特表 2024-524244 ＣＶＤリアクタ用の蒸気ソース

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2024-07-05

(54)【発明の名称】ＣＶＤリアクタ用の蒸気ソース

(51)【国際特許分類】

   C23C 16/448 20060101AFI20240628BHJP

   H01L 21/205 20060101ALI20240628BHJP

【ＦＩ】

C23C16/448

H01L21/205

【審査請求】未請求

【予備審査請求】有

(21)【出願番号】P 2023579104

(86)(22)【出願日】2022-07-01

(85)【翻訳文提出日】2023-12-22

(86)【国際出願番号】 EP2022068288

(87)【国際公開番号】W WO2023280715

(87)【国際公開日】2023-01-12

(31)【優先権主張番号】102021117457.0

(32)【優先日】2021-07-06

(33)【優先権主張国・地域又は機関】DE

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】502010251

【氏名又は名称】アイクストロン、エスイー

(74)【代理人】

【識別番号】100095267

【弁理士】

【氏名又は名称】小島 高城郎

(74)【代理人】

【識別番号】100124176

【弁理士】

【氏名又は名称】河合 典子

(74)【代理人】

【識別番号】100224269

【弁理士】

【氏名又は名称】小島 佑太

(72)【発明者】

【氏名】ラウッファー、ペーター・ゼバルト

【テーマコード（参考）】

4K030

5F045

【Ｆターム（参考）】

4K030AA11

4K030AA16

4K030AA17

4K030AA18

4K030EA01

4K030KA41

4K030KA45

5F045AA04

5F045AB09

5F045AC07

5F045AC15

5F045DP03

5F045DP04

5F045DP11

5F045DP13

5F045EE02

5F045EE04

5F045GB04

5F045GB06

(57)【要約】

本発明は、気化装置（２，２’，２”）に流入する搬送ガスフローを供給する入口用マスフローコントローラ（１０）、（１１）を含む、ＣＶＤリアクタ（１，１’，１”）内で使用するプロセスガスを供給するための構造に関し、搬送ガスフロー は、プロセスガス供給ライン（９，９’，９”）を通してＣＶＤリアクタ（１，１’，１”）へ出発物質（３）の蒸気を搬送し、出発物質は気化装置（２，２’，２”）の容器（４）に収容されており、プロセスガス供給ライン（９，９’，９”）の全圧は、圧力調整器（８）によって所定の値に維持可能である。ＣＶＤリアクタ内に供給される出発物質（３）のマスフローを時間経過しても十分に一定に維持するために、プロセスガス供給ラインを通って流れるガスフローがマスフローコントローラによって制御され、かつ所定の全圧であるプロセスガス供給ライン（９，９’，９”）内の出発物質の濃度が測定される。

【特許請求の範囲】

【請求項1】

ＣＶＤリアクタ（１，１’，１”）内で用いるプロセスガスを提供するための構造であって、
搬送ガスと共に搬送されるガス状の出発物質のマスフローを提供するための入口用マスフローコントローラ（１０，１１）を備えたガスソース（２－５，１９，２０）を有し、前記出発物質のマスフローは、プロセスガス供給管（９，９’，９”）を通って前記ＣＶＤリアクタ（１，１’，１”）へ搬送され、
前記プロセスガス供給管（９，９’，９”）には、全圧を測定するための圧力測定器と、搬送ガス中の出発物質の濃度又は分圧を測定するための測定器（１４，１４’，１４”）とが配置され、前記プロセスガス供給管（９，９’，９”）内の出発物質の濃度又は分圧を一定値に維持する制御装置（２１）を有し、かつ、
前記プロセスガス供給管（９，９’，９”）に補償ガスを供給するための搬送ガス供給管（７）を有する、前記構造において、
前記圧力測定器は、前記補償ガスを供給する圧力調整器（８）を有し、
プロセスガスマスフローコントローラ（１３，１３’，１３”）が前記測定器（１４，１４’，１４”）の下流側に配置され、かつ、
前記制御装置（２１）は、前記圧力調整器（８）により一定値に維持された全圧で前記ＣＶＤリアクタ内に流入する前記出発物質のマスフローを、前記プロセスガスマスフローコントローラ（１３，１３’，１３”）を用いて調整するように構成されていることを特徴とする構造。

【請求項2】

前記プロセスガス供給管（９，９’，９”）を通って搬送される反応ガスは、前記入口用マスフローコントローラ（１０，１１）を通って流れ、かつ、前記ガスソースは、前記反応ガスを収容した容器、又は搬送ガスで搬送される蒸気を提供する蒸気ソース（１９）であること、又は、
入口用マスフローコントローラ（１０，１１）から提供される搬送ガスフローが、気化装置（２，２’，２”）の気化容器（４）を通って流れ、かつ、前記気化装置（２，２’，２”）で生成された蒸気が搬送ガスにより前記プロセスガス供給管（９，９’，９”）に搬送されることを特徴とする請求項１に記載の構造。

【請求項3】

前記圧力調整器（８）の出口は、複数のガス供給管（１２，１２’，１２”）を用いて、それぞれ別のＣＶＤリアクタ（１，１’，１”）に割り当てられたプロセスガス供給管（９，９’，９”）とそれぞれ接続されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の構造。

【請求項4】

前記プロセスガス供給管（９）を通って流れ、前記圧力調整器（８）により所定の全圧に維持されるプロセスガスフローが、複数の部分フローに分割されることを特徴とする請求項１～３のいずれかに記載の構造。

【請求項5】

２つのプロセスガスマスフローコントローラ（１３，１３’）が並列に接続されていること、及び／又は、前記プロセスガスフローがそれぞれマスフローを制御されて２つの異なるガス入口孔（１５,１５’）を通って前記ＣＶＤリアクタ（１）のプロセスチャンバ（１８）に供給されることを特徴とする請求項１～４のいずれかに記載の構造。

【請求項6】

前記圧力調整器（８）の出口が、複数のガス供給管（１２，１２’，１２”）を用いて異なる反応ガスを提供するそれぞれ異なるガスソース（１９；２－５）に接続され、前記ガスソースは、プロセスガス供給管(９，９’，９”)によって１つ以上のＣＶＤリアクタ（１，１’，１”）と接続されていることを特徴とする請求項１～５のいずれかに記載の構造。

【請求項7】

前記制御装置（２１）は、前記プロセスガス供給管（９，９’，９”）内の出発物質の濃度又は分圧を一定値に維持するために、入口用マスフローコントローラ（１１）に設定値を設定することを特徴とする請求項１～６のいずれかに記載の構造。

