特表2024-523051極端紫外線検査システムにおける汚染を軽減するための対向流ガスノズル
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2024-06-26
(54)【発明の名称】極端紫外線検査システムにおける汚染を軽減するための対向流ガスノズル
(51)【国際特許分類】
G01N 21/956 20060101AFI20240619BHJP
G03F 7/20 20060101ALI20240619BHJP
H01L 21/66 20060101ALI20240619BHJP
G01N 23/20 20180101ALI20240619BHJP
【ＦＩ】
G01N21/956 A
G03F7/20 521
G03F7/20 503
H01L21/66 J
G01N23/20
【審査請求】未請求
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2023558753
(86)(22)【出願日】2022-05-20
(85)【翻訳文提出日】2023-09-25
(86)【国際出願番号】 US2022030143
(87)【国際公開番号】W WO2022251047
(87)【国際公開日】2022-12-01
(31)【優先権主張番号】17/333,717
(32)【優先日】2021-05-28
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】500049141
【氏名又は名称】ケーエルエー コーポレイション
(74)【代理人】
【識別番号】110001210
【氏名又は名称】弁理士法人ＹＫＩ国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】ガルシア ルディ
(72)【発明者】
【氏名】ラング マイケル
(72)【発明者】
【氏名】ジャガンナート ラヴィチャンドラ
【テーマコード（参考）】
2G001
2G051
2H197
4M106
【Ｆターム（参考）】
2G001AA07
2G001BA15
2G001BA18
2G001CA07
2G001DA09
2G001HA13
2G001LA11
2G001SA29
2G051AA56
2G051BA05
2H197AA05
2H197CA10
2H197FA01
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2H197HA03
2H197JA07
4M106AA01
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4M106CA38
4M106DB04
4M106DB07
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4M106DB11
4M106DJ40
(57)【要約】
コーティング検査システムの１つ以上の要素の汚染を低減および低減するためのシステムおよび方法に関する。具体的には、検査システムの１つ以上の部分における汚染物質の存在を低減するために、対向流ノズルを通るパージガスの対向流を使用することができる。システムは、ソースチャンバと、１つ以上の真空チャンバと、開口を有する中間集束ボックスと、照明方向において開口を通して照明を生成し、方向付けるように設計された照明源と、パージガスの対向流を、照射方向とは反対の方向にソースチャンバに向けるように設計されている対向流ノズルと、を含むことができる。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
光学システムであって、ソースチャンバと、
撮像光学系のセットを含む１つ以上の真空チャンバと、
開口を有し、前記ソースチャンバ及び１つ以上の真空チャンバに結合される中間焦点ハウジングと、
前記ソースチャンバの１つ以上の部分を通して照明を生成し、照明を方向付けるように構成された照明源と、
前記照明源からの照明の少なくとも一部を受け取り、照明軸を介して試料への照明方向に照明の少なくとも一部を方向付けるように構成された照明光学系のセットであって、前記照明軸は、照明の少なくとも一部が前記開口を透過するように構成される、照明光学系のセットと、
前記中間焦点ハウジングに結合されたパージガス入口であって、パージガスを１つ以上のパージガスダクトに送達するように構成されるパージガス入口と、
前記中間焦点ハウジングに結合され、前記ソースチャンバ内に少なくとも部分的に配置された対向流ノズルであって、パージガスを受け取り、前記１つ以上のパージガスダクトを介して、前記照明方向と反対の方向で前記ソースチャンバ内にパージガスの対向流を方向付けるように構成され、パージガスの対向流は、１つ以上の真空チャンバ内への１つ以上の揮発性種の汚染物質の透過を低減することによって、１つ以上の真空チャンバ内の汚染を軽減するように構成される、対向流ノズルと、
を含む、
光学システム。
【請求項2】
前記撮像光学系のセットは、撮像軸に沿って試料からの照明の少なくとも一部を受け取るように構成される、請求項１に記載の光学システム。
【請求項3】
結像光学系のセットを介して試料からの照明の少なくとも一部を受け取るように構成される検出器をさらに含む、請求項２に記載の光学システム。
【請求項4】
前記光学システムは、マスク検査システムとして構成される、請求項１に記載の光学システム。
【請求項5】
前記ソースチャンバはソースチャンバ圧力を有し、１つ以上の真空チャンバはそれぞれ、前記ソースチャンバ圧力未満の圧力を有する、請求項１に記載の光学システム。
【請求項6】
前記照明源は、極紫外線、真空紫外線、深紫外線、または紫外線のうちの少なくとも１つを生成するように構成される、請求項５に記載の光学システム。
【請求項7】
前記照明源の照明は、極紫外線、真空紫外線、深紫外線、または紫外線のうちの少なくとも１つを含む、請求項６に記載の光学システム。
【請求項8】
前記１つ以上の真空ポンプは、１つ以上の真空チャンバのそれぞれ内に選択された圧力を生成するように構成されることをさらに含む請求項５に記載の光学システム。
【請求項9】
前記１つ以上の真空ポンプは、１つ以上のターボ分子ポンプを含む、請求項８に記載の光学システム。
【請求項10】
前記照明光学系のセットは、前記開口を通して照明の少なくとも一部分を方向付けるように構成される、請求項９に記載の光学システム。
【請求項11】
前記ソースチャンバは、アルゴンまたはキセノンの少なくとも１つで満たされる、請求項１０に記載の光学システム。
【請求項12】
パージガスはアルゴンを含む、請求項１１に記載の光学システム。
【請求項13】
前記１つ以上のパージガスダクトは、対向流ノズル内に形成される、請求項１２に記載の光学システム。
【請求項14】
前記１つ以上のパージガスダクトは、パージガスの対向流を層流にするように構成される、請求項１３に記載の光学システム。
【請求項15】
前記対向流ノズルは、複数のノズル構成要素を含む、請求項１４に記載の光学システム。
【請求項16】
前記対向流ノズルは、光学システムの保護係数を増加させるように構成される、請求項１５に記載の光学システム。
【請求項17】
中間焦点ハウジングであって、開口を含み、ソースチャンバおよび１つ以上の真空チャンバの各々に結合される中間焦点ハウジングと、前記中間焦点ハウジングに結合されたパージガス入口であって、パージガスを１つ以上のパージガスダクトに送達するように構成されるパージガス入口と、
前記中間焦点ハウジングに結合され、前記ソースチャンバ内に少なくとも部分的に配置された対向流ノズルであって、パージガスを受け取り、１つ以上のパージガスダクトを介して、照明方向と反対の方向に前記ソースチャンバ内にパージガスの対向流を方向付けるように構成される対向流ノズルと、
を含み、
パージガスの対向流は、前記１つ以上の真空チャンバ内への１つ以上の揮発性種の汚染物質の透過を低減することによって、前記１つ以上の真空チャンバ内の汚染を軽減するように構成される、
