなどのコンピュータプログラムの実行に適した１つ以上のプロセッサ、及び任意の種類のデジタルコンピュータの任意の１つ以上のプロセッサを含む可能性がある。一般に、プロセッサは、読み取り専用メモリ、ランダムアクセスメモリ、又はその両方から命令及びデータを受け取る。電子ストレージは、おそらくコンピュータプログラムとして、実行時にプロセッサに検出装置１３５などのメトロロジシステム１００の他のコンポーネント及びターゲット１０５及びターゲット軸方向経路１１０のうちの１つ以上に関する１つ以上の特性の調整１６０に影響を与えるコンポーネントとの通信を行わせる命令を記憶する。電子ストレージは、ＲＡＭなどの揮発性メモリを含む可能性がある。電子ストレージは、不揮発性部分又はコンポーネントと揮発性部分又はコンポーネントの両方を含む可能性がある。更に、制御装置１５０は、様々な別個のモジュールを備える可能性があり、各モジュールは特定のタスクに特化している可能性がある。また、これらのモジュールは、物理的に互いに分離されているか又はメトロロジシステム１００の他の部分と一体化されている可能性がある。
【0033】
[0047] 図２Ａ及び図２Ｂを参照すると、メトロロジシステム１００の実装形態２００が示されている。メトロロジシステム２００では、プローブ光軸２３０ＯＡは、Ｘ、Ｙ、Ｚ座標系のＹ軸と平行である。したがって、光プローブ２３０は、このメトロロジシステム２００のＹ軸に沿って進む。メトロロジシステム２００は、光プローブ２３０を生成する光装置２２５を備える。光プローブ２３０は、３つのプローブ光ビーム２３０＿１、２３０＿２、２３０＿３（図２Ｂにより明確に示す）を含み、各プローブ光ビーム２３０＿１、２３０＿２、２３０＿３は、それぞれ別個の中心波長λ１、λ２、λ３を有する。各プローブ光ビーム２３０＿１、２３０＿２、２３０＿３は、（Ｙ軸と平行である）プローブ光軸２３０ＯＡに沿って伝搬し、ターゲット軸方向経路２１０と交差する。更に、各プローブ光ビーム２３０＿１、２３０＿２、２３０＿３は、プローブ光軸２３０ＯＡに沿った別個の各位置Ｙ＿１、Ｙ＿２、Ｙ＿３で集束する。
【0034】
[0048] 一部の実装形態では、プローブ光ビーム２３０＿１、２３０＿２、２３０＿３はレーザビームである。プローブ光ビーム２３０＿１、２３０＿２、２３０＿３は、強度プロファイルが円形である（つまり、ＸＺ平面内にある）可能性があり、したがって、典型的なスルーフォーカスレーザウエストプロファイルを有することになる。これらの実装形態では、プローブ光ビーム２３０＿１、２３０＿２、２３０＿３は、Ｙ軸に関して対称な横断形状を有する。一部の実装形態では、プローブ光ビーム２３０＿１、２３０＿２、２３０＿３は非円形ビームである可能性があり、ビームウエストの長手方向位置は、横断方向によって異なる可能性がある。この形状は、円柱レンズを使用することによって生成される可能性がある。円筒集束ビーム（「カーテン」）の場合、横断プロファイルはのみのような形状を有し、Ｚ軸方向に長い。
【0035】
[0049] 一部の実装形態では、光装置２２５は、レーザなどの１つの光源と、単一の光ビームを異なる波長λ１、λ２、λ３の、Ｙ＿１、Ｙ＿２、Ｙ＿３に異なる焦点を有する３つのプローブ光ビーム２３０＿１、２３０＿２、２３０＿３に変換するための光学コンポーネントと、を備える。他の実装形態では、光装置２２５は３つのレーザを備え、各レーザは、異なる波長λ１、λ２、λ３の各プローブ光ビーム２３０＿１、２３０＿２、２３０＿３を生成する。更に他の実装形態では、光装置２２５は、異なる波長λ１、λ２、λ３の３つのプローブ光ビーム２３０＿１、２３０＿２、２３０＿３を生成する単一のレーザ又は広帯域光源を備える。プローブ光ビーム２３０＿１、２３０＿２、２３０＿３は、１つ以上の光ファイバデバイスを使用して、１つ以上の光源からプローブ領域２３１に向けて結合される可能性がある。光装置２２５は、各プローブ光ビーム２３０＿１、２３０＿２、２３０＿３の経路に集束デバイスを更に備える可能性があり、この集束デバイスは、その特定のプローブ光ビームをプローブ光軸２３０ＯＡに沿った各別個の焦点位置Ｙ＿１、Ｙ＿２、Ｙ＿３に集束させるように構成されている。
【0036】
[0050] 一部の実装形態では、波長λ１、λ２、λ３は、可視及び／又は近赤外（ＮＩＲ）範囲にある可能性がある。各波長間の間隔（例えば、λ１とλ２又はλ２とλ３の間隔）は、光装置２２５内の光学系（フィルタなど）のタイプ及び設計に依存する。そして、一部の実装形態では、波長間隔は、数十ナノメートル（ｎｍ）、約２０ｎｍ、約３０ｎｍ、又は約４０ｎｍ程度である可能性がある。
【0037】
[0051] メトロロジシステム２００の実装形態では３つのプローブ光ビーム２３０＿１、２３０＿２、２３０＿３が示されているが、他の実装形態では、光プローブ２３０は３つより多くのプローブ光ビームを含む。
【0038】
[0052] 同様に図２Ｃを参照すると、検出装置２３５は、生成光２３６を受け取るように構成されている。更に、検出器２３５は、ターゲット２０５のプローブ領域２３１における位置に関係なく生成光２３６（ターゲット２０５から反射された光であり得る）を検出できるように配向されている。生成光２３６は、各プローブ光ビーム２３０＿１、２３０＿２、２３０＿３のターゲット２０５から反射又は散乱される部分に対応する可能性がある。図示されているように、生成光２３６は、プローブ光軸２３０ＯＡと異なり、ターゲット軸方向経路２１０とも異なる経路に沿って進むことができる。
【0039】
[0053] 検出装置２３５は、生成光２３６を処理及び修正するための光学コンポーネント２３７と、光学コンポーネント２３７から処理光２３９を受け取るセンサ装置２４２と、を備える。光学コンポーネント２３７は、生成光２３６のビーム整形のためのレンズなどの１つ以上の集光光学系２３８を備え、任意選択的に空間フィルタ及び／又はスリット開口を備える。光学コンポーネント２３７は、ミラー及び／又はプリズムなどの折り畳み光学系を含む可能性もある。光学コンポーネント２３７は、生成光２３６をそれぞれが別個の各波長λ１、λ２、λ３を有する光部分２４１＿１、２４１＿２、２４１＿３に分離するための光学デバイスの受動的なセットであり得る色分離デバイス２４０を備える。例えば、色分離デバイス２４０は、一セットのダイクロイックビームスプリッタ又はミラーを含む可能性がある。このようにして、検出装置２３５は、異なる波長λ１、λ２、λ３のそれぞれの間で生成光２３６を区別することができる。
【0040】
[0054] 同様に図２Ｄを参照すると、センサ装置２４２は、複数の検出器２４２＿１、２４２＿２、２４２＿３を備え、各検出器は、異なる波長λ１、λ２、λ３のうちのいずれかの生成光２３６を検出するように構成され、生成光２３６は、プローブ領域２３１におけるプローブ２３０とターゲット２０５との相互作用から生成される。各検出器２４２＿１、２４２＿２、２４２＿３は、光検出器のエリア又は領域である可能性がある。例えば、検出器２４２＿１はフォトダイオードアレイの第１の画素セットに相当する可能性があり、検出器２４２＿２はフォトダイオードアレイの第２の画素セットに相当する可能性があり、検出器２４２＿３はフォトダイオードアレイの第３の画素セットに相当する可能性がある。他の実装形態では、各検出器２４２＿１、２４２＿２、２４２＿３は、別個の異なるフォトダイオード又はフォトダイオードアレイに相当する可能性がある。
【0041】