【請求項8】

少なくとも１つの搬送ガスソースとＣＶＤリアクタ（１，１’，１”）とを有するＣＶＤリアクタ構造であって、請求項１～７のいずれかに記載の構造による、前記ＣＶＤリアクタ（１，１’，１”）内に供給されるプロセスガスの提供のための構造を有することを特徴とするＣＶＤリアクタ構造。

【請求項9】

プロセスガスを、特に請求項１～８のいずれかに記載の構造に提供する方法であって、
前記出発物質の濃度又は分圧及び前記プロセスガス供給管（９，９’，９”）内の全圧が圧力測定器と測定器（１４，１４’，１４”）とにより測定され、ＣＶＤリアクタ（１，１’，１”）に流入する出発物質のマスフローが一定値に維持されかつプロセスガス供給管（９，９’，９”）に補償ガスが供給される、前記方法において、
補償ガスの供給によってプロセスガス供給管（９，９’，９”）内の全圧が一定値に維持され、かつ、ＣＶＤリアクタ（１，１’，１”）に流入する出発物質のマスフローが測定器（１４，１４’，１４”）の下流側に配置されたプロセスガスマスフローコントローラ（１３，１３’，１３”）を用いて一定値に維持されることを特徴とする方法。

【請求項10】

前記プロセスガス供給管（９，９’，９”）内の前記出発物質の濃度又は分圧が測定器（１４，１４’，１４”）によって測定され、かつ特にそのようにして得られた測定値を用いてプロセスガスマスフローコントローラの設定値が補正され、かつ／又は、そのようにして得られた測定値を用いて前記濃度又は分圧が一定値に維持されることを特徴とする請求項９に記載の方法。

【請求項11】

前記圧力調整器（８）の出口から流れる搬送ガスのマスフローが、複数のマスフローに分割され、それぞれが互いに異なるプロセスガス供給管（９，９’，９”）に流入し、それらの各々を通ってプロセスガスのマスフローが、気化装置（２，２’，２”）からＣＶＤリアクタ（１，１’，１”）まで流れることを特徴とする請求項９又は１０に記載の方法。

【請求項12】

前記ガスソース（１９；２－５）から提供されるプロセスガスのマスフローが複数の部分フローに分割され、それらがそれぞれプロセスガスマスフローコントローラ（１３，１３’）によって調整されて異なるガス入口孔（１５，１５’）を通ってＣＶＤリアクタ（１，１’，１”）のプロセスチャンバ（１８）に流入し、又は、異なるＣＶＤリアクタ（１，１’，１”）に流入することを特徴とする請求項９、１０又は１１に記載の方法。

【請求項13】

前出請求項の１つの１つ以上の特徴的な特徴によって特徴付けられる構造又は方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、ＣＶＤリアクタ内で、特にＭＯＣＶＤリアクタ内で使用するプロセスガスを提供するための構造に関する。１つの入口用マスフローコントローラ又は複数の入口用マスフローコントローラからなる構成を用いて、例えば水素又は窒素である搬送ガスが供給される。搬送ガスは、ＣＶＤリアクタのガス入口部材に開口するプロセスガス供給管に直接接続されるか、又は、気化装置の形態であるソースの入口に直接接続される。後者の場合、気化装置の出口がプロセスガス供給管と接続されることによって、搬送ガスと共に、気化装置の容器内に収容された液体又は固体の出発物質の蒸気がプロセスガス供給管を通ってＣＶＤリアクタへ搬送される。
容器内の出発物質の蒸気圧は、容器を加熱または冷却する温度制御装置によって調整できる。ＭＯＣＶＤリアクタでこの構造が使用される場合、容器は有機金属の出発物質を収容する。
さらに別のガスソースが設けられ、それを用いて別の、特にガス状出発物質が、ＣＶＤリアクタのガス入口部材に直接供給されることによって、ＣＶＤリアクタのプロセスチャンバに２つの異なる化学元素、例えば、Ｖ主族とIII主族の元素のガスが供給され、それによって、プロセス温度に加熱された、プロセスチャンバ内に配置された基板上にIII主族とＶ主族の元素からなる半導体層が堆積される。

【0002】

さらに、中央ガス供給機構にソースを設けることもでき、それによって容器内に収容されたガス、例えばプロパン等のマスフローが提供され、それは搬送ガスと共に１つ以上のＣＶＤリアクタに搬送される。搬送ガス中の反応ガスの濃度は変動する可能性がある。もっとも、容器内に収容されたガスの替わりに、固体又は液体の出発物質が気化されてその蒸気が上述したように搬送ガスにより１つ以上のＣＶＤリアクタに搬送されるソースを用いることもできる。この場合もまた、ガス流中の反応ガスの濃度が、時間の経過と共に、特に容器が交換された場合に変わる可能性がある。

【背景技術】

【0003】

特許文献１は、供給管を具備する気化装置を開示し、その供給管を通ってマスフローコントローラにより調整された搬送ガスが気化器の入口に供給される。気化器の出口は、プロセスガス供給管に開口し、その中にさらに別の搬送ガス供給管が開口している。この搬送ガス供給管を通して補償ガスが流れ、それによって気化器から来るプロセスガスフローが希釈される。圧力調整器が設けられ、それを用いて補償ガスのマスフローが制御されることによって、ソースの容器内及びプロセスガス供給管内の全圧が一定値に維持される。

【0004】

先行技術によればさらに、プロセスガス供給管内に測定器が配置され、それを用いてプロセスガス供給管内の出発物質の蒸気の濃度又は分圧を測定できることが知られている。このために、特に、音響信号、特に超音波信号を発生し、プロセスガス内での音の伝播時間又は音速を測定する測定器が用いられる。音速は搬送ガス中の出発物質の濃度に依存するので、このようにして得られた測定値から濃度又は分圧を決定できる。この測定器の測定値は、プロセスガス供給管内又は測定器の測定セル内の全圧にも依存する。

【0005】

さらに、所定のプロセスガスフローをＣＶＤリアクタのガス入口部材に供給すること、特に異なる所定のプロセスガスフローをＣＶＤリアクタ内に、異なる箇所に配置されたガス入口孔を通して供給することが望ましい。さらに中央ガス供給機構を設け、それを用いて時間経過しても安定した濃度でプロセスガスを提供可能であることも望ましい。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0006】