装置。
【請求項18】
光学システムの汚染を低減する方法であって、照明を生成し、該照明の少なくとも一部の照明方向をソースチャンバの１つ以上の部分に向けるステップと、
中間焦点ハウジングの開口を通して照明の少なくとも一部を方向付けるステップであって、前記中間焦点ハウジングは、前記ソースチャンバと１つ以上の真空チャンバとの間に配置される、ステップと、
前記中間焦点ハウジングに連結され、前記ソースチャンバ内に少なくとも部分的に配置された対向流ノズルにパージガスを供給するステップと、
前記対向流ノズルを通るパージガスの対向流を生成するステップと、
を含む、
方法。
【請求項19】
パージガスの対向流を生成することは、１つ以上の揮発性種の汚染物質の１つ以上の真空チャンバ内への透過を低減することを含む、請求項１８に記載の方法。
【請求項20】
前記対向流ノズルを通るパージガスの対向流を生成することは、パージガスの対向流が照射方向と反対の方向に伝達されるようにパージガスの対向流を生成することを含む、請求項１９に記載の方法。
【請求項21】
前記照明は、極紫外線、真空紫外線、深紫外線、または紫外線のうちの少なくとも１つを含む、請求項２０に記載の方法。
【請求項22】
前記中間焦点ハウジングに結合され、前記ソースチャンバ内に少なくとも部分的に配置された前記対向流ノズルにパージガスを供給するステップは、パージガス入口を介して前記中間焦点ハウジングにパージガスを供給するステップを含むとともに、前記中間焦点ハウジングの１つ以上のパージガスダクトにパージガスを供給するステップをさらに含む、請求項２１に記載の方法。
【請求項23】
パージガスはアルゴンを含む、請求項２１に記載の方法。
【請求項24】
パージガスの対向流を生成することは、照射方向と反対の方向にパージガスの層流を生成することを含む、請求項２３に記載の方法。
【請求項25】
前記１つ以上のパージガスダクトは、パージガスの層流を生成するように構成される、請求項２４に記載の方法。【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、概して、半導体検査の分野に関し、特に、汚染軽減を伴う極紫外線ベースの検査システムに関する。
【背景技術】
【0002】
ますます縮小する特徴（フィーチャ）を有するリソグラフィベースのデバイス構造に対する需要が増加し続けるにつれて、これらのますます縮小するデバイスをリソグラフィで印刷する関連するレチクルのリソグラフィおよび検査に使用される改善された照明源の必要性が増大し続けている。リソグラフィおよび検査システムで利用される特定のそのような照明源は、極紫外線（ＥＵＶ）光、真空紫外線（ＶＵＶ）光、深紫外線（ＤＵＶ）光、または紫外線（ＵＶ）光を利用する検査システムである。
【0003】
多くの場合、検査システム、特にそれらの光学システムは、清浄な真空環境で動作する必要がある。しかしながら、真空環境を汚染する傾向がある汚染物質は、システムから完全に除去することができない。これは、例えば、ある光学表面等の検査システムの構成要素が汚染物質を含む場合に当てはまる。その結果、検査システムの光学システム（多くの場合、真空チャンバ内に位置する）は、炭化水素および気相Ｈ２Ｏ等の汚染物質の分圧に暴露される（曝される）。これらの汚染物質は、システム内の放射線（例えば、照明プロセス中の場合であり得る）に曝されると、ミラーなどのシステムの炭素および／または酸化物光学表面の成長をもたらす。ミラーの場合、汚染は反射率の低下を引き起こし、所与のミラーに入射する光の位相変化をもたらす。これらの効果の両方は、チェックされない場合、経時的に光学部品の劣化を引き起こし、光学システムの故障につながる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】米国特許第８，７１１，３４６号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
したがって、上記で特定された従来技術の欠陥を硬化させる方法およびシステムを提供することが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本開示の１つ以上の実施形態による光学システムが開示される。一実施形態では、光学システムは、ソースチャンバ（照明源のチャンバ）を含む。別の実施形態では、光学システムは、撮像光学系のセットを含有する１つ以上の真空チャンバを含む。別の実施形態では、光学システムは、開口を有する中間焦点ハウジングを含み、中間焦点ハウジングは、ソースチャンバおよび１つ以上の真空チャンバに連結される。別の実施形態では、光学システムは、照明を生成し、照明をソースチャンバの１つ以上の部分を通して方向付けるように構成される、照明源を含む。別の実施形態では、光学システムは、照明源からの照明の少なくとも一部を受け取り、照明軸を介して試料への照明方向に照明の少なくとも一部を方向付けるように構成された照明光学系のセットを含み、照明軸は、照明の少なくとも一部が開口を透過するように構成される。別の実施形態では、光学システムは、中間焦点ハウジングに連結されるパージガス入口を含み、パージガス入口は、パージガスを１つ以上のパージガスダクトに送達するように構成される。別の実施形態では、光学システムは、中間焦点ハウジングに結合され、ソースチャンバ内に少なくとも部分的に配置された対向流（カウンターフロー）ノズルを含み、対向流ノズルは、パージガスを受け取り、１つ以上のパージガスダクトを介して、照明方向と反対の方向にソースチャンバ内にパージガスの対向流を導くように構成される。パージガスの対向流は、１つ以上の真空チャンバ内への１つ以上の揮発性種の汚染物質の透過を低減することによって、１つ以上の真空チャンバ内の汚染を軽減するように構成される。
【0007】
本開示の１つ以上の実施形態による装置が開示される。一実施形態では、装置は、中間焦点ハウジングを含み、中間焦点ハウジングは、ソースチャンバおよび１つ以上の真空チャンバのそれぞれに連結され、中間焦点ハウジングは、開口を含む。別の実施形態では、装置は、中間焦点ハウジングに結合されたパージガス入口を含み、パージガス入口は、パージガスを１つ以上のパージガスダクトに送達するように構成される。別の実施形態では、装置は、中間焦点ハウジングに結合され、ソースチャンバ内に少なくとも部分的に配置された対向流ノズルを含み、対向流ノズルは、パージガスを受け取り、１つ以上のパージガスダクトを介して、照明方向と反対の方向にソースチャンバ内にパージガスの対向流を導くように構成される。パージガスの対向流は、１つ以上の真空チャンバ内への１つ以上の揮発性種の汚染物質の透過を低減することによって、１つ以上の真空チャンバ内の汚染を軽減するように構成される。
【0008】
本開示の１つ以上の実施形態による、光学システムの汚染を低減する方法が開示される。一実施形態では、本方法は、照明を生成するステップと、照明の少なくとも一部を照明方向にソースチャンバの１つ以上の部分に向けるステップとを含む。別の実施形態では、方法は、中間焦点ハウジングの開口を通して照明の少なくとも一部分を方向付けることを含み、中間焦点ハウジングは、ソースチャンバと１つ以上の真空チャンバとの間に配置される。別の実施形態では、方法は、中間焦点ハウジングに結合され、ソースチャンバ内に少なくとも部分的に配置された対向流ノズルにパージガスを供給するステップを含む。別の実施形態では、方法は、対向流ノズルを通るパージガスの対向流を生成することを含む。
【0009】
前述の概要および以下の詳細な説明の両方は、例示的および説明的なものにすぎず、特許請求される本発明を必ずしも限定するものではないことを理解されたい。明細書に組み込まれ、明細書の一部を構成する添付の図面は、本発明の実施形態を示し、全般的な説明とともに、本発明の原理を説明するのに役立つ。
【図面の簡単な説明】
【0010】
本開示の多数の利点は、添付の図面を参照することによって当業者によってよりよく理解され得る。
【発明を実施するための形態】
【0011】