[0055] 各検出器２４２＿１、２４２＿２、２４２＿３の出力２４３＿１、２４３＿２、２４３＿３が、分析のために制御装置２５０に提供される。検出器が光検出器である場合、出力２４３＿１、２４３＿２、２４３＿３は、時間の経過とともにその検出器の活性領域と相互作用する光から生成される光電流の振幅に対応する。そのような光電流は、広範囲の光パワーにわたって吸収される（又は入射する）光の強度に比例する。更に、光検出器の使用によって、ターゲット２０５が生成されるのと同じ速さでの高速検出が可能になり、したがって、制御装置２５０が光プローブ２３０と相互作用する各ターゲット２０５についての分析を実行することが可能になる。
【0042】
[0056] 図２Ｅに示すように、図２Ｂの相互作用について、検出器２４２＿１、２４２＿２、２４２＿３の各出力２４３＿１、２４３＿２、２４３＿３を示す。具体的には、例えば図２Ｂでは、ターゲット２０５はプローブ光ビーム２３０＿２の焦点Ｙ＿２とほぼ位置合わせされている。よって、検出器２４２＿２の出力２４３＿２は、検出器２４２＿１の出力２４３＿１及び検出器２４２＿３の出力２４３＿３よりも高い振幅を有する。
【0043】
[0057] 別の例として、図２Ｆでは、ターゲット２０５は－Ｙ方向に沿って逸れた結果、プローブ光ビーム２３０＿１の焦点Ｙ＿１とより緊密に位置合わせされる。図２Ｆのターゲット２０５の位置についての検出器２４２＿１、２４２＿２、２４２＿３の各出力２４３＿１、２４３＿２、２４３＿３を図２Ｇに示す。図示されているように、検出器２４２＿１における出力２４３＿１の振幅が最大である。更に、ターゲット２０５はＹ＝０からオフセットされているため、検出器２４２＿３の出力２４３＿３は、検出器２４２＿２の出力２４３＿２よりも小さい。
【0044】
[0058] 制御装置２５０は、これらの出力信号の互いに対する比を分析することによって、Ｙ方向に沿ったターゲット２０５の位置を決定することができる。例えば、制御装置２５０は、出力２４３＿１の出力２４３＿２に対する比Ｒ１２、出力２４３＿３の出力２４３＿２に対する比Ｒ３２、又は出力２４３＿１の出力２４３＿３に対する比Ｒ１３を分析することができる。
【0045】
[0059] 図２Ａの実装形態では、１つ以上の動作光ビーム２２０は、動作光源２２１によって生成される。１つ以上の動作光ビーム２２０は、動作光ビーム２２０がプローブ領域２３１の下流にあるターゲット領域２１５内のターゲット２０５と相互作用するように、概ねＺ軸と平行な方向に沿って延びる。この実装形態では、光プローブ２３０及びプローブ光ビーム２３０＿１、２３０＿２、２３０＿３は、動作光ビーム２２０の方向と平行でない方向に沿って伝搬する。例えば、光プローブ２３０（及びプローブ光ビーム２３０＿１、２３０＿２、２３０＿３）は、動作光ビーム２２０の方向に対して垂直である可能性がある。更にターゲット２０５はターゲット供給装置２０６によって生成される。ターゲット供給装置２０６及び動作光源２２１のうちの１つ以上は、制御装置２５０が検出装置２３５からの出力を分析したことに基づいて、制御装置２５０から調整２６０の命令を受け取る。具体的には、制御装置２５０は、Ｘ、Ｙ、Ｚ座標系のＹ軸に沿ったターゲット２０５の位置情報（例えば位置）を決定する。そして、制御装置２５０は、ターゲット２０５が１つ以上の動作光ビーム２２０と相互作用し、それによってＥＵＶ光を効率的に生成するのに適切な瞬間及び位置でターゲット領域２１５に入ることを保証するように、ターゲット２０５のＹ軸に沿ったドリフトを考慮するためにターゲット供給装置２０６及び／又は動作光源２２１を調整するかどうか及びどのように調整するかを決定することができる。
【0046】
[0060] 図３Ａを参照すると、メトロロジシステム１００の別の実装形態３００が示されている。メトロロジシステム３００では、プローブ光軸３３０ＯＡは、ターゲット軸方向経路３１０と交差するようにＸ、Ｙ、Ｚ座標系のＺ軸と平行である。したがって、メトロロジシステム３００では、光プローブ３３０は少なくともプローブ領域３３１内をＺ軸に沿って進む。
【0047】
[0061] メトロロジシステム３００は、光プローブ３３０を生成する光装置３２５を備える。光プローブ３３０は、横断方向の色変化を有するビームである。つまり、色変化は、光プローブ３３０が進む方向に垂直な方向に沿って広がる。この例では、色変化はＹ軸に沿って広がる。ターゲット３０５がＹ軸に沿って移動するにつれて生成光３３６の波長分布が変化するため、光プローブ３３０の横断方向の色変化によって、Ｙ軸に沿ったターゲット３０５の位置の変化の測定が可能になる。
【0048】
[0062] この目的のために、メトロロジシステム３００は、生成光３３６を受け取るように構成された検出装置３３５と、検出装置３３５からの出力を受け取り、出力を分析し、Ｘ及びＹ方向に沿ったターゲット３０５に関する位置情報を決定するように構成された制御装置３５０と、を備える。制御装置３５０は更に、（検出した生成光３３６の分析に基づく）ターゲット３０５のＸ軸及びＸ横断軸に沿った決定した位置情報に基づいて、ターゲット３０５及びターゲット軸方向経路３１０のうちの１つ以上に関する１つ以上の特性の調整３６０に影響を与えることができる。調整３６０は、動作光源３２１（動作光ビーム３２０のターゲット３０５に対する１つ以上の特徴を変更するため）及びターゲット３０５を生成するターゲット供給装置３０６（ターゲット３０５がどのように生成されるかに関する特徴を調整するため）の一方又は両方に対して行われる可能性がある。このように、制御装置３５０は、ターゲット３０５の軌道及びそれらがターゲット領域３１５に到達するタイミングを制御し、その結果、動作光ビーム３０５のパルスがターゲット領域３１５でターゲット３０５を照射し、効果的にＥＵＶ光を生成する。
【0049】
[0063] 図３Ｂ及び図３Ｃを参照すると、光プローブ３３０は、Ｙ軸に沿った横断方向の広がりを有し、更にこの横断方向の広がりに沿って色変化がある。この特定の実装形態では、簡単にするために、光プローブ３３０の各部分３３０＿１、３３０＿２、３３０＿３、３３０＿４、３３０＿５にわたる光プローブ３３０の色変化に５つの異なる波長λ１、λ２、λ３、λ４、λ５が示される。ただし、５つよりも少ない又は多い異なる波長が存在する可能性がある。また、（図３Ｃに示すように）色変化が別個の中心波長にある可能性があり、代替的に、色変化が横断方向の広がりにわたる波長の連続的な変化である可能性がある。
【0050】
[0064]検出装置３３５は、色分離デバイス３４０を備え、色分離デバイス３４０は、生成光３３６をそれぞれが別個の各波長λ１、λ２、λ３、λ４、λ５を有する光部分３４１＿１、３４１＿２、３４１＿３、３４１＿４、３４１＿５に分離するための光学デバイスの受動的なセットである可能性がある。色分離デバイス３４０は波長分離を空間分離に変換する。例えば、色分離デバイス３４０は、一セットのダイクロイックビームスプリッタ又はミラーを備える可能性がある。別の例として、色分離デバイス３４０は、透過性又は反射性であり得る格子などの分散素子、又は、プリズムなどの分散光学素子を含む。このように、検出装置３３５は、生成光３３６を異なる波長λ１、λ２、λ３、λ４、λ５のそれぞれの間で区別することができる。
【0051】
[0065] 検出装置３３５はまた、処理した光部分３４１＿１、３４１＿２、３４１＿３、３４１＿４、３４１＿５を受け取るセンサ装置３４２を備える。センサ装置３４２は、それぞれが異なる波長λ１、λ２、λ３、λ４、λ５のうちのいずれかの生成光３３６を検出するように構成される複数の検出器３４２＿１、３４２＿２、３４２＿３、３４２＿４、３４２＿５を備え、生成光３３６は、プローブ領域３３１における光プローブ３３０とターゲット３０５との相互作用から生成される。センサ装置３４２は、分散素子（例えば、格子又はプリズム）などの色ビーム分離システム、一連のダイクロイックフィルタ若しくはビームスプリッタ、又はモノリシックフィルタ構造を更に備える可能性がある。
