特表 2024-522214 デジタルリソグラフィ露光ユニット境界平滑化

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2024-06-11

(54)【発明の名称】デジタルリソグラフィ露光ユニット境界平滑化

(51)【国際特許分類】

   G03F 7/20 20060101AFI20240604BHJP

【ＦＩ】

G03F7/20 521

G03F7/20 505

【審査請求】有

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2023577137

(86)(22)【出願日】2021-06-14

(85)【翻訳文提出日】2024-02-13

(86)【国際出願番号】 US2021037283

(87)【国際公開番号】W WO2022265621

(87)【国際公開日】2022-12-22

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】390040660

【氏名又は名称】アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

【氏名又は名称原語表記】ＡＰＰＬＩＥＤ ＭＡＴＥＲＩＡＬＳ，ＩＮＣＯＲＰＯＲＡＴＥＤ

【住所又は居所原語表記】３０５０ Ｂｏｗｅｒｓ Ａｖｅｎｕｅ Ｓａｎｔａ Ｃｌａｒａ ＣＡ ９５０５４ Ｕ．Ｓ．Ａ．

(74)【代理人】

【識別番号】110002077

【氏名又は名称】園田・小林弁理士法人

(72)【発明者】

【氏名】ツァイ， チ－ミン

(72)【発明者】

【氏名】バン デン ブルーク， ダグラス

(72)【発明者】

【氏名】レイディグ， トーマス エル．

【テーマコード（参考）】

2H197

【Ｆターム（参考）】

2H197AA29

2H197CA07

2H197CC05

2H197CC11

2H197DA03

2H197DA09

2H197DB05

2H197DB06

2H197HA03

2H197HA04

2H197HA05

(57)【要約】

デジタルリソグラフィシステムが、第１の走査領域と第１の走査領域に隣接する第２の走査領域とを含む、走査領域を含む。デジタルリソグラフィシステムは、走査領域の上に位置する露光ユニットと、メモリと、メモリに動作可能に結合された少なくとも１つの処理デバイスとをさらに含む。露光ユニットは、第１の走査領域に関連する第１の露光ユニットと第２の走査領域に関連する第２の露光ユニットとを含む。処理デバイスは、ステージ上に配設された基板を命令に従ってパターニングするためのデジタルリソグラフィプロセスを始動することと、デジタルリソグラフィプロセス中に第１の露光ユニットと第２の露光ユニットとに関して露光ユニット境界平滑化を実施することとを含む動作を実施するためのものである。
【選択図】図９

【特許請求の範囲】

【請求項1】

第１の走査領域と前記第１の走査領域に隣接する第２の走査領域とを備える、複数の走査領域と、
前記複数の走査領域の上に位置する複数の露光ユニットであって、前記複数の露光ユニットが、前記第１の走査領域に関連する第１の露光ユニットと前記第２の走査領域に関連する第２の露光ユニットとを備える、複数の露光ユニットと、
メモリと、
前記メモリに動作可能に結合された少なくとも１つの処理デバイスと
を備えるデジタルリソグラフィシステムであって、前記少なくとも１つの処理デバイスが、
ステージ上に配設された基板を命令に従ってパターニングするためのデジタルリソグラフィプロセスを始動することと、
前記デジタルリソグラフィプロセス中に前記第１の露光ユニットと前記第２の露光ユニットとに関して露光ユニット境界平滑化を実施することと
を含む動作を実施するためのものである、デジタルリソグラフィシステム。

【請求項2】

前記デジタルリソグラフィプロセスが、複数のパスを含む複数パスプロセスであり、前記露光ユニット境界平滑化を実装することが、前記複数パスプロセスの一部として露光ユニット境界シフティングを実施することを含む、請求項１に記載のデジタルリソグラフィシステム。

【請求項3】

前記第１の露光ユニットと前記第２の露光ユニットとが同じブリッジに取り付けられ、前記露光ユニット境界シフティングを実施することが、
前記複数パスプロセスの第１のパスを実施することと、
前記第１のパスを実施したことに応答して、垂直境界シフトを実施することと、
前記垂直境界シフトを実施したことに応答して、前記複数パスプロセスの第２のパスを実施することと
を含む、請求項２に記載のデジタルリソグラフィシステム。

【請求項4】

前記第１の露光ユニットと前記第２の露光ユニットとが第１のブリッジに取り付けられ、
前記複数の走査領域が、第３の走査領域と前記第３の走査領域に隣接する第４の走査領域とをさらに備え、
前記複数の露光ユニットが、前記第３の走査領域に関連する第３の露光ユニットと前記第４の走査領域に関連する第４の露光ユニットとをさらに備え、前記第３の露光ユニットと前記第４の露光ユニットとが、前記第１のブリッジに隣接する第２のブリッジに取り付けられ、
前記露光ユニット境界シフティングを実施することが、前記複数パスプロセス中にそれぞれの領域中で、前記第１の露光ユニットと前記第２の露光ユニットと前記第３の露光ユニットと前記第４の露光ユニットとによって実施されるべき線量の総数を示すブレンディング仕様に従って前記複数のパスを実施することを含む、
請求項２に記載のデジタルリソグラフィシステム。

【請求項5】

前記露光ユニット境界平滑化を実装することが、前記第１の走査領域と前記第２の走査領域との間の境界に関する線量混合を実施することを含む、請求項１に記載のデジタルリソグラフィシステム。

【請求項6】

前記第１の露光ユニットと前記第２の露光ユニットとが同じブリッジに取り付けられ、前記線量混合を実施することが、前記第１の露光ユニットに、ブレンドされた領域に対する総線量の第１の割合を寄与させ、前記第２の露光ユニットに、前記ブレンドされた領域に対する前記総線量の第２の割合を寄与させることを含み、したがって、前記第１の割合と前記第２の割合との和が１００％に等しくなる、請求項５に記載のデジタルリソグラフィシステム。

【請求項7】

前記第１の露光ユニットと前記第２の露光ユニットとが第１のブリッジに取り付けられ、
前記複数の走査領域が、第３の走査領域と前記第１の走査領域に隣接する第２の走査領域とをさらに備え、
前記複数の露光ユニットが、前記第３の走査領域に関連する第３の露光ユニットと前記第４の走査領域に関連する第４の露光ユニットとをさらに備え、前記第３の露光ユニットと前記第４の露光ユニットとが、前記第１のブリッジに隣接する第２のブリッジに取り付けられ、
前記線量混合を実施することが、前記第１の露光ユニットに、ブレンドされた領域に対する総線量の第１の割合を寄与させ、前記第２の露光ユニットに、前記ブレンドされた領域に対する前記総線量の第２の割合を寄与させ、前記第３の露光ユニットに、前記ブレンドされた領域に対する前記総線量の第３の割合を寄与させ、前記第４の露光ユニットに、前記ブレンドされた領域に対する前記総線量の第４の割合を寄与させることを含み、したがって、前記第１の割合と前記第２の割合と前記第３の割合と前記第４の割合との和が１００％に等しくなる、
請求項５に記載のデジタルリソグラフィシステム。

【請求項8】

メモリと、
前記メモリに動作可能に結合された少なくとも１つの処理デバイスと
を備えるシステムであって、前記少なくとも１つの処理デバイスは、
命令に従って基板をパターニングするためのデジタルリソグラフィプロセスを始動することと、
前記デジタルリソグラフィプロセス中に、複数の露光ユニットのうちの第１の露光ユニットと前記複数の露光ユニットのうちの第２の露光ユニットとに関して露光ユニット境界平滑化を実施することであって、前記第１の露光ユニットが、第１の走査領域に対応し、前記第２の露光ユニットが、前記第１の走査領域に隣接する第２の走査領域に対応する、露光ユニット境界平滑化を実施することと
を含む動作を実施するためのものである、システム。

【請求項9】

前記デジタルリソグラフィプロセスが、複数のパスを含む複数パスプロセスであり、前記露光ユニット境界平滑化を実装することが、前記複数パスプロセスの一部として露光ユニット境界シフティングを実施することを含む、請求項８に記載のシステム。

【請求項10】

前記第１の露光ユニットと前記第２の露光ユニットとが同じブリッジに取り付けられ、前記露光ユニット境界シフティングを実施することが、
前記複数パスプロセスの第１のパスを実施することと、
前記第１のパスを実施したことに応答して、垂直境界シフトを実施することと、
前記垂直境界シフトを実施したことに応答して、前記複数パスプロセスの第２のパスを実施することと
を含む、請求項９に記載のシステム。

【請求項11】

前記第１の露光ユニットと前記第２の露光ユニットとが第１のブリッジに取り付けられ、
前記複数の露光ユニットが、第３の走査領域に関連する第３の露光ユニットと前記第３の走査領域に隣接する第４の走査領域に関連する第４の露光ユニットとをさらに備え、前記第３の露光ユニットと前記第４の露光ユニットとが、前記第１のブリッジに隣接する第２のブリッジに取り付けられ、
前記露光ユニット境界シフティングを実施することが、前記複数パスプロセス中にそれぞれの領域中で、前記第１の露光ユニットと前記第２の露光ユニットと前記第３の露光ユニットと前記第４の露光ユニットとによって実施されるべき線量の総数を示すブレンディング仕様に従って前記複数のパスを実施することを含む、
請求項９に記載のシステム。

【請求項12】

前記露光ユニット境界平滑化を実装することが、前記第１の走査領域と前記第２の走査領域との間の境界に関する線量混合を実施することを含み、
前記第１の露光ユニットと前記第２の露光ユニットとが同じブリッジに取り付けられ、
前記線量混合を実施することが、前記第１の露光ユニットに、ブレンドされた領域に対する総線量の第１の割合を寄与させ、前記第２の露光ユニットに、前記ブレンドされた領域に対する前記総線量の第２の割合に寄与させることを含み、したがって、前記第１の割合と前記第２の割合との和が１００％に等しくなる、
請求項８に記載のシステム。

【請求項13】

前記露光ユニット境界平滑化を実装することが、前記第１の走査領域と前記第２の走査領域との間の境界に関する線量混合を実施することを含み、
前記第１の露光ユニットと前記第２の露光ユニットとが第１のブリッジに取り付けられ、
前記複数の走査領域が、第３の走査領域と前記第１の走査領域に隣接する第２の走査領域とをさらに備え、
前記複数の露光ユニットが、前記第３の走査領域に関連する第３の露光ユニットと前記第４の走査領域に関連する第４の露光ユニットとをさらに備え、前記第３の露光ユニットと前記第４の露光ユニットとが、前記第１のブリッジに隣接する第２のブリッジに取り付けられ、
前記線量混合を実施することが、前記第１の露光ユニットに、ブレンドされた領域に対する総線量の第１の割合を寄与させ、前記第２の露光ユニットに、前記ブレンドされた領域に対する前記総線量の第２の割合を寄与させ、前記第３の露光ユニットに、前記ブレンドされた領域に対する前記総線量の第３の割合を寄与させ、前記第４の露光ユニットに、前記ブレンドされた領域に対する前記総線量の第４の割合を寄与させることを含み、したがって、前記第１の割合と前記第２の割合と前記第３の割合と前記第４の割合との和が１００％に等しくなる、
請求項８に記載のシステム。