本開示は、特定の実施形態およびその特定の特徴に関して具体的に示され、説明されてきた。本明細書に記載される実施形態は、限定的ではなく例示的であると解釈されるべきであり、形態および詳細における種々の変更および修正が、本開示の精神および範囲から逸脱することなく行われ得ることが、当業者に容易に明白となるはずである。ここで、添付の図面に示される開示された主題を詳細に参照する。
【0012】
本開示の実施形態は、オーバーレイ検査システムの光学表面を洗浄するためのシステムおよび方法を対象とする。特に、投影撮像システムにおけるそのインサイチュ（ｉｎ－ｓｉｔｕ）化学洗浄のための光の光路結合のためのシステムおよび方法が開示される。
【0013】
本明細書では、揮発性有機汚染物質種が、エネルギー放射（例えば、ＥＵＶ光またはＶＵＶ光）と相互作用して、エネルギー放射に暴露される領域に炭素質蓄積を生成し得るように、揮発性有機汚染物質種が光学表面に吸着するときに、検査システム内の光学表面の汚染が生じ得ることが認識される。わずかな量のビルドアップ（例えば、わずか数ナノメートルの高さを有するビルドアップ）の存在は、検査システムの光学素子の性能の著しい劣化を引き起こし得る。
【0014】
検査システムの光学表面上の汚染物質の蓄積は、１つ以上の光化学反応によって除去され得る。例えば、堆積した炭素質ビルドアップは、イオン種またはフリーラジカル種（例えば、酸素（１Ｄ）および酸素の他の励起状態、ならびに窒素、フッ素などの励起状態）との１つ以上の反応を介して除去することができる。イオン種またはフリーラジカル種は、前駆体ガス（例えば、オゾン）が充分なエネルギー（例えば、ＥＵＶ、ＶＵＶ、ＤＵＶ、またはＵＶ光子）の光子と反応するときに生成され得る。このように、前駆体ガスの存在下での充分なエネルギーの照明による光学表面の照射は、光学表面上に蓄積した汚染物質の除去を引き起こし得る。
【0015】
代替として、汚染除去の必要性を低減するために、検査システム内の汚染は、光学要素から除去または操作されてもよい。例えば、光学システム内の汚染を低減するためのいくつかの技法は、光学システム内の汚染物質の透過を防止するために光学窓（オプティカル ウインドウ）の使用を伴う。しかしながら、光学窓は、光学窓によるＥＵＶ吸収の可能性が高いため、限定ではないが、ＥＵＶシステムを含む、ある種類の光学システムにおける使用に適していない。別の例として、光学システム内の汚染を低減するための他の技法は、光学システムの１つ以上の領域内の交差流れ（クロスフロー）ガス「カーテン」によって、より大きい粒子状汚染物質の欠陥を通して光学システム内の粒子状物質の移動を防止するように構成されたガス「カーテン」の使用を伴う。しかしながら、そのような技法は、システム１００内のガス状炭化水素微粒子の拡散等の全ての種類の汚染に対して効果的ではない。この意味で、検査プロセスが実行され得るように照明のための妨げられない経路を提供しながら、ガス状炭化水素微粒子による汚染を低減することを含む、現在の技術の欠点を解決するように構成されたシステムおよび方法を有することが望ましい。
【0016】
本明細書でより詳細に説明するように、本開示の実施形態は、検査システムの１つ以上の部分内の汚染物質の存在を低減するために、対向流ノズルを通るパージガスの対向流を利用することができる。
【0017】
【0018】
図１Ａは、本開示の１つ以上の実施形態による、光学システム１００の概念図を図示する。
【0019】
一実施形態では、システム１００は、ソースチャンバ１０２を含む。ソースチャンバ１０２は、１つ以上の真空チャンバ１０４に連結されてもよい。ソースチャンバ１０２はソースチャンバ圧力を有してもよく、１つ以上の真空チャンバは真空チャンバ圧力を有してもよい。いくつかの実施形態では、真空チャンバ圧力は、ソースチャンバ圧力未満であってもよい。たとえば、ソースチャンバ圧力は約１０－２トル（ｔｏｒｒ）であり得るが、真空チャンバ圧力は約１０－８トルであり得る。ソースチャンバ１０２および１つ以上の真空チャンバ１０４のそれぞれは、酸素、窒素、アルゴン、ガス状水、および／またはキセノンを含むが、それらに限定されない、１つ以上のガスの混合物を含有してもよい。ソースチャンバ１０２はまた、システム１００の１つ以上の要素上に望ましくない炭素質蓄積をもたらし得る、ガス状炭化水素汚染物質を含有し得る。ソースチャンバ圧力は、ソースチャンバ１０２（図示せず）に連結された１つ以上の真空ポンプによって維持されてもよい。真空チャンバ圧力は、１つ以上の真空チャンバ（例えば、真空ポンプ１３０）に連結された１つ以上の真空ポンプによって維持されてもよい。１つ以上の真空ポンプは、ソースチャンバ１０２および／または１つ以上の真空チャンバ１０４内で、検査（たとえば、ＥＵＶ検査）に適した高真空環境を生成するように構成され得ることに留意されたい。代替として、１つ以上の真空ポンプは、ソースチャンバ１０２および／または１つ以上の真空チャンバ１０４内で、低真空環境を生成するように構成されてもよい。
【0020】
限定ではないが、真空ポンプ１３０を含む、本開示の１つ以上の真空ポンプは、ソースチャンバ１０２および／または１つ以上の真空チャンバ１０４内に低圧または真空環境を確立および維持するために好適なポンプシステムを含んでもよい。例えば、１つ以上の真空ポンプは、ターボポンプおよび／またはドライポンピングユニットを支持し、排気システム（図示せず）を備えるルートスポンプを含むことができる。
【0021】
一実施形態では、システム１００は、照明１１８を生成するように構成された照明源１１２を含む。別の実施形態では、システム１００は、光の少なくとも一部分を１つ以上の試料１２０に指向するように構成される、照明光学系１０５のセットを含む。例えば、照明源１１２は、広帯域光源（例えば、ＥＵＶ、ＶＵＶ、ＤＵＶ、及び／又はＵＶ光を生成するのに適した光源）または狭帯域照明源（例えば、レーザ源）を含んでもよいが、それらに限定されない。照明源１１２は、約３５５ナノメートル、約２６６ナノメートル、または約１９３ナノメートルのうちの少なくとも１つの波長を有する照明を生成するように構成されたレーザ源を含むことができる。照明源１１２は、照明１１８を生成し、それを照明方向（例えば、図１Ａに示すように）に向けるように構成することができる。
【0022】
照明源１１２は、ソースチャンバ１０２内に配置することができる。代替として、いくつかの実施形態では、照明源１１２は、ソースチャンバ１０２の外側に配置されてもよく、ソースチャンバ１０２の１つ以上の部分の中へ、またはそれを通して、照明１１８を指向するように構成されてもよい。
【0023】
一実施形態では、照明光学系１０５は、照明源１１２から発する照明１１８を、照明軸１２１（例えば、照明経路）に沿ってステージ１２３上に配置された１つ以上の試料１２０に向けるように構成することができる。１つ以上の試料１２０は、限定はしないが、ウェハ（たとえば、半導体ウェハ）またはレチクルを含むことができる。照明光学系１０５は、ソースチャンバ１０２内に配置することができる。代替として、いくつかの実施形態では、照明光学系は、ソースチャンバ１０２の外側に配置され、ソースチャンバ１０２を通してシステム１００の１つ以上の部分に照明１１８を指向するように構成されてもよい。
【0024】
照明源１１２は、照明１１８が均一な照射照明であるように照明を生成するように構成されてもよい。別の実施形態では、照明源１１２は、照明１１８が１つ以上の走査ラスタを含むように、照明を生成するように構成されてもよい。
【0025】
別の実施形態では、システム１００は、１つ以上の試料１２０の表面から照明を受け取り、１つ以上の試料１２０からの照明を撮像軸１２７（例えば、照明収集経路）を介して検出器１３８に指向するように構成される、撮像光学系１０６のセットを含んでもよい。例えば、撮像光学系１０６は、試料１２０から散乱、反射、回折、または他の方法で発する光を収集し、その光を１つ以上の検出器１３８（例えば、ＣＣＤ、ＴＤＩ－ＣＣＤ、ＰＭＴなどである）に向けるのに適した１つ以上の投影光学システムを含むことができる。別の実施形態では、システム１００は、撮像光学系１０６および検出器１３８を介して試料１２０から収集された照明を示す信号を受信および／または分析するためのコントローラ（図１Ｂに示されるような）を含む。