【0052】
[0066] 各検出器３４２＿１、３４２＿２、３４２＿３、３４２＿４、３４２＿５は、光検出器のエリア又は領域である可能性がある。例えば、検出器３４２＿１はフォトダイオードアレイの第１の画素セットに相当する可能性があり、検出器３４２＿２はフォトダイオードアレイの第２の画素セットに相当する可能性があり、検出器３４２＿３はフォトダイオードアレイの第３の画素セットに相当する可能性があり、検出器３４２＿４はフォトダイオードアレイの第４の画素セットに相当する可能性があり、検出器３４２＿５はフォトダイオードアレイの第５の画素セットに相当する可能性がある。他の実装形態では、各検出器３４２＿１、３４２＿２、３４２＿３、３４２＿４、３４２＿５は、別個の異なるフォトダイオード又はフォトダイオードアレイに相当する可能性がある。
【0053】
[0067] 図３Ｃに示す例では、ターゲット３０５は光プローブ３３０の部分３３０＿３と相互作用している。この例では、ターゲット３０５はＸ軸とかなりよく位置合わせされており、Ｙ軸に沿ってそれほど外れてはいない。したがって、生成光３３６は、主波長λ３を有することになり、波長λ３と関連付けられる信号は、検出装置３３５により分析される信号全体を支配することになる。したがって、光部分３４１＿３は、他の光部分よりも振幅及び出力がはるかに大きく、検出器３４２＿３における信号は、他の検出器における信号よりもはるかに大きい。
【0054】
[0068] 図４Ａから図４Ｃは、ターゲット３０５のＹ軸に沿った様々な位置についての生成光３３６を示している。例えば、図４Ａでは、ターゲット３０５は、部分３３０＿４と相互作用するように－Ｙ方向に沿ってオフセットされ、主波長λ４は生成光３３６として検出装置３３５に反射される。したがって、検出器３４２＿４は光の最大振幅を感知し、他の検出器は比較的小さい光の振幅を感知する。図４Ｂでは、ターゲット３０５は、部分３３０＿２と相互作用するように＋Ｙ方向に沿ってオフセットされており、主波長λ２は生成光３３６として検出装置３３５に反射される。したがって、検出器３４２＿２は光の最大振幅を感知し、他の検出器は比較的小さい光の振幅を感知する。図４Ｃでは、ターゲット３０５は、部分３３０＿５と相互作用するように－Ｙ方向に沿って大幅にオフセットされており、主波長λ５は生成光３３６として検出装置３３５に反射される。したがって、検出器３４２＿５は光の最大振幅を感知し、他の検出器は比較的小さい光の振幅を感知する。
【0055】
[0069] 一部の実装形態では、光プローブ３０５は、Ｙ軸を横切る連続光スペクトルを有するビームである広帯域光プローブビームである可能性がある。この例では、光装置３２５は、光プローブ３０５を生成する単一の広帯域光源を備える可能性がある。他の実装形態では、光プローブ３０５は、それぞれが別個の中心波長を有する複数のプローブ光ビームで構成される可能性がある。この例では、光装置３２５は、それぞれが別個の中心波長のプローブ光ビームを生成する複数の物理的に異なる光源を備える可能性がある。他の実装形態では、光装置３２５は、レーザ光を非常に広いスペクトル帯域幅を有する光に変換して、超広範な連続光スペクトルを生成するスーパーコンティニューム光源である可能性がある。光装置３２５は、色分離を達成するためにプリズム及び／又は格子を使用することができる。更に、光装置３２５の設計は、光プローブ３０５を生成するのに使用されるコンポーネントの倍率や開口数などのパラメータを決定するための物理的距離（光プローブ３０５がプローブ領域３３１に到達するために進む必要がある距離）及び信号レベルの評価を含む可能性がある。
【0056】
[0070] 検出装置３３５は、例えば、生成光３３６の波長を空間距離に変換する格子を備えた線形センサアレイなど、任意の適切な方法で実装される可能性がある。検出装置３３５は、一体型カラーフィルタを備えたカメラピクセルアレイを備える可能性がある、又はダイクロイックコーティングを備えた複数のフォトダイオードを備える可能性がある。
【0057】
[0071] メトロロジシステム３００の実装形態５００が図５に示されている。メトロロジシステム３００と同様に、メトロロジシステム５００では、プローブ光軸５３０ＯＡは、プローブ光軸５３０ＯＡがターゲット軸方向経路５１０と交差するようにＸ、Ｙ、Ｚ座標系のＺ軸と平行である。したがって、メトロロジシステム５００では、光プローブ５３０は、少なくともプローブ領域５３１においてＺ軸に沿って進む。
【0058】
[0072] メトロロジシステム５００は、光プローブ５３０を生成する光装置５２５を備える。光プローブ５３０は、ターゲット軸方向経路５１０上に投影される横断方向の色変化を有するビームである。つまり、色変化は、光プローブ５３０が進む方向に垂直な方向に沿って広がる。この例では、色変化はＹ軸に沿って広がる（図３Ｂ及び図３Ｃに示す）。ターゲット５０５がＹ軸に沿って移動するにつれて生成光５３６の波長分布が変化するため、光プローブ５３０の横断方向の色変化によって、ターゲット５０５のＹ軸に沿った位置の変化の測定が可能になる。
【0059】
[0073] この目的のために、メトロロジシステム５００は、生成光５３６を受け取るように構成された検出装置５３５と、検出装置５３５からの出力を受け取り、出力を分析し、Ｘ及びＹ方向に沿ったターゲット５０５に関する位置情報を決定するように構成された制御装置５５０と、を備える。制御装置５５０は更に、（検出した生成光５３６の分析に基づく）ターゲット５０５のＸ軸及びＸ横断軸に沿った決定した位置情報に基づいて、ターゲット５０５及びターゲット軸方向経路５１０のうちの１つ以上に関する１つ以上の特性の調整５６０に影響を与えることができる。調整５６０は、動作光源５２１（動作光ビーム５２０のターゲット５０５に対する１つ以上の特徴を変更するため）及びターゲット５０５を生成するターゲット供給装置５０６（ターゲット５０５がどのように生成されるかに関する特徴を調整するため）の一方又は両方に対して行うことができる。このように、制御装置５５０は、ターゲット５０５の軌道及びそれらがターゲット領域５１５に到達するタイミングを制御し、その結果、動作光ビーム５０５のパルスがターゲット領域５１５でターゲット３０５を照射し、効果的にＥＵＶ光を生成する。
【0060】
[0074] この実装形態では、光装置５２５は、対象の波長の全てを有する広帯域光ビーム５２６ｂを生成する広帯域光源５２６、色整形光学素子５２７、及び結像光学素子５２８を備える。色整形光学素子５２７は、広帯域光ビーム５２６ｂを、それぞれ別個の中心波長λ１、λ２、λ３、λ４、λ５のプローブ光ビーム５３０＿１、５３０＿２、５３０＿３、５３０＿４、５３０＿５に分離する。一部の実装形態では、結像光学素子５２８は、プローブ光ビーム５３０＿１、５３０＿２、５３０＿３、５３０＿４、５３０＿５の経路に、プローブ領域５３１にＹ軸に沿った光カーテンとして別個の焦点を形成するように構成された円筒形集束光学系（円筒形レンズなど）を含む。他の実装形態では、結像光学素子５２８は、プローブ光ビーム５３０＿１、５３０＿２、５３０＿３、５３０＿４、５３０＿５の経路に、プローブ領域５３１においてプローブ光ビーム５３０＿１、５３０＿２、５３０＿３、５３０＿４、５３０＿５をコリメートするように構成されたコリメート光学系を含む。他の実装形態では、結像光学素子５２８は、プローブ光ビーム５３０＿１、５３０＿２、５３０＿３、５３０＿４、５３０＿５をプローブ領域５３１に結像する。つまり、結像光学素子５２８によって、各プローブ光ビームの像がプローブ領域に送られる。
【0061】