【請求項14】

処理デバイスによって、命令に従って基板をパターニングするためのデジタルリソグラフィプロセスを始動することと、
前記処理デバイスによって、前記デジタルリソグラフィプロセス中に、複数の露光ユニットのうちの第１の露光ユニットと前記複数の露光ユニットのうちの第２の露光ユニットとに関して露光ユニット境界平滑化を実施することであって、前記第１の露光ユニットが、第１の走査領域に対応し、前記第２の露光ユニットが、前記第１の走査領域に隣接する第２の走査領域に対応する、露光ユニット境界平滑化を実施することと
を含む、方法。

【請求項15】

前記デジタルリソグラフィプロセスが、複数のパスを含む複数パスプロセスであり、前記露光ユニット境界平滑化を実装することが、前記複数パスプロセスの一部として露光ユニット境界シフティングを実施することを含む、請求項１４に記載の方法。

【請求項16】

前記第１の露光ユニットと前記第２の露光ユニットとが同じブリッジに取り付けられ、前記露光ユニット境界シフティングを実施することが、
前記複数パスプロセスの第１のパスを実施することと、
前記第１のパスを実施したことに応答して、垂直境界シフトを実施することと、
前記垂直境界シフトを実施したことに応答して、前記複数パスプロセスの第２のパスを実施することと
を含む、請求項１５に記載の方法。

【請求項17】

前記第１の露光ユニットと前記第２の露光ユニットとが同じブリッジに取り付けられ、前記露光ユニット境界シフティングを実施することが、
前記複数パスプロセスの第１のパスを実施することと、
前記第１のパスを実施したことに応答して、垂直境界シフトを実施することと、
前記垂直境界シフトを実施したことに応答して、前記複数パスプロセスの第２のパスを実施することと
を含む、請求項１５に記載の方法。

【請求項18】

前記露光ユニット境界平滑化を実装することが、前記第１の走査領域と前記第２の走査領域との間の境界に関する線量混合を実施することを含む、請求項１４に記載の方法。

【請求項19】

前記第１の露光ユニットと前記第２の露光ユニットとが同じブリッジに取り付けられ、前記線量混合を実施することが、前記第１の露光ユニットに、ブレンドされた領域に対する総線量の第１の割合を寄与させ、前記第２の露光ユニットに、前記ブレンドされた領域に対する前記総線量の第２の割合を寄与させることを含み、したがって、前記第１の割合と前記第２の割合との和が１００％に等しくなる、請求項１８に記載の方法。

【請求項20】

前記第１の露光ユニットと前記第２の露光ユニットとが第１のブリッジに取り付けられ、
前記複数の走査領域が、第３の走査領域と前記第１の走査領域に隣接する第２の走査領域とをさらに備え、
前記複数の露光ユニットが、前記第３の走査領域に関連する第３の露光ユニットと前記第４の走査領域に関連する第４の露光ユニットとをさらに備え、前記第３の露光ユニットと前記第４の露光ユニットとが、前記第１のブリッジに隣接する第２のブリッジに取り付けられ、
前記線量混合を実施することが、前記第１の露光ユニットに、ブレンドされた領域に対する総線量の第１の割合を寄与させ、前記第２の露光ユニットに、前記ブレンドされた領域に対する前記総線量の第２の割合を寄与させ、前記第３の露光ユニットに、前記ブレンドされた領域に対する前記総線量の第３の割合を寄与させ、前記第４の露光ユニットに、前記ブレンドされた領域に対する前記総線量の第４の割合を寄与させることを含み、したがって、前記第１の割合と前記第２の割合と前記第３の割合と前記第４の割合との和が１００％に等しくなる、
請求項１８に記載の方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本明細書は、一般に、電子デバイス製造に関する。より詳細には、本明細書は、デジタルリソグラフィに関する。

【背景技術】

【0002】

フォトリソグラフィは、半導体デバイス、およびフラットパネルディスプレイデバイスなどのディスプレイデバイスの製作において使用される。フラットパネルディスプレイデバイスの例は、たとえば、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）デバイスおよび有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）ディスプレイデバイスなど、薄膜ディスプレイデバイスを含む。コンピュータ、タッチパネルデバイス、携帯情報端末（ＰＤＡ）、セルフォン、テレビジョンモニタなどとともに使用するためのフラットパネルディスプレイデバイスを製作するために、大面積基板が使用され得る。

【0003】

デジタルリソグラフィでは、複数の露光ユニット（ｅｘｐｏｓｕｒｅ ｕｎｉｔ）が、スループットを増加させるために使用され、各露光ユニットが、印刷エリアの一部分を担当する。しかしながら、異なる露光ユニットは、一般に、それらの特性のわずかなばらつきを有する。これは、異なる露光ユニットによって印刷された領域間に可視の境界を生じることがある。ディスプレイデバイスの場合、可視の境界は、製作されたディスプレイが廃棄されることを引き起こし得る欠陥である。

【発明の概要】

【0004】

以下は、本開示のいくつかの態様の基本的理解を提供するための、本開示の簡略化された概要である。本概要は本開示の広範な概観ではない。本概要は、本開示の主要なまたは重要な要素を識別するものでも、本開示の特定の実装形態の範囲または特許請求の範囲を定めるものでもない。その唯一の目的は、後で提示されるより詳細な説明の前置きとして、本開示のいくつかの概念を簡略化された形式で提示することである。

【0005】

一実施形態によれば、デジタルリソグラフィシステムが提供される。本デジタルリソグラフィシステムは、第１の走査領域と第１の走査領域に隣接する第２の走査領域とを含む、走査領域を含む。本デジタルリソグラフィシステムは、走査領域の上に位置する露光ユニットと、メモリと、メモリに動作可能に結合された少なくとも１つの処理デバイスとをさらに含む。露光ユニットは、第１の走査領域に関連する第１の露光ユニットと第２の走査領域に関連する第２の露光ユニットとを含む。処理デバイスは、ステージ上に配設された基板を命令に従ってパターニングするためのデジタルリソグラフィプロセスを始動することと、デジタルリソグラフィプロセス中に第１の露光ユニットと第２の露光ユニットとに関して露光ユニット境界平滑化を実施することとを含む動作を実施するためのものである。

【0006】

別の実施形態によれば、システムが提供される。本システムは、メモリと、メモリに動作可能に結合された少なくとも１つの処理デバイスとを含み、少なくとも１つの処理デバイスは、命令に従って基板をパターニングするためのデジタルリソグラフィプロセスを始動することと、デジタルリソグラフィプロセス中に、複数の露光ユニットのうちの第１の露光ユニットと複数の露光ユニットのうちの第２の露光ユニットとに関して露光ユニット境界平滑化を実施することとを含む動作を実施するためのものである。第１の露光ユニットは、第１の走査領域に対応し、第２の露光ユニットは、第１の走査領域に隣接する第２の走査領域に対応する。

【0007】

また別の実施形態によれば、方法が提供される。本方法は、処理デバイスによって、命令に従って基板をパターニングするためのデジタルリソグラフィプロセスを始動することと、処理デバイスによって、デジタルリソグラフィプロセス中に、複数の露光ユニットのうちの第１の露光ユニットと複数の露光ユニットのうちの第２の露光ユニットとに関して露光ユニット境界平滑化を実施することとを含む。第１の露光ユニットは、第１の走査領域に対応し、第２の露光ユニットは、第１の走査領域に隣接する第２の走査領域に対応する。

【0008】

本開示の態様および実装形態は、限定ではなく例として態様および実装形態を示すことが意図された、以下で与えられる詳細な説明から、および添付の図面から、より十分に理解されよう。

【図面の簡単な説明】

【0009】

【図1】いくつかの実施形態による、デジタルリソグラフィシステムのトップダウン図である。

【図2A-2B】いくつかの実施形態による、デジタルリソグラフィシステムの単一のデジタルリソグラフィ露光ユニットを通る基板の走査経路を示すトップダウン図である。

【図2C-2D】いくつかの実施形態による、デジタルリソグラフィシステムの単一のデジタルリソグラフィ露光ユニットを通る基板の走査経路を示すトップダウン図である。

【図3A-3C】いくつかの実施形態による、デジタルリソグラフィ露光ユニット境界平滑化の例を示す図である。

【図4】いくつかの実施形態による、１ブリッジ実装形態におけるデジタルリソグラフィ露光ユニットの例示的な走査構成の図である。

【図5】いくつかの実施形態による、２ブリッジ実装形態におけるデジタルリソグラフィ露光ユニットの例示的な走査構成の図である。

【図6】いくつかの実施形態による、１ブリッジ実装形態におけるデジタルリソグラフィ露光ユニットの線量（ｄｏｓｅ）割振りの一例の図である。

【図7】いくつかの実施形態による、２ブリッジ実装形態におけるデジタルリソグラフィ露光ユニットの線量割振りの一例を示す図である。

【図8A-8B】いくつかの実施形態による、デジタルリソグラフィ露光ユニット線量割振りの例を示す図である。

【図8C】いくつかの実施形態による、デジタルリソグラフィ露光ユニット線量割振りの例を示す図である。

【図9】いくつかの実施形態による、デジタルリソグラフィ露光ユニット境界平滑化を実装するための方法のフローチャートである。

【図10】いくつかの実施形態による、デジタルリソグラフィシステムのブロック図である。

【図11】いくつかの実施形態による、コンピュータシステムを示すブロック図である。

【発明を実施するための形態】

【0010】

デジタルリソグラフィは、フォトマスクを使用せずに（たとえば、マスクレスリソグラフィを介して）基板表面上に（たとえば、デジタル的に位置合わせされたエッチングマスクのための）パターンを生成するために使用され得る。（たとえば、Ｔｅｘａｓ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ（登録商標）のプログラム可能な光ステアリング（ｌｉｇｈｔ ｓｔｅｅｒｉｎｇ）技術などの）デジタルリソグラフィ技術は、高速および高精度から恩恵を受ける、プリント基板（ＰＣＢ）パターニング、はんだマスク、フラットパネルディスプレイ、レーザマーキング、および他のデジタル露光システムのための、高速および高解像度マスクレスリソグラフィソリューションを可能にする。デジタルリソグラフィは、コンタクトマスク（たとえば、フォトマスク）を使用せずにフォトレジスト膜上にパターンを直接露光するために使用される。これは、材料コストを低減し、生産率を改善し、パターンの迅速な変更を可能にすることができる。直接露光は、狭いレーザビームまたはマスキングされたシステムと比較して、生産性を増加させる。デジタルリソグラフィの利点は、新しいフォトマスクを生成するコストを招くことなしに、稼働ごとにリソグラフィパターンを変更する能力である。例として、デジタルリソグラフィは、電子デバイス製造中に大面積パターニングを実施するために使用され得る。