【特許文献1】欧州特許出願公開第1870490号明細書

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

本発明の目的は、精確に調整可能な出発物質のマスフローをＣＶＤリアクタに供給することである。

【0008】

本発明の目的はさらに、ソース容器及びプロセスガス供給管の両方における全圧を一定値に維持する手段を提供することである。

【0009】

さらに、本発明の目的は、ＣＶＤリアクタ及びプロセスガスの提供方法を特定することである。

【課題を解決するための手段】

【0010】

この課題は、特許請求の範囲に規定された発明によって解決される。従属項は、下位の請求項に記載された発明の有利なさらなる発展を示すだけでなく、課題に対する独立した解決手段も示す。

【0011】

本発明は、第１に、そして本質的に、公知のＣＶＤリアクタで使用するプロセスガスを提供するための構造に関する。本発明によるその構造は、ＣＶＤリアクタ用のガス供給システムの一部であり得る。その構造は、搬送ガスソースと接続された又は接続可能な供給管を有する。もっとも、異なる搬送ガスソースと接続可能な複数の供給管を設けることもできる。したがって、互いに異なる搬送ガスを用いることができる。その構造は、特にプロセスガス供給管として、ＣＶＤリアクタのガス入口部材と接続可能な出口を有する。
本発明の例示的実施形態では、搬送ガス、反応ガス、又は搬送ガスと蒸気もしくは反応ガスとの混合物である第１のマスフローを提供するための第１の入口用マスフローコントローラを有する。第１の入口用マスフローコントローラの入口は、搬送ガスソースと接続され得る。第１の入口用マスフローコントローラの出口は、気化装置の供給管と接続され得る。それは、切換装置を用いて行うことができる。
気化装置は、気化空間を形成する容器を有する。容器内には、気化させる出発物質を収容できる。それは液体又は固体の出発物質とすることができる。その供給管を通って流入する搬送ガスが粉末状又は液体状の出発物質を通って流れることによって出発物質の蒸気で飽和されるように、その供給管は容器内に開口している。気化空間から出て行く気化装置の出口は、ＣＶＤリアクタへのプロセスガス供給管と接続されている。プロセスガス供給管内又はそれを通って、搬送ガスと、例えば気化した出発物質である反応ガスとからなるマスフローが、ＣＶＤリアクタへと流れる。
別のガス状出発物質をＣＶＤリアクタに流入させるさらなる供給管を設けることができる。特に、気化装置内でIII主族の元素の有機金属出発物質を気化させ、そしてＶ主族の元素のガスを別の供給管を通してＣＶＤリアクタに供給するように構成される。

【0012】

しかしながら、入口用マスフローコントローラの入口は、反応ガスのソースと接続されていてもよい。上述した変形形態では、搬送ガスのみが入口用マスフローコントローラを通って流れるが、第２の変形形態では、反応ガス、又は反応ガスと搬送ガスとの混合物、又は、中央気化装置で発生した蒸気が、特に搬送ガスと一緒に入口用マスフローコントローラを通って流れる。
この変形形態によるガスソースは、中央ガス供給機構に割り当てられかつ複数のＣＶＤリアクタに複数のプロセスガスを供給する中央ガスソースとすることができる。中央気化装置は、上述した特性を有することができ、中央気化装置は、気化させる出発物質を受容するためのさらに大きな容器を有する。この容器は、貯蔵用容器から常時、補充される。

【0013】

プロセスガスのソースは、ガス状出発物質が収容された１つの容器であるように構成できる。ガス状出発物質は、例えば水素化物とすることができる。しかしながら、ガス状出発物質は、他の任意の反応ガスであってもよく、特に炭素含有ガス、ケイ素含有ガス等でもよい。そのガスは、最も純粋な状態で容器に収容できる。しかしながら、そのガスは、別のガスと共にガス混合物として容器に収容してもよい。特に、後者の場合、容器中の反応ガスの濃度は、それぞれのバッチに依存する可能性がある。

【0014】

ＣＶＤリアクタ内には、プロセス温度に加熱可能なサセプタがあり、その上にコーティングされる基板が載置される。ＣＶＤリアクタのプロセスチャンバ内で複数の基板を同時にコーティング可能である。このために、ガス入口部材を用いて、互いに異なるプロセスガスが搬送ガスと共にプロセスチャンバに供給される。

【0015】

本発明によれば、圧力調整器の入口が、第２の搬送ガスソースと接続されること、又は、第１の入口用マスフローコントローラに接続されている同じ搬送ガスソースと接続されることが提供される。圧力調整器は、プロセスガス供給管内の全圧を一定値に維持するためにプロセスガス供給管に供給される補償ガスを供給することができる。圧力調整器によって同時に、気化装置の容器内の全圧も一定値に維持することができる。
本発明のさらなる態様によれば、圧力調整器の出口とＣＶＤリアクタとの間、又は圧力調整器の下流側のプロセスガス供給管内に、少なくとも１つの別のマスフローコントローラが配置されることが提供される。このマスフローコントローラを通ってプロセスガスのマスフローが流れるので、以下では、プロセスガスマスフローコントローラと称することとする。

【0016】

本発明のさらなる態様によれば、圧力調整器の出口とＣＶＤリアクタとの間、又は圧力調整器の下流側、及びプロセスガスマスフローコントローラの上流側のプロセスガス供給管内に、出発物質の蒸気の濃度又は分圧を測定するための装置が配置されることが提供される。濃度又は分圧を測定するためにこの測定器の測定セル内の全圧が、圧力調整器を用いて一定値に維持され、超音波発生器を用いて音響信号が発生され、その音の伝播時間を測定距離に亘って測定可能であるので、全圧の変化による測定値の誤りを生じない。
プロセスガスマスフローコントローラは、測定器とＣＶＤリアクタとの間に配置できる。プロセスガスマスフローコントローラは、ＣＶＤリアクタ内を流れる反応ガスのマスフローを制御する。プロセスガスマスフローコントローラと、圧力調整器と、濃度又は分圧を測定する装置との組合せによって、プロセスガスマスフローコントローラ及び／又は入口用マスフローコントローラの設定値を補正できることも有利である。プロセスガスマスフローコントローラから供給されるマスフローの値は、プロセスガス供給管内の蒸気の濃度又は分圧に依存し得る。上述した手段を用いて、ＭＯＣＶＤリアクタ用のソース機構の性能は、出発物質の調整可能なマスフローの誤差に関して改善される。