[0075] この実装形態では、光プローブ５３０（集合的に、プローブ光ビーム５３０＿１、５３０＿２、５３０＿３、５３０＿４、５３０＿５）は、プローブ領域５３１において、１つ以上の動作光ビーム５２０がターゲット領域５１５内を進む方向により定義される動作軸と平行な経路に沿って進む。更に、光プローブ５３０は、動作光ビーム５２０が相互作用する光学素子５２３の少なくとも一部と相互作用することができる（これらの光学素子５２３は、動作光学素子と称される可能性がある）。例えば、これは、動作光学素子が光プローブ５３０の中心波長λ１、λ２、λ３、λ４、λ５を包含する動作範囲を有する場合に可能になる可能性がある。光プローブ５３０はまた、動作光ビーム５２０と平行な経路に沿ってＥＵＶ光コレクタ（ミラーなど）５２４を通過する。
【0062】
[0076] 生成光５３６は、光プローブ５３０のターゲット５０５から反射される部分である可能性がある。更に、生成光５３６は、プローブ領域５３１内の動作軸に沿って反射して戻る可能性がある。このように生成光５３６は、動作光学素子の少なくとも一部とも相互作用する。光プローブ５３０は、ビームスプリッタ５２２によって動作光路に結合され、生成光５３６は、ビームスプリッタ５２２によって動作光路から結合される。ビームスプリッタ５２２は色スプリッタである可能性があり、その結果、生成光５３６は例えば透過され、光プローブ５３０は反射される。
【0063】
[0077] 光プローブ５３０及び生成光５３６がメトロロジシステム５００内の動作光学素子５２３の少なくとも一部と相互作用する一方で、光プローブ５３０及び／又は生成光５３６は、動作光学素子５２３と完全に異なる経路を辿ることが可能である。
【0064】
[0078] 以上で考察したように、検出装置５３５は色分離デバイス５４０を備え、色分離デバイス５４０は、生成光５３６をそれぞれが別個の各波長λ１、λ２、λ３、λ４、λ５を有する光部分５４１＿１、５４１＿２、５４１＿３、５４１＿４、５４１＿５に分離するように構成された光学デバイス５４０＿１、５４０＿２、５４０＿３、５４０＿４、５４０＿５の受動的なセットである可能性がある。この実装形態では、光学デバイス５４０＿１、５４０＿２、５４０＿３、５４０＿４、５４０＿５は、ダイクロイックビームスプリッタ又はミラーである。このように、検出装置５３５は、異なる波長λ１、λ２、λ３、λ４、λ５のそれぞれの間で生成光５３６を区別することができる。
【0065】
[0079] 検出装置５３５はまた、処理した光部分５４１＿１、５４１＿２、５４１＿３、５４１＿４、５４１＿５を受け取るセンサ装置５４２を備える。実際、光部分５４１＿１、５４１＿２、５４１＿３、５４１＿４、５４１＿５の相対的サイズは、ターゲット５０５のＹ軸に沿った位置を示すことになる一方、光部分５４１＿１、５４１＿２、５４１＿３、５４１＿４、５４１＿５の全ての信号又は振幅全体は、ターゲット５０５のＸ軸に沿った位置を示すことになる。センサ装置５４２は、それぞれが異なる波長λ１、λ２、λ３、λ４、λ５のうちのいずれかの生成光５３６の一部を検出するように構成されている複数の検出器５４２＿１、５４２＿２、５４２＿３、５４２＿４、５４２＿５を備え、生成光５３６は、プローブ領域５３１における光プローブ５３０とターゲット５０５との相互作用から生成される。各検出器５４２＿１、５４２＿２、５４２＿３、５４２＿４、５４２＿５は、光検出器のエリア又は領域である可能性がある。例えば、検出器５４２＿１はフォトダイオードアレイの第１の画素セットに相当する可能性があり、検出器５４２＿２はフォトダイオードアレイの第２の画素セットに相当する可能性があり、検出器５４２＿３はフォトダイオードアレイの第３の画素セットに相当する可能性があり、検出器５４２＿４はフォトダイオードアレイの第４の画素セットに相当する可能性があり、検出器５４２＿５はフォトダイオードアレイの第５の画素セットに相当する可能性がある。他の実装形態では、各検出器５４２＿１、５４２＿２、５４２＿３、５４２＿４、５４２＿５は、別個の異なるフォトダイオード又はフォトダイオードアレイに相当する可能性がある。
【0066】
[0080] 他の実装形態では、ビームスプリッタ５２２の代わりに偏光管理を用いて、生成光５３６を光プローブ５３０から分離することができる。例えば、そのような偏光管理は、異なる掌性の回転偏光ビームを生成及び分離することの前及び４分の１波長後にポラライザを備えた偏光ビームスプリッタシステムを含む可能性がある。
【0067】
[0081] 図６を参照すると、メトロロジシステム１００の実装形態６００が、動作中にＥＵＶ光ビーム６７１をリソグラフィ露光装置であり得る出力装置６７２に供給するＥＵＶ光源６７０に組み込まれている。ＥＵＶ光源６７０は、各ターゲット６０５が第１の動作光ビーム６２０Ａと相互作用して修正ターゲット６０５ｍを形成する第１のターゲット空間と、各修正ターゲット６０５ｍが第２の動作光ビーム６２０Ｂと相互作用する第２のターゲット空間とを画定する真空チャンバ６７３を備える。第１及び第２のターゲット空間はターゲット領域６１５にある。
【0068】
[0082] 光装置６２５及び検出装置６３５は、ターゲットがターゲット領域６１５に入る前に、プローブ領域６３１にあるターゲット６０５と相互作用するように構成される。
【0069】
[0083] ＥＵＶ光源６７０は、第２のターゲット空間に対して配置されたＥＵＶ光コレクタ（ミラーなど）６２４を備える。ＥＵＶ光コレクタ６２４は、修正ターゲット６０５ｍが第２の動作光ビーム６２０Ｂと相互作用するときに生成されるプラズマ６７５から放射されるＥＵＶ光６７４を収集する。ＥＵＶ光コレクタ６２４は、収集したＥＵＶ光６７４をＥＵＶ光ビーム６７１として出力装置６７２に向けて方向転換する。ＥＵＶ光コレクタ６２４は、ＥＵＶ波長を有する光（つまりＥＵＶ光６７４）を反射して生成ＥＵＶ光ビーム６７１を形成することができる曲面ミラーなどの反射光学デバイスである可能性がある。
【0070】
[0084] ＥＵＶ光源６７０は、第１の動作光ビーム６２０Ａとの相互作用のために第１のターゲット空間に向けられるターゲット６０５の流れを形成するターゲット供給装置６０６を備える。ターゲット６０５は、第２の動作光ビーム６２０Ｂとの相互作用後など、プラズマ状態にあるときにＥＵＶ光６７４を生成するターゲット材料から形成される。第１のターゲット空間は、例えば、ターゲット６０５がプラズマ状態に変換される位置である。ターゲット供給装置６０６は、流体ターゲット材料を含むように構成される中空内部を画定するリザーバ６０７を備える。ターゲット供給装置６０６は、一端でリザーバ６０７の内部と流体連通する開口部（又はオリフィス）６０９を有するノズル構造６０８を備える。流体状態にあるターゲット材料は、圧力Ｐの力（及び重力などの他の考えられる力）を受けて、リザーバ６０７の内部から開口部６０９を通って流れてターゲット６０５の流れを形成する。開口部６０９から吐出されるターゲット６０５の軌道（ターゲット軸方向経路６１０）は概して－Ｘ方向に延びるが、以上で考察したように、ターゲット６０５の軌道は、－Ｘ方向に垂直な平面に沿った成分（つまり、Ｙ及びＺ成分）を含むことが可能である。
【0071】
[0085] 各修正ターゲット６０５ｍは、動作光源６２１により生成される第２の動作光ビーム６２０Ｂのパルスとの相互作用を通じて少なくとも部分的に又は大部分がプラズマに変換され、そのような相互作用は第２のターゲット空間において生じる。以上で考察したように、各ターゲット６０５は、ターゲット材料と、任意選択的に非ターゲット粒子などの不純物と、を含むターゲット混合物である。ターゲット６０５は、例えば、液体又は溶融金属の液滴、液体流の一部、固体粒子又はクラスタ、液滴中に含まれる固体粒子、ターゲット材料の発泡体、又は液体流の一部に含まれる固体粒子である可能性がある。ターゲット６０５は、例えば、水、スズ、リチウム、キセノン、又はプラズマ状態に変換されるときにＥＵＶ範囲の輝線を有する任意の材料を含む可能性がある。例えば、ターゲット６０５は、純スズ（Ｓｎ）として、ＳｎＢｒ４、ＳｎＢｒ２、ＳｎＨ４などのスズ化合物として、スズ－ガリウム合金、スズ－インジウム合金、スズ－インジウム－ガリウム合金、又はこれらの合金の任意の組み合わせなどのスズ合金として使用され得る元素スズを含む可能性がある。