【0011】

デジタルリソグラフィでは、デジタルリソグラフィツールのスループットを改善するために、複数のデジタルリソグラフィ露光ユニット（「露光ユニット」）が使用され得る。従来の露光ユニットは、矩形の非重複領域、またはクリッピング層（ｃｌｉｐｐｉｎｇ ｌａｙｅｒ）を、印刷または露光することができる。クリッピング層は、パターンを、特定の露光ユニットに関連するクリッピング層上でその露光ユニットによって印刷されるように保つように、レイアウト処理ソフトウェアに通知するためのフィルタとして働き得る。複数の露光ユニットの各々が、印刷エリアの一部分、および異なるクリッピング層を担当し得る。異なる露光ユニットが、厳密に一致しない固有の特性を有することがある。この不一致は、露光ユニット境界における不均一性（たとえば、非一様性、不整合、不規則性）を生じることがある。この不均一性は、歩留まりを低減し、したがって価値を減少させることがある。

【0012】

本開示の態様および実装形態は、デジタルリソグラフィ露光ユニット（「露光ユニット」）の少なくとも１つのペアに関して露光ユニット境界平滑化を実施することによって、既存の技術のこれらおよび他の短所に対処する。露光ユニット境界平滑化は、不均一性を低減するために、および隣接する露光ユニットのクリッピング層間の線形境界をなくすために、露光ユニット境界をブレンドする（ｂｌｅｎｄ）ことができる。ブレンディング（ｂｌｅｎｄｉｎｇ）は、露光ユニットのペア間の漸進的遷移を生じることがある。本明細書で説明される実装形態に従って、露光ユニット境界平滑化を実施するために、いくつかの方法が利用され得る。露光ユニット境界平滑化は、（たとえば、同じブリッジに取り付けられた露光ユニットに対応する、隣接する走査領域間の境界を平滑化するための）１ブリッジのケース、（たとえば、異なるブリッジに取り付けられた露光ユニットに対応する、隣接する走査領域間の境界を平滑化するための）２ブリッジのケースなどについて、実施され得る。

【0013】

いくつかの実施形態では、露光ユニット境界平滑化を実施することは、露光ユニット境界シフティングを実施することを含む。より詳細には、露光ユニット境界シフティング中に、露光ユニット境界が、各パスについてシフトされ得る。各パスについて露光ユニット境界をシフトすることは、マルチパス印刷の場合、特にうまく機能することができる。

【0014】

いくつかの実施形態では、露光ユニット境界平滑化を実施することは、線量混合（ｄｏｓｅ ｍｉｘｉｎｇ）を実施することを含む。たとえば、線量混合は、階段（ｓｔａｉｒｃａｓｅ）ブレンディングを実施することを含むことができる。別の例として、線量混合は漸進的ブレンディングを含むことができ、線量混合は、ブレンディングとタクトタイム（すなわち、第１のユニットの生産の開始と第２のユニットの生産の開始との間の時間の量）との間の改善されたトレードオフを提供することができる。

【0015】

本開示の態様および実装形態は、他の手法に勝る技術的利点を生じる。たとえば、上述のように、隣接する露光ユニットのペアの境界における不均一性および／または所与の露光ユニットに関連する走査のペアの境界における不均一性が、低減され得る。したがって、基板をパターニングするための改善されたフォトリソグラフィが達成され得る。

【0016】

図１は、いくつかの実施形態による、デジタルリソグラフィシステム（「システム」）１００のトップダウン図である。図示のように、装置１００は、ベース（たとえば、花崗岩ベース）と、ステージと、ステージ上に配設された基板とを含む、ステージアセンブリ１１０を含む。基板は、ガラスプレート、ウエハ、ＰＣＢ、または他のタイプの基板であり得る。基板は、走査領域１１２－１～１１２－４を含むいくつかの走査領域を有する、デジタルリソグラフィ印刷または走査エリアに対応し得るか、あるいはデジタルリソグラフィ印刷または走査エリア中に配置され得る。ステージアセンブリ１１０の左部分は、ステージアセンブリ１１０の上の第１のブリッジ１１４－１に対応し、ステージアセンブリ１１０の右部分は、ステージアセンブリ１１０の上の第２のブリッジ１１４－２に対応する。以下でさらに詳細に説明されるように、露光ユニットが、ブリッジ１１４－１および１１４－２に取り付けられる。いくつかの実施形態では、各ブリッジ１１４－１および１１４－２の長さは、約５００（ミリメートル）ｍｍから約１０００ｍｍの間にわたることがある。たとえば、各ブリッジ１１４－１および１１４－２の長さは、約７５０ｍｍであり得る。

【0017】

基板は、エッチングされるべき材料上に配設されたフォトレジスト材料を含むことができる。フォトレジスト材料は、ポジ型フォトレジスト材料（すなわち、光に露光されたフォトレジスト材料の一部分が、フォトレジストデベロッパに対して可溶性になる）、またはネガ型フォトレジスト材料（すなわち、光に露光されたフォトレジスト材料の一部分が、フォトレジストデベロッパに対して不溶性になる）であり得る。したがって、フォトレジスト材料の指定された部分を除去することによって、フォトレジストパターンが形成され得る。いくつかの実施形態では、エッチングされるべき材料は、導電性材料（たとえば、金属）である。たとえば、導電性材料はモリブデンであり得る。フォトレジスト材料の指定された領域が除去された後に、次に露光される材料が、フォトレジストパターンに従ってエッチングされ得る。たとえば、配線が、エッチングプロセス中に形成され得る。代替的に、パターニングされた材料は、それ自体が感光性であり、フォトレジスト層を追加する必要をなくし、後続のエッチングプロセスを実施し得る。

【0018】

フォトレジストパターニングを実施するために、装置１００は、第１のブリッジ１１４－１からかかっているデジタルリソグラフィ露光ユニット（「露光ユニット」）の第１の列と、第２のブリッジ１１４－２からかかっている露光ユニットの第２の列とをさらに含む。たとえば、露光ユニットの第１の列は、露光ユニット１～１１を含み、露光ユニットの第２の列は、露光ユニット１２～２２を含む。したがって、この例示的な例では、合計２２個の露光ユニットが示されている。しかしながら、図１に示されている露光ユニットの数は、限定と見なされるべきでなく、システム１００は、本明細書で説明される実施形態に従って任意の好適な数の露光ユニットを含むことができる。

【0019】

各露光ユニットは、基板のフォトレジスト材料上に画像を投影することができるレンズアセンブリを含むことができる。各レンズアセンブリは、その関連する走査領域の右下隅に隣接して示される。たとえば、露光ユニット１のレンズアセンブリ１２０は、走査領域１１２－１に関連する。いくつかの実施形態では、各レンズアセンブリは、約４ｍｍの高さであり、約３ｍｍの幅である。しかしながら、各レンズアセンブリは、本明細書で説明される実施形態に従って任意の好適な寸法を有することができる。

【0020】

デジタルリソグラフィプロセス中に、各露光ユニットは、基板の領域（たとえば、矩形の領域）を（たとえば、紫外光、近紫外光などの）光などの電磁放射に露光するために、基板に対して移動される。走査中に、露光ユニットは、プログラムされた走査経路に従って、それぞれの走査領域を露光する。ステージアセンブリ１１０の上に露光ユニットを移動させる代わりに、ステージアセンブリ１１０は、プログラムされた走査経路に従って露光ユニットの下でＸ－Ｙ方向に移動することができる。レンズアセンブリ（たとえば、レンズアセンブリ１２０）の視野が、その関連する走査領域（たとえば、走査領域１１２－１）よりも小さいことがあるので、走査領域（たとえば、走査領域１１２－１）全体が印刷されるまで、ステージアセンブリ１１０は、前後に繰り返し移動する必要があり得る。レンズアセンブリ１２０は、走査領域１１２－１の画定に基づいてトリミングが行われ得る、最初および最後の走査を除いて、走査領域１１２－１を走査するために投影される。露光ユニットの数が大きくなるほど、実施され得る走査が少なくなり、これは、より高いスループットに対応することができる。

【0021】

各露光ユニットが、異なる走査領域を担当し得、走査領域は、他の露光ユニットの隣接する走査領域と重複することもしないこともある。第１の走査領域から、（同じブリッジまたは異なるブリッジのいずれかに取り付けられた）第１の走査領域に隣接する第２の走査領域への急激な遷移を回避するために、第１の走査領域に対応する露光ユニットは、第２の走査領域に侵入することができる。同様に、第２の走査領域に対応する露光ユニットは、第１の走査領域に侵入することができる。たとえば、露光ユニット１は、走査領域１１２－２および／または走査領域１１２－３に侵入することができ、露光ユニット２は、走査領域１１２－１および／または走査領域１１２－４に侵入することができる。したがって、同じブリッジの隣接する露光ユニットおよび／または異なるブリッジ上の露光ユニット間の境界または「縫目線（ｓｔｉｔｃｈｉｎｇ ｌｉｎｅ）」において、共有される露光が観測され得る。

【0022】

縫目線が、クリッピング層によって画定され得、これは、ステージアセンブリ１１０の移動中に各露光ユニットのための走査経路境界を設定する、ソフトウェア定義された層であり得る。理想的でない印刷条件により、縫目線が、印刷した後に、基板上で可視であり得る。たとえば、露光ユニットの実際のロケーションが約１ミクロンだけシフトされた場合、縫目線の近くに、幅１ミクロンの間隙または二重露光された帯があり得る。この例示的な例では、縫目線が、（走査領域が矩形形状であるように）直線として示されているが、縫目線は曲線（たとえば、波状）であり得る。

【0023】

たとえば、露光ユニット１２０－１の経路１３０が、例として示されている。経路１３０は、蛇行（ｓｎａｋｅ－ｌｉｋｅ）様式で進む。より詳細には、走査中に、ステージアセンブリ１１０は、走査領域１２０－１にわたってＸ方向に（すなわち、右から左に）移動し、その間に、露光ユニット１２０－１は、走査領域１２０－１にわたって線をパターニングする。ステージアセンブリ１１０は、走査領域１１２－１の左エッジに達すると、Ｙ方向に（すなわち、上に）移動し、次いで、Ｘ方向に（すなわち、左から右に）移動して、走査領域１２０－１にわたって別の線をパターニングする。経路１３０は、走査領域１２０－１の反対端部に達するまでこの蛇行様式で進み、そのポイントにおいて、完全な画像が、基板上にパターニングされる。画像は、さらに、基板エッチングのために現像され得る。走査中のＹ方向のステージ進行の距離、「Ｙ_１」は、本明細書で説明される実施形態によれば任意の好適な距離であり得る。いくつかの実施形態では、Ｙ_１は、約１５０ｍｍから約１８０ｍｍの間にわたることがある。たとえば、Ｙ_１は約１６４ｍｍであり得る。各露光ユニットのためのＸ方向の走査距離は、実施形態では、ブリッジ１１４－１および１１４－２の長さに対応する。走査領域の合計幅、「Ｙ_２」は、本明細書で説明される実施形態によれば任意の好適な幅であり得る。いくつかの実施形態では、「Ｙ_２」は、約１６００ｍｍから約２０００ｍｍの間にわたることがある。たとえば、Ｙ_２は約１８００ｍｍであり得る。（たとえば、Ｘ方向の）各走査のための進行距離は、基板サイズの違いにより異なり得る。たとえば、いくつかの実施形態では、基板は、８インチ円形ウエハを含む。別の例として、いくつかの実施形態では、基板は、１２インチ円形ウエハを含む。