【0017】

本発明の上述した態様の一つ又は上述した態様の幾つかによるさらなる発展によれば、圧力センサにより一定の全圧に維持されたプロセスガスフローを、又は測定器によりその濃度又はその分圧に関して決定されたマスフローを、複数の部分マスフローに分割することが可能である。このために、プロセスガス供給管を２つ以上のガス供給管に分岐することができ、それらにそれぞれ１つのプロセスガスマスフローコントローラが配置される。プロセスガスマスフローコントローラにより調整されたプロセスガスのマスフローは、異なる箇所でＣＶＤリアクタのプロセスチャンバ内に供給され得る。このために、ＣＶＤリアクタは、複数の異なる箇所に配置されたガス入口孔を具備するガス入口部材を有することができる。
本発明のさらなる発展においては、異なるリアクタ機構のプロセスガス供給管に供給可能な複数の補償ガスを発生するために、１つのみの圧力調整器を用いることができる。この構成によって、互いに異なるＣＶＤリアクタのプロセスガス供給管が同じ全圧に維持される。このために、圧力調整器の出口は、異なるガス供給管を用いて異なるプロセスガス供給管に接続されており、それらのガス供給管はそれぞれ、プロセスガスマスフローコントローラの上流側、かつ／又は、濃度又は分圧を測定する測定器の上流側にてプロセスガス供給管に開口することが好ましい。

【0018】

プロセスガスを提供するための本発明による構造では、特に、プロセスガス供給管内の全圧が、圧力調整器を用いて搬送ガスの補償ガスフローを供給することによって所定の値に維持されるか、維持可能である。プロセスガス供給管を通ってＣＶＤリアクタに流れるガス流量は、圧力調整器又は圧力調整器から供給される補償ガスの供給箇所の下流側でプロセスガス供給管に配置されたマスフローコントローラによって調整される。

【0019】

本発明による装置及び本発明による方法によって、中央ガスソースから発生した、又は各ＣＶＤリアクタに個別に割り当てられたガスソースから発生したプロセスガスのマスフローを、一定の圧力に維持できる。さらに、搬送ガスフロー中の反応ガスの濃度を、ソースから供給されるマスフローに関係なく一定値に維持することが可能である。

【0020】

本発明の変形形態は、気化した液体、気化した固体、又はガスボンベにより提供された出発物質とし得るガス状出発物質のソースが、搬送ガス中の出発物質の濃度において時間的に変動して供給されるようなガス供給装置又はＣＶＤリアクタに関する。時間的に均一に維持される出発物質の分圧をもつ時間的に均一に維持されるプロセスガスのマスフローを提供するために、ガス状出発物質が入口用マスフローコントローラによってプロセスガス供給管に供給され、プロセスガス供給管には圧力調整器のガス供給管が開口しており、それにより補償ガスを供給することによってプロセスガス供給管内の全圧が一定値に維持されることが提供される。
分圧の濃度を測定するための測定器内の圧力も、圧力調整器によって一定に維持される。測定器は、制御装置に与えられる測定値を出力する。制御装置は、設定値を出力し、それを用いて入口用マスフローコントローラは、プロセスガスマスフローコントローラが一定に維持された混合比をもつガス混合物を受け取るように稼動される。測定器の下流側にプロセスガスマスフローコントローラを設けることができる。

【0021】

したがって、入口用マスフローコントローラにより調整されたガス状出発物質又はガス状出発物質と搬送ガスとの混合物のガスフローにおいて、出発物質の分圧が時間的に変動し、圧力調整器により調整された搬送ガスの希釈ガスフローが入口用マスフローコントローラの下流側で供給され、これら両方のガスフローが出発物質の濃度又は分圧を測定するための測定器に供給されるように構成できる。その場合、測定器の測定セル内の全圧が圧力調整器によって一定に維持され、圧力調整器はさらに、測定セルに補償ガスフローを供給し、そして、測定セル内の出発物質の濃度又は分圧が狭い限定範囲内でのみ変動するように制御装置によって出発物質のマスフローが変更される。
測定箇所の下流側に設けられたプロセスガスマスフローコントローラによって、出発物質のマスフローと希釈ガスフローの合計が一定に維持され、それによって圧力調整器を介して希釈ガスフローの変更が行われる。

【図面の簡単な説明】

【0022】

以下、添付の図面を参照して例示的実施形態を参照して本発明をさらに詳細に説明する。

【図1】図１は、気化した有機金属出発物質を提供するためのソース機構の概略図である。

【図2】図２は、図１に示した構成であるが第２の例示的実施形態の概略図であり、圧力調整器８が複数のガス供給管１２、１２’、１２”を介して全部で３つのリアクタ構造の異なるプロセスガス供給管９，９’、９”と接続されている。

【図3】図３は、図１による概略図であり、プロセスガス供給管９が２つのプロセスガス供給管９’、９”に分岐され、それらをそれぞれ通ってプロセスガスマスフローコントローラ１３によってプロセスガスが、ＣＶＤリアクタ１のガス入口部材の異なるガス入口孔１５、１５’に流れる。

【図4】図４は、本発明のさらに別の例示的実施形態であり、反応ガスが、それぞれのバッチに依存する濃度の反応ガスを含むガス容器から取り出される。

【図5】図５は、さらに別の例示的実施形態であり、蒸気ソースを具備する中央ガスソースが複数のＣＶＤリアクタに供給する。

【図6】図６は、さらに別の例示的実施形態であり、１つのＣＶＤリアクタが複数のガスソースから供給され、気化容器内でそれぞれ同じ全圧に維持される。

【図7】図７は、さらに別の例示的実施形態であり、中央蒸気ソース１９からの反応ガスの蒸気が用いられる。

【図8】図８は、さらに別の例示的実施形態であり、２つのプロセスガスマスフローコントローラ１３、１３’が互いに並列に接続されている。

【図9】図９は、さらに別の例示的実施形態であり、２つのプロセスガスマスフローコントローラ１３、１３’が互いに並列に接続されている。

【発明を実施するための形態】

【0023】

図１～３並びに５及び６に示したソース機構はそれぞれ、固体又は液体の出発物質３の蒸気を提供するための少なくとも１つのソースを有し、出発物質３は気化装置２、２’、２”の容器４内に収容されている。気化装置２、２’、２”は供給管を有し、それを通って搬送ガスが容器４内に流入し得る。その際、例えば水素、窒素又は希ガスである搬送ガスは、出発物質の蒸気で飽和され、出口を通って容器４から出て行く。

【0024】

容器４の入口と出口は、複数のバルブを有する切換装置５と接続されており、それらのバルブは、１つ以上の入口用マスフローコントローラ１０、１１（以下、搬送ガスマスフローコントローラと称す）からなる構造によって供給される搬送ガスフローが容器４を通って流れるか、又は容器４をバイパスして流れるかを切り替えることができる。