【0072】
[0086] ＥＵＶ光源６７０は、制御装置６５０及びＥＵＶ光源６７０の他のコンポーネント（ターゲット供給装置６０６など）と通信する専用コントローラ６７８を備える可能性がある。代替的には、制御装置６５０がコントローラ６７８の一部であることが可能である。
【0073】
[0087] ＥＵＶ光源６７０のＸ、Ｙ、Ｚ座標系は、真空チャンバ６７３の態様に基づいて固定又は決定される可能性がある。例えば、チャンバ６７３は一組の壁によって画定される可能性があり、チャンバ６７３の１つ以上の壁上又はチャンバ６７３の空間内の３点がＸ、Ｙ、Ｚ座標系のための基準を提供することができる。光装置６２５及び検出装置６３５のコンポーネントのうち１つ以上をチャンバ６７３の１つ以上の壁に固定することが可能である。
【0074】
[0088] ＥＵＶ光源６７０は更に、図示しない他のメトロロジ装置を備える可能性がある。例えば、ＥＵＶ光源６７０は、ターゲット６０５が第１のターゲット空間に向かって進むときに観察するように位置決めされた粗動ターゲット操向カメラと微動ターゲット操向カメラとを備える可能性があり、そのような操向カメラはコントローラ６７８と通信する。コントローラ６７８は、これらの操向カメラからのデータを分析してＹ方向及びＺ方向のうち１つ以上におけるターゲット８１５の位置を判定することができる。別の例として、ＥＵＶ光源６７０は、ＥＵＶ光６７４を検出又は検知するように配置及び構成された一セットのセンサを備える可能性があり、ＥＵＶ光６７４についてのそのような情報は、ＥＵＶ光源６７０の他の態様又は制御における使用のためにコントローラ６７８によって分析される可能性がある。
【0075】
[0089] 図７を参照すると、メトロロジシステム１００（メトロロジシステム２００、３００、又は５００であり得る）は手順７８０を実行することができる。メトロロジシステム１００は、以上で説明したように光プローブ１３０を生成する（７８１）。光プローブ１３０は、Ｘ横断方向（ＹＺ平面内にあり得る）に沿ってターゲット軸方向経路１１０を横切るカーテンとして方向付けられる。ターゲット１０５が光プローブ１３０のカーテンを横切ると（そして光プローブ１３０と相互作用すると）、光１３６が生成され、次いで検出される（７８２）。具体的には、検出装置１３５は、複数の異なる波長の生成光１３６を検出し、各波長は、Ｘ、Ｙ、Ｚ座標系のＸ横断方向に沿った別個の位置と関連付けられる。制御装置１５０は、この検出した光を分析し、Ｘ軸及びＸ横断軸に沿ったターゲットに関する位置情報を決定する（７８３）。制御装置１５０は、決定した位置情報（７８３）に基づいて、ターゲット１０５がターゲット領域１１５への所望の軌道（又はターゲット軸方向経路１１０）上にあるかどうかを判定する（７８４）。ターゲット１０５が所望の軌道上にない場合（７８４）、制御装置１５０は、Ｘ軸及びＸ横断軸に沿ったターゲット１０５の決定した位置情報に基づいて、ターゲット１０５及びターゲット軸方向経路１１０のうちの１つ以上に関する１つ以上の特性の調整１６０に影響を与える（７８５）。制御装置１５０は、ターゲット１０５がターゲット領域１１５に到達する時刻を計算するなどの他の分析を更に実行し（７８６）、またパルスが問題のターゲット１０５と同時にターゲット領域１１５に到達する時刻に動作光ビーム２２０のパルスを生成するように動作光源２２１、３３１に命令する（７８７）信号を動作光源（２２１、３３１など）に送信することができる。制御装置１５０は更に、診断目的で得られた情報を利用して、ＥＵＶ光源６７０のコンポーネント又は経時的な安定性についての長期予測を行うことができる。
【0076】
[0090] 図７に示すフローチャートは、単一のターゲット１０５に関する動作のみを示している。実際には、ターゲット供給装置２０６、３０６は、以上で説明したようにターゲット１０５を連続的に生成している。そして、連続した一連のターゲット１０５が存在するため、同様に検出装置１３５で検出される生成光１３６の連続した一連のフラッシュと、検出装置１３５で生成され、制御装置１５０により分析される一連のタイミング信号と、が存在することになる。これによって、動作光源２２１、３２１が一連のパルスを発射し、ターゲット領域１１５にある一連のターゲット１０５を照射してＥＵＶ光６７４を生成する。更に、制御装置１５０は、同様に順次及び各ターゲット１０５についてフィードフォワード式に（つまり、ターゲット１０５がターゲット領域１１５に到達する前に）調整１６０に影響を与えるように動作する。これによって、ターゲット領域１１５に到達する前にターゲット１０５を調整することができる。
【0077】
[0091] 実施形態は、以下の条項を使用して更に説明される可能性がある。
１．複数の異なる波長の光を含む光プローブであって、プローブ領域においてターゲット軸方向経路と交差するプローブ光軸に沿って伝搬する光の異なる波長を含む光プローブを生成するように構成された光装置と、
プローブ領域における光プローブとターゲット軸方向経路に沿って進むターゲットとの相互作用から生成される複数の異なる波長の生成光を検出するように構成された検出装置と、
検出装置と通信する制御装置であって、検出した光を分析し、分析に基づいてターゲット及びターゲット軸方向経路のうちの１つ以上に関する１つ以上の特性を調整するように構成された制御装置と、
を備えた、メトロロジシステム。
２．光装置が、それぞれがターゲット軸方向経路と交差するプローブ光軸に沿って伝搬し、それぞれが別個の中心波長を有する複数のプローブ光ビームを光プローブとして生成するように構成された１つ以上の光源を備える、条項１のメトロロジシステム。
３．別個の中心波長を有する各プローブ光ビームが、プローブ光軸に沿ったプローブ領域内の別個の位置に集束される、条項２のメトロロジシステム。
４．光装置が、ターゲット軸方向経路と交差するプローブ光軸に沿って伝搬し、中心波長の連続スペクトルにより定義されるプローブ光ビームを光プローブとして生成するように構成された１つ以上の光源を備える、条項１のメトロロジシステム。
５．光プローブがプローブ光軸に沿ったプローブ領域内に別個の焦点を有する、条項１のメトロロジシステム。
６．別個の焦点をプローブ光軸に垂直な方向に沿った光プローブの光カーテンとして形成するように構成された円筒形集束光学系を光プローブの経路に更に備えた、条項５のメトロロジシステム。
７．光プローブが、プローブ光軸に沿ってコリメートされるか又はプローブ領域で結像される、条項１のメトロロジシステム。
８．検出装置が、それぞれが光プローブの各プローブ光ビームとターゲットとの相互作用からの生成光を検出するように構成された複数の検出器を備える、条項１のメトロロジシステム。
９．各検出器が各プローブ光ビームのターゲットに入射する部分を検出するように構成される、条項８のメトロロジシステム。
１０．各検出器が各プローブ光ビームのターゲットに入射する部分を検出するように構成されることが、各検出器が各プローブ光ビームのターゲットから反射又は散乱される部分を検出するように構成されることを含む、条項９のメトロロジシステム。
１１．各検出器が、他の検出器により検出される生成光の波長と異なる波長を有する生成光を検出するように構成されている、条項８のメトロロジシステム。