【0026】
図１Ａによって示されるように、本開示の実施形態は、１つ以上の検査プロセスを実行するように構成され得ることに留意されたい。例えば、図１Ａに示すように、光学システム１００は、試料１２０に関して１つ又は複数の検査プロセスを実行するように構成することができる。
【0027】
システム１００は、ソースチャンバ１０２および１つ以上の真空チャンバ１０４の各々に結合された中間焦点ハウジング１０８を含むことができる。中間焦点ハウジングは、ソースチャンバ１０２と１つ以上の真空チャンバ１０４との間の光（例えば、照明１１８）および／またはガスの伝送を可能にするように構成される、開口（アパーチャ）１１０を含んでもよい。開口１１０は、開口１１０の一方の側（例えば、ソースチャンバ１０２）から開口１１０の他方の側（例えば、１つ以上の真空チャンバ１０４）への放射および／またはガスの透過を可能にするように構成された直径を有し得る。例えば、いくつかの実施形態では、開口１１０は、約１ミリメートル～約２ミリメートルの直径を有することができる。開口１１０は、ソースチャンバ１０２と１つ以上の真空チャンバ１０４との間のガスの流体連通が可能であるように、開口１１０の領域が開放されるように構成されてもよい。この意味で、開口１１０は、そうでなければ生じ得る照明の吸収を低減するように構成され得る（例えば、ＥＵＶ光学システムの光学窓の場合である）。
【0028】
図示されていないが、中間焦点ハウジング１０８は、結合されると中間焦点ハウジング１０８を形成する複数の構成要素を含んでもよい。例えば、中間焦点ハウジング１０８は、限定はしないが、外側ハウジング構成要素、開口を通る空気の流れが遮断され得るように中間焦点ハウジング１０８内に突き出るように構成されたゲートバルブ構成要素、内側ガスノズル構成要素、および／または外側シュラウド構成要素を含むことができる。本開示の目的のために、中間焦点ハウジング１０８の設計および／または構成への言及は、いくつかの実施形態では、中間焦点ハウジングの外側筐体構成要素、ゲートバルブ構成要素、内側ガスノズル構成要素、および／または外側シュラウド（ｓｈｒｏｕｄ）構成要素のうちのいずれか１つの設計および／または構成への言及として解釈されるべきであることが具体的に企図される。
【0029】
中間焦点ハウジング１０８は、対向流ノズル１２４に連結されてもよく、またはそれを含むように形成されてもよい。対向流ノズル１２４は、ソースチャンバ１０２内に部分的に配置することができる。対向流ノズル１２４は、本開示によって企図される目的に適切であることが当技術分野で知られている任意の形状または構成であり得る。例えば、いくつかの実施形態では、対向流ノズル１２４は、発散円錐および／または円筒形状であってもよい。
【0030】
対向流ノズル１２４は、対向流ノズル１２４を通してソースチャンバ１０２の中へパージガスを伝送するように構成される、１つ以上のパージガスダクト１２６を含んでもよい。１つ以上のパージガスダクト１２６は、対向流ノズル１２４および／または中間焦点ハウジング１０８の１つ以上の部分内に形成することができる。パージガスは、パージガス源１２８からパージガス入口１２２を介して１つ以上のパージガスダクト１２６に向けられ得る。パージガス入口１２２は、パージガス源１２８と、中間焦点ハウジング１０８、対向流ノズル１２４、または１つ以上のパージガスダクト１２６のうちの少なくとも１つとに結合され得る。
【0031】
パージガスは、本開示によって企図される目的に適切であることが当技術分野で知られている任意のガスを含み得る。例えば、パージガスは、酸素、窒素、フッ素、キセノン、アルゴン、またはそれらの任意の組み合わせを含んでもよいが、それらに限定されない。パージガス源１２８は、１つ以上のポンプ（例えば、ターボ分子ポンプ）を含んでもよい。
【0032】
パージガスは、パージガス圧力を有することができる。いくつかの実施形態では、パージガス圧力は、１つ以上の真空チャンバ１０４の真空チャンバ圧力よりも大きくてもよい。パージガス圧力は、ソースチャンバ１０２のソースチャンバ圧力とほぼ等しくてもよい。この意味で、照明方向に沿った照明１１８の透過に関して、光学システム１００は、照明方向（例えば、ソースチャンバ１０２から１つ以上の真空チャンバ１０４までである）に最小のガス流が生じ得るように構成され得る（例えば、パージガス圧力、真空チャンバ圧力、及び／又はソースチャンバ圧力の相対値の結果としてのものである）。
【0033】
いずれの場合も示されていないが、システム１００は、システム内のガスの流れを操作するように構成された１つ以上のデバイスおよび／または構成要素を含むことができることに留意されたい。加えて、いくつかの実施形態では、システム１００は、システム１００の１つ以上の部分内に真空環境を生成および／または維持するように構成される、１つ以上の要素を含んでもよい。例えば、いくつかの実施形態では、システム１００は、１つ以上の真空チャンバの１つ以上の部分内に配置されるスキマーノズル１３１を含んでもよい。
【0034】
図１Ｂは、本開示の１つ以上の実施形態による光学システム１００のブロック図を示す。いくつかの実施形態では、システム１００は、システム１００の１つ以上の他の要素（例えば、照明源１１２、検出器１３８、１つ以上の真空ポンプ１３０、またはパージガス源１２８）に通信可能に結合されたコントローラ１４０を含むことができる。コントローラ１４０は、メモリ１３４に通信可能に結合された１つ以上のプロセッサ１３２を含むことができる。１つ以上のプロセッサ１３２は、システム１００の１つ以上の構成要素（たとえば、検出器１３８）から検査および／または測定データを取得するため、および／またはシステム１００の１つ以上の部分（例えば、照明源１１２、検出器１３８、１つ以上の真空ポンプ１３０、パージガス源１２８、ステージ１２３などである）を制御するために、メモリ１３４に記憶されたプログラム命令のセットを実行するように構成され得る。
【0035】
図１Ｃは、本開示の１つ以上の実施形態による、光学システム１００を図示する。図１Ｃに示すように、また前述のように、対向流ノズル１２４は、対向流ノズル１２４を通ってソースチャンバ１０２内にパージガスを送るように構成された１つ以上のパージガスダクト１２６を含むことができる。パージガス源１２８は、パージガスを、パージガス入口１２２を通して１つ以上のパージガスダクト１２６に導くように構成することができる。次いで、パージガスは、対向流ノズル１２４の一部を通ってソースチャンバ１０２に向けられ得る。この意味で、システム１００は、パージガスの流れ１２５が照射方向と反対の方向にソースチャンバ１０２（例えば、パージガス入口１２２および１つ以上のパージガスダクト１２６を介して）に向けられるように構成することができる。例えば、システム１００（例えば、照明源１１２、照明光学系１０５などである。）は、照明方向が、１つ以上の真空チャンバ１０４に向かい、ソースチャンバ１０２から離れる方向であるように構成されてもよい。
【0036】
システム１００は、システム１００の１つ以上の部分内の汚染を軽減するように構成されてもよい。例えば、図１Ｂに示されるように、パージガスの流れ１２５は、ソースチャンバ１０２から１つ以上の真空チャンバ１０４への１つ以上の汚染物質１３６の伝達を防止するように構成され得る（検査プロセスが実行され得る）。別の例として、ソースチャンバ１０２内に存在し得、そうでなければ１つ以上の真空チャンバ１０４（例えば、中間焦点ハウジング１０８の開口１１０などを通る）への流体伝達を受けやすいであろう汚染物質１３６は、パージガスの流れ１２５によって、１つ以上の真空チャンバ１０４に流れることを防止されてもよい。この意味で、システム１００は、照明１１８が開口１１０を通って導かれる一方で、開口１１０を通る汚染物質１３６の透過が軽減されるように構成され得る。