【0025】

搬送ガスマスフローを供給するための構造は、例示的実施形態では、互いに異なるフロー領域を有する２つのマスフローコントローラ１０、１１からなる。マスフローコントローラ１１は、例えばマスフローコントローラ１０よりも大きいフロー領域を有し得る。搬送ガス供給管６は、両方のマスフローコントローラ１０、１１と接続されており、マスフローコントローラ１１への供給管に遮断バルブが配置されている。

【0026】

ソース機構は、ＣＶＤリアクタ１、１’、１”用の有機金属出発物質の供給のために用いられ、ＣＶＤリアクタ１、１’、１”には、プロセスチャンバ１８の床を形成する加熱されたサセプタ１６上に１つ以上の基板１７が載置されている。

【0027】

例示的実施形態はそれぞれ、少なくとも１つのＣＶＤリアクタ１、１’、１”を有する。図１に示した例示的実施形態では、ＣＶＤリアクタに、プロセスガス供給管９が開口し、その中に、気化装置２から搬送ガスにより搬送された出発物質の蒸気が供給され、ＣＶＤリアクタ１のガス入口孔１５へと供給される。

【0028】

図２に示した例示的実施形態では、３つの互いに異なるプロセスガス供給管９、９’、９”が開口し、それらの中にそれぞれ気化装置２、２’、２”から搬送ガスにより搬送された出発物質の蒸気が供給され、それぞれＣＶＤリアクタ１、１’、１”のガス入口孔１５へと供給される。この場合、複数のガス供給管１２、１２’、１２”に分岐する出口をもつ単一の圧力調整器８が、別々のＣＶＤリアクタ１、１’、１”の複数のソース機構と接続されている。

【0029】

図３に示した例示的実施形態では、気化装置２から搬送ガスにより搬送された出発物質の蒸気が供給されるプロセスガス供給管９が、２つのプロセスガス供給管９’、９”に分岐している。各々のプロセスガス供給管９’、９”には、プロセスガスマスフローコントローラ１３、１３’が設けられている。両方のプロセスガスマスフローコントローラ１３、１３’により調整されたマスフローは、同じＣＶＤリアクタ１の２つの異なるガス入口孔１５、１５’に流入する。２つのそれぞれ調整されたプロセスガスフローが生じ、それらはＣＶＤリアクタのプロセスチャンバ１８の異なる箇所に供給される。

【0030】

例示的実施形態は、１つの圧力調整器８を示している。圧力調整器８は、搬送ガス供給管７に接続されている。搬送ガス供給管７は、搬送ガス供給管６も接続されている同じ搬送ガスソースに接続することができる。しかしながら、搬送ガス供給管７を別の搬送ガスソースに接続することもできる。圧力調整器８に供給された搬送ガスフローは圧力調整器８を通過して流れ、そこで、圧力調整器８の出口と接続されたガス供給管１２、１２’、１２”内の圧力を一定値に維持するように設定される。このために、圧力調整器８は、制御回路を有する。圧力調整器８を用いて、気化装置２、２’、２”の容器４内の全圧も一定値に維持される。ガス供給管１２、１２’、１２”は、容器４の下流側でプロセスガス供給管９、９’、９”に開口している。

【0031】

例示的実施形態は、さらに別の任意の測定器１４、１４’、１４”を示しており、それを用いて搬送ガス中の出発物質の濃度又は分圧を決定することができる。測定器として、特にＥｐｉｓｏｎの名称で知られる装置を用い得る。この測定器を用いて音の伝播時間を測定することによって測定値が得られ、それは、一方では出発物質の濃度又は分圧に依存し、他方では測定器の測定セル内の全圧に依存する。圧力調整器８から生じた補償ガスが、測定器１４、１４’、１４”の上流側でプロセスガス供給管９、９’、９”に供給される。これによって、測定器１４、１４’、１４”の測定セル内の全圧が一定値に維持される。

【0032】

各プロセスガス供給管９、９’、９”には、プロセスガスマスフローコントローラ１３、１３’、１３”が設けられ、それを用いてプロセスガス供給管９、９’、９”を通って各ＣＶＤリアクタ１、１’、１”に供給されるプロセスガスのマスフローを調整することができる。この構成によって、各マスフローコントローラ１３、１３’、１３”が、搬送ガスと出発物質の蒸気とからなる混合物のマスフローを調整し、その場合、出発物質の分圧は既知である。プロセスガスマスフローコントローラの設定値に必要な、いかなる設定値補正も、測定器１４、１４’、１４”により測定された値を用いて行うことができる。

【0033】

図４に示した例示的実施形態では、搬送ガス中で搬送される反応ガスを提供するためのソース１９が、例えばガスボンベである容器２０であり、その中に、例えばＶ主族又はIV主族の元素の水素化物である純粋な反応ガスが収容されている。しかしながら、ガスボンベ中に、例えばプロパンである別のガスを収容してもよい。
特に、容器２０中に希釈された反応ガス、例えば、反応ガスと水素又は窒素である搬送ガスとの混合物が既に収容されているように構成できる。本実施形態では入口用マスフローコントローラであるマスフローコントローラ１０を用いて、反応ガス又はガス混合物の所定のマスフローを提供できる。入口用マスフローコントローラ１０と並列に、より大きい値の領域を有するマスフローコントローラ１１が設けられ、それは任意に切り換え可能である。

【0034】

圧力調整器８を用いて、補償ガスフローが既存のガスフローに供給されることによって、測定器１４内の全圧が一定値に維持される。測定器１４では、プロセスガス供給管９内のプロセスガスの濃度を決定できる。制御装置２１を用いて、入口用マスフローコントローラ１０を介してプロセスガス供給管９を通るプロセスガスフロー中の反応ガスの濃度を一定値に維持できる。

【0035】

容器２０は、１つの中央ガス供給機構から構成することができる。

【0036】

図４に符号２０で示したソースは、図１～図３に示したような１つのソース機構により、すなわち気化させる固体又は液体の出発物質３を内蔵する容器４を具備する気化装置２により形成することもできる。そのような装置は、図７に示されている。上述した方法で少なくとも１つの搬送ガスマスフローコントローラ１０、１１を用いて容器４内に搬送ガスが供給されることによって、出発物質の蒸気と搬送ガスとの混合物が、入口用マスフローコントローラ１０、１１を通って流れる。その際、搬送ガス中の出発物質の蒸気の濃度が変動する可能性がある。容器４は、搬送ガスによって搬送される永続的な蒸気流を供給する中央蒸気ソース１９の一部であり、蒸気流は複数の局所ガス供給装置２６へ運ばれる。容器４の内容物は、別の容器２７から常時補充することができる。