１２．検出装置が、異なる波長のそれぞれの間で生成光を区別するように構成されている、条項１のメトロロジシステム。
１３．生成光が、プローブ光軸と異なり、ターゲット軸方向経路とも異なる経路に沿って進む、条項１のメトロロジシステム。
１４．生成光が、プローブ領域の下流にあるターゲット領域にあるターゲットと相互作用する１つ以上の動作光ビームが進む方向により定義される動作軸と平行な経路に沿って進む、条項１のメトロロジシステム。
１５．生成光が、プローブ光ビームのターゲットから反射して動作軸に沿って戻る部分である、条項１４のメトロロジシステム。
１６．生成光が、１つ以上の動作光ビームが相互作用する同じ光学系の少なくとも一部と相互作用する、条項１５のメトロロジシステム。
１７．ターゲット軸方向経路に沿って、プローブ領域が、ターゲットが１つ以上の動作光ビームと相互作用するターゲット領域の上流にある、条項１のメトロロジシステム。
１８．ターゲット軸方向経路が少なくともＸ軸に沿って延び、プローブ光軸がＸ軸と平行でない、条項１７のメトロロジシステム。
１９．制御装置が、Ｘ軸に垂直なＹ方向に沿ったターゲットの位置を決定するように構成されている、条項１８のメトロロジシステム。
２０．プローブ光軸がＹ軸と平行であり、動作光ビームが概ねＺ軸に沿って進む、条項１９のメトロロジシステム。
２１．複数の波長の光が、光の波長がＹ軸に沿って変化するような広がりを有する、条項２０のメトロロジシステム。
２２．プローブ光軸がＹ軸に垂直である、条項１９のメトロロジシステム。
２３．複数の波長の光が、光の波長がＹ軸に沿って変化するように広がる、条項２２のメトロロジシステム。
２４．１つ以上の動作光ビームが、ターゲットと相互作用してターゲットの形状及び動きを修正することによって修正ターゲットを形成するように構成された第１の増幅光ビームと、修正ターゲットと相互作用することによって修正ターゲットを極端紫外光を放出するプラズマに変換するように構成された第２の増幅光ビームと、を含む、条項１７のメトロロジシステム。
２５．制御装置が、ターゲット及びターゲット軸方向経路のうちの１つ以上に関する１つ以上の特性を調整するように構成されることが、
制御装置が、ターゲット材料供給部にターゲットの生成に関する１つ以上の特徴を調整するように命令するように構成されること、及び
制御装置が、動作光源にプローブ領域の下流のターゲット領域内のターゲットと相互作用する１つ以上の動作光ビームの生成に関する１つ以上の特徴を調整するように命令するように構成されていること、
のうちの１つ以上を含む、条項１のメトロロジシステム。
２６．検出装置が、ターゲットがプローブ領域を通過する速度と同じかそれより速い速度で複数の異なる波長の生成光を検出するように構成され、
制御装置が、ターゲットの分析の基礎となるターゲットに関する１つ以上の特性の調整に影響を与えるように構成される、条項１のメトロロジシステム。
２７．制御装置がターゲットに関する１つ以上の特性を調整するように構成されることが、制御装置が、動作光源にプローブ領域の下流のターゲット領域においてターゲットと相互作用する１つ以上の動作光ビームのポインティングを調整するように命令するように構成されることを含み、
ポインティングの調整が、Ｘ、Ｙ、Ｚ座標系のＺ軸に対するものであり、
ターゲット軸方向経路が、主にＸ軸に沿って延び、
プローブ光軸が、Ｙ軸と一致するか又はＺ軸と一致する、条項２６のメトロロジシステム。
２８．それぞれがＸ、Ｙ、Ｚ座標系の主にＸ軸に沿って延びるターゲット軸方向経路に沿って進むターゲット領域に向けられるターゲットの流れを形成するように構成されたターゲット供給装置と、
ターゲット領域に向けられる、少なくとも１つがターゲットと相互作用して修正ターゲットを形成するように構成された１つ以上の動作光ビームを生成するように構成された動作光源と、
メトロロジシステムと、
を備えた極端紫外（ＥＵＶ）光システムであって、
メトロロジシステムが、
プローブ領域でターゲット軸方向経路と交差するプローブ光軸に沿って伝搬する光プローブを生成するように構成された光装置と、
それぞれがＸ、Ｙ、Ｚ座標系のＸ横断軸に沿った別個の位置と関連付けられた複数の異なる波長の生成光であって、プローブ領域における光プローブとターゲット軸方向経路に沿って進むターゲットとの相互作用から生成される生成光を検出するように構成された検出装置と、
検出装置と通信する、検出した光を分析し、Ｘ、Ｙ、Ｚ座標系のＸ横断軸に沿ったターゲットに関する位置情報を決定するように構成された制御装置と、
を備える、極端紫外（ＥＵＶ）光システム。
２９．１つ以上の動作光ビームが、ターゲットと相互作用してターゲットの形状及び動きを修正することによって修正ターゲットを形成するように構成された第１の増幅光ビームと、修正ターゲットと相互作用することによって修正ターゲットを極端紫外光を放出するプラズマに変換するように構成された第２の増幅光ビームと、を含む、条項２８のＥＵＶ光システム。
３０．プローブ領域で主にＸ、Ｙ、Ｚ座標系のＸ軸に沿って延びるターゲット軸方向経路と交差するプローブ光軸に沿って伝搬する光プローブを生成するように構成された光装置と、
それぞれがＸ、Ｙ、Ｚ座標系のＸ横断軸に沿った別個の位置と関連付けられた複数の異なる波長の生成光であって、プローブ領域における光プローブとターゲット軸方向経路に沿って進むターゲットとの相互作用から生成される生成光を検出するように構成された検出装置と、
検出装置と通信する制御装置であって、検出した光を分析し、Ｘ、Ｙ、Ｚ座標系のＸ横断軸に沿ったターゲットに関する位置情報を決定するように構成された、制御装置と、
を備えた、メトロロジシステム。
３１．光プローブが、広帯域光プローブである、条項３０のメトロロジシステム。
３２．制御装置が、検出した光の分析に基づいて、Ｘ、Ｙ、Ｚ座標系のＸ軸に沿ったターゲットに関する位置情報を決定するように構成されている、条項３０のメトロロジシステム。
１．複数の異なる波長の光を含む光プローブであって、プローブ領域においてターゲット軸方向経路と交差するプローブ光軸に沿って伝搬する光の異なる波長を含む光プローブを生成するように構成された光装置と、
プローブ領域における光プローブとターゲット軸方向経路に沿って進むターゲットとの相互作用から生成される複数の異なる波長の生成光を検出するように構成された検出装置と、
検出装置と通信する制御装置であって、検出した光を分析し、分析に基づいてターゲット及びターゲット軸方向経路のうちの１つ以上に関する１つ以上の特性を調整するように構成された制御装置と、
を備えた、メトロロジシステム。
２．光装置が、それぞれがターゲット軸方向経路と交差するプローブ光軸に沿って伝搬し、それぞれが別個の中心波長を有する複数のプローブ光ビームを光プローブとして生成するように構成された１つ以上の光源を備える、条項１のメトロロジシステム。
３．別個の中心波長を有する各プローブ光ビームが、プローブ光軸に沿ったプローブ領域内の別個の位置に集束される、条項２のメトロロジシステム。
４．光装置が、ターゲット軸方向経路と交差するプローブ光軸に沿って伝搬し、中心波長の連続スペクトルにより定義されるプローブ光ビームを光プローブとして生成するように構成された１つ以上の光源を備える、条項１のメトロロジシステム。
５．光プローブがプローブ光軸に沿ったプローブ領域内に別個の焦点を有する、条項１のメトロロジシステム。
６．別個の焦点をプローブ光軸に垂直な方向に沿った光プローブの光カーテンとして形成するように構成された円筒形集束光学系を光プローブの経路に更に備えた、条項５のメトロロジシステム。