【0037】
単一の真空チャンバ１０４を有するシステム１００の実施形態を参照して示されるが、いくつかの実施形態では、システム１００は、複数の真空チャンバ１０４を含んでもよい。複数の真空チャンバ１０４は、複数の真空チャンバのうちの任意の１つ内の任意の物質が、複数の真空チャンバのうちの任意の他の真空チャンバの内部全体にわたって流体的に連通し得るように、連結されてもよい。システム１００の１つ以上の要素は、複数の真空チャンバ１０４内に配置されてもよい。例えば、撮像光学系１０６、検出器１３８、試料１２０、及び／又はステージ１２３は、１つ以上の真空チャンバ１０４内に配置することができる。
【0038】
中間焦点ハウジング１０８、対向流ノズル１２４、１つ以上のパージガスダクト１２６、パージガス入口１２２、および／またはパージガス源１２８の１つ以上の態様は、対向流ノズル１２４および／またはソースチャンバ１０２内でパージガスの層流（たとえば、流れ１２５）を達成するように構成および／または設計され得ることに留意されたい。例えば、中間焦点ハウジング１０８、対向流ノズル１２４、１つ又は複数のパージガスダクト１２６、パージガス入口１２２、及び／又はパージガス源１２８のいずれも、パージガスの流れ内の乱流を低減するオリフィス、チャンバ、経路、ダクトなどを含むように構成することができる。
【0039】
さらに、中間焦点ハウジング１０８、対向流ノズル１２４、１つ以上のパージガスダクト１２６、パージガス入口１２２、および／またはパージガス源１２８の１つ以上の態様は、１つ以上の真空チャンバ１０４に関して汚染物質からの所望のレベルの保護を達成するように構成および／または設計され得ることに留意されたい。例えば、中間焦点ハウジング１０８、対向流ノズル１２４、１つ以上のパージガスダクト１２６、パージガス入口１２２、及び／又はパージガス源１２８は、システム１００に関する保護係数を達成するように構成することができる。
【0040】
システム１００の保護係数は、システム１００のある部分におけるガスの分圧とシステム１００の別の部分におけるガスの分圧との比として表すことができる。例えば、システム１００の保護係数は、ソースチャンバ１０２内のガスの分圧（ＰＰｓｃ）と１つ以上の真空チャンバ１０４内のガスの分圧（ＰＰｖｃ）との比として表すことができる。本開示の目的のために、システム１００の保護係数は、ソースチャンバ１０２内の任意のガスの分圧（ＰＰｓｃ）と、１つ以上の真空チャンバ１０４内の同じガスの分圧（ＰＰｖｃ）との比として表され得、そのようなガスがアルゴン、キセノン、ガス状炭化水素（例えば、炭素質汚染物質）、および／またはガス状水を含む場合を含むが、それらに限定されないことに留意されたい。
【0041】
いくつかの実施形態では、システム１００の保護係数は、システム１００の動作に関する１つ以上の変数の関数を含んでもよい。例えば、保護係数は、システム内で利用されるパージガスの１つ以上の態様の関数であってもよい。具体的には、保護係数は、パージガスの流れ１２５の関数であってもよく、この流れ１２５は、中間焦点ハウジング１０８、対向流ノズル１２４、１つ以上のパージガスダクト１２６、パージガス入口１２２、および／またはパージガス源１２８の設計および／または構成によって影響され得る。
【0042】
例えば、図２Ａ～７Ｃは、概して、本開示の１つ以上の実施形態による、対向流ノズル１２４の種々の実施形態の１つ以上の側面を図示する。付随の図面に図示される対向流ノズル１２４の種々の実施形態は、所望の保護係数がシステム１００内で達成されるように構成されてもよい（例えば、特定の実施形態の中間焦点ハウジング１０８、対向流ノズル１２４、１つ以上のパージガスダクト１２６、パージガス入口１２２、および／またはパージガス源１２８に関する１つ以上の設計および／または構成の考慮の結果として）。
【0043】
特に図２Ａ～図２Ｃを参照すると、対向流ノズル１２４ａが示されている。図２Ａは、中間焦点ハウジング１０８、対向流ノズル１２４ａ、およびソースチャンバ１０２の一部を含むシステム１００ａの一部の断面図を示す。図２Ｂは、対向流ノズル１２４ａ（例えば、対向流ノズル１２４ａの一端から見た場合である）の断面図を示す。
【0044】
対向流ノズル１２４ａおよび／または１つ以上のパージガスダクト１２６ａの形状は、対向流ノズル１２４ａを通って流れるガス（例えば、パージガス）の流体特性が望ましい（例えば、望ましい保護係数をもたらす）ように構成されてもよい。例えば、図２Ｃに示すように、対向流ノズル１２４ａからのパージガスの流れ１２５ａは、対向流ノズル１２４ａおよび／または１つ以上のパージガスダクト１２６ａの設計および／または構成の１つ以上の態様の結果として、層流特性および／または乱流特性を有することができる。この意味で、対向流ノズル１２４ａおよび／または１つ以上のパージガスダクト１２６ａの設計および／または構成は、動作中の対向流ノズル１２４ａを有するシステム１００ａの特定の保護係数、例示的な例として、対向流ノズル１２４ａを含むシステム１００ａの保護係数をもたらすことができ、パージガスはアルゴンを含む。約８６０，０００と同等であり得る。
【0045】
特に図３Ａ～図３Ｃを参照すると、対向流ノズル１２４ｂが示されている。図３Ａは、中間焦点ハウジング１０８、対向流ノズル１２４ｂ、およびソースチャンバ１０２の一部を含むシステム１００ｂの一部の断面図を示す。図３Ｂは、対向流ノズル１２４ｂ（例えば、対向流ノズル１２４ｂの一端から見た場合である）の断面図を示す。
【0046】
対向流ノズル１２４ｂおよび／または１つ以上のパージガスダクト１２６ｂの形状は、対向流ノズル１２４ｂを通って流れるガス（例えば、パージガス）の流体特性が望ましい（例えば、望ましい保護係数をもたらす）ように構成されてもよい。例えば、図３Ｃに示すように、対向流ノズル１２４ｂからのパージガスの流れ１２５ｂは、対向流ノズル１２４ｂおよび／または１つ以上のパージガスダクト１２６ｂの設計および／または構成の１つ以上の態様の結果として、層流特性および／または乱流特性を有することができる。この意味で、対向流ノズル１２４ｂおよび／または１つ以上のパージガスダクト１２６ｂの設計および／または構成は、動作中の対向流ノズル１２４ｂを有するシステム１００ｂの特定の保護因子をもたらし得る。例示的な例として、対向流ノズル１２４ｂを含み、パージガスがアルゴンを含むシステム１００ｂの保護係数は、約１，７００，０００と同等であり得る。
【0047】
特に図４Ａ～４Ｃを参照すると、対向流ノズル１２４ｃが示されている。図４Ａは、中間焦点ハウジング１０８、対向流ノズル１２４ｃ、およびソースチャンバ１０２の一部を含むシステム１００ｃの一部の断面図を示す。図４Ｂは、対向流ノズル１２４ｃ（例えば、対向流ノズル１２４ｃの一端から見た場合である）の断面図を示す。
【0048】
対向流ノズル１２４ｃおよび／または１つ以上のパージガスダクト１２６ｃの形状は、対向流ノズル１２４ｃを通って流れるガス（例えば、パージガス）の流体特性が望ましい（例えば、望ましい保護係数をもたらす）ように構成されてもよい。例えば、図４Ｃに示すように、対向流ノズル１２４ｃからのパージガスの流れ１２５ｃは、対向流ノズル１２４ｃおよび／または１つ以上のパージガスダクト１２６ｃの設計および／または構成の１つ以上の態様の結果として、層流特性および／または乱流特性を有することができる。この意味で、対向流ノズル１２４ｃおよび／または１つ以上のパージガスダクト１２６ｃの設計および／または構成は、動作中の対向流ノズル１２４ｃを有するシステム１００ｃの特定の保護因子をもたらし得る。例示的な例として、対向流ノズル１２４ｃを含み、パージガスがアルゴンを含むシステム１００ｃの保護係数は、約１，９００，０００と同等であり得る。
【0049】
特に図５Ａ～５Ｃを参照すると、対向流ノズル１２４ｄが示されている。図５Ａは、中間焦点ハウジング１０８、対向流ノズル１２４ｄ、及びソースチャンバ１０２の一部を含むシステム１００ｄの一部の断面図を示す。図５Ｂは、対向流ノズル１２４ｄ（例えば、対向流ノズル１２４ｄの一端から見た場合である）の断面図を示す。