【0037】

図７は、それぞれＣＶＤリアクタ１にガス供給する２つの局所ガス供給装置２６を示している。切換バルブ２４が設けられ、それを用いてここでは搬送ガスと蒸気との混合物である反応性出発物質を、入口用マスフローコントローラ１０、１１に供給することができる。切換バルブ２４を用いて、搬送ガス又は反応ガスを入口用マスフローコントローラ１０に選択的に供給できる。搬送ガスの供給は、局所ガス供給装置２６の管の洗浄のために行われる。各ガス供給装置２６は制御装置２１を有し、それを用いて、測定器１４の測定セルにおける出発物質の濃度が一定値を維持するように反応ガスのマスフローを設定できる。

【0038】

図５は、図３に示した例示的実施形態の変形形態としての別の例示的実施形態を示している。ここでは、プロセスガスのマスフローが複数の部分フローに分割され、それぞれが異なるＣＶＤリアクタ１、１’、１”に送られる。ＣＶＤリアクタ１、１’、１”に繋がる各プロセスガス供給管９、９’、９”には、個々のプロセスガスマスフローコントローラ１３、１３’、１３”が割り当てられている。

【0039】

図６に示した例示的実施形態は、例えば有機金属化合物である固体又は液体の出発物質の複数の異なるソースと接続された１つのＣＶＤリアクタを示している。この場合、各ソースには、プロセスガス供給管９、９’、９”内の出発物質の濃度を測定するための測定器１４、１４’、１４”が割り当てられている。プロセスガス供給管９、９’、９”の各々を通って流れるプロセスガスのガスフローは、プロセスガスマスフローコントローラ１３、１３’、１３”によって調整可能である。プロセスガスのマスフローは、１つのＣＶＤリアクタのガス入口部材に流入し、そのプロセスガスは、ガス入口部材の異なるガス入口孔から出ることができる。

【0040】

図８は、上述した幾つかの例示的実施形態のさらに別の変形形態を示している。プロセスガス供給管９に、反応ガス、又は反応ガスと搬送ガスとの混合物、又は蒸気と搬送ガスとの混合物が上述した方法で供給される。ここでは、制御装置２１を設けることもでき、それを用いて、マスフローコントローラ１０、１１への設定値を設定することによって入口用マスフローコントローラが制御される。
第１のプロセスガスマスフローコントローラ１３が設けられており、それは、ＣＶＤリアクタ１内に永続的に供給されるプロセスガスのマスフローを提供する。切換バルブ２２を用いることで、第２のプロセスガスマスフローコントローラ１３’から提供されるプロセスガスもＣＶＤリアクタ１に供給するか、あるいは、排気ガス管２３へ送ることが可能である。
このような装置によって、ＣＶＤリアクタ１に供給されるマスフローを非常に短時間で変化させることができる。なぜなら、マスフローコントローラ１３、１３’を通って流れるプロセスガスの全マスフローは一定に維持されているからである。このことは、制御装置２１の効果を妨げない。

【0041】

同様の装置を図９に示す。しかしながら、ここでは、第２のプロセスガスマスフローコントローラ１３’が排気ガス管２３に直接接続されており、それによって、マスフローコントローラ１３’を通って流れるマスフローはＣＶＤリアクタ１に到達せず、第１のプロセスガスマスフローコントローラ１３を通るマスフローのみがＣＶＤリアクタ１に到達する。制御装置２５を用いて、プロセスガスマスフローコントローラ１３を通るプロセスガスのマスフローを変更可能である。同時に、第２のプロセスガスマスフローコントローラ１３’を通って排気ガス管２３へ流れるプロセスガスのマスフローも変更される。両方のプロセスガスマスフローコントローラの変更が行われることによって、プロセスガスマスフローコントローラ１３、１３’を通って流れるプロセルガスのマスフローの全体が一定に維持される。これによって、ＣＶＤリアクタ１内で基板上に、層の厚さに伴って層特性が変化するような層を堆積することができる。図８及び９に示した例示的実施形態では、プロセスガスの全体フローを一定に維持することによって、制御装置２１を妨げない。

【0042】

上述した構成要素が、搬送ガスのフロー方向において以下の順序で配置される場合に有利であると考えられる。
気化装置２、２’、２”が、圧力調整器８のガス供給管１２、１２’、１２”の供給箇所より上流側に配置される。
測定器１４が、圧力調整器８、又は圧力調整器８のガス供給管１２、１２’、１２”の供給箇所より下流側に配置される。
少なくとも１つのプロセスガスマスフローコントローラ１３、１３’、１３”が、測定器１４より下流側に配置される。

【0043】

複数のソース機構の各々が、バブラーとして構成された気化装置２、２’、２”を有し、それらが並列に接続されていることがさらに有利と考えられる。バブラーの容器４内の圧力を一定に維持するために、１つの共通の圧力調整器８が用いられる。別々のプロセスチャンバ１８にプロセスガスを供給するために別々のガスラインを設けることもできる。

【0044】

上述したことは、全体として本願の対象となる発明を説明するものであり、これらの発明は、少なくとも以下の特徴の組み合わせを通じて従来技術を独立して発展させるものであり、これらの特徴の組み合わせのうちの２つ、それ以上、又はすべてを組み合わせることもできる。

【0045】

プロセスガス供給管９、９’、９”からＣＶＤリアクタへ流れるガス流量がプロセスガスマスフローコントローラ１３、１３’、１３”を用いて調整されることを特徴とする構造。

【0046】

プロセスガス供給管９、９’、９”を通って搬送される反応ガスが、入口用マスフローコントローラ１０、１１を通って流れ、かつ、ガスソースが、反応ガスを収容した容器、又は搬送ガス中で搬送される蒸気を提供する蒸気ソース１９であること、又は、
入口用マスフローコントローラ１０、１１により提供された搬送ガスフローが気化装置２、２’、２”の気化容器４を通って流れ、かつ、気化装置２、２’、２”で生成された蒸気が搬送ガスによりプロセスガス供給管９、９’、９”に搬送されることを特徴とする構造。

【0047】

圧力調整器８の下流側に、プロセスガス供給管９、９’、９”内の気化した又はガス状の出発物質３の濃度又は分圧を測定するための測定器１４、１４’、１４”が設けられることを特徴とする構造。

【0048】

圧力調整器８の出口が、複数のガス供給管１２、１２’、１２”によって、異なるＣＶＤリアクタ１、１’、１”にそれぞれ割り当てられたプロセスガス供給管９、９’、９”と接続されていることを特徴とする構造。