【0024】

図１に示されている走査プロセスは、実施形態では、ディスプレイ（たとえば、フラットパネルディスプレイ）を作成するために使用され得る。いくつかの実施形態では、ディスプレイは、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）である。次に、走査経路１３０および露光ユニット１２０－１に関するさらなる詳細が、図２Ａ～図２Ｄを参照しながら以下で説明される。

【0025】

図２Ａ～図２Ｄは、いくつかの実施形態による、デジタルリソグラフィシステムの単一のデジタルリソグラフィ露光ユニット（「露光ユニット」）２１０を通る基板２２０の走査経路のトップダウン図２００Ａ～２００Ｂである。露光ユニット２１０は、たとえば、図１を参照しながら上記で説明されたデジタルリソグラフィシステム１００の露光ユニット１２０－１であり得る。基板２２０は、ステージ（図示せず）上に配設される。

【0026】

図２Ａは、露光ユニット２１０と、露光ユニット２１０を使用して実施される第１の走査より前の、基板の走査領域２２０とを示す。走査領域２２０のエッジ２２２は、実施される第１の走査より前に、露光ユニット２１０のエッジ２１２と位置合わせされ得る。ステージは、走査領域２２０にわたっていくつかの走査を実施するデジタルリソグラフィ走査プロシージャに従って、（１つまたは複数の）Ｘ－Ｙ方向に基板を移動する。

【0027】

図２Ｂは、露光ユニット２１０を使用して第１の走査が実施された後の、走査領域２２０内での走査されたエリア２３０－１の形成を示す。より詳細には、ステージは、露光ユニット２１０の下で正のＸ方向に基板を移動させて、走査されたエリア２３０－１を形成する。

【0028】

図２Ｃは、露光ユニット２１０を使用して第２の走査が実施された後の、走査されたエリア２３０－２の形成を示す。より詳細には、露光ユニット２１０を使用して第１の走査が実施された後に、ステージは、正のＹ方向に基板を移動させて、露光ユニット２１０を次の指定された領域と位置合わせし、次いで、ステージは、露光ユニット２１０の下で負のＸ方向に基板を移動させて、走査されたエリア２３０－２を形成する。

【0029】

図２Ｄは、露光ユニット２１０を使用して第２の走査が実施された後の、走査されたエリア２３０－２の形成を示す。より詳細には、露光ユニット２１０を使用して第２の走査が実施された後に、ステージは、正のＹ方向に基板を移動させて、露光ユニット２１０を次の指定された領域と位置合わせし、次いで、ステージは、露光ユニット２１０の下で正のＸ方向に基板２２０を移動させて、走査されたエリア２３０－３を形成する。追加の走査が、走査を終了するために実施され得る。

【0030】

上記で説明された走査プロセス中に、１つまたは複数の「ムラ」問題が観測され得る。ムラは、概して、走査プロセスにより生じる、ディスプレイにわたって生じる、可視のばらつきを指す日本語の用語である。

【0031】

ムラの一例が、毎回の走査の後に生じる「走査ムラ」である。たとえば、走査ムラの１つのタイプは、露光ユニットの露光フィールドが一貫性のないものである、照明不均一性である（たとえば、露光フィールドの上部エッジが、下部エッジとは異なる照明フィールドを有する）。より詳細には、走査が、線を走査するためにまたは「ストライプをペイントする」ために実施されるたびに、走査の上部エッジは、下部エッジよりも明るくまたは暗くなる。これは、パターニング寸法に悪影響を及ぼすことがある。ムラの別の例が「振動ムラ」であり、デジタルリソグラフィシステムの動作から生じる振動が、露光ユニットが振動することを引き起こすことがあり、走査の不安定さ（ｃｈｏｐｐｉｎｅｓｓ）を生じる。露光ユニット振動は、空間的に同期されないことがあるので、これは、ディスプレイにわたって可視のばらつきを生じることがある。

【0032】

ムラの別の例が「境界ムラ」であり、ある露光ユニットによって走査された領域と別の露光ユニットによって走査された隣接する領域との境界またはエッジにおいて、外観の急な変化が観測され得る。たとえば、所与のブリッジの隣接する露光ユニットのペアによって走査された領域間の境界（たとえば、図１の走査領域１１２－２と走査領域１１２－４との間の境界）において、境界ムラが生じることがある。別の例として、異なるブリッジに対応する隣接する露光ユニットのペアによって走査された領域間の境界（たとえば、図１の走査領域１１２－１と走査領域１１２－２との間の境界）において、境界ムラが生じることがある。

【0033】

境界ムラの様々な異なる微視的および／または巨視的原因があり得る。たとえば、ある露光ユニットが、走査中に、隣接する露光ユニットよりも多くの光を出力している場合、印刷される線の線幅の急激な変化が、それらの露光ユニット間の境界にわたって観測され得る。別の例として、ある露光ユニットが、別の露光ユニットと比較して焦点が外れている場合、各露光ユニットに対応するフォトレジスト側壁プロファイルが異なり得る。たとえば、より良い焦点をもつ露光ユニットは、より不十分な焦点をもつ露光ユニットのより傾斜した側壁と比較して、より垂直な側壁を有することがある。したがって、隣接する走査領域の境界において、問題が存在することがある。

【0034】

本明細書でさらに詳細に説明されるように、ムラ（たとえば、境界ムラ）は、隣接する露光ユニットによって走査された走査領域間の境界（たとえば、縫目線）を平滑化するための露光ユニット境界平滑化を実施することによって対処され得る。露光ユニット境界が、露光ユニットによって走査された領域のエッジに対応し得る。たとえば、露光ユニット境界平滑化は、異なる露光ユニットによって走査された領域間の漸進的遷移を作成する（たとえば、境界をブレンドする）ために実施され得る。

【0035】

いくつかの実施形態では、露光ユニット境界平滑化を実施することは、露光ユニット境界シフティングを実施することを含む。露光ユニット境界シフティングは、露光ユニットの各パスについて露光ユニット境界をシフトするために実施され得る。パスは、基板上に、線をパターニングまたは印刷するための走査経路の単一の反復を指す（概念的に、ペイントの単一コーティングを施すことに似ている）。基板上に線をパターニングするために複数の（すなわち、２つまたはそれ以上の）パスを実施し、各パスの後に露光ユニット境界をシフトすることによって、線は、平滑化または改良され得る（概念的に、ペイントストロークを平滑化するために、ペイントの複数コーティングを施すことに似ている）。したがって、実施形態では、デジタルリソグラフィプロセスが、マルチパスデジタルリソグラフィプロセスであり得る。マルチパスデジタルリソグラフィプロセスの場合、同じ領域上で複数のパスが実施されて、その領域の露光を増加させ得る。

【0036】

いくつかの実施形態では、露光ユニット境界平滑化を実施することは、線量混合を実施することを含み、線量は、領域が露光される放射または光の量を指す。線量混合は、事実上、マルチパスリソグラフィを実施する必要なしに露光ユニット境界シフティングの結果を「模倣」しようとする。線量混合の場合、光源の強度は、露光ユニットに関連する領域の１つまたは複数の部分の走査中に調整され得る。代替または追加として、露光ユニットに関連する領域の異なる部分に適用されるパスの数が、露光ユニットによって異なる露光レベルを提供するように変動させられ得る。たとえば、第１の露光ユニットが、第１の露光ユニットが担当する領域の大部分への完全な線量を達成するために、ターゲット光強度の１００％（または２パス）を適用し得る。しかしながら、第１の露光ユニットが担当する領域の一部分について、第１の露光ユニットは、１／２線量を提供するために、ターゲット光強度の５０％（または完全な強度での単一のパス）を適用し得る。第２の露光ユニットが、第１の露光ユニットが担当する領域に渡り得、第１の露光ユニットによる５０％の線量を受ける領域の部分に、ターゲット光強度の５０％（または完全な強度での単一のパス）を適用し得る。これにより、２つの露光ユニットの線量または露光は、領域のその部分のために、事実上「混合」され、したがって、領域のその部分は、ある露光ユニットから部分線量を受け、別の露光ユニットから部分線量を受ける。本明細書でさらに詳細に説明されるように、線量混合は、対応する走査領域境界において「局所的なマルチパス」を実施することによって達成され得る。より詳細には、走査の複数のパスが、線量混合効果を達成するために、境界に関して実施され得る。線量混合は、露光ユニット境界シフティングと比較して、ブレンディングとタクトタイムとの間のトレードオフを提供することができる。いくつかの実施形態では、露光ユニット境界シフティングと線量混合との組合せが実施される。

【0037】

露光ユニット境界シフティングおよび／または線量混合は、同じブリッジに取り付けられた露光ユニットに関して隣接する走査領域間の境界平滑化（「１ブリッジ例」）を扱うために、または、異なるブリッジに取り付けられた露光ユニットに関して隣接する走査領域間の境界平滑化（「２ブリッジ例」）を扱うために、実施され得る。露光ユニット境界シフティングおよび線量混合に関するさらなる詳細が、図３～図７を参照しながら以下で説明される。

【0038】

図３Ａ～図３Ｃは、いくつかの実施形態による、デジタルリソグラフィ露光ユニット（「露光ユニット」）境界平滑化の例を示す図３００Ａ～３００Ｃである。露光ユニット境界平滑化は、露光ユニット境界シフティングおよび／または線量混合を実施することによって達成され得る。たとえば、図３００Ａ～３００Ｃは、各々、露光ユニットの境界を画定するクリッピング層に対応することができる。

【0039】

図３Ａでは、図３００Ａは、境界３１５によって分離された、第１の露光ユニットに対応する第１の走査領域３１０－Ａと、第２の露光ユニットに対応する第２の走査領域３２０－Ａとを示す。第１の露光ユニットと第２の露光ユニットとは、同じブリッジに取り付けられた隣接する露光ユニットであり得る。たとえば、第１の露光ユニットは、図１の露光ユニット１に対応することができ、第２の露光ユニットは、図１の露光ユニット２に対応することができる。代替的に、第１の露光ユニットと第２の露光ユニットとは、異なるブリッジに取り付けられた隣接する露光ユニットであり得る。たとえば、第１の露光ユニットは、図１の露光ユニット１に対応することができ、第２の露光ユニットは、図１の露光ユニット１２に対応することができる。

【0040】

この例では、第１の走査領域３１０－Ａと第２の走査領域３２０－Ａとの間の露光ユニット境界平滑化がない。より詳細には、第１の露光ユニットは、境界３１５までの第１の走査領域３１０－Ａにおける走査を１００％担当し、次いで、第２の露光ユニットは、境界３１５までの第２の走査領域３２０－Ａにおける走査を１００％担当する。言い換えれば、第１の走査領域３１０－Ａは、第１の露光ユニットからの線量の１００％を受けており、第２の走査領域３２０－Ａは、第２の露光ユニットからの線量の１００％を受けた。