【0050】
対向流ノズル１２４ｄおよび／または１つ以上のパージガスダクト１２６ｄの形状は、対向流ノズル１２４ｄを通って流れるガス（例えば、パージガス）の流体特性が望ましい（例えば、望ましい保護係数をもたらす）ように構成されてもよい。例えば、図５Ｃに示すように、対向流ノズル１２４ｄからのパージガスの流れ１２５ｄは、対向流ノズル１２４ｄおよび／または１つ以上のパージガスダクト１２６ｄの設計および／または構成の１つ以上の態様の結果として、層流特性および／または乱流特性を有することができる。この意味で、対向流ノズル１２４ｄおよび／または１つ以上のパージガスダクト１２６ｄの設計および／または構成は、動作中の対向流ノズル１２４ｄを有するシステム１００ｄの特定の保護因子をもたらし得る。例示的な例として、対向流ノズル１２４ｄを含み、パージガスがアルゴンを含むシステム１００ｄの保護係数は、約１，２００，０００と同等であり得る。
【0051】
特に図６Ａ～６Ｃを参照すると、対向流ノズル１２４ｅが示されている。図６Ａは、中間焦点ハウジング１０８、対向流ノズル１２４ｅ、およびソースチャンバ１０２の一部を含むシステム１００ｅの一部の断面図を示す。図６Ｂは、対向流ノズル１２４ｅ（例えば、対向流ノズル１２４ｅの一端から見た場合である）の断面図を示す。
【0052】
対向流ノズル１２４ｅおよび／または１つ以上のパージガスダクト１２６ｅの形状は、対向流ノズル１２４ｅを通って流れるガス（例えば、パージガス）の流体特性が望ましい（例えば、望ましい保護係数をもたらす）ように構成されてもよい。例えば、図６Ｃに示すように、対向流ノズル１２４ｅからのパージガスの流れ１２５ｅは、対向流ノズル１２４ｅおよび／または１つ以上のパージガスダクト１２６ｅの設計および／または構成の１つ以上の態様の結果として、層流特性および／または乱流特性を有することができる。この意味で、対向流ノズル１２４ｅおよび／または１つ以上のパージガスダクト１２６ｅの設計および／または構成は、動作中の対向流ノズル１２４ｅを有するシステム１００ｅの特定の保護係数をもたらし得る。例示的な例として、対向流ノズル１２４ｅを含み、パージガスがアルゴンを含むシステム１００ｅの保護係数は、約１，０００，０００と同等であり得る。
【0053】
特に図７Ａ～７Ｃを参照すると、対向流ノズル１２４ｆが示されている。図７Ａは、中間焦点ハウジング１０８、対向流ノズル１２４ｆ、及びソースチャンバ１０２の一部を含むシステム１００ｆの一部の断面図を示す。図７Ｂは、対向流ノズル１２４ｆ（例えば、対向流ノズル１２４ｆの一端から見た場合である）の断面図を示す。
【0054】
対向流ノズル１２４ｆおよび／または１つ以上のパージガスダクト１２６ｆの形状は、対向流ノズル１２４ｆを通って流れるガス（例えば、パージガス）の流体特性が望ましい（例えば、望ましい保護係数をもたらす）ように構成されてもよい。例えば、図７Ｃに示されるように、対向流ノズル１２４ｆからのパージガスの流れ１２５ｆは、対向流ノズル１２４ｆおよび／または１つ以上のパージガスダクト１２６ｆの設計および／または構成の１つ以上の態様の結果として、層流および／または乱流特性を有し得る。この意味で、対向流ノズル１２４ｆおよび／または１つ以上のパージガスダクト１２６ｆの設計および／または構成は、動作中の対向流ノズル１２４ｆを有するシステム１００ｆの特定の保護係数をもたらし得る。例示的な例として、対向流ノズル１２４ｆを含み、パージガスがアルゴンを含むシステム１００ｆの保護係数は、約４，６００，０００と同等であり得る。
【0055】
本開示の目的のために、本明細書に記載される対向流ノズル１２４の様々な実施形態を有するシステム１００の保護因子の特定の例は、限定ではなく例示であることが意図されることに留意されたい。具体的には、システム１００の任意の所与の実施形態の保護係数は、限定ではないが、開口１１０の直径、開口１１０の面積、パージガスの温度、パージガスの１つ以上の粒子の速度、開口１１０におけるパージガスのコンダクタンスを含む、システム１００に関する複数の変数に依存することに留意されたい。対向流ノズル１２４内の１つ以上のパージガスダクト１２６の位置、対向流ノズル１２４の長さなど。
【0056】
図８は、本開示の１つ以上の実施形態による、光学システムの汚染を低減する方法８００のステップを示すプロセスフロー図を示す。
【0057】
ステップ８０２において、照明が生成される。例えば、照明源１１２は、１つ以上の放射ビーム（例えば、照明１１８）を生成することができる。
【0058】
ステップ８０４において、照明の少なくとも一部は、ソースチャンバの少なくとも一部を通って照明方向に向けられる。例えば、ステップ８０４において、照明１１８は、ソースチャンバ１０２の１つ以上の部分の中へ、またはそれを通して指向されてもよい。別の例として、照明は、照明軸１２１に沿って１つ以上の照明光学系１０５に、それによって、またはそれを通して向けられてもよい。
【0059】
ステップ８０６において、照明の少なくとも一部は、中間焦点ハウジングの開口を通って照明方向に向けられる。例えば、照明光学系１０５のセットは、中間焦点ハウジング１０８の開口１１０を通して照明１１８を方向付けることができる。
【0060】
ステップ８０８において、パージガスは、中間焦点ハウジングに結合され、少なくとも部分的にソースチャンバ内に配置された対向流ノズルに供給される。例えば、パージガス源１２８は、パージガス入口１２２を介して対向流ノズル１２４にパージガスを供給することができ、対向流ノズル１２４は、中間焦点ハウジングの少なくとも一部分に結合され、流体連通している。
【0061】
ステップ８１０において、対向流ノズルを通るパージガスの対向流が生成される。例えば、パージガスは、流れ１２５において１つ以上のパージガスダクト１２６に供給され、対向流ノズル１２４を通ってソースチャンバ１０２に伝達され得る。パージガスの流れ１２５は、ソースチャンバ１０２から１つ以上の真空チャンバ１０４への１つ以上の汚染物質１３６の伝達を防止するように構成され得る（検査プロセスが実行され得る）。別の例として、ソースチャンバ１０２内に存在し得、そうでなければ１つ以上の真空チャンバ１０４（例えば、中間焦点ハウジング１０８の開口１１０などを通る）への流体伝達を受けやすいであろう汚染物質１３６は、パージガスの流れ１２５によって、１つ以上の真空チャンバ１０４に流れることを防止されてもよい。この意味で、方法８００は（例えば、少なくともステップ８１０を介して）、照明１１８が開口１１０を通って導かれる一方で、開口１１０を通る汚染物質１３６の透過が軽減されるように構成され得る。
【0062】
なお、本開示の範囲は光学システム１００に限定されない。むしろ、本開示の様々な態様を組み込むシステムは、特性評価システム、計測システム、および／またはリソグラフィシステムを含む、当技術分野で知られている任意の他の光学システムを含むことができる。
【0063】
例えば、一実施形態では、光学システム１００は、ウェハ検査システムまたはレチクル検査システムとして構成される。この点に関して、光学システム１００は、ＥＵＶおよび／またはＶＵＶスペクトル範囲で動作させるのに適した当技術分野で知られている任意のウェハまたはレチクル検査光学アーキテクチャを含むことができる。光学システム１００は、ＥＵＶマスクブランク検査システム（マスク検査システム）として構成され得ることがさらに認識される。ＥＵＶベースのマスクブランク検査は、概して米国特許第８，７１１，３４６号明細書（Ｓｔｏｋｏｗｓｋｉ、２０１４年４月２９日）に記載されており、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。ＥＵＶベースのマスクブランク検査は、概して米国特許出願公開第１３／４１７，９８２号明細書（Ｘｉｏｎｇら、２０１２年３月１２日）に記載されており、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。ＥＵＶベースのレチクル検査は、概して、２０１３年５月３０日に出願された米国特許出願公開第１３／９０５，４４９号明細書（Ｎａｓｓｅｒ）－Ｇｈｏｄｓｉらに記載されており、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