【0049】

プロセスガス供給管９を通って流れ、圧力調整器８によって所定の全圧に維持されたプロセスガスフローが、複数の部分フローに分割されること、及び／又は、
２つのプロセスガスマスフローコントローラ１３、１３’が並列に接続されること、及び／又は、
プロセスガスフローが、マスフロー制御されて２つの異なるガス入口孔１５、１５’を通ってＣＶＤリアクタ１のプロセスチャンバ１８に供給されることを特徴とする構造。

【0050】

入口用マスフローコントローラ１０、１１が、複数の入口用マスフローコントローラ１０、１１を有する入口用マスフローコントローラ装置の一部であること、及び／又は、
切換装置５が設けられ、それを用いて、気化装置２、２’、２”の容器４に供給可能か、又は、プロセスガス供給管９、９’、９”に直接供給可能であること、及び／又は、
気化装置２、２’、２”の容器４が加熱可能か又は冷却可能であることを特徴とする構造。

【0051】

測定器１４、１４’、１４”の出口が、各々がプロセスガス供給管９、９’、９”を介して１つのＣＶＤリアクタ１、１’、１”と接続されている複数の並列接続されたプロセスガスマスフローコントローラ１３、１３’と接続されていることを特徴とする構造。

【0052】

圧力調整器８の出口が、複数のガス供給管１２、１２’、１２”によって、異なる反応ガスを提供するそれぞれ異なるガスソース１９；２～５に接続され、それらのガスソースはプロセスガス供給管９、９’、９”によって１つ以上のＣＶＤリアクタ１、１’、１”と接続されることを特徴とする構造。

【0053】

プロセスガス供給管９、９’、９”内の出発物質の濃度又は分圧を一定値に維持するために、入口用マスフローコントローラ１１に設定値を設定する制御装置２１を有することを特徴とする構造。

【0054】

ＣＶＤリアクタ１、１’、１”に供給されるプロセスガスを提供するための構造を特徴とするＣＶＤリアクタ構造。

【0055】

ＣＶＤリアクタで用いるためのプロセスガスを提供する方法であって、入口用マスフローコントローラ１０、１１及びガスソース１９；２～５によって、搬送ガス中で搬送される反応ガスのマスフローが提供され、そのマスフローはプロセスガス供給管９、９’、９”を通って１つ以上のＣＶＤリアクタ１、１’、１”に運ばれることを特徴とする方法。

【0056】

プロセスガス供給管９、９’、９”内の出発物質の濃度又は分圧が、測定器１４、１４’、１４”を用いて測定され、かつ、特にそのようにして得られた測定値を用いてプロセスガスマスフローコントローラの設定値が補正され、かつ／又は、そのようにして得られた測定値を用いて、測定器１４、１４’、１４”の上流側のマスフローコントローラ１１によって希釈ガスが供給されることによって濃度又は分圧が一定値に維持されることを特徴とする方法。

【0057】

圧力調整器８の出口から流れる搬送ガスのマスフローが、複数のマスフローに分割され、それらの各々が互いに異なるプロセスガス供給管９、９’、９”内に流入し、それらの各々を通ってプロセスガスのマスフローが１つの気化装置２、２’、２”から１つのＣＶＤリアクタ１、１’、１”まで流れることを特徴とする方法。

【0058】

ソース１９；２～５から提供されるプロセスガスのマスフローが複数の部分フローに分割され、それらの各々が１つのプロセスガスマスフローコントローラ１３、１３’により調整されて異なるガス入口孔１５、１５’を通って１つのＣＶＤリアクタ１、１’、１”のプロセスチャンバ１８に流入し、又は別々のＣＶＤリアクタ１、１’、１”に流入することを特徴とする方法。

【0059】

開示された全ての特徴は、（それ自体のために、また互いに組み合わされて）本発明に不可欠である。ここでの出願の開示は、関連する／追加された優先権書類（先の出願の写し）の開示内容をその内容全体に含み、それはこれらの書類の特徴を本願の請求項に組み込む目的でもある。従属請求項は、特にこれらの請求項に基づいて分割出願を行うために、引用される請求項の特徴がなくても、先行技術の独立した発明性のあるさらなる発展を特徴とする。各請求項で特定された発明は、前述の説明で特定された、特に参照符号が付与された、及び／又は符号の説明で特定された、１つ以上の機能を追加で有することができる。本発明はまた、特に、それらがそれぞれの使用目的に明らかに不要であるか、又は技術的に同じ効果を有する別の手段で置き換えることができる限り、前述の説明で述べた特徴の個々のものが実装されない設計形態に関する。

【符号の説明】

【0060】

１ ＣＶＤリアクタ
１’ ＣＶＤリアクタ
１” ＣＶＤリアクタ
２ 気化装置
２’ 気化装置
２” 気化装置
３ 出発物質
４ 容器
５ 切換装置
６ 搬送ガス供給管
７ 搬送ガス供給管
８ 圧力調整器
９ プロセスガス供給管
９’ プロセスガス供給管
９” プロセスガス供給管
１０ 入口用マスフローコントローラ
１１ 入口用マスフローコントローラ
１２ ガス供給管
１２’ ガス供給管
１２” ガス供給管
１３ プロセスガスマスフローコントローラ
１３’ プロセスガスマスフローコントローラ
１３” プロセスガスマスフローコントローラ
１４ 測定器
１４’ 測定器
１４” 測定器
１５ ガス入口孔
１５’ ガス入口孔
１６ サセプタ
１７ 基板
１８ プロセスチャンバ
１９ 中央蒸気ソース
２０ 容器
２１ 制御装置
２２ バルブ
２３ 停止バルブ
２４ バルブ
２５ 制御装置
２６ 局所ガス供給装置
２７ 容器