【0041】

図３Ｂでは、図３００Ｂは、第１の露光ユニットに対応する第１の走査領域３１０－Ｂと、第２の露光ユニットに対応する第２の走査領域３２０－Ｂとを示す。ここで、第１の走査領域３１０－Ｂと第２の走査領域３２０－Ｂとの間の露光ユニット境界平滑化が、鋸歯状ブレンディングを生じた。より詳細には、第１の露光ユニットは、第２の露光ユニットに対応する元の走査領域（たとえば、図３Ａの走査領域３１０－Ｂ）に拡張するようにプログラムされ、第２の露光ユニットは、第１の露光ユニットに対応する元の走査領域（たとえば、図３Ａの走査領域３１０－Ａ）に拡張するようにプログラムされる。鋸歯状ブレンディングは、垂直境界３３０－１～３３０－４および水平境界３３５－１～３３５－３によって図３Ｂに示されている。境界３３０－１～３３０－４および３３５－１～３３５－１は、可視でないことがあり、図３Ｂに示されている露光ユニット境界平滑化を示すために提供される。混合線量領域が、垂直境界３３０－１と垂直境界３３０－４との間で画定される。水平境界３３５－１によって画定される領域に関して、第１の露光ユニットは７５％線量を提供し、第２の露光ユニットは２５％線量を提供する。水平境界３３５－２によって画定される領域に関して、第１の露光ユニットと第２の露光ユニットの両方が、５０％線量を提供する。水平境界３３５－３によって画定される領域に関して、第１の露光ユニットは２５％線量を提供し、第２の露光ユニットは７５％線量を提供する。

【0042】

図３Ｂに示されている境界平滑化は、露光ユニット境界シフティングおよび／または線量混合を実施することによって得られ得る。露光ユニット境界シフティングに関して、複数のパスが、鋸歯状ブレンディングを得るために実施され得る。この例示的な例では、４つのパスが実施され得、露光ユニット境界は、各パスの後にシフトされる（すなわち、４パス境界シフティング）。たとえば、１ブリッジのケースでは、露光ユニット境界は、（たとえば、クリッピング層を垂直方向にシフトすることによって）垂直方向にシフトされ得、２ブリッジのケースでは、露光ユニット境界は、（たとえば、クリッピング層を水平方向にシフトすることによって）水平方向にシフトされ得る。線量混合に関して、単一のパスを実施しながら、「局所的なマルチパス」が、露光ユニットの各々について線量（ｄｏｓｉｎｇ）の指定された量を提供するように、元の境界３１５に関して実施され得る。この例示的な例では、第１の露光ユニットおよび第２の露光ユニットは、各々、図３Ｂに示されている露光ユニット境界平滑化を達成するために４つの線量の量（１００％、７５％、５０％および２５％）を提供することができる。

【0043】

図３Ｃでは、図３００Ｃは、斜め境界３４０に対応する漸進的ブレンディングを伴う、第１の露光ユニット領域３１０－Ｃと第２の露光ユニット領域３２０－Ｃとを示す。斜め境界３４０を達成するための漸進的ブレンディングは、露光ユニット境界シフティング中の好適な数（たとえば、無限数）のパスの後に、および／または線量混合中の露光ユニットの各々についての境界に関する線量の好適に細かい（たとえば、無限小的に細かい）混合の後に、そのブレンディングが得られ得るという点で、境界平滑化のために理想的な理論である。

【0044】

図４は、いくつかの実施形態による、１ブリッジ実装形態におけるデジタルリソグラフィ露光ユニット（「露光ユニット」）の例示的な走査構成（「構成」）の図４００である。図４００は、露光ユニット境界平滑化またはブレンディングなしの第１の構成４１０を示す。より詳細には、第１の構成４１０は、第１の露光ユニットの１００％線量に対応する第１の走査領域４１２と、第２の露光ユニットの１００％線量に対応する第２の走査領域４１４とを含む。たとえば、走査領域４１２および４１４は、クリッピング層を使用して画定され得る。

【0045】

図４００は、露光ユニット境界平滑化またはブレンディングの一例を示す第２の構成４２０をさらに示す。より詳細には、第２の構成４２０は、第１の露光ユニットの１００％線量に対応する第１のブレンドされない走査領域４２１と、第２の露光ユニットの１００％線量に対応する第２のブレンドされない走査領域４２２とを含む。さらに、第２の構成４２０は、いくつかのブレンドされた走査領域４２３～４２５を含む。ブレンドされた走査領域４２３は、例として、第１の露光ユニットの約７５％線量および第２の露光ユニットの約２５％線量に対応することができる。ブレンドされた走査領域４２４は、第１の露光ユニット領域の約５０％線量および第２の露光ユニット領域の約５０％線量に対応することができる。ブレンドされた走査領域４２５は、第１の露光ユニットの約２５％線量および第２の露光ユニットの約７５％線量に対応することができる。

【0046】

いくつかの実施形態では、マルチパス露光プロセスが、走査領域４２１～４２５を達成するために実施され得る。より詳細には、露光ユニット境界シフティングが、各パスの後に垂直方向に露光ユニット境界をシフトすることによって実施され得る（たとえば、クリッピング層は、各パスの後に垂直方向にシフトする）。この例示的な例では、４つのパスが実施され得る。たとえば、第１の露光ユニットの４つのパスは、（１）走査領域４２１、（２）走査領域４２１＋４２３、（３）走査領域４２１＋４２３＋４２４、および（４）走査領域４２１＋４２３＋４２４＋４２５であり得る。

【0047】

走査領域４２１～４２５間の境界は、第２の構成４２０において直線であるものとして示されている。しかしながら、走査領域４２１～４２５間の境界が直線でない他の変形形態が企図される。たとえば、走査領域４２１～４２５間の境界は波状であり得る。人間の眼は、直線エッジにより敏感であるので、直線でない境界は、第１の露光ユニットと第２の露光ユニットとの間の同じ程度の不一致に関してあまりはっきり見えないことがある。

【0048】

図５は、いくつかの実施形態による、２ブリッジ実装形態におけるデジタルリソグラフィ露光ユニット（「露光ユニット」）の例示的な走査構成（「構成」）を示す図５００を示す。図５００は、４パス露光プロセス中に露光ユニットＡ～Ｄによって実施される、それぞれ第１のパス、第２のパス、第３のパスおよび第４のパスに対応する、いくつかの構成５１０－１～５１０－４を示す。この例では、露光ユニットＡ～Ｄは、隣接する走査領域中に位置し、露光ユニットＡおよびＢは、第１のブリッジに取り付けられ、露光ユニットＣおよびＤは、第２のブリッジに取り付けられる。たとえば、図１を参照すると、露光ユニットＡは露光ユニット２に対応することができ、露光ユニットＢは露光ユニット１に対応することができ、露光ユニットＣは露光ユニット１３に対応することができ、露光ユニットＤは露光ユニット１２に対応することができる。

【0049】

構成５１０－１～５１０－４の各々が、領域５２０を含む、領域の５×５グリッドとして編成され、各領域に書かれた文字「Ａ」～「Ｄ」は、対応するパス中にその領域においてどの露光ユニットが走査を実施することを担当するかを表す。たとえば、露光ユニットＡは、４つのパスの各々について、領域５２０において走査を実施することを担当する。構成５１０－１～５１０－４は、説明のために、完全に分離されたまたは独立したものとして示されている。各構成５１０－１～５１０－４のグリッドにおける対応するロケーション中のボックスが、各パス中に実質的に重複することを理解されたい。たとえば、構成５１０－１～５１０－４の各々における領域５２０は、実質的に同等のロケーションである。

【0050】

構成５１０－１～５１０－４に示されているパスは、あらかじめ定義されたブレンディング仕様を集合的に満たすように設計される。たとえば、ブレンディング仕様は、データ構造（たとえば、表）において提供され得る。構成５１０－１～５１０－４によって満たされるブレンディング仕様は、以下の表に示されている。

表１は５×５の表として編成され、各ボックスが、４パスプロセスの終わりに、対応する領域において露光ユニットＡ～Ｄのうちの１つまたは複数によって実施されるべき走査の総数を定義する。たとえば、表１中のエントリ「４Ａ」は、露光ユニットＡが、領域５２０において走査を合計４回実施することを示す（すなわち、露光ユニットＡは、各パスについて領域５２０を１００％担当する）。このため、構成５１０－１～５１０－４の各々における領域５２０は、その中に書かれた文字「Ａ」を有する。別の例として、表１中のエントリ「３Ａ＋Ｃ」は、領域５２０の右エッジに隣接する領域において、露光ユニットＡが走査を合計３回実施し、露光ユニットＣが走査を１回実施することを示す。この例示的な例では、構成５１０－１～５１０－４に示されているように、露光ユニットＡは、第１のパス、第３のパスおよび第４のパス中に、その領域において走査を実施し、露光ユニットＣは、第２のパス中に、その領域において走査を実施する。すなわち、露光ユニットＡは、その領域における走査の７５％に寄与し、露光ユニットＣは、その領域における走査の２５％に寄与する。しかしながら、この走査順序付けは限定するものではない。たとえば、（構成５１０－１に示されている露光ユニットＡとは対照的に）露光ユニットＣが、第１のパス中にその領域において走査を実施することができ、（構成５１０－２に示されている露光ユニットＣとは対照的に）露光ユニットＡが、第２のパス、第３のパスおよび第４のパス中に、その領域において走査を実施することができる。また別の例として、表１中のエントリ「Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ」は、構成５１０－１～５１０－４の中心領域において、露光ユニットＡ～Ｄの各々が１つの走査を実施することを示す。この例示的な例では、露光ユニットＡは、第１のパス中に中心領域において走査を実施し、露光ユニットＣは、第２のパス中に中心領域において走査を実施し、露光ユニットＢは、第３のパス中に中心領域において走査を実施し、露光ユニットＤは、第４のパス中に中心領域において走査を実施する。しかしながら、上記と同様に、この走査順序付けは、（露光ユニットＡ～Ｄの各々が、マルチパスプロセスのそれぞれのパス中に単一の走査を実施する限り）限定するものではない。

【0051】

図６は、いくつかの実施形態による、１ブリッジ実装形態におけるデジタルリソグラフィ露光ユニットの線量割振りの別の例を示す図６００である。図６００は、第１の露光ユニットに対応する線量割振り６１０－１と、第２の露光ユニットに対応する線量割振り６１０－２とを含む。説明のために、線量割振り６１０－１と線量割振り６１０－２とは、分離されたまたは独立したものとして示されている。しかしながら、実際には、線量割振り６１０－１と線量割振り６１０－２とは、垂直方向に位置合わせされた領域に対応する。

【0052】

たとえば、線量割振り６１０－１は、第１の領域における第１の露光ユニットのための線量値６１２－１と、第２の領域における第１の露光ユニットのための線量値６１４－１と、第３の領域における第１の露光ユニットのための線量値６１６－１と、第４の領域における第１の露光ユニットのための線量値６１８－１とを含む。線量割振り６１０－２は、第５の領域における第２の露光ユニットのための線量値６１２－２と、第２の領域における第２の露光ユニットのための線量値６１４－２と、第３の領域における第２の露光ユニットのための線量値６１６－２と、第４の領域における第２の露光ユニットのための線量値６１８－２とを含む。言い換えれば、第２の領域は、線量値６１４－１と線量値６１４－２との混合を含み、第３の領域は、線量値６１６－１と線量値６１６－２との混合を含み、第４の領域は、線量値６１８－１と線量値６１８－２との混合を含む。