【0064】
別の例として、別の実施形態では、図示されていないが、光学システム１００は、ＥＵＶリソグラフィシステムとして構成することができる。一実施形態では、光学リソグラフィシステム（図示せず）は、照明源１１２からの出力光をＥＵＶ適合リソグラフィマスク（例えば、ＥＵＶ反射マスク）に導くように構成された照明光学系のセットを含むことができる。別の実施形態では、リソグラフィシステムは、マスクから反射された照明を受け取り、マスクからの反射された照明をウェハステージ上に配置された１つ以上のウェハに向けるように構成された投影光学システムのセットを含む。光学リソグラフィシステムは、当技術分野で知られている任意のＥＵＶリソグラフィシステムを含むことができる。ＥＵＶベースのリソグラフィは、概して米国特許出願公開第１３／４１９，０４２号明細書（Ｗａｎｇ、２０１２年３月１３日）に記載されており、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
【0065】
本開示の様々な実施形態は、結合的にまたは独立して実装され得ることが本明細書で企図される。例えば、図１Ａから図７Ｃに描写される実施形態は、いくつかの実施形態では、相互と併せて適用可能であると解釈されるべきである。
【0066】
コントローラ１４０の１つ以上のプロセッサ１３２は、当技術分野で知られている任意のプロセッサまたは処理要素を含むことができる。本開示の目的のために、「プロセッサ」または「処理要素」という用語は、１つ以上の処理または論理要素（例えば、１つ以上のマイクロプロセッサデバイス、１つ以上の特定用途向け集積回路（ＡＳＩＣ）デバイス、１つ以上のフィールドプログラマブルゲートアレイ（ＦＰＧＡ）、または１つ以上のデジタル信号プロセッサ（ＤＳＰ））を有する任意のデバイスを包含するように広く定義され得る。この意味で、１つ以上のプロセッサ１３２は、アルゴリズムおよび／または命令（たとえば、メモリに記憶されたプログラム命令）を実行するように構成された任意のデバイスを含み得る。一実施形態では、１つ以上のプロセッサ１３２は、本開示全体にわたって説明されるように、デスクトップコンピュータ、メインフレームコンピュータシステム、ワークステーション、画像コンピュータ、並列プロセッサ、ネットワークコンピュータ、または光学システム１００とともに動作または動作するように構成されたプログラムを実行するように構成された任意の他のコンピュータシステムとして具現化され得る。
【0067】
さらに、限定ではないが、照明源１１２、検出器１３８、１つ以上の真空ポンプ１３０、および／またはパージガス源１２８を含む、システム１００の異なる構成要素は、本開示で説明されるステップの少なくとも一部を実施するために好適なプロセッサまたは論理要素を含んでもよい。したがって、上記の説明は、本開示の実施形態に対する限定として解釈されるべきではなく、単なる例示として解釈されるべきである。さらに、本開示全体にわたって説明されるステップは、単一のコントローラ１４０によって、または代替として複数のコントローラによって実行され得る。さらに、コントローラ１４０は、共通のハウジングまたは複数のハウジング内に収容された１つ以上のコントローラを含むことができる。このようにして、任意のコントローラまたはコントローラの組合せを、光学システム１００への統合に適したモジュールとして別々にパッケージ化することができる。さらに、コントローラ１４０は、検出器１３８から受信したデータを分析し、システム１００内またはシステム１００の外部の追加の構成要素にデータを供給することができる。
【0068】
メモリ１３４は、関連する１つ以上のプロセッサ１３２によって実行可能なプログラム命令を記憶するのに適した、当技術分野で知られている任意の記憶媒体を含み得る。例えば、メモリ１３４は、非一時的な記憶媒体を含んでもよい。別の例として、メモリ１３４は、限定はしないが、読取り専用メモリ（ＲＯＭ）、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）、磁気または光メモリデバイス（たとえば、ディスク）、磁気テープ、ソリッドステートドライブなどを含み得る。さらに、メモリ１３４は、１つ以上のプロセッサ１３２とともに共通のコントローラハウジング内に収容され得ることに留意されたい。一実施形態では、メモリ１３４は、１つ以上のプロセッサ１３２およびコントローラ１４０の物理的位置に対して遠隔に位置し得る。例えば、コントローラ１４０の１つ以上のプロセッサ１３２は、ネットワーク（例えば、インターネット、イントラネットなど）を介してアクセス可能な遠隔メモリ（例えば、サーバ）にアクセスしてもよい。
【0069】
一実施形態では、図示されていないが、ユーザインターフェースは、コントローラ１４０に通信可能に結合され得る。一実施形態では、ユーザインターフェースは、限定はしないが、１つ以上のデスクトップ、ラップトップ、タブレットなどを含むことができる。別の実施形態では、ユーザインターフェースは、システム１００のデータをユーザに表示するために使用されるディスプレイを含む。ユーザインターフェースのディスプレイは、当技術分野で知られている任意のディスプレイを含み得る。例えば、ディスプレイは、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）ベースのディスプレイ、またはＣＲＴディスプレイを含んでもよいが、それらに限定されない。当業者は、ユーザインターフェースとの統合が可能な任意のディスプレイデバイスが、本開示における実装に好適であることを認識するはずである。別の実施形態では、ユーザは、ユーザインターフェースのユーザ入力デバイスを介してユーザに表示されるデータに応答して、選択および／または命令を入力してもよい。
【0070】
別の実施形態では、コントローラ１４０は、システム１００の１つ以上の要素に通信可能に結合される。この点に関して、コントローラ１４０は、システム１００の任意の構成要素からデータを送信および／または受信することができる。さらに、コントローラ１４０は、関連する構成要素のための１つ以上の制御信号を生成することによって、システム１００の任意の構成要素を指示または別様に制御することができる。例えば、コントローラ１４０は、照明源１１２、検出器１３８、１つ以上の真空ポンプ１３０、および／またはパージガス源１２８のうちの少なくとも１つに通信可能に結合されてもよく、照明源１１２、検出器１３８、１つ以上の真空ポンプ１３０のうちの任意の１つ以上を制御するように構成されてもよい。及び／又はパージガス源１２８は、１つ以上の制御信号を生成することによって動作する。
【0071】
本明細書で説明する方法のすべては、方法の実施形態の１つ以上のステップの結果をメモリ１３４に記憶することを含み得る。結果は、本明細書で説明される結果のいずれかを含んでもよく、当技術分野で公知の任意の様式で記憶されてもよい。メモリは、本明細書で説明される任意のメモリ、または当技術分野で知られている任意の他の好適な記憶媒体を含み得る。結果が記憶された後、結果は、メモリ内にアクセスされ、本明細書に説明される方法またはシステム実施形態のうちのいずれかによって使用され、ユーザへの表示のためにフォーマットされ、別のソフトウェアモジュール、方法、またはシステムによって使用される等することができる。さらに、結果は、「永久的に」、「半永久的に」、「一時的に」、またはある期間にわたって記憶され得る。例えば、メモリは、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）であってもよく、結果は、必ずしもメモリ内に無期限に持続しなくてもよい。