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【手続補正書】

【提出日】2023-07-19

【手続補正1】

【補正対象書類名】特許請求の範囲

【補正対象項目名】全文

【補正方法】変更

【補正の内容】

【特許請求の範囲】

【請求項1】

ＣＶＤリアクタ（１，１’，１”）内で用いるプロセスガスを提供するための構造であって、
搬送ガスと共に搬送されるガス状の出発物質のマスフローを提供するための入口用マスフローコントローラ（１０，１１）を備えたガスソース（２－５，１９，２０）を有し、前記出発物質のマスフローは、プロセスガス供給管（９，９’，９”）を通って前記ＣＶＤリアクタ（１，１’，１”）へ搬送され、
前記プロセスガス供給管（９，９’，９”）には、圧力調整器（８）を有し全圧を測定するための圧力測定器と、搬送ガス中の出発物質の濃度又は分圧を測定するための測定器（１４，１４’，１４”）とが配置され、前記プロセスガス供給管（９，９’，９”）内の出発物質の濃度又は分圧を一定値に維持する制御装置（２１）を有し、
前記プロセスガス供給管（９，９’，９”）に補償ガスを供給するための搬送ガス供給管（７）を有し、
プロセスガスマスフローコントローラ（１３，１３’，１３”）が前記測定器（１４，１４’，１４”）の下流側に配置され、かつ、
前記制御装置（２１）は、前記圧力調整器（８）により一定値に維持された全圧で前記ＣＶＤリアクタ内に流入する前記出発物質のマスフローを、前記プロセスガスマスフローコントローラ（１３，１３’，１３”）を用いて調整するように構成されている、前記構造において、
前記圧力調整器（８）が前記補償ガスを供給し、
前記測定器（１４，１４’，１４”）が、前記圧力調整器（８）の出口と前記プロセスガスマスフローコントローラ（１３，１３’，１３”）との間に位置することを特徴とする構造。

【請求項2】

蒸気ソース（１９）が、搬送ガスで搬送される蒸気を提供することを特徴とする請求項１に記載の構造。

【請求項3】

前記プロセスガス供給管（９，９’，９”）を通って搬送される反応ガスは、前記入口用マスフローコントローラ（１０，１１）を通って流れ、かつ、前記ガスソースは、前記反応ガスを収容した容器である蒸気ソース（１９）であることを特徴とする請求項１に記載の構造。

【請求項4】

入口用マスフローコントローラ（１０，１１）から提供される搬送ガスフローが、気化装置（２，２’，２”）の気化容器（４）を通って流れ、かつ、前記気化装置（２，２’，２”）で生成された蒸気が搬送ガスにより前記プロセスガス供給管（９，９’，９”）に搬送されることを特徴とする請求項１に記載の構造。

【請求項5】

１つのみの前記圧力調整器（８）の出口は、複数のガス供給管（１２，１２’，１２”）を用いて、それぞれ別のＣＶＤリアクタ（１，１’，１”）に割り当てられたプロセスガス供給管（９，９’，９”）とそれぞれ接続されていることを特徴とする請求項１に記載の構造。

【請求項6】

前記プロセスガス供給管（９）を通って流れ、前記圧力調整器（８）により所定の全圧に維持されるプロセスガスフローが、複数の部分フローに分割されることを特徴とする請求項１～５のいずれかに記載の構造。

【請求項7】

２つのプロセスガスマスフローコントローラ（１３，１３’）が並列に接続されていること、及び、前記プロセスガスフローがそれぞれマスフローを制御されて２つの異なるガス入口孔（１５,１５’）を通って前記ＣＶＤリアクタ（１）のプロセスチャンバ（１８）又は異なるＣＶＤリアクタ（１，１’，１”）のプロセスチャンバ（１８）に供給されることを特徴とする請求項１～６のいずれかに記載の構造。

【請求項8】

前記圧力調整器（８）の出口が、複数のガス供給管（１２，１２’，１２”）を用いて異なる反応ガスを提供するそれぞれ異なるガスソース（１９；２－５）に接続され、前記ガスソースは、プロセスガス供給管(９，９’，９”)によって１つ以上のＣＶＤリアクタ（１，１’，１”）と接続されていることを特徴とする請求項１～７のいずれかに記載の構造。

【請求項9】

前記制御装置（２１）は、前記プロセスガス供給管（９，９’，９”）内の出発物質の濃度又は分圧を一定値に維持するために、入口用マスフローコントローラ（１１）に設定値を設定することを特徴とする請求項１～８のいずれかに記載の構造。

【請求項10】

少なくとも１つの搬送ガスソースとＣＶＤリアクタ（１，１’，１”）とを有するＣＶＤリアクタ構造であって、請求項１～９のいずれかに記載の構造による、前記ＣＶＤリアクタ（１，１’，１”）内に供給されるプロセスガスの提供のための構造を有することを特徴とするＣＶＤリアクタ構造。

【請求項11】

プロセスガスを、特に請求項１～９のいずれかに記載の構造に提供する方法であって、
前記出発物質の濃度又は分圧及び前記プロセスガス供給管（９，９’，９”）内の全圧が圧力測定器と測定器（１４，１４’，１４”）とにより測定され、ＣＶＤリアクタ（１，１’，１”）に流入する出発物質のマスフローが一定値に維持されかつプロセスガス供給管（９，９’，９”）に補償ガスが供給され、
補償ガスの供給によってプロセスガス供給管（９，９’，９”）内の全圧が一定値に維持され、かつ、ＣＶＤリアクタ（１，１’，１”）に流入する出発物質のマスフローが測定器（１４，１４’，１４”）の下流側に配置されたプロセスガスマスフローコントローラ（１３，１３’，１３”）を用いて一定値に維持される、前記方法において、
前記圧量調整器（８）が補償ガスを供給し、
前記測定器（１４，１４’，１４”）が、前記圧力調整器（８）の出口と前記プロセスガスマスフローコントローラ（１３，１３’，１３”）との間に位置することを特徴とする方法。

【請求項12】

前記プロセスガス供給管（９，９’，９”）内の前記出発物質の濃度又は分圧が測定器（１４，１４’，１４”）によって測定され、かつ特にそのようにして得られた測定値を用いてプロセスガスマスフローコントローラの設定値が補正され、かつ／又は、そのようにして得られた測定値を用いて前記濃度又は分圧が一定値に維持されることを特徴とする請求項１１に記載の方法。

【請求項13】

前記圧力調整器（８）の出口から流れる搬送ガスのマスフローが、複数のマスフローに分割され、それぞれが互いに異なるプロセスガス供給管（９，９’，９”）に流入し、それらの各々を通ってプロセスガスのマスフローが、気化装置（２，２’，２”）からＣＶＤリアクタ（１，１’，１”）まで流れることを特徴とする請求項１１又は１２に記載の方法。

【請求項14】

前記ガスソース（１９；２－５）から提供されるプロセスガスのマスフローが複数の部分フローに分割され、それらがそれぞれプロセスガスマスフローコントローラ（１３，１３’）によって調整されて異なるガス入口孔（１５，１５’）を通ってＣＶＤリアクタ（１，１’，１”）のプロセスチャンバ（１８）に流入し、又は、異なるＣＶＤリアクタ（１，１’，１”）に流入することを特徴とする請求項１１、１２又は１３に記載の方法。

【国際調査報告】