【0053】

混合線量値の和は、対応する領域のための総線量の合計１００％になるべきである。たとえば、線量値６１２－１と線量値６１２－２とは、各々、各露光ユニットが、それぞれ、第１の領域および第５の領域のための１００％線量に単独で寄与するように、１００％であり得る。線量値６１４－１は、例として７５％であり得、線量値６１４－２は、例として２５％であり得、各露光ユニットの寄与は、第２の領域の総線量の合計１００％になる。線量値６１６－１と線量値６１６－２とは、例として５０％であり得、各露光ユニットの寄与は、第３の領域の総線量の合計１００％になる。線量値６１８－１は、例として２５％であり得、線量値６１８－２は、例として７５％であり得、各露光ユニットの寄与は、第４の領域の総線量の合計１００％になる。しかしながら、これらの線量値例は例にすぎず、任意の好適な数の線量値混合（ｍｉｘｔｕｒｅ）Ｎが、本明細書で説明される実施形態に従って実装され得る。第１の露光ユニットと第２の露光ユニットとに対応するクリッピング層は、線量値混合を達成するために必要とされる重複を提供するように位置合わせされるべきである。

【0054】

図７は、いくつかの実施形態による、２ブリッジ実装形態におけるデジタルリソグラフィ露光ユニットの例示的な線量割振りを示す図７００である。図７００は、露光ユニットＡに対応する線量割振り７１０－Ａと、露光ユニットＢに対応する線量割振り７１０－Ｂと、露光ユニットＣに対応する線量割振り７１０－Ｃと、露光ユニットＤに対応する線量割振り７１０－Ｄとを含む。この例では、露光ユニットＡ～Ｄは、隣接する走査領域中に位置し、露光ユニットＡおよびＢは、第１のブリッジに取り付けられ、露光ユニットＣおよびＤは、第２のブリッジに取り付けられる。たとえば、図１を参照すると、露光ユニットＡは露光ユニット２に対応することができ、露光ユニットＢは露光ユニット１に対応することができ、露光ユニットＣは露光ユニット１３に対応することができ、露光ユニットＤは露光ユニット１２に対応することができる。

【0055】

線量割振り７１０－Ａ～７１０－Ｄの各ボックス中の数は、各領域における対応する露光ユニットのための相対線量を表し、実際の線量は１６で除算される。たとえば、線量割振り７１０－Ａに示されたボックス中の数が「８」である場合、対応する領域についての露光ユニットＡのための実際の線量寄与は、８／１６＝０．５または５０％である。

【0056】

説明のために、線量割振り７１０－Ａ～線量割振り７１０－Ｄは、分離されたものとして示されている。しかしながら、実際には、線量割振り７１０－Ａ～７１０－Ｄは、露光ユニットＡ～Ｄの各々からの総線量が、合計１００％になる（すなわち、相対線量が合計１６になる）ように、ブレンディングゾーンを形成するように３×３ボックス領域７２０Ａ～７２０－Ｄに関して重複する。たとえば、露光ユニット線量割振り７１０－Ａ～７１０－Ｄの各々における太字および下線付きの値に対応する総線量は、

によって表され得る。この例示的な例では、（相対線量１、２、３、４、６、８、９、１２および１６に対応する）各露光ユニットＡ～Ｄのための９つの線量値が達成される。しかしながら、これらの線量値例は例にすぎず、任意の好適な数の線量値混合Ｎが、本明細書で説明される実施形態に従って実装され得る。

【0057】

図８Ａ～図８Ｃは、いくつかの実施形態による、デジタルリソグラフィ露光ユニット線量割振りの例を示す図である。図８Ａは、露光ユニット境界平滑化またはブレンディングなしの図８００Ａを示す。たとえば、図８００Ａは、第１の露光ユニットに対応する第１の走査領域８１０－Ａと、第２の露光ユニットに対応する第２の走査領域８２０－Ａと、第３の露光ユニットに対応する第３の走査領域８３０－Ａとを示す。各走査領域８１０－Ａ～８３０－Ａは、各々走査幅を有するいくつかの走査に関連する。この例示的な実施形態では、６つの走査（１～６）が、各走査領域内で各露光ユニットによって実施される。しかしながら、走査の数は、限定するものと見なされるべきでない。露光ユニット走査距離を示す、距離「Ｘ」が示されている。線量混合がないので、各露光ユニットが、その対応する領域内の走査の１００％を担当する。ここで、ならびに図８Ｂおよび図８Ｃに関して以下で説明されるように、第１の露光ユニットによって実施される走査は、塗りつぶしなしによって示されており、第２の露光ユニットによって実施される走査は、ストライプによって示されており、第３の露光ユニットによって実施される走査は、斑点によって示されている。

【0058】

走査２～５は、概して、対応する走査領域８１０Ａ～８３０Ａの中央で実施される走査に対応し、走査１および６は、概して、対応する走査領域８１０Ａ～８３０Ａのエッジまたは境界に向かって実施される走査に対応する。走査２～５は、概して、同じまたは同様の走査幅を有する。しかしながら、走査１および６の場合、走査幅が、走査２～５の走査幅よりも小さくなり得ることが観測され得る。これは、デジタルリソグラフィシステムがアセンブルおよび較正されるやり方から生じることがある。たとえば、各露光ユニットは、約＋／－１ミリメートル（ｍｍ）の許容差を有するように設置され得る。次いで、システムは、各露光ユニットのロケーションを決定するために較正され得る。較正は、各露光がデジタルリソグラフィシステム内にどのように配設されるかに鑑みて、走査ごとに走査幅を識別することができる。

【0059】

図８Ｂは、第１の実装形態による、露光ユニット境界平滑化を伴う、図８００Ｂを示す。たとえば、図８００Ｂは、走査領域８１０－Ｂ～８５０－Ｂを示す。各走査領域８１０－Ｂ～８５０－Ｂは、各々走査幅を有するいくつかの走査に関連する。しかしながら、走査の数および／または走査幅は、限定するものと見なされるべきでない。

【0060】

図示のように、第１の露光ユニットが、走査領域８１０－Ｂにおいて走査１～４Ａを実施し、走査４Ａは、第１の露光ユニットによる走査４の第１の実施に対応する。ここで、第１の露光ユニットは、走査領域８１０－Ｂ内の走査の１００％を実施する。

【0061】

走査領域８２０－Ｂにおいて、第１の露光ユニットは走査４Ｂ～８を実施し、走査４Ｂは、第１の露光ユニットによる走査４の第２の実施に対応する。追加の走査７および８が、第１の露光ユニットの動作を、第２の露光ユニットの元の走査領域（たとえば、図８Ａの走査領域８２０－Ａ）に拡張するために使用された。その上、第２の露光ユニットが走査－１～２Ａを実施し、走査２Ａは、第２の露光ユニットによる走査２の第１の実施に対応する。追加の走査－１および０が、第２の露光ユニットを、第１の露光ユニットの元の走査領域（たとえば、図８Ａの走査領域８１０－Ａ）に拡張するために使用された。ここで、第１の露光ユニットと第２の露光ユニットとの各々は、走査領域８２０－Ｂの走査の約５０％を走査する。

【0062】

走査領域８３０－Ｂにおいて、第２の露光ユニットは走査２Ｂ～４Ａを実施し、走査２Ｂは、第２の露光ユニットによる走査２の第２の実施に対応し、走査４Ａは、第２の露光ユニットによる走査４の第１の実施に対応する。ここで、第２の露光ユニットは、走査領域８３０－Ｂの１００％を走査する。

【0063】

走査領域８４０－Ｂにおいて、第２の露光ユニットは走査４Ｂ～８を実施し、走査４Ｂは、第２の露光ユニットによる走査４の第２の実施に対応する。第１の露光ユニットと同様に、追加の走査７および８が、第２の露光ユニットの動作を、第３の露光ユニットの元の走査領域（たとえば、図８Ａの走査領域８３０－Ａ）に拡張するために使用された。その上、第３の露光ユニットが走査－１～３Ａを実施し、走査３Ａは、第３の露光ユニットによる走査３の第１の実施に対応する。追加の走査－１および０が、第３の露光ユニットを、第２の露光ユニットの元の走査領域（たとえば、図８Ａの走査領域８２０－Ｂ）に拡張するために使用された。ここで、第２の露光ユニットと第３の露光ユニットとの各々は、走査領域８４０－Ｂの約５０％を走査する。

【0064】

走査領域８５０－Ｂにおいて、第２の露光ユニットは走査３Ｂ～６を実施し、走査３Ｂは、第３の露光ユニットによる走査３の第２の実施に対応する。ここで、第３の露光ユニットは、走査領域８５０－Ｂ内の走査の１００％を実施する。したがって、走査領域８２０－Ｂと走査領域８４０－Ｂとは、露光ユニットの隣接するペアが走査領域の約５０％を走査する、重複範囲に対応する。

【0065】

第１の露光ユニットによって実施される走査４と、第２の露光ユニットによって実施される走査２および４と、第３の露光ユニットによって実施される走査３とは、走査領域間の線量混合境界を越える走査に対応する。したがって、これらの走査は、図８Ｂによる線量混合を実施するために、２倍にされるかまたは２回実施される。たとえば、第１の露光ユニットに関して、ステージは、その対応する走査４の印刷中に同じＹ位置においてとどまることができる。第１の露光ユニットは、ある走査において４Ａを印刷するために１００％線量を使用し、別の走査において４Ｂを印刷するために５０％線量を使用することができる。

【0066】

図８Ｃは、第２の実装形態による、露光ユニット境界平滑化を伴う、図８００Ｃを示す。たとえば、図８００Ｂは、走査領域８１０－Ｃ～８９０－Ｃを示す。各走査領域８１０－Ｃ～８９０－Ｃは、各々走査幅を有するいくつかの走査に関連する。しかしながら、走査の数および／または走査幅は、限定するものと見なされるべきでない。第１の露光ユニットが、走査領域８１０－Ｃ内の走査の１００％を実施し、第２の露光ユニットが、走査領域８５０－Ｃ内の走査の１００％を実施し、第３の露光ユニットが、走査領域８９０－Ｃ内の走査の１００％を実施する。

【0067】

図示のように、第１の露光ユニットが、走査領域８１０－Ｃにおいて走査１～４Ａを実施し、走査４Ａは、第１の露光ユニットによって実施される走査４の第１の部分に対応する。ここで、第１の露光ユニットは、走査領域８１０－Ｃの１００％を走査する。

【0068】

走査領域８２０－Ｃにおいて、第１の露光ユニットは走査４Ｂおよび５Ａを実施し、走査４Ｂは、第１の露光ユニットによって実施される走査４の第２の部分に対応し、走査５Ａは、第１の露光ユニットによって実施される走査５の第１の部分に対応する。その上、第２の露光ユニットが走査－１および０Ａを実施し、走査０Ａは、第２の露光ユニットによって実施される走査０の第１の部分に対応する。追加の走査－１および０が、第２の露光ユニットを、第１の露光ユニットの元の走査領域（たとえば、図８Ａの走査領域８１０－Ａ）に拡張するために使用された。ここで、第１の露光ユニットは、走査領域８２０－Ｃの約７５％を走査し、第２の露光ユニットは、走査領域８２０－Ｃの約２５％を走査する。