【0072】
上述の方法の実施形態の各々は、本明細書に記載される任意の他の方法の任意の他のステップを含み得ることがさらに企図される。加えて、上述の方法の実施形態の各々は、本明細書に記載のシステムのいずれかによって実行することができる。
【0073】
当業者は、本明細書で説明される構成要素動作、デバイス、オブジェクト、およびそれらに付随する議論が、概念的明確性のために例として使用されること、および種々の構成修正が検討されることを認識するであろう。したがって、本明細書で使用されるように、記載される特定の例および付随する議論は、それらのより一般的なクラスの代表であることが意図される。概して、任意の特定の例の使用は、そのクラスを表すことが意図され、特定の構成要素、動作、デバイス、およびオブジェクトの非包含は、限定として解釈されるべきではない。
【0074】
本明細書で使用され得るように、「上」、「下」、「上」、「下」、「上」、「上」、「下」、「下」、および「下」（“ｔｏｐ”，“ｂｏｔｔｏｍ”，“ｏｖｅｒ”，“ｕｎｄｅｒ”，“ｕｐｐｅｒ”，“ｕｐｗａｒｄ”，“ｌｏｗｅｒ”，“ｄｏｗｎ”，ａｎｄ“ｄｏｗｎｗａｒｄ”）などの方向を示す用語は、説明の目的で相対的な位置を提供することを意図しており、絶対的な基準系を指定することを意図していない。説明された実施形態に対する様々な修正は、当業者には明らかであり、本明細書で定義された一般的な原理は、他の実施形態に適用され得る。
【0075】
任意の複数形および／または単数形の用語の本明細書における使用に関して、当業者は、文脈および／または用途に適切であるように、複数形から単数形に、および／または単数形から複数形に変換することができる。様々な単数形／複数形の置き換えは、理解しやすいように、必ずしも本明細書で明確に記載する必要はない。
【0076】
本明細書で説明される主題は、場合によっては、他の構成要素内に含まれる、または他の構成要素と接続される、異なる構成要素を図示する。そのような描写されたアーキテクチャは、単なる例示であり、実際には、同じ機能性を達成する多くの他のアーキテクチャが実装され得ることを理解されたい。概念的な意味では、同じ機能を達成するための構成要素の任意の配置は、所望の機能が達成されるように効果的に「関連付けられる」。したがって、特定の機能を達成するために組み合わされた本明細書の任意の２つの構成要素は、アーキテクチャまたは中間構成要素にかかわらず、所望の機能が達成されるように互いに「関連付けられる」と見なすことができる。同様に、そのように関連付けられた任意の２つの構成要素はまた、所望の機能性を達成するために、相互に「接続される」または「結合される」と見なされることができ、そのように関連付けられることが可能な任意の２つの構成要素はまた、所望の機能性を達成するために、相互に「結合可能である」と見なされることができる。結合可能な特定の例は、物理的に結合可能及び／又は物理的に相互作用する構成要素及び／又は無線で相互作用可能及び／又は無線で相互作用する構成要素及び／又は論理的に相互作用及び／又は論理的に相互作用可能な構成要素を含むが、これらに限定されない。
【0077】
さらに、本明細書に開示および説明される本発明は、添付の特許請求の範囲によって定義されることを理解されたい。一般に、本明細書および特に添付の特許請求の範囲（例えば、添付の特許請求の範囲の本体）で使用される用語は、一般に「オープン」用語（例えば、「含む（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」という用語は、「含む（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）がこれに限定されない」と解釈されるべきであり、「有する（ｈａｖｉｎｇ）」という用語は「少なくとも有する（ｈａｖｉｎｇ）」と解釈されるべきであり、「含む（ｉｎｃｌｕｄｅｓ）」という用語は「含む（ｉｎｃｌｕｄｅｓ）がこれに限定されない」と解釈されるべきである等である）として意図されることが当業者には理解されよう。導入される請求項の記載の具体的な数が意図される場合、そのような意図は、その請求項において明示的に記載されることになり、そのような記載がない場合、そのような意図は存在しないことが、当業者にはさらに理解されよう。例えば、理解の助けとして、以下の添付の特許請求の範囲は、導入句「少なくとも１つの（ａｔ ｌｅａｓｔ ｏｎｅ）」および「１つ以上の（ｏｎｅ ｏｒ ｍｏｒｅ）」を使用して請求項の記載を導くことを含むことができる。しかしながら、そのような語句の使用は、不定冠詞「ａ」または「ａｎ」による請求項の記載の導入が、そのような導入された請求項の記載を含む任意の特定の請求項を、１つのそのような記載のみを含む発明に限定することを意味すると解釈されるべきではない。同じ請求項が「１つ以上」または「少なくとも１つ」という導入句および「ａ」または「ａｎ」（例えば、「ａ」および／または「ａｎ」は、典型的には、「少なくとも１つ」または「１つ以上」を意味すると解釈されるべきである）などの不定冠詞を含む場合でも、同じことが、請求項の記載を紹介するために使用される明確な記事の使用にも当てはまる。また、導入される請求項の記載の具体的な数が明示的に列挙されている場合でも、そのような記載は、典型的には少なくとも列挙された数（例えば、他の修飾因子を伴わない「２つの列挙」の裸の列挙は、典型的には、少なくとも２つの列挙、または２つ以上の列挙を意味する）を意味すると解釈されるべきであることを、当業者は認識されよう。さらに、「Ａ、Ｂ、およびＣのうちの少なくとも１つなど」に類似する慣例表現が使用される事例では、概して、そのような構成は、当業者が慣例表現（例えば、「Ａ、Ｂ、およびＣのうちの少なくとも１つを有するシステム」は、Ａのみを有するシステム、Ｂのみを有するシステム、Ｃのみを有するシステム、ＡおよびＢを共に有するシステム、ＡおよびＣを共に有するシステム、ＢおよびＣを共に有するシステム、ならびに／またはＡ、Ｂ、およびＣを共に有するシステムなどを含むが、これらに限定されない）を理解するであろう意味で意図される。「Ａ、Ｂ、またはＣのうちの少なくとも１つなど」に類似する慣例表現が使用される事例では、概して、そのような構成は、当業者が慣例表現（例えば、「Ａ、Ｂ、またはＣのうちの少なくとも１つを有するシステム」は、Ａのみを有するシステム、Ｂのみを有するシステム、Ｃのみを有するシステム、ＡおよびＢを共に有するシステム、ＡおよびＣを共に有するシステム、ＢおよびＣを共に有するシステム、ならびに／またはＡ、Ｂ、およびＣを共に有するシステムなどを含むが、これらに限定されない）を理解するであろう意味で意図される。２つ以上の代替用語を提示する事実上いかなる離接する語および／または句も、説明、特許請求の範囲、または図面のどこにあっても、その用語の一方（ｏｎｅ ｏｆ ｔｈｅ ｔｅｒｍｓ）、その用語のいずれか（ｅｉｔｈｅｒ ｏｆ ｔｈｅ ｔｅｒｍｓ）、または両方の用語（ｂｏｔｈ ｔｅｒｍｓ）を含む可能性を企図すると理解されるべきであることが、当業者にはさらに理解されよう。例えば、「ＡまたはＢ「という語句は、「Ａ」または「Ｂ」または「ＡおよびＢ」の可能性を含むと理解されるであろう
【0078】
本開示およびその付随する利点の多くは、前述の説明によって理解されるであろうと考えられ、開示される主題から逸脱することなく、またはその物質的利点の全てを犠牲にすることなく、構成要素の形態、構造、および配置において種々の変更が行われ得ることが明白となるであろう。説明される形態は単なる説明であり、そのような変更を包含し、含むことが以下の特許請求の範囲の意図である。さらに、本発明は添付の特許請求の範囲によって定義されることを理解されたい。
【図1A】
【図1B】
【図1C】
【図2A】
【図2B】
【図2C】
【図3A】
【図3B】
【図3C】
【図4A】
【図4B】
【図4C】
【図5A】
【図5B】
【図5C】
【図6A】
【図6B】
【図6C】
【図7A】
【図7B】
【図7C】
【図8】
【国際調査報告】