７．光プローブが、プローブ光軸に沿ってコリメートされるか又はプローブ領域で結像される、条項１のメトロロジシステム。
８．検出装置が、それぞれが光プローブの各プローブ光ビームとターゲットとの相互作用からの生成光を検出するように構成された複数の検出器を備える、条項１のメトロロジシステム。
９．各検出器が各プローブ光ビームのターゲットに入射する部分を検出するように構成される、条項８のメトロロジシステム。
１０．各検出器が各プローブ光ビームのターゲットに入射する部分を検出するように構成されることが、各検出器が各プローブ光ビームのターゲットから反射又は散乱される部分を検出するように構成されることを含む、条項９のメトロロジシステム。
１１．各検出器が、他の検出器により検出される生成光の波長と異なる波長を有する生成光を検出するように構成されている、条項８のメトロロジシステム。
１２．検出装置が、異なる波長のそれぞれの間で生成光を区別するように構成されている、条項１のメトロロジシステム。
１３．生成光が、プローブ光軸と異なり、ターゲット軸方向経路とも異なる経路に沿って進む、条項１のメトロロジシステム。
１４．生成光が、プローブ領域の下流にあるターゲット領域にあるターゲットと相互作用する１つ以上の動作光ビームが進む方向により定義される動作軸と平行な経路に沿って進む、条項１のメトロロジシステム。
１５．生成光が、プローブ光ビームのターゲットから反射して動作軸に沿って戻る部分である、条項１４のメトロロジシステム。
１６．生成光が、１つ以上の動作光ビームが相互作用する同じ光学系の少なくとも一部と相互作用する、条項１５のメトロロジシステム。
１７．ターゲット軸方向経路に沿って、プローブ領域が、ターゲットが１つ以上の動作光ビームと相互作用するターゲット領域の上流にある、条項１のメトロロジシステム。
１８．ターゲット軸方向経路が少なくともＸ軸に沿って延び、プローブ光軸がＸ軸と平行でない、条項１７のメトロロジシステム。
１９．制御装置が、Ｘ軸に垂直なＹ方向に沿ったターゲットの位置を決定するように構成されている、条項１８のメトロロジシステム。
２０．プローブ光軸がＹ軸と平行であり、動作光ビームが概ねＺ軸に沿って進む、条項１９のメトロロジシステム。
２１．複数の波長の光が、光の波長がＹ軸に沿って変化するような広がりを有する、条項２０のメトロロジシステム。
２２．プローブ光軸がＹ軸に垂直である、条項１９のメトロロジシステム。
２３．複数の波長の光が、光の波長がＹ軸に沿って変化するように広がる、条項２２のメトロロジシステム。
２４．１つ以上の動作光ビームが、ターゲットと相互作用してターゲットの形状及び動きを修正することによって修正ターゲットを形成するように構成された第１の増幅光ビームと、修正ターゲットと相互作用することによって修正ターゲットを極端紫外光を放出するプラズマに変換するように構成された第２の増幅光ビームと、を含む、条項１７のメトロロジシステム。
２５．制御装置が、ターゲット及びターゲット軸方向経路のうちの１つ以上に関する１つ以上の特性を調整するように構成されることが、
制御装置が、ターゲット材料供給部にターゲットの生成に関する１つ以上の特徴を調整するように命令するように構成されること、及び
制御装置が、動作光源にプローブ領域の下流のターゲット領域内のターゲットと相互作用する１つ以上の動作光ビームの生成に関する１つ以上の特徴を調整するように命令するように構成されていること、
のうちの１つ以上を含む、条項１のメトロロジシステム。
２６．検出装置が、ターゲットがプローブ領域を通過する速度と同じかそれより速い速度で複数の異なる波長の生成光を検出するように構成され、
制御装置が、ターゲットの分析の基礎となるターゲットに関する１つ以上の特性の調整に影響を与えるように構成される、条項１のメトロロジシステム。
２７．制御装置がターゲットに関する１つ以上の特性を調整するように構成されることが、制御装置が、動作光源にプローブ領域の下流のターゲット領域においてターゲットと相互作用する１つ以上の動作光ビームのポインティングを調整するように命令するように構成されることを含み、
ポインティングの調整が、Ｘ、Ｙ、Ｚ座標系のＺ軸に対するものであり、
ターゲット軸方向経路が、主にＸ軸に沿って延び、
プローブ光軸が、Ｙ軸と一致するか又はＺ軸と一致する、条項２６のメトロロジシステム。
２８．それぞれがＸ、Ｙ、Ｚ座標系の主にＸ軸に沿って延びるターゲット軸方向経路に沿って進むターゲット領域に向けられるターゲットの流れを形成するように構成されたターゲット供給装置と、
ターゲット領域に向けられる、少なくとも１つがターゲットと相互作用して修正ターゲットを形成するように構成された１つ以上の動作光ビームを生成するように構成された動作光源と、
メトロロジシステムと、
を備えた極端紫外（ＥＵＶ）光システムであって、
メトロロジシステムが、
プローブ領域でターゲット軸方向経路と交差するプローブ光軸に沿って伝搬する光プローブを生成するように構成された光装置と、
それぞれがＸ、Ｙ、Ｚ座標系のＸ横断軸に沿った別個の位置と関連付けられた複数の異なる波長の生成光であって、プローブ領域における光プローブとターゲット軸方向経路に沿って進むターゲットとの相互作用から生成される生成光を検出するように構成された検出装置と、
検出装置と通信する、検出した光を分析し、Ｘ、Ｙ、Ｚ座標系のＸ横断軸に沿ったターゲットに関する位置情報を決定するように構成された制御装置と、
を備える、極端紫外（ＥＵＶ）光システム。
２９．１つ以上の動作光ビームが、ターゲットと相互作用してターゲットの形状及び動きを修正することによって修正ターゲットを形成するように構成された第１の増幅光ビームと、修正ターゲットと相互作用することによって修正ターゲットを極端紫外光を放出するプラズマに変換するように構成された第２の増幅光ビームと、を含む、条項２８のＥＵＶ光システム。
３０．プローブ領域で主にＸ、Ｙ、Ｚ座標系のＸ軸に沿って延びるターゲット軸方向経路と交差するプローブ光軸に沿って伝搬する光プローブを生成するように構成された光装置と、
それぞれがＸ、Ｙ、Ｚ座標系のＸ横断軸に沿った別個の位置と関連付けられた複数の異なる波長の生成光であって、プローブ領域における光プローブとターゲット軸方向経路に沿って進むターゲットとの相互作用から生成される生成光を検出するように構成された検出装置と、
検出装置と通信する制御装置であって、検出した光を分析し、Ｘ、Ｙ、Ｚ座標系のＸ横断軸に沿ったターゲットに関する位置情報を決定するように構成された、制御装置と、
を備えた、メトロロジシステム。
３１．光プローブが、広帯域光プローブである、条項３０のメトロロジシステム。
３２．制御装置が、検出した光の分析に基づいて、Ｘ、Ｙ、Ｚ座標系のＸ軸に沿ったターゲットに関する位置情報を決定するように構成されている、条項３０のメトロロジシステム。
【0078】
[0092] 他の実装形態は特許請求の範囲内にある。
【図1】
【図2A】
【図2B】
【図2C】
【図2D】
【図2E】
【図2F】
【図2G】
【図3A】
【図3B】
【図3C】
【図4A】
【図4B】
【図4C】
【図5】
【図6】
【図7】
【手続補正書】
【提出日】2024-01-10
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
複数の異なる波長の光を含む光プローブであって、プローブ領域においてターゲット軸方向経路と交差するプローブ光軸に沿って伝搬する前記光の前記異なる波長を含む、光プローブを生成するように構成された光装置と、前記プローブ領域における前記光プローブと前記ターゲット軸方向経路に沿って進むターゲットとの相互作用から生成される前記複数の異なる波長の生成光を検出するように構成された検出装置と、