【0069】

走査領域８３０－Ｃにおいて、第１の露光ユニットは、走査５Ｂ～７Ａを実施し、走査６Ｂは、第１の露光ユニットによって実施される走査６の第２の部分に対応し、走査７Ａは、第１の露光ユニットによって実施される走査７の第１の部分に対応する。その上、第２の露光ユニットは、走査０Ｂおよび１Ａを実施し、走査０Ｂは、第２の露光ユニットによって実施される走査０の第２の部分に対応し、走査１Ａは、第２の露光ユニットによって実施される走査１の第１の部分に対応する。ここで、第１の露光ユニットと第２の露光ユニットとの各々は、走査領域８３０－Ｃの約５０％を走査する。

【0070】

走査領域８４０－Ｃにおいて、第１の露光ユニットは走査７Ｂおよび８を実施し、走査７Ｂは、第１の露光ユニットによって実施される走査７の第２の部分に対応する。その上、第２の露光ユニットは、走査１Ｂおよび２Ａを実施し、走査１Ｂは、第２の露光ユニットによって実施される走査１の第２の部分に対応し、走査２Ａは、第２の露光ユニットによって実施される走査２の第１の部分に対応する。ここで、第１の露光ユニットは、走査領域８４０－Ｃの約２５％を走査し、第２の露光ユニットは、走査領域８４０－Ｃの約７５％を走査する。

【0071】

走査領域８２０－Ｃ～８４０－Ｃに関して、追加の走査７および８が、第１の露光ユニットを、第２の露光ユニットの元の走査領域（たとえば、図８Ａの走査領域８２０－Ａ）に拡張するために使用された。その上、追加の走査－１および０が、第２の露光ユニットを、第１の露光ユニットの元の走査領域（たとえば、図８Ａの走査領域８１０－Ａ）に拡張するために使用された。

【0072】

走査領域８５０－Ｃにおいて、第２の露光ユニットは、走査２Ｂ～４Ａを実施し、走査２Ｂは、第２の露光ユニットによって実施される走査２の第２の部分に対応し、走査４Ａは、第２の露光ユニットによって実施される走査４の第１の部分に対応する。ここで、第２の露光ユニットは、走査領域８５０－Ｃの１００％を走査する。

【0073】

走査領域８６０－Ｃにおいて、第２の露光ユニットは、走査４Ｂ～６Ａを実施し、走査４Ｂは、第２の露光ユニットによって実施される走査４の第２の部分に対応し、走査６Ａは、第２の露光ユニットによって実施される走査６の第１の部分に対応する。その上、第３の露光ユニットが走査－１および０Ａを実施し、走査０Ａは、第３の露光ユニットによって実施される走査０の第１の部分に対応する。ここで、第２の露光ユニットは、走査領域８６０－Ｃの約７５％を走査し、第３の露光ユニットは、走査領域８６０－Ｃの約２５％を走査する。

【0074】

走査領域８７０－Ｃにおいて、第２の露光ユニットは、走査６Ｂおよび７Ａを実施し、走査６Ｂは、第２の露光ユニットによって実施される走査６の第２の部分に対応し、走査７Ａは、第２の露光ユニットによって実施される走査７の第１の部分に対応する。その上、第３の露光ユニットは、走査０Ｂ～２Ａを実施し、走査０Ｂは、第３の露光ユニットによって実施される走査０の第２の部分に対応し、走査２Ａは、第３の露光ユニットによって実施される走査２の第１の部分に対応する。ここで、第２の露光ユニットと第３の露光ユニットとの各々は、走査領域８７０－Ｃの約５０％を走査する。

【0075】

走査領域８８０－Ｃにおいて、第２の露光ユニットは走査７Ｂおよび８を実施し、走査７Ｂは、第２の露光ユニットによって実施される走査７の第２の部分に対応する。その上、第３の露光ユニットは、走査２Ｂ～３Ａを実施し、走査２Ｂは、第３の露光ユニットによって実施される走査２の第２の部分に対応し、走査３Ａは、第３の露光ユニットによって実施される走査３の第１の部分に対応する。ここで、第２の露光ユニットは、走査領域８８０－Ｃの約２５％を走査し、第３の露光ユニットは、走査領域８８０－Ｃの約７５％を走査する。

【0076】

走査領域８６０－Ｃ～８８０－Ｃに関して、追加の走査７および８が、第２の露光ユニットを、第３の露光ユニットの元の走査領域（たとえば、図８Ａの走査領域８３０－Ａ）に拡張するために使用された。その上、追加の走査－１および０が、第３の露光ユニットを、第２の露光ユニットの元の走査領域（たとえば、図８Ａの走査領域８２０－Ａ）に拡張するために使用された。

【0077】

走査領域８９０－Ｃにおいて、第３の露光ユニットは走査３Ｂ～６を実施し、走査３Ｂは、第３の露光ユニットによって実施される走査３の第２の部分に対応する。ここで、第３の露光ユニットは、走査領域８９０－Ｃ内の走査の１００％を実施する。

【0078】

第１の露光ユニットによって実施される走査４、５および７と、第２の露光ユニットによって実施される走査０、１、２、４、６および７と、第３の露光ユニットによって実施される走査０、２および３とは、走査領域間の線量混合境界に侵入する走査に対応する。したがって、これらの走査は、図８Ｃによる線量混合を実施するために、対応する線量混合境界に関して２倍にされるかまたは２回実施される。

【0079】

図９は、いくつかの実施形態による、デジタルリソグラフィ露光ユニット境界平滑化を実装するための方法９００のフロー図を示す。方法は、ハードウェア（回路、専用論理など）、（汎用コンピュータシステムまたは専用機械上で稼働される）コンピュータ可読命令、またはその両方の組合せを備え得る、処理論理によって実施され得る。例示的な例では、方法９００は、デジタルリソグラフィシステムの処理デバイスによって実施され得る。図９に示されているブロックは、同時に実施されるか、または示されているものとは異なる順序で実施され得ることに留意されたい。

【0080】

ブロック９１０において、処理論理は、基板をパターニングするためのデジタルフォトリソグラフィプロセスを実施するための命令を受信し、ブロック９２０において、処理論理は、命令に従って基板をパターニングするためのデジタルリソグラフィプロセスを始動する。基板はステージ上に配設され得、ステージは、命令に従ってデジタルリソグラフィ露光ユニット（「露光ユニット」）の下でＸ－Ｙ方向に移動することができる。たとえば、命令は、露光ユニット境界平滑化（たとえば、露光ユニット境界シフティングおよび／または線量混合）を実装するために実行され得る。

【0081】

ブロック９３０において、処理論理は、デジタルリソグラフィプロセス中に第１の露光ユニットと第２の露光ユニットとに関して露光ユニット境界平滑化を実施する。第１の露光ユニットは、第１の走査領域に対応し、第２の露光ユニットは、第１の走査領域に隣接する第２の走査領域に対応する。露光ユニット境界平滑化を実装することは、第１の露光ユニットを第２の走査領域に拡張させ、第２の露光ユニットを第１の走査領域に拡張させることを含むことができる。

【0082】

いくつかの実施形態では、デジタルリソグラフィプロセスは、複数のパスを含む複数パスプロセスを含み、露光ユニット境界平滑化を実装することは、複数パスプロセスの一部として露光ユニット境界シフティングを実施することを含む。たとえば、露光ユニット境界シフティングは、１ブリッジ実装形態において実装され得る。ここで、第１の露光ユニットと第２の露光ユニットとは、デジタルフォトリソグラフィシステムのステージの上の同じブリッジに取り付けられ、露光ユニット境界シフティングを実施することは、複数パスプロセスの第１のパスを実施することと、第１のパスを実施したことに応答して、垂直境界シフトを実施することと、垂直境界シフトを実施したことに応答して、複数パスプロセスの第２のパスを実施することとを含む。露光ユニット境界シフティングの１ブリッジ実装形態に関するさらなる詳細は、図４を参照しながら上記で説明された。

【0083】

別の例として、露光ユニット境界シフティングは、２ブリッジ実装形態において実装され得る。ここで、第１の露光ユニットと第２の露光ユニットとは、第１のブリッジに取り付けられ、複数の露光ユニットは、第３の走査領域に関連する第３の露光ユニットと第３の走査領域に隣接する第４の走査領域に関連する第４の露光ユニットとをさらに含み、したがって、第３の露光ユニットと第４の露光ユニットとは、第１のブリッジに隣接する第２のブリッジに取り付けられる。その場合、露光ユニット境界シフティングを実施することは、複数パスプロセス中にそれぞれの領域中で、第１の露光ユニットと第２の露光ユニットと第３の露光ユニットと第４の露光ユニットとによって実施されるべき線量の総数を示すブレンディング仕様に従って複数のパスを実施することを含むことになる。露光ユニット境界シフティングの２ブリッジ実装形態に関するさらなる詳細は、図５を参照しながら上記で説明された。

【0084】

いくつかの実施形態では、露光ユニット境界平滑化を実装することは、第１の走査領域と第２の走査領域との間の境界に関する線量混合を実施することを含む。たとえば、線量混合は、１ブリッジ実装形態において実装され得る。ここで、第１の露光ユニットと第２の露光ユニットとは、デジタルフォトリソグラフィシステムのステージの上の同じブリッジに取り付けられ、線量混合を実施することは、第１の露光ユニットに、ブレンドされた領域に対する総線量の第１の割合を寄与させ、第２の露光ユニットに、ブレンドされた領域に対する総線量の第２の割合を寄与させることを含み、したがって、第１の割合と前記第２の割合との和が１００％に等しくなる。露光ユニット境界シフティングの１ブリッジ実装形態に関するさらなる詳細は、図６を参照しながら上記で説明された。

【0085】

別の例として、線量混合は、２ブリッジ実装形態において実装され得る。ここで、第１の露光ユニットと第２の露光ユニットとは、第１のブリッジに取り付けられ、複数の露光ユニットは、第３の走査領域に関連する第３の露光ユニットと第３の走査領域に隣接する第４の走査領域に関連する第４の露光ユニットとをさらに含み、したがって、第３の露光ユニットと第４の露光ユニットとは、第１のブリッジに隣接する第２のブリッジに取り付けられる。その場合、線量混合を実施することは、第１の露光ユニットに、ブレンドされた領域に対する総線量の第１の割合を寄与させ、第２の露光ユニットに、ブレンドされた領域に対する総線量の第２の割合を寄与させ、第３の露光ユニットに、ブレンドされた領域に対する総線量の第３の割合を寄与させ、第４の露光ユニットに、ブレンドされた領域に対する総線量の第４の割合を寄与させることを含むことになり、したがって、第１の割合と第２の割合と第３の割合と第４の割合との和が１００％に等しくなる。線量混合の２ブリッジ実装形態に関するさらなる詳細は、図７を参照しながら上記で説明された。

【0086】

露光ユニット境界シフティングおよび線量混合を含む、方法９００に関するさらなる詳細が、図１～図８を参照しながら上記で説明された。

【0087】

図１０は、いくつかの実施形態による、デジタルリソグラフィシステム（「システム」）９００を示すブロック図である。図示のように、システム１０００は、デジタルリソグラフィ露光ユニット（「露光ユニット」）１０１０と、ステージ１０２０と、処理デバイス１０３０とを含む。処理デバイス１０３０は、メモリ１０３４に動作可能に結合されたプロセッサ１０３２を含む。メモリは、システム１０００内でデジタルリソグラフィを実施するための命令１０３６を維持することができる。たとえば、命令１０２６は、ステージ１０２０および／または露光ユニット１０１０の移動を制御するための命令を含むことができる。実行されたとき、命令は、本明細書で上記で説明された露光ユニット境界平滑化を実施するための方法を実装することができる。

【0088】

図１１は、いくつかの実施形態による、コンピュータシステム１１００を示すブロック図である。いくつかの実施形態では、コンピュータシステム１１００は、（たとえば、ローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）、イントラネット、エクストラネット、またはインターネットなど、ネットワークを介して）他のコンピュータシステムに接続される。いくつかの実施形態では、コンピュータシステム１１００は、クライアントサーバ環境内のサーバコンピュータまたはクライアントコンピュータの資格で動作するか、あるいは、ピアツーピアまたは分散型ネットワーク環境内のピアコンピュータとして動作する。いくつかの実施形態では、コンピュータシステム１１００は、パーソナルコンピュータ（ＰＣ）、タブレットＰＣ、セットトップボックス（ＳＴＢ）、携帯情報端末（ＰＤＡ）、セルラー電話、ウェブアプライアンス、サーバ、ネットワークルータ、スイッチまたはブリッジ、あるいはそのデバイスによってとられるべきアクションを指定する命令のセット（連続またはそれ以外）を実行することが可能な任意のデバイスによって提供される。さらに、「コンピュータ」という用語は、本明細書で説明される方法のうちのいずれか１つまたは複数を実施するために命令のセット（または複数のセット）を個々にまたは一緒に実行する、コンピュータの任意の集合を含むものとする。

【0089】

さらなる態様では、コンピュータシステム１１００は、バス１１０８を介して互いと通信する、処理デバイス１１０２と、揮発性メモリ１１０４（たとえば、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ））と、不揮発性メモリ１１０６（たとえば、読取り専用メモリ（ＲＯＭ）または電気的消去可能プログラマブルＲＯＭ（ＥＥＰＲＯＭ））と、データストレージデバイス１１１６とを含む。

【0090】

いくつかの実施形態では、処理デバイス１１０２は、（たとえば、複合命令セットコンピューティング（ＣＩＳＣ）マイクロプロセッサ、縮小命令セットコンピューティング（ＲＩＳＣ）マイクロプロセッサ、超長命令語（ＶＬＩＷ）マイクロプロセッサ、命令セットの他のタイプを実装するマイクロプロセッサまたは命令セットのタイプの組合せを実装するマイクロプロセッサなどの）汎用プロセッサ、または（たとえば、特定用途向け集積回路（ＡＳＩＣ）、フィールドプログラマブルゲートアレイ（ＦＰＧＡ）、デジタル信号プロセッサ（ＤＳＰ）、またはネットワークプロセッサなどの）専用プロセッサなど、１つまたは複数のプロセッサによって提供される。

【0091】

いくつかの実施形態では、コンピュータシステム１１００は、（たとえば、ネットワーク１１７４に結合された）ネットワークインターフェースデバイス１１２２をさらに含む。いくつかの実施形態では、コンピュータシステム１１００はまた、ビデオディスプレイユニット１１１０（たとえば、ＬＣＤ）と、英数字入力デバイス１１１２（たとえば、キーボード）と、カーソル制御デバイス１１１４（たとえば、マウス）と、信号生成デバイス１１２０とを含む。

【0092】

いくつかの実装形態では、データストレージデバイス１１１６は、本明細書で説明される方法または機能のうちのいずれか１つまたは複数を符号化する命令１１２６を記憶する、非一時的コンピュータ可読ストレージ媒体１１２４を含む。たとえば、命令１１２６は、デジタルリソグラフィシステムのステージおよび／またはデジタルリソグラフィ露光ユニット（「露光ユニット」）の移動を制御するための命令を含むことができ、命令は、実行されたとき、本明細書で説明される露光ユニット境界平滑化を実施するための方法を実装することができる。

【0093】

いくつかの実施形態では、命令１１２６はまた、コンピュータシステム１１００によるその実行中に、完全にまたは部分的に、揮発性メモリ１１０４内におよび／または処理デバイス１１０２内に存在し、したがって、いくつかの実施形態では、揮発性メモリ１１０４と処理デバイス１１０２とはまた、機械可読ストレージ媒体を構成する。

【0094】

コンピュータ可読ストレージ媒体１１２４は、例示的な例において単一の媒体として示されているが、「コンピュータ可読ストレージ媒体」という用語は、実行可能な命令の１つまたは複数のセットを記憶する単一の媒体または複数の媒体（たとえば、集中型または分散型データベース、ならびに／あるいは関連するキャッシュおよびサーバ）を含むものとする。「コンピュータ可読ストレージ媒体」という用語は、コンピュータが実行するための命令のセットを記憶または符号化することが可能であり、コンピュータが、本明細書で説明される方法のうちのいずれか１つまたは複数を実施することを引き起こす、任意の有形媒体をも含むものとする。「コンピュータ可読ストレージ媒体」という用語は、限定はしないが、固体メモリと、光媒体と、磁気媒体とを含むものとする。

【0095】

いくつかの実施形態では、本明細書で説明される方法、構成要素、および特徴は、個別ハードウェア構成要素によって実装されるか、あるいは、ＡＳＩＣ、ＦＰＧＡ、ＤＳＰまたは同様のデバイスなど、他のハードウェア構成要素の機能に統合される。いくつかの実施形態では、方法、構成要素、および特徴は、ハードウェアデバイス内のファームウェアモジュールまたは機能回路によって実装される。いくつかの実施形態では、方法、構成要素、および特徴は、ハードウェアデバイスとコンピュータプログラム構成要素との任意の組合せで実装されるか、またはコンピュータプログラムで実装される。

【0096】

別段に明記されていない限り、「トレーニングすること」、「識別すること」、「さらにトレーニングすること」、「再トレーニングすること」、「引き起こすこと」、「受信すること」、「提供すること」、「取得すること」、「最適化すること」、「決定すること」、「更新すること」、「初期化すること」、「生成すること」、「追加すること」などの用語は、コンピュータシステムレジスタおよびメモリ内の物理（電子）量として表されるデータを操作し、そのデータを、コンピュータシステムメモリまたはレジスタ、あるいは他のそのような情報ストレージ、送信または表示デバイス内の物理量として同様に表される他のデータに変換する、コンピュータシステムによって実施または実装されるアクションおよびプロセスを指す。いくつかの実施形態では、本明細書で使用される「第１の」、「第２の」、「第３の」、「第４の」などの用語は、異なる要素同士を区別するためのラベルとして意味され、それらの数字表示による順序の意味を有しない。

【0097】

本明細書で説明される例はまた、本明細書で説明される方法を実施するための装置に関する。いくつかの実施形態では、この装置は、本明細書で説明される方法を実施するために特別に構築されるか、または、コンピュータシステムに記憶されたコンピュータプログラムによって選択的にプログラムされる汎用コンピュータシステムを含む。そのようなコンピュータプログラムは、コンピュータ可読有形ストレージ媒体に記憶される。

【0098】

本明細書で説明される方法および例示的な例は、本質的に、特定のコンピュータまたは他の装置に関係しない。いくつかの実施形態では、様々な汎用システムが、本明細書で説明される教示に従って使用される。いくつかの実施形態では、より特殊な装置が、本明細書で説明される方法および／あるいはそれらの個々の機能、ルーチン、サブルーチン、または動作の各々を実施するために構築される。様々なこれらのシステムのための構造の例は、上記の説明に記載される。

【0099】

先行する説明は、本発明のいくつかの実施形態の良好な理解を提供するために、特定のシステム、構成要素、方法の例など、多数の具体的な詳細を記載する。しかしながら、これらの具体的な詳細なしに本発明の少なくともいくつかの実施形態が実践され得ることは、当業者には明らかであろう。他の事例では、よく知られている構成要素または方法は、本発明を不必要に不明瞭にすることを回避するために、詳細に説明されないか、または単純なブロック図フォーマットで提示される。したがって、記載される具体的な詳細は例にすぎない。特定の実装形態は、これらの例示的な詳細から変動し、依然として、本発明の範囲内に入ることが企図され得る。

【0100】

本明細書全体にわたる、「１つの実施形態（ｏｎｅ ｅｍｂｏｄｉｍｅｎｔ）」または「一実施形態（ａｎ ｅｍｂｏｄｉｍｅｎｔ）」への言及は、その実施形態に関して説明される特定の特徴、構造、または性質が、少なくとも１つの実施形態に含まれることを意味する。したがって、本明細書全体にわたる様々な場所における、「１つの実施形態では（ｉｎ ｏｎｅ ｅｍｂｏｄｉｍｅｎｔ）」または「一実施形態では（ｉｎ ａｎ ｅｍｂｏｄｉｍｅｎｔ）」という句の出現は、必ずしもすべて同じ実施形態に言及するものとは限らない。さらに、「または（ｏｒ）」という用語は、排他的な「または」ではなく、包含的な「または」を意味するものとする。「約（ａｂｏｕｔ）」または「約（ａｐｐｒｏｘｉｍａｔｅｌｙ）」という用語が本明細書で使用されるとき、これは、提示された公称値が±１０％以内の精度であることを意味するものとする。

【0101】

本明細書の方法の動作は、特定の順序で示され、説明されるが、各方法の動作の順序は、いくつかの動作が逆順序で実施され得るように、またはいくつかの動作が、少なくとも部分的に、他の動作と同時に実施され得るように、変えられ得る。別の実施形態では、別個の動作の命令またはサブ動作は、断続的なおよび／または交互の様式におけるものであり得る。

【0102】

上記の説明は、例示的なものであり、限定的なものではないことを理解されたい。多くの他の実装例は、上記の説明を読み、理解すると、当業者には明らかであろう。本開示は特定の例について説明するが、本開示のシステムおよび方法は、本明細書で説明された例に限定されないが、添付の特許請求の範囲内で修正を加えて実施され得ることを認識されよう。したがって、本明細書および図面は、限定的な意味ではなく例示的な意味で考慮されるべきである。したがって、本開示の範囲は、添付の特許請求の範囲を参照しながら、そのような特許請求の範囲が権利を与えられる等価物の全範囲とともに、決定されるべきである。

【図1】

【図2A-2B】

【図2C-2D】

【図3A-3C】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8A-8B】

【図8C】

【図9】

【図10】

【図11】

【国際調査報告】