前記検出装置と通信する制御装置であって、検出した前記光を分析し、分析に基づいて前記ターゲット及び前記ターゲット軸方向経路のうちの１つ以上に関する１つ以上の特性を調整するように構成された、制御装置と、
を備えた、メトロロジシステム。
【請求項2】
前記光装置が、それぞれが前記ターゲット軸方向経路と交差する前記プローブ光軸に沿って伝搬し、それぞれが別個の中心波長を有する複数のプローブ光ビームを前記光プローブとして生成するように構成された１つ以上の光源を備える、請求項１のメトロロジシステム。
【請求項3】
別個の中心波長を有する各プローブ光ビームが、前記プローブ光軸に沿った前記プローブ領域内の別個の位置に集束される、請求項２のメトロロジシステム。
【請求項4】
前記光装置が、前記ターゲット軸方向経路と交差する前記プローブ光軸に沿って伝搬し、中心波長の連続スペクトルにより定義されるプローブ光ビームを前記光プローブとして生成するように構成された１つ以上の光源を備える、請求項１のメトロロジシステム。
【請求項5】
前記光プローブが、前記プローブ光軸に沿った前記プローブ領域内に別個の焦点を有し、
前記別個の焦点を前記プローブ光軸に垂直な方向に沿った前記光プローブの光カーテンとして形成するように構成された円筒形集束光学系を、前記光プローブの経路に更に備える、請求項１のメトロロジシステム。
【請求項6】
前記検出装置が、それぞれが前記光プローブの各プローブ光ビームと前記ターゲットとの相互作用からの生成光を検出するように構成された複数の検出器を備え、
各検出器が、前記各プローブ光ビームの前記ターゲットに入射する部分を検出するように構成される、請求項１のメトロロジシステム。
【請求項7】
各検出器が前記各プローブ光ビームの前記ターゲットに入射する前記部分を検出するように構成されることが、各検出器が前記各プローブ光ビームの前記ターゲットから反射又は散乱される部分を検出するように構成されることを含む、請求項６のメトロロジシステム。
【請求項8】
各検出器が、他の検出器により検出される生成光の波長と異なる波長を有する生成光を検出するように構成されている、請求項６のメトロロジシステム。
【請求項9】
前記生成光が、前記プローブ光軸と異なり、前記ターゲット軸方向経路とも異なる経路に沿って進む、請求項１のメトロロジシステム。
【請求項10】
前記生成光が、前記プローブ領域の下流にあるターゲット領域にある前記ターゲットと相互作用する１つ以上の動作光ビームが進む方向により定義される動作軸と平行な経路に沿って進む、請求項１のメトロロジシステム。
【請求項11】
前記ターゲット軸方向経路に沿って、前記プローブ領域が、前記ターゲットが１つ以上の動作光ビームと相互作用するターゲット領域の上流にある、請求項１のメトロロジシステム。
【請求項12】
前記ターゲット軸方向経路が、少なくともＸ軸に沿って延び、前記制御装置が、前記Ｘ軸に垂直なＹ方向に沿った前記ターゲットの位置を決定するように構成されており、
前記プローブ光軸が、Ｙ軸と平行であり、
前記動作光ビームが、概ねＺ軸に沿って進む、請求項１１のメトロロジシステム。
【請求項13】
前記複数の波長の前記光が、前記光の前記波長が前記Ｙ軸に沿って変化するような広がりを有する、請求項１２のメトロロジシステム。
【請求項14】
前記ターゲット軸方向経路が、少なくともＸ軸に沿って延び、
前記制御装置が、前記Ｘ軸に垂直なＹ方向に沿った前記ターゲットの位置を決定するように構成されており、
前記プローブ光軸が、前記Ｙ軸に垂直である、請求項１１のメトロロジシステム。
【請求項15】
前記複数の波長の前記光が、前記光の前記波長が前記Ｙ軸に沿って変化するように広がる、請求項１４のメトロロジシステム。
【請求項16】
前記１つ以上の動作光ビームが、前記ターゲットと相互作用して前記ターゲットの形状及び動きを修正することによって修正ターゲットを形成するように構成された第１の増幅光ビームと、前記修正ターゲットと相互作用することによって前記修正ターゲットを極端紫外光を放出するプラズマに変換するように構成された第２の増幅光ビームと、を含む、請求項１１のメトロロジシステム。
【請求項17】
前記制御装置が、前記ターゲット及び前記ターゲット軸方向経路のうちの１つ以上に関する１つ以上の特性を調整するように構成されることが、前記制御装置が、ターゲット材料供給部に前記ターゲットの生成に関する１つ以上の特徴を調整するように命令するように構成されること、及び、
前記制御装置が、動作光源に前記プローブ領域の下流のターゲット領域内の前記ターゲットと相互作用する１つ以上の動作光ビームの生成に関する１つ以上の特徴を調整するように命令するように構成されること、
のうちの１つ以上を含む、請求項１のメトロロジシステム。
【請求項18】
前記検出装置が、ターゲットが前記プローブ領域を通過する速度と同じかそれより速い速度で前記複数の異なる波長の生成光を検出するように構成され、前記制御装置が、前記ターゲットの前記分析の基礎となる前記ターゲットに関する前記１つ以上の特性の調整に影響を与えるように構成される、請求項１のメトロロジシステム。
【請求項19】
それぞれがＸ、Ｙ、Ｚ座標系の主にＸ軸に沿って延びるターゲット軸方向経路に沿って進むターゲット領域に向けられるターゲットの流れを形成するように構成されたターゲット供給装置と、前記ターゲット領域に向けられる、少なくとも１つが前記ターゲットと相互作用して修正ターゲットを形成するように構成された１つ以上の動作光ビームを生成するように構成された動作光源と、メトロロジシステムと、を備えた極端紫外（ＥＵＶ）光システムであって、前記メトロロジシステムが、
プローブ領域で前記ターゲット軸方向経路と交差するプローブ光軸に沿って伝搬する光プローブを生成するように構成された光装置と、
それぞれが前記Ｘ、Ｙ、Ｚ座標系のＸ横断軸に沿った別個の位置と関連付けられた複数の異なる波長の生成光であって、前記プローブ領域における前記光プローブと前記ターゲット軸方向経路に沿って進むターゲットとの相互作用から生成される生成光を検出するように構成された検出装置と、
前記検出装置と通信する、検出した前記光を分析し、前記Ｘ、Ｙ、Ｚ座標系の前記Ｘ横断軸に沿った前記ターゲットに関する位置情報を決定するように構成された制御装置と、
を備える、極端紫外（ＥＵＶ）光システム。
【請求項20】
前記１つ以上の動作光ビームが、前記ターゲットと相互作用して前記ターゲットの形状及び動きを修正することによって修正ターゲットを形成するように構成された第１の増幅光ビームと、前記修正ターゲットと相互作用することによって前記修正ターゲットを極端紫外光を放出するプラズマに変換するように構成された第２の増幅光ビームと、を含む、請求項１９のＥＵＶ光システム。
【請求項21】
プローブ領域で主にＸ、Ｙ、Ｚ座標系のＸ軸に沿って延びるターゲット軸方向経路と交差するプローブ光軸に沿って伝搬する光プローブを生成するように構成された光装置と、それぞれが前記Ｘ、Ｙ、Ｚ座標系のＸ横断軸に沿った別個の位置と関連付けられた複数の異なる波長の生成光であって、前記プローブ領域における前記光プローブと前記ターゲット軸方向経路に沿って進むターゲットとの相互作用から生成される生成光を検出するように構成された検出装置と、
前記検出装置と通信する制御装置であって、検出した前記光を分析し、前記Ｘ、Ｙ、Ｚ座標系の前記Ｘ横断軸に沿った前記ターゲットに関する位置情報を決定するように構成された、制御装置と、
を備えた、メトロロジシステム。
【請求項22】
前記光プローブが、広帯域光プローブであり、
前記制御装置が、前記検出した光の分析に基づいて、前記Ｘ、Ｙ、Ｚ座標系のＸ軸に沿った前記ターゲットに関する位置情報を決定するように構成されている、請求項２１のメトロロジシステム。
【国際調査報告】